JPS58161634U - 反応性イオンプレ−テイング装置 - Google Patents

反応性イオンプレ−テイング装置

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Publication number
JPS58161634U
JPS58161634U JP5811582U JP5811582U JPS58161634U JP S58161634 U JPS58161634 U JP S58161634U JP 5811582 U JP5811582 U JP 5811582U JP 5811582 U JP5811582 U JP 5811582U JP S58161634 U JPS58161634 U JP S58161634U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reactive ion
ion plating
plating equipment
reactive gas
evaporation source
Prior art date
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Pending
Application number
JP5811582U
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English (en)
Inventor
野口　今朝男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP5811582U priority Critical patent/JPS58161634U/ja
Publication of JPS58161634U publication Critical patent/JPS58161634U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の反応性イオンブレーティング装置を説明
するための模式図であり、ａ図は操作ガス圧が１０−５
〜１０　　’Ｔｏｒｒ程度を用イル装置、ｂ図は操作ガ
ス圧が１０−４〜１Ｏ−２ＴＯｒｒ程度を用い、蒸発源
に電子銃加熱方式を用いる装置である。 １１１．１２１は真空チャンバー、１１２゜１２２は蒸
発源、１１３，１２３はイオン化器、１１４．１２４は
基板ホルダー、１１５，１２５はガス導入口、１１６，
１２６は真空排気口、１１７．１２７は反応したガスの
流れ、１１８゜１２８は排気ガスの流れ、１２９は差動
排気弁、１００は膜形成室、１２０は電子銃作動室、で
ある。 第２図、第３図は本考案を実施した反応性イ１ンプレー
テイング装置の１例を説明するための模式図である。２
１．３１は真空チャンバー、２２゜３２は蒸発源、２３
．３３はイオン化器、２４゜３４は基板ホルダー、２５
．３５は反応ガス導入口、２６．３６，３２６は真空排
気口、２７゜３７は反応したガスの流れ、２Ｂ、３８．
３９は真空排気ガスの流れ、３１０は膜形成室、３２０
は電子銃作動室、３２９は差動排気弁、３０は反応ガス
放出管である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 反応性イオンブレーティング装置の膜形成室内において
    、蒸発源側に反応ガス導入口を設け、かつ基板ホルダー
    側に反応ガス排気口を設け、反応ガス及び気化原料の流
    れ方向を蒸発源側より基板ボルダ−側方向とした真空チ
    ャンバー構造を有することを特徴とする反応イオンブレ
    ーティング装置。
JP5811582U 1982-04-21 1982-04-21 反応性イオンプレ−テイング装置 Pending JPS58161634U (ja)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5176182A (en) * 1974-12-27 1976-07-01 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Butsushitsuhakumakuseiseisochi
JPS5329754B2 (ja) * 1974-12-18 1978-08-23
JPS5531115A (en) * 1978-08-25 1980-03-05 Ulvac Corp Anti-contamination, vacuum plasma film-forming apparatus
JPS5765324A (en) * 1980-10-09 1982-04-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method and apparatus for preparing ultrafine particle membrane

Patent Citations (4)

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