NL8200907A - Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. - Google Patents
Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8200907A NL8200907A NL8200907A NL8200907A NL8200907A NL 8200907 A NL8200907 A NL 8200907A NL 8200907 A NL8200907 A NL 8200907A NL 8200907 A NL8200907 A NL 8200907A NL 8200907 A NL8200907 A NL 8200907A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- palladium
- nickel
- bath
- galvanic separation
- content
- Prior art date
Links
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 58
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims description 7
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 title description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 20
- -1 acetylene amine Chemical class 0.000 claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 9
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 3
- VXAWCKIQYKXJMD-UHFFFAOYSA-N ethynamine Chemical class NC#C VXAWCKIQYKXJMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 2
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USCSRAJGJYMJFZ-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-butyne Chemical compound CC(C)C#C USCSRAJGJYMJFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910017917 NH4 Cl Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017974 NH40H Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- ZPBSAMLXSQCSOX-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,6-trisulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 ZPBSAMLXSQCSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical class OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/567—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of platinum group metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
i' % - 1 -
N/30.818-Kp/Pf/vdM
Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkel-legering.
De uitvinding heeft betrekking op een bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellege-ring voor decoratieve en/of technische bekledingen, - bestaand uit een waterige oplossing van palladium- en nikkelaminen met 5 een palladiumgehalte in het gebied van 5-30 g/1, een nikkelge-halte in het gebied van eveneens 5-30 g/1 en met een toevoeging van sulfonzuren en/of zouten daarvan - in welke waterige oplossing de palladium/nikkelverhouding zo is ingesteld, dat de galvanisch afgescheiden legering, een palladiumgehalte van 10 30-90-gew.% vertoont. Een met behulp van een dergelijk bad vervaardigde bekleding dient ter vervanging van goud.
Bij de bekende baden (Brits octrooischrift 1.143.178) dient de toevoeging van zouten van de sulfonzuren tot de vorming van glans. In het bijzonder worden genoemd 15 zouten van de naftaleensulfonzuren en aromatische sulfonamiden, zoals het natriumzout van het naftaleen-l,5-disulfonzuur, het natriumzout van het naftaleen-1,3,6-trisulfonzuur, alsmede saccharine (o-sulfobenzoëzuurimide) en p-tolueensulfonamide.
In de praktijk is gebleken, dat de met een dergelijk bad ver-20 vaardigde bekledingen in mechanisch opzicht niet beantwoorden aan de vereisten - en zelfs de glans is voor vele decoratieve doeleinden niet voldoende. Deze gebreken berusten volgens de inzichten die aan de uitvinding ten grondslag liggen, op gebrekkige mengkristalvorming.
25 Aan de uitvinding ligt de opgave ten grond slag het in de aanhef aangeduide bad zodanig in te richten, dat een juiste mengkristalvorming plaatsvindt.
Voor het oplossen van deze opgave leert de uitvinding de toepassing van een acetyleenamine en/of een 30 aminoalcohol of meerdere daarvan, als mengkristalvormers in een bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/ nikkellegering voor decoratieve en/of technische bekledingen, welk bad uit een waterige oplossing van palladium- en nikkelaminen met een palladiumgehalte van 5-30 g/1 en een nikkelge-35 halte in het gebied van eveneens 5-30 g/1 bestaat en waarbij 8200907 - 2 - de palladium/nikkelverhouding zo is ingesteld, dat de galvanisch afgescheiden legering een palladiumgehalte van 30-90 gew.% vertoont. Een de voorkeur verdienende uitvoeringsvorm van de uitvinding heeft het kenmerk, dat de toevoeging uit 5 dimethylpropyn-2-ylamin 1-diethylaminopropyn-(2) l-diethylaminopentyn-2-ol-(4) 1-dimethylaminopropyn-(2) 1,l-diethylpropyn-2-ylamine 10 of mengsels daarvan bestaat.
De uitvinding berust op het inzicht, dat in plaats van de bekende zouten van sulfonzuur gebruikte acety-leenamines en/of aminoalcoholen tot verrassende effecten leiden: 15 Wanneer men de toevoeging volgens de leer van de uitvinding kiest, dan verkrijgt men namelijk uit het bad door galvanische afscheiding palladium/nikkelbekledingen, die door fijne en gelijkmatige kristallieten en correcte mengkris-talvorming uitblinken. Dit verhoogt glans, ductiliteit en 20 corrosiebestendigheid onder de meest uiteenlopende corrosieve invloeden. Bovendien is het afvlakkingseffect verbeterd.
Onderstaand wordt de uitvinding aan de hand van uitvoeringsvoorbeelden nader toegelicht.
VOORBEELD I (toevoeging van een acetyleen-2 5 amine)
Het volgende electrolyt werd bereid: 20 g palladium als (Pd (NH^)4) Cl2 10 g nikkel als (Ni (NH^) g) SO^ 50 g geleidings- 30 zout als (NH.)n SO. of NH.C1 4 2 4 4 voor het instellen van een voldoende geleidingsvermogen van het electrolyt NH^OH voor het instellen van een 35 pH-waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 Q,03 ml 1,l-dimethylpropyn-2-ylamine.
8200907 - 3 -
Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom-2 dichtheid IA/dm , duur van de blootstelling 10 min.
Op geborstelde messingplaat werd een glanzende 5 palladium/nikkelbekleding met geringe egalisatie zonder zichtbare inhibitie-effecten afgescheiden. Voor de controle van de corrosiebestendigheid werd de zo verkregen proefplaat bij kamertemperatuur gedurende 60 s in een verdunde oplossing van salpeterzuur gedoopt, welke voor gelijke delen uit geconcen-10 treerd salpeterzuur en water was samengesteld. Geen aantasting door corrosie was zichtbaar.
Wanneer men echter het Britse octrooischrift 1.143.178 volgt en aan het electrolyt in plaats van het boven aangegeven acetyleenamine 10 g natriumnaftaleen-l,3,6-trisul-15 fonaat toevoegt, dan verkrijgt men palladium/nikkelbekledingen die in de boven beschreven salpeterzuurproef aanzienlijk corroderen en bovendien een geringere glans zonder afvlakkings-gedrag vertonen. De oorzaak van de corrosie ligt aan de gebrekkige mengkristalvorming, voor zover met aromatische sul-20 fonzuurzouten in plaats van de voorgestelde acetyleenamines als glansvormers wordt gewerkt. Door röntgenonderzoek was vrij nikkel vast te stellen, hetgeen de oorzaak van de corrosie vormt.
VOORBEELD II (toevoeging van een combinatie 25 van acetyleenamines)
Het volgende electrolyt werd bereid: 20 g palladium als (Pd (ΝΗ^)4) S04 10 g nikkel als (Ni (NH^)g) Cl2 50 g geleidings- 30 zout als (NH4)2 S04 of NH4C1 voor het instellen van een voldoende geleidingsvermogen van het electrolyt NH40H voor het instellen van een pH-35 waarde van 8,5 water voor een bad van l 1 0,03 ml 1,l-dimethylpropyn-2-ylamine 8200907
·' V
- 4 - 0,03 ml 1-dimethylaminopropyn-(2)
Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom-2 dichtheid IA/dm , duur van de blootstelling 10 min.
5 Op geborstelde messingplaat verkrijgt men een glanzende palladium/nikkelbekleding met verbeterde egalisatie ten opzichte van proef 1. Inhibitie-effecten zijn niet waar te nemen. De salpeterzuurproef volgens proef 1 werd doorstaan.
VOORBEELD III (toevoeging van een combinatie 10 van acetyleenamines in combi natie met acetyleenalcoholen) Het volgende electrolyt werd bereid: 20 g palladium als (Pd (NH^)^) Cl2 10 g nikkel als (Ni (NH^) g) SO^ 15 50 g geleidings- zout als (NH4)2 SO^ of NH4 Cl voor het instellen van een voldoende ge-leidingsvermogen van het electrolyt NH^OH voor het instellen van een pH-2 0 waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 0,03 ml 1,l-dimethylpropyn-2-ylamine 0,03 ml 1-dimethylaminopropyn-(2) 0,01 g butyn-2-diol (1,4) .25 Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom-2 dichtheid ΙΑ/dm , duur van de blootstelling 10 min.
Op geborstelde messingplaat werd een glanzende palladium/nikkelbekleding zonder zichtbare egalisatie en 30 inhibitie-effecten verkregen. De salpeterzuurproef volgens voorbeeld I werd doorstaan.
VOORBEELD IV (toevoeging van een combinatie van acetyleenamines in combinatie met een acetyleenalcohol 35 en een sulfonzuurzout)
Het volgende electrolyt werd bereid: 8200907 W ;» - 5 - 20 g palladium als (Pd (NH^)^) Cl2 10 g nikkel als (Ni (NH^) g) SO^ 50 g geleidings- zout als (NH4)2 S04 of NH^Cl voor 5 het instellen van een voldoende ge- leidingsvermogen van het electrolyt NH^OH voor het instellen van een pH-waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 10 0,03 ml 1,l-dimethylpropyn-2-ylamine 0,03 ml l-dimethylaminopropyn-2-(2) 0,01 g butyn-2-diol (1,4) 2,5 g natriumallylsulfonaat.
Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 15 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom- 2 dichtheid IA/dm , duur van de blootstelling 10 min.
Op geborstelde messingplaat werd een glanzende, afgevlakte palladium/nikkelbekleding zonder inhibitie-effecten verkregen. De salpeterzuurproef volgens voorbeeld I 20 werd doorstaan.
8200907
Claims (2)
1. Toepassing van een acetyleenamine en/of een aminoalcohol of meerdere daarvan als mengkristalvormers in een bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/ 5 nikkellegering voor decoratieve en/of technische bekledingen, welk bad uit een waterige oplossing van palladium- en nikkel-amine met een palladiumgehalte van 5-30 g/1 en een nikkelge-halte in het gebied van eveneens 5-30 g/1 bestaat en waarin de palladium/nikkelverhouding zo is ingesteld, dat de galvanisch 10 afgescheiden legering een palladiumgehalte van 30-90 gew.% vertoont.
2. Toepassing volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de toevoeging uit dimethylpropyn-2-ylamine 15 1-diethylaminopropyn-(2) l-diethylaminopentyn-2-ol- (4) 1-dimethylaminopropyn-(2) 1,l-diethylpropyn-2-ylamine of mengsels daarvan bestaat. 20 8200907
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3108467A DE3108467C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
| DE3108467 | 1981-03-06 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8200907A true NL8200907A (nl) | 1982-10-01 |
Family
ID=6126474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8200907A NL8200907A (nl) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4416740A (nl) |
| JP (1) | JPS5816088A (nl) |
| AT (1) | AT377014B (nl) |
| AU (1) | AU535304B2 (nl) |
| BE (1) | BE892343A (nl) |
| BR (1) | BR8201173A (nl) |
| DE (1) | DE3108467C2 (nl) |
| FR (1) | FR2501242A1 (nl) |
| GB (1) | GB2094348B (nl) |
| IT (1) | IT1150625B (nl) |
| NL (1) | NL8200907A (nl) |
| SE (1) | SE8201298L (nl) |
| ZA (1) | ZA821368B (nl) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4564426A (en) * | 1985-04-15 | 1986-01-14 | International Business Machines Corporation | Process for the deposition of palladium-nickel alloy |
| US4628165A (en) * | 1985-09-11 | 1986-12-09 | Learonal, Inc. | Electrical contacts and methods of making contacts by electrodeposition |
| US5034190A (en) * | 1986-01-31 | 1991-07-23 | Westinghouse Electric Corp. | Apparatus for conducting accelerated corrosion testing of nickel alloys |
| US4778574A (en) * | 1987-09-14 | 1988-10-18 | American Chemical & Refining Company, Inc. | Amine-containing bath for electroplating palladium |
| SG64904A1 (en) * | 1990-06-22 | 1999-05-25 | Caschem Inc | Cable grease composition and articles incorporating the same |
| WO2020129095A1 (en) * | 2018-12-20 | 2020-06-25 | Top Finish 2002 S.R.L. | Galvanic bath for making a corrosion- and oxidation-resistant palladium and nickel alloy-based plating, preparation and use thereof |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2781306A (en) * | 1956-04-27 | 1957-02-12 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of nickel |
| US3002903A (en) * | 1958-09-26 | 1961-10-03 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electrodeposition of nickel |
| US3133006A (en) * | 1962-05-28 | 1964-05-12 | Barnet D Ostrow | Acid nickel plating bath |
| US3186926A (en) * | 1962-08-13 | 1965-06-01 | Hofmann Hans | Electroplating solution containing a diester of selenious acid |
| JPS4733176B1 (nl) * | 1967-01-11 | 1972-08-23 | ||
| GB1485665A (en) * | 1975-03-27 | 1977-09-14 | Permalite Chem Ltd | Nickel electroplating |
| US4077855A (en) * | 1976-05-04 | 1978-03-07 | Francine Popescu | Bright nickel electroplating bath and process |
| DE2825966A1 (de) * | 1978-06-14 | 1980-01-03 | Basf Ag | Saures galvanisches nickelbad, das sulfobetaine als glanz- und einebnungsmittel enthaelt |
| DE2943028A1 (de) * | 1978-11-01 | 1980-05-08 | M & T Chemicals Inc | Galvanisches nickelbad |
-
1981
- 1981-03-06 DE DE3108467A patent/DE3108467C2/de not_active Expired
-
1982
- 1982-02-24 GB GB8205450A patent/GB2094348B/en not_active Expired
- 1982-03-02 AU AU81047/82A patent/AU535304B2/en not_active Ceased
- 1982-03-02 ZA ZA821368A patent/ZA821368B/xx unknown
- 1982-03-03 SE SE8201298A patent/SE8201298L/ not_active Application Discontinuation
- 1982-03-03 JP JP57032482A patent/JPS5816088A/ja active Pending
- 1982-03-03 BE BE2/59610A patent/BE892343A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-03-03 AT AT0082282A patent/AT377014B/de not_active IP Right Cessation
- 1982-03-04 FR FR8203612A patent/FR2501242A1/fr active Granted
- 1982-03-05 US US06/355,246 patent/US4416740A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-03-05 NL NL8200907A patent/NL8200907A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-03-05 IT IT19990/82A patent/IT1150625B/it active
- 1982-03-05 BR BR8201173A patent/BR8201173A/pt unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2501242A1 (fr) | 1982-09-10 |
| GB2094348A (en) | 1982-09-15 |
| BE892343A (fr) | 1982-07-01 |
| DE3108467C2 (de) | 1983-05-26 |
| AT377014B (de) | 1985-01-25 |
| AU535304B2 (en) | 1984-03-15 |
| BR8201173A (pt) | 1982-11-23 |
| US4416740A (en) | 1983-11-22 |
| GB2094348B (en) | 1985-08-07 |
| FR2501242B1 (nl) | 1985-04-12 |
| JPS5816088A (ja) | 1983-01-29 |
| IT8219990A0 (it) | 1982-03-05 |
| ATA82282A (de) | 1984-06-15 |
| DE3108467A1 (de) | 1982-09-16 |
| AU8104782A (en) | 1982-09-09 |
| SE8201298L (sv) | 1982-09-07 |
| IT1150625B (it) | 1986-12-17 |
| ZA821368B (en) | 1983-01-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR0180792B1 (ko) | 은도금 욕 및 그를 이용한 은도금 방법 | |
| US4428802A (en) | Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor | |
| US4889602A (en) | Electroplating bath and method for forming zinc-nickel alloy coating | |
| US4877496A (en) | Zinc-nickel alloy plating solution | |
| JPH0322477B2 (nl) | ||
| US4491507A (en) | Galvanic depositing of palladium coatings | |
| KR101280675B1 (ko) | 독성 금속 또는 독성 반금속의 사용 없이 전기도금에 의해 황색 금 합금 코팅을 수득하는 방법 | |
| US5085744A (en) | Electroplated gold-copper-zinc alloys | |
| NL8200907A (nl) | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. | |
| US4076599A (en) | Method and composition for plating palladium | |
| US3500537A (en) | Method of making palladium coated electrical contacts | |
| US4617096A (en) | Bath and process for the electrolytic deposition of gold-indium alloys | |
| US3793162A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
| US3892638A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing rhodium-ruthenium alloys | |
| JPS6223078B2 (nl) | ||
| NL8200908A (nl) | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium-nikkellegering. | |
| AT523922B1 (de) | Elektrolytbad für Palladium-Ruthenium-Beschichtungen | |
| US3206382A (en) | Electrodeposition of platinum or palladium | |
| JPS609116B2 (ja) | パラジウム及びパラジウム合金の電着方法 | |
| NL8200906A (nl) | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. | |
| US3681211A (en) | Electroplating a black nickel-zinc alloy deposit | |
| US4375392A (en) | Bath and process for the electrodeposition of ruthenium | |
| US4778574A (en) | Amine-containing bath for electroplating palladium | |
| CA1337805C (en) | Alkaline aqueous bath for the galvanic deposition of zinc-iron alloys | |
| US5182172A (en) | Post-plating passivation treatment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A1A | A request for search or an international-type search has been filed | ||
| BB | A search report has been drawn up | ||
| BC | A request for examination has been filed | ||
| A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
| BV | The patent application has lapsed |