JPS58176254A - 耐めつき性ソルダ−レジストインク組成物 - Google Patents

耐めつき性ソルダ−レジストインク組成物

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JPS58176254A
JPS58176254A JP57058073A JP5807382A JPS58176254A JP S58176254 A JPS58176254 A JP S58176254A JP 57058073 A JP57058073 A JP 57058073A JP 5807382 A JP5807382 A JP 5807382A JP S58176254 A JPS58176254 A JP S58176254A
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JP
Japan
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epoxy resin
parts
weight
plating
resist ink
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Application number
JP57058073A
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Isamu Tanaka
勇 田中
Hitoshi Oka
岡 齊
Akira Matsuo
明 松尾
Hiroshi Kikuchi
廣 菊池
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/22Secondary treatment of printed circuits
    • H05K3/28Applying non-metallic protective coatings
    • H05K3/285Permanent coating compositions
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3452Solder masks

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  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、無電解金属めっき(化学鋼めっき)を用いる
プリント回路基板の製造に必要なソルダレジストインク
組成物に関するものにして、特に、印刷性に優れ、かつ
硬化皮膜の接着性、耐薬品性(耐めっき液性)、耐熱性
に優れた無電解金属めっき用ソルダーレジストインク組
成物に関するものである。
電気絶縁性基板上に無電解金属めりぎを施すには、めっ
き反応の触媒となるP(1,Au、 Pt  などの貴
金属を基板上に付着させ、無電解めっキ液に浸漬するこ
とによシ達成できる。こうし念方法で基板上に、所望の
バタ、−ンを形成するには、大きく分けて、次の2通シ
がある。一方は、めっき触媒な所望のパターン上に選択
的に付着ないし露出させ、無電解金属めっきのみでプリ
ント回路板の回路形成を行なういわゆるフルアディティ
ブ法、他方は、鋼張シ積層板に常法の工、チングによシ
バターン形成な行なっ之後、スルーホール部に無電解金
属めっきで導体を形成するセミアディティブ法である。
本発明は、後者の方法でスルーホール部に導体を無電解
金属めっきを施す際、基板上に工。
チング法により形成された導体バター/を保鏝するソル
ダーレジストインクに関するものである。
一般にプリント回路板の導体回路の膜厚は60〜35μ
隅必要である。さらに、この導体回路を形成する無電解
鋼めっき膜の特性は、一般に米国プリント回路板協会(
r、p、c)提案の伸び率3チ以上、引張シ強度2%/
” 以上が要求される。
これを満足する無電解金属めっき膜は、一般に、pH1
2〜“13 (20℃)の強アルカリ浴中(60〜80
℃)でなければ得られないし、その無電解金属めっきの
析出速度は、0.5〜5μm/h 程度であるために、
50〜55μ馬もの厚みを得る友めには、長時間めっき
な行なう必要がある。
従来より導体パターンな保鏝する通常の耐めっきレジス
トは種々知られているが、本発明のような、高温強アル
カリ性のめつき液に長時間耐え、導体との密着性を保持
し、耐めっきレジストが半田付は温度に耐えるソルダー
レジストを兼ねるものはなかった。
本発明の第10目的は、無電解金属めっき液に長時間浸
漬してもレジストインク皮膜が溶解、白化、きれつ、膨
潤せず、かつ、基材および導体との密着性を保持するイ
ンク組成物を提供することにある。
本発明の第20目的は、レジストインクとして印刷性に
優れ、さらにレジストインク皮膜が耐熱性ならびに耐熱
接着性を有し、半田付は作業に耐えるソルダーレジスト
の役目も兼ねるインク組成物を提供することにある。
基板上に1エツチング法によシ形成され九導体パターン
なレジストインク皮膜で保−し、スルーホール部のみを
無電解めっきで作るセミアディティブ法では、スルーホ
ールにつながっている導体パターン上のレジストインク
皮膜に密着性不良が生じ、半田付は時にこの部分がふく
れとなるクースが大半である。これは無電解金属めっき
液中の水分がレジスト膜を通して進入し、レジスト膜と
導体パターン(鋼箔)との接着強度を低下させるためで
ある。そこで本発明者等は、銅箔との耐水接着性な向上
させ、かつレジスト皮膜からめつき液中への溶出を防ぐ
几めにインクの主成分と化学反応を起こし、レジスト中
に固定できる化合物をレジストインク中に添加すること
が解決できることを見出した。
上記の目的のための本発明の耐めっき性ソルダーレジス
トインク組成物の特徴とするところは、(イ)エポキシ
樹脂;(ロ)エポキシ樹脂用硬化剤;(ハ)エポキシ樹
脂と反応し、かつ、無電解金属めっきの反応を抑制また
は停止させる化合物:(ニ)充てん剤:(ホ)揺変剤;
(へ)有機溶剤:を含有してなることにある。
本発明で用いられる(イ)エポキシ樹脂とじては、平均
して1分子当シ2個以上のエポキシ基を有するもので、
例えばビスフェノールA、ハロゲン化ビスフェノールA
、カテコール、レゾルシノールなどのような多価フェノ
ールまfc/fiグリセリンのような多1曲アルコール ルヒドリンとを塩基性触媒の存在下で反応されて得られ
るポリグリシジルエーテルあるいはポリグリシジルエス
テル、ノポラ,り型フェノール樹脂とエビロルヒドリン
とを縮合せしめて得られるエポキシノボラック、過酸化
法でエポキシ化したエポキシ化ポリオレフィン、エポキ
シ化ポリブタジェン、シンクロペンタジェン化オキサイ
ド、あるいはエポキシ化植物油などである。更に具体的
にはエポキシ樹脂ラ,り樹脂のDow  chemic
a1社DKIJ 431 、 DEN 438およびs
h−e11社Epikote 152, Kpikot
e 154が良好である。
本発明で用いられる(口)エポキシ樹脂用硬化剤として
は、エチレンジアミン、ヘキナメチレンジアミン,ジエ
チレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエ
チレンペンタミン。
トリプロピレンテトラミン、ジヘキサメチレントリアミ
ン,トリメチルへキチメチレン,メタキシレンジアミン
、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロ
ピルアミン、1−アミノ−6・アミノエチル−15.5
 − トリメチルシクロヘキナンなどの脂肪原寸1,第
2級アミン、ジエチルアミノプロピルアミン、N−ヒド
ロキシエチルジエチレントリアミンなどの脂肪原寸1・
第3級アミン、ピペラジン、N−アミノエチルピペラジ
ン、ピリジン等の環状アミン、メタフェニレンジアミン
、4.4’−ジアミノジフェニルメタン、4.4’ジア
ミノジフエニルスルフオン、4.4’−ジアミノジフェ
ニルオキサイド、4.4’−ジアミノジフェニルイミン
ビフェニレンジアミン、などの芳香族アミンおよびこれ
らのヒドロキシエチル化物,グリシジルエーテルとの付
加物等の変性芳香族アミン。
ジシアンジアミド、また、イミダゾール、1−メチルイ
ミダゾール、2−メチルイミダゾールν。
1、2−ジメチルイミダゾール、2−エテルイミダゾー
ル、2−エチル、4−メチルイミダゾール、2−ワンデ
カンイミダゾール、2−ヘプタデカンイミダゾール、1
−ペンジノシー2−メチルイミダゾール、1−ビニル−
2−メチルイミダゾール、ペングイミダゾール、1−(
2−カルバミルエチル)−イミfiーソー/l/, 1
 − ( 2−力ルパミル)−2エチル−4−メチルイ
ミダゾール、2−アリル−2−エチル−4−メfールイ
ミp” ソー /シ.1ーシアノエチルー2ーフェニル
−4.5−ジ(シアノエトキシメチル)イミダゾール、
2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミ
ダゾール、2−フェニル−4.5−ジヒドロキシメチル
イミダゾール、2−メチルイミダゾールイソシアヌール
酸付加物,2−フェニルイミダゾール、イソシアメール
酸付加物。1ーシアノエチル−2−メfールイミダゾー
ル,1ーシアノエチル−2−エチル−4−)f−ルイミ
タソール,1ーアジンエチル−2−エチル−4−メチル
イミダゾール、2−メチル−4−エチルイミダゾールト
リメシン酸付加物などのイミダゾール化合物、またこれ
らイミダゾール化合物と金属塩ないし有機酸とのコンプ
レ。
リスなどである。さらに、BFi・アミン錯化合物,ベ
ンジルジメチルアミン、 N.N.N’.N’  ・テ
トラメチル−1.3−ブタンジアミン、第4級アンモニ
ウム塩,オクト酸第1スズ、 2.4.6 − )リス
(ジメチルアミノフェノール)、テトラメチルグアニジ
ン、無水メチルハイミ,り酸,無水フタル酸,無水マレ
イン酸,ポリアゼライン酸無水物,ポリセパミック酸無
水物,ドデセニル無水コハク酸,などがある。これらの
硬化剤の中で特に芳香族アミン系(変性芳香族アミンな
含む)とイミダゾール系硬化剤を併用し乏レジストイン
クの硬化膜は、耐めっき液性に優れておシ、エポキシ樹
脂100重量部に対して、前者は、エポキシ樹脂1当量
に対し0.5〜1.5当量、後者は5.0〜30重量部
加えると良好な結果が得られる。
本発明で用いられる(ハ)エポキシ樹脂と化学反応し、
かつ、鋼箔との耐水接着性を向上させる化合物としては
1、チアゾリン系化合物、例えば、2−メルカプトチア
ゾリン、チアゾリジン。
L−チアゾリジン−4−カルボン酸、z4−チアゾリジ
ンジオン、2−メチルチアゾ9ン、y−アゾール系化合
物、例えば、チアゾール、4−メチルチアゾール、チア
ジアゾール系化合物、例えば、2−アミノ−5−メルカ
プト−1,3,4−チアジアゾール、2.5−ジメルカ
プト−1゜3.4−チアジアゾール、イミダゾール系化
合物、例えば、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2
−メルカプト−1−メチルチアゾ−ル。
イミダゾ9ン系化合物、例えば、2−メルカプトイミダ
シリン、その他、IH−1,2,4−トリアゾール−3
−チオールなどがある。これらの中で、2−メルカプト
チアゾ9ン、2−メルカプトイミダゾリジン、チアゾ9
ジン、2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チア
ジアゾール、IH−1,2,4−)リアゾール−チオー
ルが耐めっき性ソルダーレジストの耐めっき液性ならび
に耐熱性に対し特に一段と嵐好な結果を示す。これらの
化合物を単独ないし併用して用いる。添加量の好ましい
範囲は、前記のエポキシ樹脂100重量部に対して、1
〜35重量部であり、1重量部より少ないと効果がなく
、35重量部を越えると、レジスト膜が軟化し、めっき
液に浸漬した時に膜が膨潤、白化し、さらに、半田付は
時に膜の耐熱性が低下し、ふくれな生じる。
本発明における(二)充てん材は、レジストインクの印
刷性向上、レジスト膜とした場合の接着性向上および耐
めっき液性を向上させることが狙いである。本発明で用
いる(二)充てん材としては、タルク、マイカ、アルミ
ナ、硫酸バリウムe 5iOz * Ti0aなどの無
機質の微粉末がある。このような微粉末は、前記のエポ
キシ樹脂100重量部に対し、3〜40重量部添加する
のが好ましい。40重量部よシ多く加えると塗膜形成態
が悪く、3重量部よシ少ないと特注向上の効果が期待で
きない。充てん剤の粒子径は、10μm以下のものが望
ましい。
本発明における(ホ)揺変剤は、レジストインクの印刷
性を向上させるために用いる。揺変剤としては、5iO
zなどの無機質の超微粉末を適宜添加して、印刷性良好
なレジストインクのチクソトロピー指数(Bm粘度針で
回転数100 rpmで測定した粘度/回転数1 rp
mで測定した粘度)5〜40な得る。
本発明で用いる(へ)有機溶剤としては、エポキシ樹脂
、およびエポキシ樹脂用硬化剤を混合溶解し、かつイン
クの一般的な性状を考慮すると、揮発生の小さい沸点が
約100℃以上のものが使い易い。例えば1−ブチルア
ルコール、n−ブチルアルコール、メチルイソブチルカ
ルピトール、シクロヘキサノール、n−プロピルアセテ
−)+n−ブチルアセテート、1−ブチルアセテート、
80C−ブチルアセテート、アミルアセテート、メチル
アミルアセテート、エチルラクテート、ブチルラクテー
ト、メチルオキシトールアセテート、オキシトールアセ
テート。
ブチルオキシトールアセテート、メチルオキシトール、
オキシトール、ブチルオキシトール。
メチルジオキシトール、ジオキシド−/l/ 、−fチ
ルオキシトール、メチルn−プロピルクトン。
メチルn−プチルクトン、メチル−1so−ブチ/l/
yトン、ジイソプテルゲトン、ンクロヘ゛キチノン、イ
ソフオロン、ジアセテートアルコール。
ニトロメタン、ニトロエタン、工f′−ツリーセルツル
/−/ ブ、n−ブチルセルソルブ、ジブチルセルソルブなどが
ある。本発明においては、レジストインクの印刷性を考
慮し、インクの粘度す800〜10.000ポアズ(2
0℃B型粘度計1 rpm )にし得る有機溶剤量を添
加する。
本発明においては、上記の(イ)〜(へ)に記載の成分
の池に、(ト)着色剤、(テ)消泡剤を、必要に応じて
単独ないし併用して添加することができる。
(ト)  着色剤としては、例えば、フタロシアニンブ
ルー、フタロシアニングリーンなどの顔料がある。
(力 消泡剤は、レジストインク印刷時に巻き込む気泡
を除去するために添加する。消泡剤としては、シリコー
ンオイルなどを用いる。
以上のレジストインク成分を、らいかい機で混練し、三
本ロールで練り上げ、適量の有機溶剤を加え、粘度およ
びチクソトロピー指数を調整することができる。
以下に1実施例および比較例につき、本発明をさらに具
体的に詳細に説明する。、 実施例 1 エポキシ樹脂としてエビコー) 152 (、シェル化
学に、−に、製、エポキシ当量175 ) 100重量
部、充てん材としてタルク粉末L−1(日本タルクに、
 K、製、平均粒子径2μ愚)10重量部、エポキシ樹
脂と反応し、かつ鋼箔との耐水接着性を向上させる化合
物として、2−メルカプトチアゾリンを20重量部、揺
変剤として酸化珪素超微粉末アエロジルA380 (日
本アエロジルに、 K。
製)6重量部、消泡剤としてシリコーンオイル5c−5
540(信越化学に、 K、製)2重量部、着色剤とし
てフタロシアニングリーン1.5重量部、芳香族アミン
系硬化剤としてアデカKH・1013(旭電化に、 K
、製、活性水素当量: 64 ) 20重量部、イミダ
ゾール系硬化剤として、2E4MZ(四国化成に、 K
、製) 5重量部、のレジストインク成分をらいかい機
で混練し、次に、三本ロールで練シ上げた。さらに、レ
ジストインクは、印刷性を考慮し、チクソトロピー指数
を5〜40、また粘度を800〜1α000ポアズ(B
型回転粘度針、20℃1 rpm )になるようなn−
ブチルセルソルブを加えてレジストインク組成物をv4
製した。
銅張りガラスエポキシ基板に導体0.3〜20鵬、導体
間隔0.7〜51mのパターンな形成L7tプリント回
路板上に、上記のレジストインク組成物を導体パターン
の一部が露出するようにスクリーン印刷法によシ印刷し
た。これ4t130℃30分間加熱炉に入れ硬化した。
レジスト膜の厚さは10〜15μ馬であり友。
次に、下記に示す化学鋼めっき液に20時間浸漬した。
めっき慴には液濃度自動管理装置を収りつけ、めっき液
中のCu a度、pHsホルマリン濃度およびPDTA
II11度を一定とした。
次に、基板をめっき液から取り出し、水洗後棚熱炉で8
0℃20分間乾燥した。
このようにして形成したレジスト膜には、白化等の変色
や、膨潤、ふくれ、基板との剥離などの異常は見られな
かった。
@箔パターン上のレジスト膜に、鋭利な力。
ターナイフで1鵬ピツチで格子なJよりK 5400に
規定されている基盤目試験用ガイドな用いて手描し、さ
らに、この部分にセロテープを上分密着させたのち、4
5度の方向にセロテープな一気に引き剥し、クロス力、
トされたレジスト膜の剥離状況を観察した。塗膜の剥離
は観察されず、基盤目試験の評価点数は10点であった
ま几、基板にフラックス処理をした後、260℃の半田
槽にレジスト膜が半田に接するように20秒間入れ、外
観を観察し九が、レジスト膜にふくれやクラックは発生
しなかった。さらに、基盤目試験を行なったが、剥離は
観察されず、J工8に5400での評価点数は10点で
あう念。
−来1日刊−3= エビコー)152:60重量部、エピコート154(シ
ェル化学に、 K、 I!i!、エポキシ当量197)
40重蓋部、アルミナ粉末C(不二見研磨工業に、に、
製、平均粒子径1μ隅)20重量部、2−メルカプトイ
ミダゾリジン121L量部、アエロジルA380:4J
it部、5c−5540:2重量部、フタロシアニング
リーン1.5重量部、KH−1013: 24重量部、
2−フェニルイミダゾール8重量部、およびn−ブチル
セルソルブ8重量部、を用いて、実施例1と同じ方法で
レジストインクな゛製造した。レジストインクの粘度は
2050ポアズ(20℃、1 rpm )、チクソトロ
ピー指数は28であった。さらに、実施例1と同じ方法
で、このレジスト膜の耐めっき液性、ならびに、半田付
けによる耐熱性評価を行なった。いずれの場合にもレジ
スト膜の変色、ふくれ、クラ、り、剥離などの・異常は
生じなかった。半田付は後の基盤目試験での評価点数は
10点であった。
実施例 3 エビコー) 154 : 100重量部、硫酸バ9ウム
粉末’300 (界化学工業に、 K冒り平均粒径0.
8μM)35重量部、チアゾリジン35重量部、アエロ
ジルA380 : 5重量部、5c−5540: 2重
蓋部、フタロシアニングリーン1.5重量部、芳香族ア
ミン系硬化剤としてH−84重M(日本合成化工に、 
K、製、活性水素当1i52)15重量部、2−フェニ
ルイミダゾール5重量部、およびブチルカルピトール1
2重量部、を用いて、実施例1と同一方法でレジストイ
ンクを製造した。レジストインクの粘度は5820ポア
ズ(20”、1X”pm)、チクソトロピー指数は5で
あった。さらに、実施例1と同じ方法でこのレジスト膜
の耐めっき液性、ならび忙半田付けによる耐熱性評価を
行なった。いずれの場合にもレジスト膜の変色、ふくれ
、クラ、り、剥離などの異常は生じなかった。半田付は
後の基盤目試験での評価点数は10点であった。
実施例 4 エポキシ樹脂としてDHN431  (ダウケミカルに
、 K、製、エポキシ当量182 ) 100重量部、
タルク粉末L−1:15重量部、2−アミノ−5−メル
カプト−1,5,4−チアジアゾール5重量部、アエロ
ジルA380 : 6重量部、8C! −5540:2
重量部、フタ′ロシアニングリーン1.5重量部、H−
84重M:25重量部、2に4MZ:15重量部、およ
びブチルカルピトール16Jl量部、な用いて、実施例
1と同一方法でレジストインクを製造し次。レジストイ
ンクの粘度は9700ポアズ(20℃、 1 rpm 
)、チクソトロピー指数は29でめり九。さらに1実施
例1と同じ方法で、このレジスト膜の耐めっき液性、な
らびに半田付けによる耐熱性評価を行なった。いずれの
場合にもレジスト膜の変色、ふくれ、クラック、剥離な
どの異常は生じなかった。半田付は後の基盤目試験での
評価点数は10点であった。
実施例 5 エポキシ樹脂としてDPI438  (ダウケミカルに
、 K、製、エポキシ当量205 ) 100重量部、
石英粉末クリスタライトVX!(竜森に、 K、製、平
均粒子径1μ愚)10!を部、I H−1,2,4−ト
リアゾール−3−チオール12重量部、アエロジルA3
80 : 6Ji量部、80−5540 : 2 Ji
量置部フタロシアニングリーン1.5:![1g、芳香
族アミン系硬化剤としてジアミノジフェニルメタン(活
性水素当t49)16重t@V、2E4MZ:8重量部
、およびn−ブチルセルソルブ15重量部、を用いて、
実施例1と同一方法でレジストインクを製造した。レジ
ストインクの粘度は3200ポアズ(20’: 、 1
 rpm )、チクソトロピー指数は21であっ几。さ
らに、実施列1と同じ方法で、このレジスト膜の耐めっ
き液性。
ならびに半田付けによる耐熱性評価を行なっ之。
いずれの場合にも、レジスト膜の変色、ふくれ、クラ、
り、剥離などの異常は生じなかった。半田付は後の基盤
目試験での評価点数は10点であった。
実施例 6 エポキシ樹脂として、DKN4!11 : 60重量部
、DEN438 : 40重量部、石英ガラス粉末ヒユ
ーズレックスE−2(竜森に、に、裏、平均粒子径2.
8μIII)12重量部、2−メルカプ、トチアゾリン
20重量部、アエロジルA380 : 10重量部、5
c−5540: 2重量部、フタロシアニングリーン1
.5重量部、ジアミノジフェニルメタン16重ts、2
−フェニルイミダゾール5重量部、およびブチルカルピ
トール15重綾部、を用いて、実施例1と同一方法でレ
ジストインクを製造した。レジストインクの粘度は18
10ポアズ(20” 、 1 rpm )、チクソトロ
ピー指数は40であった。さらに、実施例1と同じ方法
で、このレジスジ膜の耐めっき液性、々らびに半田付け
による耐熱性評価を行なった。いずれの場合にもレジス
ト膜の変色、ぶくれ、クラ、り、剥離などの異常は生じ
なかった。半田付は後の基盤目試験での評価点数は10
点であつ友。
なお、実施例1アロのレジスト皮膜は、いずれも無電解
銅めっきの析出反応に悪影響を及ぼすような作用はなか
った。
比較例 1 エビコー) 152 : 100重量部、タルク粉末L
−1:10重量部、アエロジA/A380 : 4重量
部、5o−5540: 2重量部、フタロシア“ユング
リーフ1.5重量部、芳香族アミン系硬化剤11tH−
1015:33重量部、およびn−ブチルセルソルブ6
重量部、を用いて、(エポキシ慣脂と反応し、かつ鋼箔
との耐水接着性を向上させる化合物を用いず)実施例1
と同一方法でレジストインクを製造し、さらに、このレ
ジスト膜の耐めっき液性、ならびに半田付けKよる耐熱
性評価な行なった。無電解鋼めっき後、レジスト腰下の
銅箔がはん点状に黒褐色に変化してい之。
ま友、半田付は後、この部分のレジスト膜に、ふくれが
生じた。めっき後のJI8に5400の基盤目試験での
評価は2点であシ、レジスト膜の約45チが剥離した。
比較例 2 エピコー) 154 : 100重量部、アルミナ粉末
0215重量部、アエロジ/L’A380 : 6重量
部、80−5540 : 21tllS% フタロシア
ニングリーン1.5重量部、メタフェニレンジアミン2
8重量部、およびブチルカルピトール12jt量部、な
用いて、(エポキシ樹脂と反応し、かつ鋼箔との耐水接
着性を向上させる化合物を用いず)実施例1と同一方法
でレジストインクな製造し、さらに、このレジスト膜の
耐めっき液性、ならびに半田付けによる耐熱性評価を行
なツft。無電解鋼めっき後、レジスト膜下の鋼箔がは
ん点状に黒褐色に変化した。また、半田付は後、この部
分のレジスト膜に、ふくれが生じた。めっき後の基盤目
試験での評価は2点であり、レジスト膜の約35%が剥
離し友。
比較例 3 エビコー) 152 : 100重量部、硫酸パリクム
粉末書300 : 35重量部、アエロジンA380 
:6重量部、BO−5540:2重量部、フタロシアニ
ングリーン1.5重量部、イミダゾール系硬化剤2に4
MZ (四国化成に、 K、製)8重量部、を用いて、
(エポキシ樹脂と反応し、かつ鋼箔との耐水接着性を向
上させる化合物を用いず)実施列1と同一方法でレジス
トインクを製造し、さらに、このレジスト膜の耐めっき
液性、ならびに半田付けによる耐熱性評価を行なった。
無電解鋼めっき後、レジス)膜下の鋼箔がはん点状に黒
褐色に変化し、レジスト膜に一部ふくれを生じた。また
、半田付は後、このはん点状の黒褐色部分のレジスト膜
に大きな、ふくれが生じた。めっき後の基盤目試験での
評価は2点であシ、レジスト膜の約50tsが剥離した
以上、説明し友ように、本発明の耐めっきソルダーレジ
ストインク組成物は、エポキシ樹脂に充てん材、揺変剤
、有機溶剤と共に1エポキシ樹脂用硬化剤、およびエポ
キシ樹脂と反応しかり銅箔との耐水接着性を向上させる
化合物を添加することにより、レジスト膜の耐無電解め
っき液性に優れ、かつ半田付けKよる耐熱性が良好でろ
〕、アディティブ法によるプリント回路板の製造に適用
できるものである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 下記の(イ)、 (ロ)、 (ハ)、 (ニ)、
     (ホ)、および(へ)の項記載の成分を含有してなる
    ことな特徴とする耐めっき性ソルダーレジストインク組
    成物。 (イ) エポキシ樹脂; (0)  エポキシ樹脂用硬化剤; (ハ) エポキシ樹脂と反応し、かつ、鋼箔との耐水接
    着性を向上させる化合物; に) 充てん剤; (ホ)揺変剤; (へ)有機溶剤ニー 2、前記の(イ)エポキシ樹脂の配合は100重量部で
    あシ; 前記の(ロ)エポキシ樹脂用硬化剤はエポキシ樹脂用芳
    香族アミン系硬化剤およびエポキシ樹脂用イミダゾール
    系硬化剤にして、咳エポキン樹脂用芳香族アミン系硬化
    剤の配合割合はエポキシ樹脂の1エポキシ当量に対して
    0.5〜1.5当量であシ、該エポキシ樹脂用イミダゾ
    ール系硬化剤の配合割合は5〜30重量部であるもの; 前記の(ハ)エポキシ樹脂と反応し、かつ銅箔との耐水
    接着性な向上させる化合物は1〜35重量部; 前記の(ニ)充てん材と(ホ)揺変剤と(へ)有機溶剤
    の配合割合は、レジストインクのチクソトロピー指数が
    5〜40にして、かつ、20℃の粘度が800〜io、
    oooポアズ(B型回転粘度計1 rpm )になるよ
    うにするものである:特許請求の範囲第1項記載の耐め
    っき性ソルダーレジストインク組成物。 3、前記の(ハ)エポキシ樹脂と反応し、かつ鋼箔との
    耐水接着性を向上させる化合物は、2−メルカプトチア
    ゾリン、2−メルカプトイミダゾリジン、チアゾリジン
    、2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チアジア
    ゾール、ま念は、IH−1,2,4−)リアゾール−5
    −9−オールである特許請求の範囲第1項または第2項
    記載の耐めっき性ソルダーレジストインク組成物。
JP57058073A 1982-04-09 1982-04-09 耐めつき性ソルダ−レジストインク組成物 Pending JPS58176254A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6291934A (ja) * 1985-10-18 1987-04-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd ソルダ−レジスト組成物
JPH05188593A (ja) * 1991-07-15 1993-07-30 Internatl Business Mach Corp <Ibm> フォトイメージング用の改良された組成物
JPH05197147A (ja) * 1990-10-09 1993-08-06 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 熱的に安定な光イメージング用組成物
JPH06317905A (ja) * 1993-11-15 1994-11-15 Ibiden Co Ltd 感光性樹脂組成物及びプリント配線板
US7354978B2 (en) * 2003-10-20 2008-04-08 Sumitomo Bakelite Co. Semiconductor encapsulant of epoxy resin, phenolic resin and triazole compound
WO2013086814A1 (zh) * 2011-12-16 2013-06-20 新高电子材料(中山)有限公司 耐候、高导热涂层和散热太阳能背板及高效太阳能电池板

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6291934A (ja) * 1985-10-18 1987-04-27 Toyo Ink Mfg Co Ltd ソルダ−レジスト組成物
JPH05197147A (ja) * 1990-10-09 1993-08-06 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 熱的に安定な光イメージング用組成物
JPH05188593A (ja) * 1991-07-15 1993-07-30 Internatl Business Mach Corp <Ibm> フォトイメージング用の改良された組成物
JPH06317905A (ja) * 1993-11-15 1994-11-15 Ibiden Co Ltd 感光性樹脂組成物及びプリント配線板
US7354978B2 (en) * 2003-10-20 2008-04-08 Sumitomo Bakelite Co. Semiconductor encapsulant of epoxy resin, phenolic resin and triazole compound
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