JPS58177320A - 芳香族ポリアミドフイルムの処理方法 - Google Patents
芳香族ポリアミドフイルムの処理方法Info
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- JPS58177320A JPS58177320A JP6029382A JP6029382A JPS58177320A JP S58177320 A JPS58177320 A JP S58177320A JP 6029382 A JP6029382 A JP 6029382A JP 6029382 A JP6029382 A JP 6029382A JP S58177320 A JPS58177320 A JP S58177320A
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- Japan
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- aromatic polyamide
- temperature
- composition
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は芳香族ポリアミドフィルムの熱処理方法に関す
るものである。j!に詳しくは、芳香族ポリアミドフィ
ルムに特定量の7ミド溶剤を合有せしめ、熱処理を施す
ことにより寸法安定性のすぐれた芳香族ポリアミドフィ
ルムを得る技術に係るものである。
るものである。j!に詳しくは、芳香族ポリアミドフィ
ルムに特定量の7ミド溶剤を合有せしめ、熱処理を施す
ことにより寸法安定性のすぐれた芳香族ポリアミドフィ
ルムを得る技術に係るものである。
芳香族ポリアミドはすぐれた耐熱性、4!!械的性質を
有しており、p−フェニレンテレフタルlミド系、ハロ
ゲン置換ルーフユニしンテレフタル7ミド系1m−フェ
ニレンテレフタルアミド系2、p−フェニレンイソフタ
アミド系およびm−フェニレンインフタル7!ド系等の
重合体は線維1金成紙等の分野で各種の広い用途展開り
一なさF(近年特に注目されて(・る高分子素材である
。
有しており、p−フェニレンテレフタルlミド系、ハロ
ゲン置換ルーフユニしンテレフタル7ミド系1m−フェ
ニレンテレフタルアミド系2、p−フェニレンイソフタ
アミド系およびm−フェニレンインフタル7!ド系等の
重合体は線維1金成紙等の分野で各種の広い用途展開り
一なさF(近年特に注目されて(・る高分子素材である
。
しかしながら、芳香族ポリアミドは、化学構造的に強い
極性を示し、水との親和性が高い高分子であるため芳香
族ポリアミドよりなる高分子フィルムは吸収率が高く、
かつ吸湿による寸法変化が大きいため、高い配**度の
要求される電子基板材料などに用いることができない欠
点を有していた。一般に高分子フィルムはガラス転移点
より高い温度で結晶化熱固定することにより、寸法安定
性を改良しうろことが知られている。しかしながら、芳
香族ポリアミド(!カラス転移点が高く、結晶イヒ熱固
定を有効に実施するためには、少くとも200℃以上の
A@が必要である。しかしながら、咳高OA領域の熱処
理技術は、工業的出産技術として、いまだ完成されてい
ないのが実状である。領た、芳香族ポリ7ミドは、ガラ
ス転移点と高分子の分解一度が近接しており、芳香族ポ
リアミドフィルムのガラス転移点より十分高い温度での
熱処理に際して、高分子の分解劣化が避は難く、良好な
寸法安だ性2機械的性質を実現することが困難であった
。
極性を示し、水との親和性が高い高分子であるため芳香
族ポリアミドよりなる高分子フィルムは吸収率が高く、
かつ吸湿による寸法変化が大きいため、高い配**度の
要求される電子基板材料などに用いることができない欠
点を有していた。一般に高分子フィルムはガラス転移点
より高い温度で結晶化熱固定することにより、寸法安定
性を改良しうろことが知られている。しかしながら、芳
香族ポリアミド(!カラス転移点が高く、結晶イヒ熱固
定を有効に実施するためには、少くとも200℃以上の
A@が必要である。しかしながら、咳高OA領域の熱処
理技術は、工業的出産技術として、いまだ完成されてい
ないのが実状である。領た、芳香族ポリ7ミドは、ガラ
ス転移点と高分子の分解一度が近接しており、芳香族ポ
リアミドフィルムのガラス転移点より十分高い温度での
熱処理に際して、高分子の分解劣化が避は難く、良好な
寸法安だ性2機械的性質を実現することが困難であった
。
本発明者は、これらの緒関聰を考え合せ、鋭意検討した
結果、芳香族ポリアミドフィルムに特定量のアミド溶剤
を含有せしめ、熱処理を施すことにより寸法′ゲ定性9
機械的性賀が向上する事実を見出し本発明に到達したも
のである1、即ち1本発明は、芳香族ポリ7ミドフで・
レム足長寸たは緊張下で100℃以上、該ポリアミドの
分解温度以下で熱処理を施すことを特徴とする芳香族ポ
リアミドフィルムの処理方法である 本発明に用いられる芳香族ポリアミド系重合体は一般式 で示された繰返し構造単位を*独、又は共重合υ〕形で
含む芳香族ポリアミド系重合体であり、好ましくは該構
造単位を75モルチ以上含む芳壽諌ポリアミド系重合体
である。
結果、芳香族ポリアミドフィルムに特定量のアミド溶剤
を含有せしめ、熱処理を施すことにより寸法′ゲ定性9
機械的性賀が向上する事実を見出し本発明に到達したも
のである1、即ち1本発明は、芳香族ポリ7ミドフで・
レム足長寸たは緊張下で100℃以上、該ポリアミドの
分解温度以下で熱処理を施すことを特徴とする芳香族ポ
リアミドフィルムの処理方法である 本発明に用いられる芳香族ポリアミド系重合体は一般式 で示された繰返し構造単位を*独、又は共重合υ〕形で
含む芳香族ポリアミド系重合体であり、好ましくは該構
造単位を75モルチ以上含む芳壽諌ポリアミド系重合体
である。
ここにAr1.Ar、、 Ar、は同一であっても異っ
ていてもよ(、その代表的なものとして次の構造一式を
有する。
ていてもよ(、その代表的なものとして次の構造一式を
有する。
RnHn nn Kn
ここKおいでRは低級アルキル、低級アルコキシ、ハロ
ゲンあるいはニトロ基であり、nはの内から選ばれた1
種であって、ここにYは水素あるいは低級アルキル基を
示す。
ゲンあるいはニトロ基であり、nはの内から選ばれた1
種であって、ここにYは水素あるいは低級アルキル基を
示す。
本発明において特に好ましく使用され、大きな作用効果
を奏する芳香族ポリアミドは、噛り返し単位の少くとも
7sモルチがm−フェニレンジアミンとイン7タル酸り
aライドの如きイソフタル酸ハライドとを溶液重合ある
いは界面重合等の方法で反応させて得られるボ9− m
−フェニレンイソフタルアミドであり、必要に応じて共
重合される成分はアミン成分として0−フェニレン;ア
ミン、ベンジジン、 4.4’−ジアミノジフェニル
エーテル、 3.4’〜ジ7ミノンフェニルL−チル
、キシリレ/ジアミン、トルニ/シアi/、4.4’−
ジ7ミ/ジフェニルスルホ/等があげられ、又酸成分と
してはテレフタル酸クロライ−ド、l、4−す7タレン
ジカルポン酸クロライド−12,6−ナフタレンジカル
ボン酸りUライト、ジフェニルスルホン−4,4′−ジ
カルボン酸りaライド、 4.4’−ジフェニルジカ
ルボンの代表的なものとして挙げられる。
を奏する芳香族ポリアミドは、噛り返し単位の少くとも
7sモルチがm−フェニレンジアミンとイン7タル酸り
aライドの如きイソフタル酸ハライドとを溶液重合ある
いは界面重合等の方法で反応させて得られるボ9− m
−フェニレンイソフタルアミドであり、必要に応じて共
重合される成分はアミン成分として0−フェニレン;ア
ミン、ベンジジン、 4.4’−ジアミノジフェニル
エーテル、 3.4’〜ジ7ミノンフェニルL−チル
、キシリレ/ジアミン、トルニ/シアi/、4.4’−
ジ7ミ/ジフェニルスルホ/等があげられ、又酸成分と
してはテレフタル酸クロライ−ド、l、4−す7タレン
ジカルポン酸クロライド−12,6−ナフタレンジカル
ボン酸りUライト、ジフェニルスルホン−4,4′−ジ
カルボン酸りaライド、 4.4’−ジフェニルジカ
ルボンの代表的なものとして挙げられる。
本発明方法の熱処理に用いる芳香族ポリアミドフィルム
を製造する方法としては、 il+ 乾式−湿式製膜法 (2) 湿式製膜法 がその代表的なものとしてあげら°れる。
を製造する方法としては、 il+ 乾式−湿式製膜法 (2) 湿式製膜法 がその代表的なものとしてあげら°れる。
乾式−湿式製膜法による芳香族ポリアミドフィルムの製
造法に関しては該芳香族ポリ7ミドー −7 4 ド系
溶剤組成物を流延し、iso〜250℃の謬囲気下溶剤
を除去した後、水洗する事にtづて水溶性残留化合物を
抽出し、含水フィルムを得る。このフィルムを必41に
応じて地伸配向した後乾燥し、本発明に適用すべきフィ
ルムを得る事が出来る。
造法に関しては該芳香族ポリ7ミドー −7 4 ド系
溶剤組成物を流延し、iso〜250℃の謬囲気下溶剤
を除去した後、水洗する事にtづて水溶性残留化合物を
抽出し、含水フィルムを得る。このフィルムを必41に
応じて地伸配向した後乾燥し、本発明に適用すべきフィ
ルムを得る事が出来る。
次に工業生産的に有利な方法と考えられる湿式製膜法に
つ(・て述べる。
つ(・て述べる。
芳香族ポリアミドフィルムを製造するに際しては、前述
した乾式−湿式法は用いる溶剤がアミド系溶剤等極性の
高い高沸点溶剤であるため高温・長時間が必要であり、
又芳香族ポリアミドとアミド系溶剤とが錯体を作る等強
い相互作用があって乾式のみでは完全に溶剤を除去する
ことは不可能である。従つ【湿式法と組み合せる事が不
可避であり、どうしても工程が11雑化する問題点があ
る。
した乾式−湿式法は用いる溶剤がアミド系溶剤等極性の
高い高沸点溶剤であるため高温・長時間が必要であり、
又芳香族ポリアミドとアミド系溶剤とが錯体を作る等強
い相互作用があって乾式のみでは完全に溶剤を除去する
ことは不可能である。従つ【湿式法と組み合せる事が不
可避であり、どうしても工程が11雑化する問題点があ
る。
これに対して湿式法は工程が単一であり、有利な方法と
考えられるが、芳香族ポリアミド−アミド系溶剤による
組成物の湿式凝固性はかならずしも良好なものではなく
強靭な高分子フィルムを得る事は容易でを言なく、これ
らの諸問題のため芳香族ポリアミドフィルムが工菓生威
に成功していない技術的障害の一つとなって(・たこれ
らの技術的障害を排除すべきすぐれた芳香族ポリアミド
の湿式製膜技衝を我々はすでに以下に記述する方法を提
案してきた。
考えられるが、芳香族ポリアミド−アミド系溶剤による
組成物の湿式凝固性はかならずしも良好なものではなく
強靭な高分子フィルムを得る事は容易でを言なく、これ
らの諸問題のため芳香族ポリアミドフィルムが工菓生威
に成功していない技術的障害の一つとなって(・たこれ
らの技術的障害を排除すべきすぐれた芳香族ポリアミド
の湿式製膜技衝を我々はすでに以下に記述する方法を提
案してきた。
すなわち、芳香族ポリアミド組成物の組成比が下記式
%式%(2)
で表わされる芳香族ポリアミド組成物を水性凝固浴中に
導入してなる湿式製膜法である。
導入してなる湿式製膜法である。
さらには繰り返し構造単位が少くとも75モルチ以上が
メタ構造であるような芳香族ポリアミドにあっては芳香
族ポリアミド組成物の組成比はボ11マー濃度に依存し
、下記の如く規定される。
メタ構造であるような芳香族ポリアミドにあっては芳香
族ポリアミド組成物の組成比はボ11マー濃度に依存し
、下記の如く規定される。
0.1 ≦−
かかる組成物を水性凝固浴中に導入するこEKよって製
膜する方法である。
膜する方法である。
ここで用いられるアミド溶媒としてはテトラメチル尿素
、ヘキサメチルポスホル7ミド。
、ヘキサメチルポスホル7ミド。
N、N−ジメチル7セトアミド、N−メチルピルリドン
−2,N−メチルピペリドン−2、NUN−ジメチルエ
チレン原票、 N 、N 、N’、N’−テトラメチル
マロン#7ミド、N−メチルカプロラクタム、N−7セ
チルピロリジン、 N、N−ジエチルアセトアミド、
N−エチルピロリドン−2゜N、N−ジメチルプロピオ
ン酸7ミド、 N、N−ジメチルインブチ−ルアミド、
N、N−ジメチルプ −9− o ヒ+y 7尿I NUN−ジメチルホルム7ミド及
びそれらの混合系が挙げられる。とくに好ましい7ミド
溶媒はN−メチルピロリドン−2(以TNMPと略称す
る)、N、N−ジメチルアセトアミド及びそれらの混合
系を挙げることができる 又、好ましく使用される可溶化助剤としては周期律表1
族及び/又は第■族の金属塩並びK・・a−1′7・化
ア/そニウムをあげる事ができる。
−2,N−メチルピペリドン−2、NUN−ジメチルエ
チレン原票、 N 、N 、N’、N’−テトラメチル
マロン#7ミド、N−メチルカプロラクタム、N−7セ
チルピロリジン、 N、N−ジエチルアセトアミド、
N−エチルピロリドン−2゜N、N−ジメチルプロピオ
ン酸7ミド、 N、N−ジメチルインブチ−ルアミド、
N、N−ジメチルプ −9− o ヒ+y 7尿I NUN−ジメチルホルム7ミド及
びそれらの混合系が挙げられる。とくに好ましい7ミド
溶媒はN−メチルピロリドン−2(以TNMPと略称す
る)、N、N−ジメチルアセトアミド及びそれらの混合
系を挙げることができる 又、好ましく使用される可溶化助剤としては周期律表1
族及び/又は第■族の金属塩並びK・・a−1′7・化
ア/そニウムをあげる事ができる。
かかる塩類は、例えば特公昭35−16027号等に記
載されている如く、ポリマー溶液中に溶存し、溶液安定
性を高める働きをする。好ましい可溶化助剤としては塩
化リチウム、塩化力ルシクム、塩化マグ末シウムを挙げ
ることができ、特KtFFましくは塩化カルシウムであ
る。
載されている如く、ポリマー溶液中に溶存し、溶液安定
性を高める働きをする。好ましい可溶化助剤としては塩
化リチウム、塩化力ルシクム、塩化マグ末シウムを挙げ
ることができ、特KtFFましくは塩化カルシウムであ
る。
芳香族ポリ7ミドフイルムの製膜に際して使用される芳
香族ポリアミド組成物中において芳香Ii5!ポリアミ
ド組成物(a)、アミド系溶剤(b)及び可溶化助剤(
c+は前述した如く一般的には下記式であることが好ま
しい。
香族ポリアミド組成物中において芳香Ii5!ポリアミ
ド組成物(a)、アミド系溶剤(b)及び可溶化助剤(
c+は前述した如く一般的には下記式であることが好ま
しい。
0.5?□ ≧ 0.05 ・・・・・・・・・
(1)a+b −≧0.1 ・・・・・・・・
・(2)更に繰り返し構造単位の75モルチ以上がメタ
構造である芳香族ポリアミドの場合には。
(1)a+b −≧0.1 ・・・・・・・・
・(2)更に繰り返し構造単位の75モルチ以上がメタ
構造である芳香族ポリアミドの場合には。
0.25≦□≦0.136のとき
a + b
0.1≦−・・・・・・・・・(3)
0.336≦□≦O,Sのとき
a + b
で規定される組成物が好ましい。
上記式中+1) において$<6.05及び(3)にお
いて畜(0,25の場合−は、フィルム成形の目的には
充分な成形性が得られた(・ことが多、−〕たり、アア
ミド溶剤の使用量が多いこと等好ましくない。
いて畜(0,25の場合−は、フィルム成形の目的には
充分な成形性が得られた(・ことが多、−〕たり、アア
ミド溶剤の使用量が多いこと等好ましくない。
又、反面+11. (31弐に於てa+b””の場合に
は得られた組成物溶液粘度が極めて高くなり、取り扱い
上困難であることが多い。
は得られた組成物溶液粘度が極めて高くなり、取り扱い
上困難であることが多い。
前記式(2)においてc / a≧0.1であることが
必要である。更には(4)Kおける範囲に可溶化助剤を
用いる事が望ましい。c / a (0,1にあっては
光分な溶液安定性を得る事が困難である。
必要である。更には(4)Kおける範囲に可溶化助剤を
用いる事が望ましい。c / a (0,1にあっては
光分な溶液安定性を得る事が困難である。
かかる芳香族ポリアミ′ド組成物を製造する方法には
(イ) 再溶解法
(ロ) 溶液重合−中和法
が代表的なものとしてあげられる。
再溶解法はあらかじめ単離されている芳香族ポリアミド
、アミド系溶剤及び可溶化助剤を所定の割合に調合して
再溶解せしめる方法である。
、アミド系溶剤及び可溶化助剤を所定の割合に調合して
再溶解せしめる方法である。
代表的な手法としては、可溶化助剤をアミド系溶剤に溶
解せしめた後、好ましくは冷却下にポリマーを混合せし
めて調整することができる。
解せしめた後、好ましくは冷却下にポリマーを混合せし
めて調整することができる。
可溶化助剤の種類と使用量とKよっては、7ミド系溶剤
のみKは全量SSしないこともあるが、ポリマーをさら
に混合すると均一に、11171することが渋い。別法
としては、可溶化助剤の粉末とポリマーの粉末とを必要
に応じてさらに混合粉砕し、充分に混和した後にアミド
溶剤を冷却下に混合することも可能である。
のみKは全量SSしないこともあるが、ポリマーをさら
に混合すると均一に、11171することが渋い。別法
としては、可溶化助剤の粉末とポリマーの粉末とを必要
に応じてさらに混合粉砕し、充分に混和した後にアミド
溶剤を冷却下に混合することも可能である。
また、該組成物は溶液重合−中和法によっても調製する
ことができる。アミド系溶剤を用いて、芳香族ジアミン
と芳香族ジ酸ハライドとを重合反応せしめ、ポリマー溶
液を調製することは公知である(例えば特公昭3g−1
4399号公報参照)。ひき続き該重合溶液中に生成し
ているハロゲン化水素を中和せしめ本発明の可溶化助剤
を生成させ安定なポリマー溶液を#4製することも公知
である(例えば特公昭35−15027号公法参照)。
ことができる。アミド系溶剤を用いて、芳香族ジアミン
と芳香族ジ酸ハライドとを重合反応せしめ、ポリマー溶
液を調製することは公知である(例えば特公昭3g−1
4399号公報参照)。ひき続き該重合溶液中に生成し
ているハロゲン化水素を中和せしめ本発明の可溶化助剤
を生成させ安定なポリマー溶液を#4製することも公知
である(例えば特公昭35−15027号公法参照)。
さらに!1lli重合−中和法によって本発明の芳香族
ポリアミド組成物をg製する優れた方法としてプレポリ
マーを経由する装造法が提案されている(%願昭54−
46745号公報参fi)。この方法によればi液組成
物中の可溶化助剤の組成比をコントロールでき好ましい
。
ポリアミド組成物をg製する優れた方法としてプレポリ
マーを経由する装造法が提案されている(%願昭54−
46745号公報参fi)。この方法によればi液組成
物中の可溶化助剤の組成比をコントロールでき好ましい
。
両組芳香族ポリアミド組成物には、必要に応じて、・下
記に例示する添加剤、改質剤等を含有することもできる
。:光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、架橋剤、難燃剤
、紫外線しゃ新剤。
記に例示する添加剤、改質剤等を含有することもできる
。:光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、架橋剤、難燃剤
、紫外線しゃ新剤。
静電防止剤、艶消剤、染料・顔料等の着色剤。
有機・無機の各種充填材もしくは補強材、その他種々の
可塑剤、溶液粘度調節剤勢である。
可塑剤、溶液粘度調節剤勢である。
該芳香族ポリアミド組成物は常温において通常、粘稠な
液体又は半固体状であることが多い。
液体又は半固体状であることが多い。
しかしながら実施例にも示した如く、常温で半m>棒状
であっても、80℃以上の温度に於いて容易に流動し、
使用する溶剤の沸点までの温度範囲で適正な流動性を確
保することが出来、又溶液の熱安定性も良好である。従
って、従来の湿式成形機のみならず溶融成形機を適用す
るフィルム成形も可能である。
であっても、80℃以上の温度に於いて容易に流動し、
使用する溶剤の沸点までの温度範囲で適正な流動性を確
保することが出来、又溶液の熱安定性も良好である。従
って、従来の湿式成形機のみならず溶融成形機を適用す
るフィルム成形も可能である。
成形温度は使用する芳香族ポリアミド組成物の組成比、
適用される成形方法によっても異るが60〜180℃の
範囲から好ましく選択される。成形温度が60℃未満で
は組成物の溶液粘度が高く、均質なフィルムの得られ1
c(c・こと充分な生産性が得られないことがある。一
方、180℃以上では成形吻の着色及び組成物中の水分
による発泡等が生ずることがあり、操作上問題となるこ
とがある。
適用される成形方法によっても異るが60〜180℃の
範囲から好ましく選択される。成形温度が60℃未満で
は組成物の溶液粘度が高く、均質なフィルムの得られ1
c(c・こと充分な生産性が得られないことがある。一
方、180℃以上では成形吻の着色及び組成物中の水分
による発泡等が生ずることがあり、操作上問題となるこ
とがある。
かかる芳香族ポリアミド組成物の成形は湿式又は空中吐
出湿式法によってフィルムを得る事が出来る。一般に溶
液粘度の低い芳香族ポリアミド組成物を使用する場合に
は湿式成形法を適用し、溶液粘度が比較的高い場合には
、空中吐出−湿式成形法を適用することが多いが、必ず
しも限定されるものではなく、フィルム製造の目的、原
液組成物の物理的特性に応じて、より好ましい成形法を
選択することができる。
出湿式法によってフィルムを得る事が出来る。一般に溶
液粘度の低い芳香族ポリアミド組成物を使用する場合に
は湿式成形法を適用し、溶液粘度が比較的高い場合には
、空中吐出−湿式成形法を適用することが多いが、必ず
しも限定されるものではなく、フィルム製造の目的、原
液組成物の物理的特性に応じて、より好ましい成形法を
選択することができる。
特に空中吐出−湿式成形法は下記の点において、従来公
知の成形方法に比して極めて有利である。
知の成形方法に比して極めて有利である。
□
きわめて高ポリマー濃度の成形を可能にするので、高価
なアミド系溶剤の使用量が少な(・。
なアミド系溶剤の使用量が少な(・。
溶融成形と同様の成形法を適用でき、押し出し速度の向
上がみられる等極めて生産性の良い底形法を提供できる
。
上がみられる等極めて生産性の良い底形法を提供できる
。
均質で、透明性の高いフィルムが比較的厚みの太きいと
ころ迄、安定に製造できる。
ころ迄、安定に製造できる。
製造のエネルギーコストが低減される。可溶化助剤を含
有する原液組成物から乾式成形する場合は、湿式洗浄工
程を必要とし工程が複雑である。これに対し本発明の方
法は基本的に湿式成形工程のみからなり工程が単純であ
る。
有する原液組成物から乾式成形する場合は、湿式洗浄工
程を必要とし工程が複雑である。これに対し本発明の方
法は基本的に湿式成形工程のみからなり工程が単純であ
る。
凝固浴としては下記の組成をもつ浴の少くと4、一つが
芳香族ポリアミドフィルムの成形に好ましく用いられる
。
芳香族ポリアミドフィルムの成形に好ましく用いられる
。
(1)無機塩水溶液
(II)有機溶剤水溶液
(+ii) (1) 、 (i)の混合水溶液延伸工
程を容易にし、透明で強靭なフィルムの製造を行う目的
に譬、勿論凝固は特に重要な要因であって先述の芳香族
ポリアミド組成物と上記の凝固浴とを組み合わせる事に
よって以下に示す延伸が可能となり、高性能フィルムな
得る事が出来るのである。
程を容易にし、透明で強靭なフィルムの製造を行う目的
に譬、勿論凝固は特に重要な要因であって先述の芳香族
ポリアミド組成物と上記の凝固浴とを組み合わせる事に
よって以下に示す延伸が可能となり、高性能フィルムな
得る事が出来るのである。
無機塩水溶液中に含まれる化合物として代表的なものは
CaCj、 、 BaCj、 、 ZnC4* MgC
jt * NaCj、 #KCI、 AlCl、、 8
nC1,、NtCj、 BrC4,、LtCl、 Ca
Br、。
CaCj、 、 BaCj、 、 ZnC4* MgC
jt * NaCj、 #KCI、 AlCl、、 8
nC1,、NtCj、 BrC4,、LtCl、 Ca
Br、。
L i B r 、 C& (N0s)* e Zn
(NOI)* p Aj (NOI >1 j C&
(5CN)1 +KSCN、 Na5ON等を挙げるこ
とができる。好ましい無機塩としてはCaCJ、、 L
iCj、 MgC1,、ZnC1tを挙げることが出来
、とくに好ましくはLiCj。
(NOI)* p Aj (NOI >1 j C&
(5CN)1 +KSCN、 Na5ON等を挙げるこ
とができる。好ましい無機塩としてはCaCJ、、 L
iCj、 MgC1,、ZnC1tを挙げることが出来
、とくに好ましくはLiCj。
CaC4である。また、一般に芳香族ポリアミド組成物
中の可溶化助剤と凝固浴中の無機塩とは同じ化合物であ
ることが有利である。
中の可溶化助剤と凝固浴中の無機塩とは同じ化合物であ
ることが有利である。
好ましい無機塩濃度は無機塩の種類、芳香族ポリアミド
組成物の組成又は組成比、成形条件等によっても異なる
が、前記の無機塩を20重量%以上含む水溶液が好まし
い。かかる凝固浴を用いた場合には、機械的性能及び透
明性の優れたフィルムを製造することが可能である。さ
らに目的とするフィルムの厚み、透明度に応じて凝固浴
組成、温度、浸漬時間は一定ではないが、無機塩水溶液
を用いる場合の好適凝固浴温度は40〜110℃である
。
組成物の組成又は組成比、成形条件等によっても異なる
が、前記の無機塩を20重量%以上含む水溶液が好まし
い。かかる凝固浴を用いた場合には、機械的性能及び透
明性の優れたフィルムを製造することが可能である。さ
らに目的とするフィルムの厚み、透明度に応じて凝固浴
組成、温度、浸漬時間は一定ではないが、無機塩水溶液
を用いる場合の好適凝固浴温度は40〜110℃である
。
凝固浴としては有機溶剤水溶液も使用することができる
。有機溶剤とし【は各種のアルコール、アミド溶剤も用
いることかで鯉る。各種アルコールの中でフルキレング
リフールは好ましく選択できる有機溶剤の一つである。
。有機溶剤とし【は各種のアルコール、アミド溶剤も用
いることかで鯉る。各種アルコールの中でフルキレング
リフールは好ましく選択できる有機溶剤の一つである。
代表的なアルキレングリコールとしては、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、ポリエチレングリフー
ル、ポリプロピレングリコール等を用いることができる
。ポリフルキレングリコール又はグリセリン水溶液の澁
度は、芳香族ポリアミド組成物の組成又は組成比、成形
方法又はその他の要因によっても異るが30℃〜凝固浴
沸点の範囲から選択される。
コール、プロピレングリコール、ポリエチレングリフー
ル、ポリプロピレングリコール等を用いることができる
。ポリフルキレングリコール又はグリセリン水溶液の澁
度は、芳香族ポリアミド組成物の組成又は組成比、成形
方法又はその他の要因によっても異るが30℃〜凝固浴
沸点の範囲から選択される。
好ましい実施態様として、しばしば多段凝固浴が用いら
れる。多段凝固浴としては無機塩水溶液の濃度、温度を
異にした系、凝固組成の全(異った系眸必要に応じて使
い分ける事が可能であるが、工業的見地からすると同種
の凝固系を組み合した多段凝固浴が好ましい。
れる。多段凝固浴としては無機塩水溶液の濃度、温度を
異にした系、凝固組成の全(異った系眸必要に応じて使
い分ける事が可能であるが、工業的見地からすると同種
の凝固系を組み合した多段凝固浴が好ましい。
かくして得られたフィルムから水洗工程で、有機溶剤、
無機塩を除去するととにより、均質な透明の含水フィル
ムを得る事ができる。
無機塩を除去するととにより、均質な透明の含水フィル
ムを得る事ができる。
本発明方法には、該含水フィルム又は、必要にろじて一
輪、逐次二輪、同時二軸鴬伸した含水フィルム、又は、
#鷺伸フィルムを乾燥したフィルムを用いることができ
る。
輪、逐次二輪、同時二軸鴬伸した含水フィルム、又は、
#鷺伸フィルムを乾燥したフィルムを用いることができ
る。
本発明の熱処理を施すに際しては、芳香族ポリアミドフ
ィルム中に1〜200重量%、好ましくは3〜150重
量−のアミド溶剤が含まれていることが必要である。7
ミド溶剤の含有量が約Ill量チ未満では、誼ポリアミ
ドの見掛けのガラス転移点が下がらず、熱処理を施して
も高結晶化等の本発明の効果は達成されず、−1約20
0重量−までがフィルム製膜上の限界である。
ィルム中に1〜200重量%、好ましくは3〜150重
量−のアミド溶剤が含まれていることが必要である。7
ミド溶剤の含有量が約Ill量チ未満では、誼ポリアミ
ドの見掛けのガラス転移点が下がらず、熱処理を施して
も高結晶化等の本発明の効果は達成されず、−1約20
0重量−までがフィルム製膜上の限界である。
本発明で用いられるアミド溶剤としてはテトラメチル尿
素、ヘキサメチルホスホル7!ド。
素、ヘキサメチルホスホル7!ド。
N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
−2,N−メチルピペリドン−2,N、N−ジメチルー
チレン尿素、 N、N、N’、N’−テトラメナルマO
ン酸アミド、N−メチルカプロラクタム、N−7セチル
ビロリジン、 N、N−ジエチルアセトアミド、N−エ
チルピクリドンー2゜N、N−ンメチルブロビオン陵ア
ミド、 N、N−ジメチルイ〕ノブチールアミド、
N、N−ジメチルプロピレン尿素、 N、N−ジメチル
ホルムアミド及びそねらの混合系が挙げられる。
−2,N−メチルピペリドン−2,N、N−ジメチルー
チレン尿素、 N、N、N’、N’−テトラメナルマO
ン酸アミド、N−メチルカプロラクタム、N−7セチル
ビロリジン、 N、N−ジエチルアセトアミド、N−エ
チルピクリドンー2゜N、N−ンメチルブロビオン陵ア
ミド、 N、N−ジメチルイ〕ノブチールアミド、
N、N−ジメチルプロピレン尿素、 N、N−ジメチル
ホルムアミド及びそねらの混合系が挙げられる。
芳香族ポリアミドフィルム中ヘアミド溶剤ヲ含有させる
方法としては、例えば、 (1)アミド溶剤浴中への浸漬 (II)アミド溶剤と、水、アルコール、アルキレング
リコール、ハロゲン化炭化水素等の混合溶媒浴中・\の
浸漬 (lli) アミド溶剤蒸気雰囲気下でのフィルムへの
蒸気吸収 (IV)7ミ ド溶剤□のスプレー等によるフィルム表
面への塗布、 などを用いることができる。
方法としては、例えば、 (1)アミド溶剤浴中への浸漬 (II)アミド溶剤と、水、アルコール、アルキレング
リコール、ハロゲン化炭化水素等の混合溶媒浴中・\の
浸漬 (lli) アミド溶剤蒸気雰囲気下でのフィルムへの
蒸気吸収 (IV)7ミ ド溶剤□のスプレー等によるフィルム表
面への塗布、 などを用いることができる。
本発明を実施するにあたっては、芳香族ポリアミドフィ
ルム中に少くとも1重量−以上のアミド溶剤が含まれて
いることが必要であるが、アミド溶剤以外の溶剤、例え
ば水、アルコール。
ルム中に少くとも1重量−以上のアミド溶剤が含まれて
いることが必要であるが、アミド溶剤以外の溶剤、例え
ば水、アルコール。
アルキレングリコール、ハロゲン化炭化水素勢が必要に
応じて含まれていてもよい。本発明方法における熱処理
は、定長または緊張下で少(とも100℃以上、該ポリ
アミドの分解温度以下で実施することが必要tある。j
!に好ましくけ、芳香族ポリアミドのガラス転移温度な
Tgとしたとき(Tg−soo℃)、もしくけ100℃
のうち、いずれか高いほうの温度以上で処理することで
ある。
応じて含まれていてもよい。本発明方法における熱処理
は、定長または緊張下で少(とも100℃以上、該ポリ
アミドの分解温度以下で実施することが必要tある。j
!に好ましくけ、芳香族ポリアミドのガラス転移温度な
Tgとしたとき(Tg−soo℃)、もしくけ100℃
のうち、いずれか高いほうの温度以上で処理することで
ある。
熱処理温度が約100℃未満では、フィルムの結晶化、
熱固定が充分でなく、一方分解温度を越えると、フィル
ムの機械物性が急激に低下し好ましくない。なおここで
定長家たは緊張下とは、原寸に対し約O〜s嗟フィルム
を伸長状態におくことをいう。
熱固定が充分でなく、一方分解温度を越えると、フィル
ムの機械物性が急激に低下し好ましくない。なおここで
定長家たは緊張下とは、原寸に対し約O〜s嗟フィルム
を伸長状態におくことをいう。
本発明によれば、得られる芳香族ポリ7ミドフイルムは
、平衡微温率が低下し、比重の増大及び寸法安定性の点
で著しい改良が見られるが、かかる効果は、次の点に起
因しているものと考えられる。即ち、一般に高分子フィ
ルムは、高分子のガラス転移点より十分高い温度で熱処
理することにより、結晶化熱固定が実施されるが、芳香
族ポリアミドは少くとも200℃以上の極めて烏いガラ
ス転移点を有し、しかもガラス転移点と高分子の分解点
lが近接している。このため、芳香族ポリアミドフィル
ムのガラス転移点より十分高い温度での熱処理は、高分
子の部分分解による。強伸度などの機械的性質の劣化を
避けることが困難である。本発明では芳香族ポリアミド
フィルムに芳香族ポリアミドと農相性の高〜・アミド溶
剤を特定量含有せしめることKより、高分子の見かけの
ガラス転移点を下げ、結晶化を促進せしめ、芳香族ポリ
アミドの部分分解の影響のない低い温度領域で芳香族ポ
リアミドフィルムに熱処理を施すことで、烏い結晶化度
と優れた寸法安定性1機械的性質が達成されるものと考
えられる。
、平衡微温率が低下し、比重の増大及び寸法安定性の点
で著しい改良が見られるが、かかる効果は、次の点に起
因しているものと考えられる。即ち、一般に高分子フィ
ルムは、高分子のガラス転移点より十分高い温度で熱処
理することにより、結晶化熱固定が実施されるが、芳香
族ポリアミドは少くとも200℃以上の極めて烏いガラ
ス転移点を有し、しかもガラス転移点と高分子の分解点
lが近接している。このため、芳香族ポリアミドフィル
ムのガラス転移点より十分高い温度での熱処理は、高分
子の部分分解による。強伸度などの機械的性質の劣化を
避けることが困難である。本発明では芳香族ポリアミド
フィルムに芳香族ポリアミドと農相性の高〜・アミド溶
剤を特定量含有せしめることKより、高分子の見かけの
ガラス転移点を下げ、結晶化を促進せしめ、芳香族ポリ
アミドの部分分解の影響のない低い温度領域で芳香族ポ
リアミドフィルムに熱処理を施すことで、烏い結晶化度
と優れた寸法安定性1機械的性質が達成されるものと考
えられる。
以上の如く、本発明方法を採用することKよって、!K
Il湿寸法安定性が着しく改良されるが、前記の如くし
て得られたフィルムに%!l!に弛緩状態下で100℃
以上、前記芳香族ポリアミドの分解温度以下で熱処理(
弛緩熱処理)を施せば、更に寸法変化率(吸湿変形十熱
変形)を改善することが出来る。
Il湿寸法安定性が着しく改良されるが、前記の如くし
て得られたフィルムに%!l!に弛緩状態下で100℃
以上、前記芳香族ポリアミドの分解温度以下で熱処理(
弛緩熱処理)を施せば、更に寸法変化率(吸湿変形十熱
変形)を改善することが出来る。
弛緩熱処理温度が、約100℃未満では寸法変化率改善
の寄与に充分でなく、一方分解温度を越える場合は、例
え処理時間が短かくても機械的物性が劣化し為い。上限
温度の好ましい値は、前記した定長又は緊張熱16通温
度をT’Cとすると、T+30℃、更に好ましくはT+
10℃であり、この温度を越える場合は、フィルム変形
が生じることがあり、好ましくないことがある。
の寄与に充分でなく、一方分解温度を越える場合は、例
え処理時間が短かくても機械的物性が劣化し為い。上限
温度の好ましい値は、前記した定長又は緊張熱16通温
度をT’Cとすると、T+30℃、更に好ましくはT+
10℃であり、この温度を越える場合は、フィルム変形
が生じることがあり、好ましくないことがある。
以上、明らかにしてきた如く、本発明方法を採用する事
により、芳香族ポリアミドフィルムを従来より極めて低
い温度で、該フィルムの結晶化熱固定が可能となり、工
業生歳上省エネルギー化をはかり得たばかりか、実施例
中に明らかにした如く機械書性、吸湿寸法女定性が予期
し得ない1着しく向上しつる技術を提供するものであっ
て、芳香族ポリアミド系フィルムの高密間配線等の電子
部品分野への実用化を可能と1−だ点、本発明方法の意
義は極めて大きい。
により、芳香族ポリアミドフィルムを従来より極めて低
い温度で、該フィルムの結晶化熱固定が可能となり、工
業生歳上省エネルギー化をはかり得たばかりか、実施例
中に明らかにした如く機械書性、吸湿寸法女定性が予期
し得ない1着しく向上しつる技術を提供するものであっ
て、芳香族ポリアミド系フィルムの高密間配線等の電子
部品分野への実用化を可能と1−だ点、本発明方法の意
義は極めて大きい。
以下、実施例をあげ本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
芳香族ポリアミドとしてポリ−m−フェニレンイソ7タ
ルアミドを用い、7ミド溶剤としてN−メチル−2−ピ
ロリドン、可溶化助剤としてCa(J、を使用して下記
の組成をもつ芳香族ポリアミド組成物を調製j−だ。
ルアミドを用い、7ミド溶剤としてN−メチル−2−ピ
ロリドン、可溶化助剤としてCa(J、を使用して下記
の組成をもつ芳香族ポリアミド組成物を調製j−だ。
上記組成物を30%押出機を用い0.11m、幅400
mmのT−ダイより100℃でキャスティ/クローラー
上に押出し、90℃の43qb塩化カルシウム水溶液中
に導入した。
mmのT−ダイより100℃でキャスティ/クローラー
上に押出し、90℃の43qb塩化カルシウム水溶液中
に導入した。
続いて10℃以下の冷水中で洗浄した後、95℃の熱水
中で機械方向(MD )に1.9倍、さらに論直方向(
TD)Kt、e倍嶌伸を行った。
中で機械方向(MD )に1.9倍、さらに論直方向(
TD)Kt、e倍嶌伸を行った。
このフィルムを30重量−NMP水溶液中に室温で10
分間浸漬したのち、60℃の熱風乾燥嚢中で10分間乾
燥し、NMPls重量%含有のフィルムを得た。次いで
このフィルムを270℃で10分間熱処理した。得られ
たフィルムは第1表に示す如く低吸湿率で吸湿寸法変化
が小さく、かつ、すぐれた機械物性であった。
分間浸漬したのち、60℃の熱風乾燥嚢中で10分間乾
燥し、NMPls重量%含有のフィルムを得た。次いで
このフィルムを270℃で10分間熱処理した。得られ
たフィルムは第1表に示す如く低吸湿率で吸湿寸法変化
が小さく、かつ、すぐれた機械物性であった。
比較例1
実施例1で用いた二輪嬌伸フィルム(*質的にNMP含
有率0重量*)をNMP水溶液に浸漬せずK、そのまま
120℃の熱風乾燥嚢中で乾燥した彼、350℃の熱風
乾燥嚢中で10分間熱処理した。このフィルムの物性を
第1表に示す。
有率0重量*)をNMP水溶液に浸漬せずK、そのまま
120℃の熱風乾燥嚢中で乾燥した彼、350℃の熱風
乾燥嚢中で10分間熱処理した。このフィルムの物性を
第1表に示す。
実施例2〜4
実施例1の芳香族ポリアミド組成物に各種の添加剤を加
え、他は実施例1と全く同Wに実施した。その結果を第
2表に示1如く本発明の効果が明らかKみられるや 実施例5〜8 熱処理温度を除斂、他は実施例1と全く同様に実施し、
各種の熱処理温度で処理し九〇その結果は第3表に示す
如く極めて低温で熱処理が可能であり、かつすぐれた吸
湿寸法安定性の芳香族ポリアミドフイルノ、が得られる
事が明らかである。
え、他は実施例1と全く同Wに実施した。その結果を第
2表に示1如く本発明の効果が明らかKみられるや 実施例5〜8 熱処理温度を除斂、他は実施例1と全く同様に実施し、
各種の熱処理温度で処理し九〇その結果は第3表に示す
如く極めて低温で熱処理が可能であり、かつすぐれた吸
湿寸法安定性の芳香族ポリアミドフイルノ、が得られる
事が明らかである。
比較例2〜4
比較例1と同様に、実施例2〜4の芳香t&メリアミド
組成物に各種の添加剤を加えた4)のに実施した。その
結果は給2表に示]。
組成物に各種の添加剤を加えた4)のに実施した。その
結果は給2表に示]。
実施例9
実施例7で得られた芳香族ポリアミドフィルムを弛緩状
態で270℃、10分間熱処理した。
態で270℃、10分間熱処理した。
得られたフィルム性能は第4表に示した如(極めて寸法
変化率のすぐれたものであった。
変化率のすぐれたものであった。
第4表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 芳香族ポリアミドフィルムにアミド醪剤を1〜20
0重量%含有せしめ、定長または緊張下でioo℃以上
該以上アポリアミド温度以下で熱処理を施すことを41
11とする芳香族ポリアミドフィルムの処理方法。 λ 芳香族ポリ7ミドフイルムに7ミド溶剤を1〜20
0重量%含有せしめ、足長または緊張下で100℃以上
該ポリアミドの分解温度以下で熱処理を施し、次いで弛
緩状態で100℃以上&fボリア!ドの分解温度以下で
熱処理を施すことを特徴とする芳香族ポリ7ミドフイル
ムの処理方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6029382A JPS58177320A (ja) | 1982-04-13 | 1982-04-13 | 芳香族ポリアミドフイルムの処理方法 |
| US06/482,241 US4539393A (en) | 1982-04-13 | 1983-04-05 | Dimensionally stable poly-m-phenylene isophthalamide film |
| EP83301930A EP0091778B1 (en) | 1982-04-13 | 1983-04-06 | Improvement in or relating to aromatic polyamide film |
| DE8383301930T DE3374874D1 (en) | 1982-04-13 | 1983-04-06 | Improvement in or relating to aromatic polyamide film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6029382A JPS58177320A (ja) | 1982-04-13 | 1982-04-13 | 芳香族ポリアミドフイルムの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58177320A true JPS58177320A (ja) | 1983-10-18 |
| JPS6326768B2 JPS6326768B2 (ja) | 1988-05-31 |
Family
ID=13137961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6029382A Granted JPS58177320A (ja) | 1982-04-13 | 1982-04-13 | 芳香族ポリアミドフイルムの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58177320A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366233A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-24 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アラミドフイルム及びその製法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5233946A (en) * | 1975-09-10 | 1977-03-15 | Unitika Ltd | Aromatic polyamide films having improved oil permeability |
| JPS52109569A (en) * | 1976-03-12 | 1977-09-13 | Mitsubishi Rayon Co | Method of manufacturing heat proof film |
| JPS53123455A (en) * | 1977-04-04 | 1978-10-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Production of heat-resistant films |
-
1982
- 1982-04-13 JP JP6029382A patent/JPS58177320A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5233946A (en) * | 1975-09-10 | 1977-03-15 | Unitika Ltd | Aromatic polyamide films having improved oil permeability |
| JPS52109569A (en) * | 1976-03-12 | 1977-09-13 | Mitsubishi Rayon Co | Method of manufacturing heat proof film |
| JPS53123455A (en) * | 1977-04-04 | 1978-10-27 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Production of heat-resistant films |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6366233A (ja) * | 1986-09-09 | 1988-03-24 | Asahi Chem Ind Co Ltd | アラミドフイルム及びその製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6326768B2 (ja) | 1988-05-31 |
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