JPS58166254A - 成分濃度測定装置 - Google Patents
成分濃度測定装置Info
- Publication number
- JPS58166254A JPS58166254A JP57049271A JP4927182A JPS58166254A JP S58166254 A JPS58166254 A JP S58166254A JP 57049271 A JP57049271 A JP 57049271A JP 4927182 A JP4927182 A JP 4927182A JP S58166254 A JPS58166254 A JP S58166254A
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- zirconia
- signal
- measurement gas
- base oxygen
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
- G01N33/0026—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment using an alternating circulation of another gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、カルジャ(Cab)、イットリ1(Y2Oり
等で安定化されたジルコニア磁器を用いて、測定ガス中
の酸素濃度及び水分濃度を測定する成分濃度測定装置に
関する。
等で安定化されたジルコニア磁器を用いて、測定ガス中
の酸素濃度及び水分濃度を測定する成分濃度測定装置に
関する。
従来から、第1図に示すような酸素濃度計が知られてい
る。この図において、1はジルコニアパイプ、2は金属
製パイプ、3はパイプ2に固定されたヒータ、4は断熱
材、5及び6はジルコニアパイプ1の両、mに接着され
た電極、7は信号処理部、8は受信計である。上記パイ
プ2、ヒータ3、断熱材4及び図示しないti度センサ
や調節部は恒温槽を構成し、これによって、ジルコニア
パイプ1は一定温度(約700℃)に保たれている。こ
の濃度計において、ジルコニアパイプ1の内部め測定ガ
ス導入部へに測定ガスQxが導入され、ジルコニアパイ
プ1とパイプ2で形成される基準ガス導入部Bに基準ガ
スGa (通常は空気)が導入されると、両ガス中の
酸素濃度差に基づき、ネルンストの式(後述の(1)式
)で知られる起電力Eが、電極5及び6の間に生じ、こ
れに対応した信号が信号処理部7に送られる。信号処理
部7は、所定の演算を行い、受信計8に酸素濃度〔v0
1%〕を指示・配録させる。
る。この図において、1はジルコニアパイプ、2は金属
製パイプ、3はパイプ2に固定されたヒータ、4は断熱
材、5及び6はジルコニアパイプ1の両、mに接着され
た電極、7は信号処理部、8は受信計である。上記パイ
プ2、ヒータ3、断熱材4及び図示しないti度センサ
や調節部は恒温槽を構成し、これによって、ジルコニア
パイプ1は一定温度(約700℃)に保たれている。こ
の濃度計において、ジルコニアパイプ1の内部め測定ガ
ス導入部へに測定ガスQxが導入され、ジルコニアパイ
プ1とパイプ2で形成される基準ガス導入部Bに基準ガ
スGa (通常は空気)が導入されると、両ガス中の
酸素濃度差に基づき、ネルンストの式(後述の(1)式
)で知られる起電力Eが、電極5及び6の間に生じ、こ
れに対応した信号が信号処理部7に送られる。信号処理
部7は、所定の演算を行い、受信計8に酸素濃度〔v0
1%〕を指示・配録させる。
E== (’RT/n F) In(P’x /Pa
)−(1)但し、R・・・ガス定数 T・・・絶対a1
度n・・・4 F・・・ファラデ一定数Px・・
・測定ガス中の酸素濃度 [vo1%I Pa・・・基準ガス中の酸素濃洩 [vo1%1 ところで、工業分析の分野、例えば、煙道等の排ガス成
分測定では、ドライベース#II本濃度、ウェットベー
ス酸素濃度及び水分濃度の同時測定が強く望まれている
。
)−(1)但し、R・・・ガス定数 T・・・絶対a1
度n・・・4 F・・・ファラデ一定数Px・・
・測定ガス中の酸素濃度 [vo1%I Pa・・・基準ガス中の酸素濃洩 [vo1%1 ところで、工業分析の分野、例えば、煙道等の排ガス成
分測定では、ドライベース#II本濃度、ウェットベー
ス酸素濃度及び水分濃度の同時測定が強く望まれている
。
しかし、従来のジルコニア酸素計では、1−述のように
、測定ガス中の酸素濃度しか測定することができないの
で、上記要求に応えるには、他の分析計を同時に使用す
る必要が生じ、極めて煩雑であるという問題があった。
、測定ガス中の酸素濃度しか測定することができないの
で、上記要求に応えるには、他の分析計を同時に使用す
る必要が生じ、極めて煩雑であるという問題があった。
本発明は、この問題に鑑みてなされたもので、その目的
は、ドライベー支酸素濃度、ウェットベース酸素濃度及
び水分濃度の同時一定が司能な成分濃度測定装置を鋳単
な構成で実現りることにある。
は、ドライベー支酸素濃度、ウェットベース酸素濃度及
び水分濃度の同時一定が司能な成分濃度測定装置を鋳単
な構成で実現りることにある。
以下、図面を参照し本発明の詳細な説明する。
第2図は本発明の一実施例を示す説明図である(第1図
と同一部分には同一符号を付した)。
と同一部分には同一符号を付した)。
第2図において、11は試験管形ジルコニア、12及び
13は電極で、試験管形ジルコニア11は先端部(電極
の固定部)がバイブ2に挿入配置されている。14はフ
ィルタ15を介して測定ガス採取箇所に連通する管路、
16は外部信号によ、−)で制御される流路切換弁、1
7は管路14と切換弁16とを結ぶ管路、18は管路1
4と切換弁16とを除湿器19を介して連通する管路、
20は切換弁16とジルコニア11の内部の測定ガス導
入部Aとを連通する管路、21はジルコニア11の測定
ガス導入部Aと排気先とを連通する管路、22は管路2
1に設置されるエジェクタである。尚、ジルコニア11
の開口部は、蓋23で閉塞されている。又、ジルコニア
11の外側の基準ガス導入部Bは大気雰囲気下にある。
13は電極で、試験管形ジルコニア11は先端部(電極
の固定部)がバイブ2に挿入配置されている。14はフ
ィルタ15を介して測定ガス採取箇所に連通する管路、
16は外部信号によ、−)で制御される流路切換弁、1
7は管路14と切換弁16とを結ぶ管路、18は管路1
4と切換弁16とを除湿器19を介して連通する管路、
20は切換弁16とジルコニア11の内部の測定ガス導
入部Aとを連通する管路、21はジルコニア11の測定
ガス導入部Aと排気先とを連通する管路、22は管路2
1に設置されるエジェクタである。尚、ジルコニア11
の開口部は、蓋23で閉塞されている。又、ジルコニア
11の外側の基準ガス導入部Bは大気雰囲気下にある。
24は増幅音、25は演粋制御部である。増幅器24は
、電極12と13との間の起電ツノを増幅した信号Eを
演算制御部25に出力するbのである。又、演算制御部
25は、切換弁16を切り換えるための制御信号を出力
すると共に、増幅器24の出力信号Eを入力して、後述
する所定の演算を行い、受信計(図示せず)にウェット
へ−ス酸素濃度信号E3、ドライベース酸素濃縦信号E
4及び水分濃、度信号E5を出力するものである。
、電極12と13との間の起電ツノを増幅した信号Eを
演算制御部25に出力するbのである。又、演算制御部
25は、切換弁16を切り換えるための制御信号を出力
すると共に、増幅器24の出力信号Eを入力して、後述
する所定の演算を行い、受信計(図示せず)にウェット
へ−ス酸素濃度信号E3、ドライベース酸素濃縦信号E
4及び水分濃、度信号E5を出力するものである。
次に、上記構成の成分濃度測定装置の動作について説明
する。
する。
ヒータ3等で構成される恒温槽によって、ジルコニア1
1は所定の一定轡度に保持されている。この状態で、エ
ジェクタ22が駆動され、且つ、演算制御部25から切
換弁16の切換操作が行われると、採取箇所→フィルタ
15÷管路14→管路17→切換弁16→管路2o→ジ
ルコニア11の測定ガス導入部A−+管路21−÷エジ
ェクタ22→排気先の第1の経路で流れる*!8(ウェ
ット流路と呼ぶ)と、採取箇所→フィルタ15→管路1
4→管路18→除湿器19→管路18→管路20→ジル
コニア11の測定ガス導入部A→管路21→エジェクタ
22→排気先の第2の経路で流れる流路(以下、ドライ
流路と呼ぶ)とが交互に構成される。このため、ジルコ
ニア11の測定ガス導入部Aには、除湿しない生の測定
ガスと、除湿器19で除湿した測定ガスとが交互に導入
され、ジルコニア11の外側の基準ガス導入部Bには、
大気が常に導入されている。
1は所定の一定轡度に保持されている。この状態で、エ
ジェクタ22が駆動され、且つ、演算制御部25から切
換弁16の切換操作が行われると、採取箇所→フィルタ
15÷管路14→管路17→切換弁16→管路2o→ジ
ルコニア11の測定ガス導入部A−+管路21−÷エジ
ェクタ22→排気先の第1の経路で流れる*!8(ウェ
ット流路と呼ぶ)と、採取箇所→フィルタ15→管路1
4→管路18→除湿器19→管路18→管路20→ジル
コニア11の測定ガス導入部A→管路21→エジェクタ
22→排気先の第2の経路で流れる流路(以下、ドライ
流路と呼ぶ)とが交互に構成される。このため、ジルコ
ニア11の測定ガス導入部Aには、除湿しない生の測定
ガスと、除湿器19で除湿した測定ガスとが交互に導入
され、ジルコニア11の外側の基準ガス導入部Bには、
大気が常に導入されている。
従って、電極12と13の闇には、ろエツト流路時にお
ける起電力及びドライ流路時における起電力が生じ、こ
れに対応する増幅器24の出力信号E=Es及びE=E
2は、(2)式及び(3)式で示される。
ける起電力及びドライ流路時における起電力が生じ、こ
れに対応する増幅器24の出力信号E=Es及びE=E
2は、(2)式及び(3)式で示される。
Es =Kln(Px s /21’)・・・、<2>
E2−Kln(Px t /21 ) −(3)但し、
K−RT/n F・・・定数 px1・・・除湿しない測定ガス中の酸素濃[[vo1
%] Px2・・・除湿した測定ガス中の1M東濃度[v01
%J ところで、除湿しない測定ガスの体積V中に含まれる酸
素―及び水分量がVO及びVWであるとすると、上記の
各酸素濃度P×1及びPx2、並びに水分濃度H[vo
1%1の関係は(4)式乃至(6)式となる。
E2−Kln(Px t /21 ) −(3)但し、
K−RT/n F・・・定数 px1・・・除湿しない測定ガス中の酸素濃[[vo1
%] Px2・・・除湿した測定ガス中の1M東濃度[v01
%J ところで、除湿しない測定ガスの体積V中に含まれる酸
素―及び水分量がVO及びVWであるとすると、上記の
各酸素濃度P×1及びPx2、並びに水分濃度H[vo
1%1の関係は(4)式乃至(6)式となる。
px I =VO/’V−(4)
PX 2 =VO/V−Vl#−(5)H= vw/
V・・・(6) 又、(4)式乃至(6)式から(7)式が求められる。
V・・・(6) 又、(4)式乃至(6)式から(7)式が求められる。
H=1− (Px 1 /Px 2 )・・・(7)こ
のため、演算制御部25は、ウェット流路構成時に入力
される信号E1をjj<−ルド(保持)すると共に、ド
ライ流路構成時に入力される信号E2をホールドし、信
号E+ 、E2を直線化して、Px 1 、 PX 2
の値に比例した信号Es。
のため、演算制御部25は、ウェット流路構成時に入力
される信号E1をjj<−ルド(保持)すると共に、ド
ライ流路構成時に入力される信号E2をホールドし、信
号E+ 、E2を直線化して、Px 1 、 PX 2
の値に比例した信号Es。
E4を出力すると共に、この直線化した低号ト3、E4
を用いて、(7)式がらHを求めこれに比例した信@E
5を出力する。従って、信号E1はウェットベース酸素
濃度信号、信号E4はドライベース酸素濃度信号、信号
E5は水分濃度信号となる。
を用いて、(7)式がらHを求めこれに比例した信@E
5を出力する。従って、信号E1はウェットベース酸素
濃度信号、信号E4はドライベース酸素濃度信号、信号
E5は水分濃度信号となる。
尚、本発明は水分濃度Hを求める演算式を(7)式に限
定するものではなく、次式に基づく演算を行ってもよい
。
定するものではなく、次式に基づく演算を行ってもよい
。
2 El
−K (InPx 2−1n21−1nPx 、 +l
n21 )= K (1nPx 2 1nPx t )
=Kln(Px 2 /PX t ) \ 、’、 H=1−e(Et E2/K)以上説明し
たように、本発明による成分濃度測定′@置は、1個の
ジルコニア磁器の隔壁で仕切られた測定ガス導入部に、
除湿しない測定ガス及び除湿した測定ガスを交互に切り
換えて導入するようになっていやので、簡単な構成であ
りながら、ドライベース酸素濃度信号、ウェットベース
酸素濃度信号及び水分濃度信号を同時に得ることができ
る。
n21 )= K (1nPx 2 1nPx t )
=Kln(Px 2 /PX t ) \ 、’、 H=1−e(Et E2/K)以上説明し
たように、本発明による成分濃度測定′@置は、1個の
ジルコニア磁器の隔壁で仕切られた測定ガス導入部に、
除湿しない測定ガス及び除湿した測定ガスを交互に切り
換えて導入するようになっていやので、簡単な構成であ
りながら、ドライベース酸素濃度信号、ウェットベース
酸素濃度信号及び水分濃度信号を同時に得ることができ
る。
第1図は従来のジルコニア酸素■の説明図、第2図は本
発明による成分濃度測定装置の一実施例を示す説明図で
ある。 2・・・金属−バイブ 3川ヒータ 4・・・断熱材 11・・・試験管形ジルコニア(隔壁)12.13・・
・電極 14.17.18,20.21・・・管路15・・・フ
ィルタ 16・・・切換弁19・・・除湿器
22・・・ニジIクタ23・・・蓋 24
・・・信号増幅器25・・・演棒制一部
発明による成分濃度測定装置の一実施例を示す説明図で
ある。 2・・・金属−バイブ 3川ヒータ 4・・・断熱材 11・・・試験管形ジルコニア(隔壁)12.13・・
・電極 14.17.18,20.21・・・管路15・・・フ
ィルタ 16・・・切換弁19・・・除湿器
22・・・ニジIクタ23・・・蓋 24
・・・信号増幅器25・・・演棒制一部
Claims (1)
- ジルコニア磁器の隔壁で仕切られた測定ガス導入部及び
基準ガス導入部にそれぞれ測定ガス及び基準ガスを満た
し前記ジルコニア磁器の隔壁における酸素濃度差に基づ
く起電力から成分濃度を求める成分濃度測定装置におい
て、前記測定ガス導入部に除湿しない測定ガスと除湿し
た測定ガスを交互に導入し、これら測定ガス尋人時の前
記起電力から、ドライベース酸素濃度信号、ウェットベ
ース酸素濃度信号及び水分濃度信号を得るようにした成
分濃度測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57049271A JPS58166254A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 成分濃度測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57049271A JPS58166254A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 成分濃度測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58166254A true JPS58166254A (ja) | 1983-10-01 |
Family
ID=12826171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57049271A Pending JPS58166254A (ja) | 1982-03-26 | 1982-03-26 | 成分濃度測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58166254A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020183203A1 (en) * | 2019-03-14 | 2020-09-17 | Sumitomo Chemical Co., Ltd | Interferent and baseline drift correcting sensor system |
-
1982
- 1982-03-26 JP JP57049271A patent/JPS58166254A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020183203A1 (en) * | 2019-03-14 | 2020-09-17 | Sumitomo Chemical Co., Ltd | Interferent and baseline drift correcting sensor system |
| US12228556B2 (en) | 2019-03-14 | 2025-02-18 | Sumitomo Chemical Co., Ltd. | Gas sensor |
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