JPS58182132A - 磁気記録媒体の製法 - Google Patents
磁気記録媒体の製法Info
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- JPS58182132A JPS58182132A JP6561282A JP6561282A JPS58182132A JP S58182132 A JPS58182132 A JP S58182132A JP 6561282 A JP6561282 A JP 6561282A JP 6561282 A JP6561282 A JP 6561282A JP S58182132 A JPS58182132 A JP S58182132A
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- JP
- Japan
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- room
- magnetic
- plastic substrate
- vapor deposition
- film
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、強磁性金属薄膜を磁気配縁層として設けてな
る磁気記録媒体の製造方法に関する。
る磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来より磁気記録媒体としては非磁性支持基材上に１
’ Ｆ ｅ ！ Ｏｓ、 Ｃｏ ｆ ）’−プＬ７’ｔ
γ−Ｐａｓｓｓ、Ｐｇ３０．、 ＣＯをドープし九Ｆｅ
、０．．１−Ｆ ｅ ２０ ｓとＦ ｅ ｓ Ｏ４Ｏベ
ルトライド化合物、ｃｒｏ、等の酸化物磁性粉末あるい
はＣ０１Ｎｔ、ｒｅ等の遷移金属を主成分とする強磁性
合金粉末といつ九粉末麺の磁性材料會塙化ビニルー酢酸
ビニル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機・（イングー中に
分散させてなる磁性塗料を塗布、配向、乾燥して磁性層
を形成させる塗布型のものが広く使用されて會ている。
’ Ｆ ｅ ！ Ｏｓ、 Ｃｏ ｆ ）’−プＬ７’ｔ
γ−Ｐａｓｓｓ、Ｐｇ３０．、 ＣＯをドープし九Ｆｅ
、０．．１−Ｆ ｅ ２０ ｓとＦ ｅ ｓ Ｏ４Ｏベ
ルトライド化合物、ｃｒｏ、等の酸化物磁性粉末あるい
はＣ０１Ｎｔ、ｒｅ等の遷移金属を主成分とする強磁性
合金粉末といつ九粉末麺の磁性材料會塙化ビニルー酢酸
ビニル共重合体、スチレン−ブタジェン共重合体、エポ
キシ樹脂、ポリウレタン樹脂等の有機・（イングー中に
分散させてなる磁性塗料を塗布、配向、乾燥して磁性層
を形成させる塗布型のものが広く使用されて會ている。
近年高密度磁気記鎌への急激な要求の高置ヤと共に真空
蒸着、スバ４！リング、イオンプレーテング等のベーＡ
−デージシ曹ン法、あるいは電気メッキ、無電解メッキ
等のメッキ法によシ形成される強磁性金属薄膜を磁気紀
鍮層とする有機バインダーを使用しない云わゆる金属薄
膜層磁気配縁媒体が注目を浴びており実用化への努力が
種々性なわれている。
蒸着、スバ４！リング、イオンプレーテング等のベーＡ
−デージシ曹ン法、あるいは電気メッキ、無電解メッキ
等のメッキ法によシ形成される強磁性金属薄膜を磁気紀
鍮層とする有機バインダーを使用しない云わゆる金属薄
膜層磁気配縁媒体が注目を浴びており実用化への努力が
種々性なわれている。
従来の塗布蓋の磁気記録媒体では主として飽和 −磁
化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用していると
共に、磁性層中の磁性材料の体積含有率が３０〜！０−
にすぎないため高出力鳥密変記鍮媒体としては限界にな
って龜ている。さらにその製造工程も複雑で溶剤回収あ
るいは分書防止の丸めの大きな付帯設備を必要とす°る
という欠点を有している。金属薄膜蓋磁気配縁媒体では
酸化物磁性材料より大きな飽和磁化を有する強磁性金属
を有機バインダーの如き非磁性物質を介在させぬ状態で
極めて薄い薄膜として形成できるという利点を有する。
化の小さい金属酸化物を磁性材料として使用していると
共に、磁性層中の磁性材料の体積含有率が３０〜！０−
にすぎないため高出力鳥密変記鍮媒体としては限界にな
って龜ている。さらにその製造工程も複雑で溶剤回収あ
るいは分書防止の丸めの大きな付帯設備を必要とす°る
という欠点を有している。金属薄膜蓋磁気配縁媒体では
酸化物磁性材料より大きな飽和磁化を有する強磁性金属
を有機バインダーの如き非磁性物質を介在させぬ状態で
極めて薄い薄膜として形成できるという利点を有する。
高密度磁気記録化につれて配鍮再生磁気ヘッドのギャッ
プ長も１．０μｍを切る時代になっているが、それに伴
って磁気配縁層への記録法さも浅くなる傾向がめり、磁
性膜の厚み全部が、磁気信号の記録に利用され得る金属
薄膜■磁気記録媒体は為出力高密度配縁媒体として極め
てすぐれている。金属薄膜徴磁気記鍮謀体のうちでも膜
の形成を真空蒸着によシ行なう方法は膜の形成速度の速
いこと、製造工程が簡単であることあるいは排液処理の
必要としないドライプロセスであること等の利点を有す
る。
プ長も１．０μｍを切る時代になっているが、それに伴
って磁気配縁層への記録法さも浅くなる傾向がめり、磁
性膜の厚み全部が、磁気信号の記録に利用され得る金属
薄膜■磁気記録媒体は為出力高密度配縁媒体として極め
てすぐれている。金属薄膜徴磁気記鍮謀体のうちでも膜
の形成を真空蒸着によシ行なう方法は膜の形成速度の速
いこと、製造工程が簡単であることあるいは排液処理の
必要としないドライプロセスであること等の利点を有す
る。
しかしながら蒸着型磁気記録媒体についての大きな間亀
の一つに磁性薄膜の耐久性の問題がある。
の一つに磁性薄膜の耐久性の問題がある。
すなわち磁気信号の記録、再生の際に磁性薄膜は磁気ヘ
ッドとの相対接触運動のもとにおかれ摩耗や破壊の起る
可能性が大きい、このため磁気記録媒体の磁性膜は磁気
ヘッドとの接触に耐え得るため、強度の有することを要
求されるが従来の方法による蒸着ｆｊＩｉ磁気記録媒体
の磁性膜の膜強度は不充分なものであった。
ッドとの相対接触運動のもとにおかれ摩耗や破壊の起る
可能性が大きい、このため磁気記録媒体の磁性膜は磁気
ヘッドとの接触に耐え得るため、強度の有することを要
求されるが従来の方法による蒸着ｆｊＩｉ磁気記録媒体
の磁性膜の膜強度は不充分なものであった。
本発明の目的はすぐれた膜強度を有する蒸着蓋磁気配鍮
謀体を製造する丸めの新規な方法を提供することＫある
。
謀体を製造する丸めの新規な方法を提供することＫある
。
すなわち本発明は、プラスチック基材上に真空中にて斜
方入射蒸着法によシ磁性薄膜を形成し死後、該基材を前
記真空中より高い窒素分圧雰囲気に曝して巻取つ丸後大
気中に取出す事を特徴とする磁気記録媒体の製法である
。
方入射蒸着法によシ磁性薄膜を形成し死後、該基材を前
記真空中より高い窒素分圧雰囲気に曝して巻取つ丸後大
気中に取出す事を特徴とする磁気記録媒体の製法である
。
本発明において斜方入射蒸着法とは蒸発源よりの強磁性
金属蒸発ビームがプラスチック基材表面の法線に対しで
ある入射角を持って基材表面に達しそこで凝縮せしめて
磁性薄膜として形成させる方法を云う。入射角としては
１１”−タ０ °とするのが望ましく、この範囲の入射
角の蒸発ビームが同時にあるいは順次基材表面に達する
ようにしてもいい、蒸発源よシの蒸発ビームの一部あろ
いは全部をイオン化して加速、偏向、集束等の方法によ
り斜方入射蒸着する方法も取り得る。斜方入射蒸着を行
なう雰囲気の真空度は強磁性金属蒸発原子の平均自由行
路が蒸発源からプラスチック基材表ｍｌ迄の蒸発ビーム
軌跡距離よ）大自いように通ばれるが、一般には／、０
Ｘ１０ ’ｆｏｒｔ〜ｉ、０Ｘ１０ Ｔｏｒｒ
である。蒸着の際反応ガスあるいは不活性ガスを導入し
九Ｓｍ気としてもいい。
金属蒸発ビームがプラスチック基材表面の法線に対しで
ある入射角を持って基材表面に達しそこで凝縮せしめて
磁性薄膜として形成させる方法を云う。入射角としては
１１”−タ０ °とするのが望ましく、この範囲の入射
角の蒸発ビームが同時にあるいは順次基材表面に達する
ようにしてもいい、蒸発源よシの蒸発ビームの一部あろ
いは全部をイオン化して加速、偏向、集束等の方法によ
り斜方入射蒸着する方法も取り得る。斜方入射蒸着を行
なう雰囲気の真空度は強磁性金属蒸発原子の平均自由行
路が蒸発源からプラスチック基材表ｍｌ迄の蒸発ビーム
軌跡距離よ）大自いように通ばれるが、一般には／、０
Ｘ１０ ’ｆｏｒｔ〜ｉ、０Ｘ１０ Ｔｏｒｒ
である。蒸着の際反応ガスあるいは不活性ガスを導入し
九Ｓｍ気としてもいい。
蒸着されたプラスチック基材は、蒸着雰囲気より＾いｉ
１素分圧雰囲気に移され先後ロール状に４Ｉ取られる。
１素分圧雰囲気に移され先後ロール状に４Ｉ取られる。
窒素分圧は一般には１０−”Ｔｏｒｒ〜／、０Ｘ１０
Ｔｏｒｒの範囲とするのが好ましい。
Ｔｏｒｒの範囲とするのが好ましい。
本発明に用いられるプラスチック基材としては酢酸セル
ローズエ硝酸セルローズ；エチルセルローズ；メチルセ
ルローズ寡ポリアミド８ポリメチルメタクリレート；ポ
リテトツフルオルエチＶンポリトリフルオルエチレン墓
エチレン、プロピレンのようなα−オレフイ／の重合体
あるいは共重合体冨ポリ塩化ビニリゾ／募ポリカーボネ
ートｉポリイミド；ポリエチレンテレフタレートのよう
なポリエステル類が用いられる。
ローズエ硝酸セルローズ；エチルセルローズ；メチルセ
ルローズ寡ポリアミド８ポリメチルメタクリレート；ポ
リテトツフルオルエチＶンポリトリフルオルエチレン墓
エチレン、プロピレンのようなα−オレフイ／の重合体
あるいは共重合体冨ポリ塩化ビニリゾ／募ポリカーボネ
ートｉポリイミド；ポリエチレンテレフタレートのよう
なポリエステル類が用いられる。
さらに本発明において磁性薄膜となるべき強磁性金属層
としては鉄、コバルト、ニッケルの強磁性金属をはじめ
Ｆ・−００％Ｆｅ−Ｎｉ、ＣＧ−Ｎｉ、Ｆ・−８１％Ｆ
ｅ−Ｒｈ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃ。
としては鉄、コバルト、ニッケルの強磁性金属をはじめ
Ｆ・−００％Ｆｅ−Ｎｉ、ＣＧ−Ｎｉ、Ｆ・−８１％Ｆ
ｅ−Ｒｈ、Ｃｏ−Ｐ、Ｃ。
−Ｂ、Ｃｏ−Ｂゑ、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｙ、Ｃｏ−希土拳
金属、Ｃｏ−Ｍｎｔ Ｃｏ −Ａｄ、 Ｃｏ−０ｒ。
金属、Ｃｏ−Ｍｎｔ Ｃｏ −Ａｄ、 Ｃｏ−０ｒ。
Ｃｏ−Ｃｕ、 Ｃｏ−Ｆｅ−Ｎｉ、 Ｃｏ−Ｎｉ −Ｐ
、 Ｃｏ −Ｎｉ−Ｈ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｎム
−Ｏｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｇ、Ｇｏ−Ｎｌ −Ｚｎ％Ｃｏ
−Ｎｉ −Ｂ＠、Ｃｏ−Ｎｉ−ム１等の合金が用いられ
る。
、 Ｃｏ −Ｎｉ−Ｈ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｎム
−Ｏｒ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｍｇ、Ｇｏ−Ｎｌ −Ｚｎ％Ｃｏ
−Ｎｉ −Ｂ＠、Ｃｏ−Ｎｉ−ム１等の合金が用いられ
る。
磁性薄膜の４与としては磁気記録媒体としてｌ！！用す
る場合０．０コμ解〜参μｍの範囲であ〉特に０．０！
ｐＨｌ−／ 、ＯｐＨｌが好ましい。
る場合０．０コμ解〜参μｍの範囲であ〉特に０．０！
ｐＨｌ−／ 、ＯｐＨｌが好ましい。
強磁性金属材料ｔ−蒸発させる方法としては抵抗加熱法
、高周波加熱法、レーザー加熱法、電子ビーム加熱法い
ずれも用いられる。
、高周波加熱法、レーザー加熱法、電子ビーム加熱法い
ずれも用いられる。
次に本発明を図面によシ説明する。
第１図は磁気記録媒体を製造する丸めの微来の蒸着装置
を示している。真空槽ｌ内には送出し口−ルｌＯ１冷却
キャンｌ１％場取りロール／Ｊが配設されてお９、真空
槽ｌ内は排気ロアにより所定の真空度になるよう真空排
気される。ポリエステルフィルムベース等のプラスチッ
ク基材デは送出しロールｉｏから冷却キャンｌ／を経て
巻散り一一ルｌコへと搬送される。プラスチック基材り
への蒸着は＃Ｎｋ／ｊよりマスクｌｌを介しての斜方入
射蒸着法によって行なわれる。
を示している。真空槽ｌ内には送出し口−ルｌＯ１冷却
キャンｌ１％場取りロール／Ｊが配設されてお９、真空
槽ｌ内は排気ロアにより所定の真空度になるよう真空排
気される。ポリエステルフィルムベース等のプラスチッ
ク基材デは送出しロールｉｏから冷却キャンｌ／を経て
巻散り一一ルｌコへと搬送される。プラスチック基材り
への蒸着は＃Ｎｋ／ｊよりマスクｌｌを介しての斜方入
射蒸着法によって行なわれる。
＃Ｉコ図は本発明を実施するための装置の一実施態様を
示したものである。真空槽ｌ内は隔壁コによって送出し
室Ｊ１蒸着ｉ４４’ ％巻取抄型！に仕切られている。
示したものである。真空槽ｌ内は隔壁コによって送出し
室Ｊ１蒸着ｉ４４’ ％巻取抄型！に仕切られている。
各室３、≠、！はそれぞれ排気口４．７、ｔが設けられ
ておシ、それぞれ別個に真空排気されるようになってい
る。ポリエステルフィルムベース等のプラスチック基材
デは送出しｌＩＪ内の送出しロール１０から冷却キャン
／／の外周に沿って蒸着重要に搬送され、蒸着により強
磁性金属薄膜が形成された後プラスチック基材デは冷却
キャン／／の外周に沿って蒸着ｉ１４！−から巻取り璽
ｊに搬送され、巻取りロールｌコに巻取られる。
ておシ、それぞれ別個に真空排気されるようになってい
る。ポリエステルフィルムベース等のプラスチック基材
デは送出しｌＩＪ内の送出しロール１０から冷却キャン
／／の外周に沿って蒸着重要に搬送され、蒸着により強
磁性金属薄膜が形成された後プラスチック基材デは冷却
キャン／／の外周に沿って蒸着ｉ１４！−から巻取り璽
ｊに搬送され、巻取りロールｌコに巻取られる。
プラスチック基材りへの蒸着は蒸発源ＩＪよりの蒸発流
がマスモノ参を介して斜めに入射するように、すなわち
斜方入射蒸着法によって行なわれる。
がマスモノ参を介して斜めに入射するように、すなわち
斜方入射蒸着法によって行なわれる。
巻取り富！には窒素ガス導入口／ｊが設けられており巻
取ｐｉｉｉｊ内の窒素分圧を蒸着室参内よシ嵩くできる
ようになっている。＊取り室Ｉへの窒素ガスの導入量は
パルプ／４によって調節される。
取ｐｉｉｉｊ内の窒素分圧を蒸着室参内よシ嵩くできる
ようになっている。＊取り室Ｉへの窒素ガスの導入量は
パルプ／４によって調節される。
必要に応じて蒸着重要へ酸素ガス等を導入する機構や、
送出し室Ｊおよび巻取り富！内にプラスチック基材りの
表面処理のためのイオンボン、２−ド機構を設けてもい
い。
送出し室Ｊおよび巻取り富！内にプラスチック基材りの
表面処理のためのイオンボン、２−ド機構を設けてもい
い。
次に本発明を実施例によシ説明するが本発明はこれに限
定されるものではない。
定されるものではない。
実施例１゜
第１図に示され九装置を用いてｉｐμ屓厚のポリエチレ
ンテレフタレートフィルムベース上にＣＯＮ五（Ｎｉ／
４重量−）の蒸着膜（膜厚Ｏ０／１μｍ）を形成し磁気
記録媒体を得九、この時マスモノ参で規制される入射角
をＩ０″として斜方入射蒸着が行なわれるようにした。
ンテレフタレートフィルムベース上にＣＯＮ五（Ｎｉ／
４重量−）の蒸着膜（膜厚Ｏ０／１μｍ）を形成し磁気
記録媒体を得九、この時マスモノ参で規制される入射角
をＩ０″として斜方入射蒸着が行なわれるようにした。
蒸着Ｉ！参内の真空度は４×ＩＯ−”Ｔｏｒｒとし巻取
り童Ｉ内の窒素分圧は／Ｘ１０ Ｔｏｒｒとし丸、し
かる後大気中に取り出して得られ九ｔノプルを一吋幅に
スリットして磁気テープ人とする。
り童Ｉ内の窒素分圧は／Ｘ１０ Ｔｏｒｒとし丸、し
かる後大気中に取り出して得られ九ｔノプルを一吋幅に
スリットして磁気テープ人とする。
一方第１図に示され九従来の装置を用いてｌ！μｍＪＩ
Ｉポリエチレンポリエチレンテレフタレートフィルムベ
ース上Ｎｉ／ｊ重量９Ｉ）の蒸着膜（膜厚０．１１２ｍ
）を形成して磁気記録媒体を得た。
Ｉポリエチレンポリエチレンテレフタレートフィルムベ
ース上Ｎｉ／ｊ重量９Ｉ）の蒸着膜（膜厚０．１１２ｍ
）を形成して磁気記録媒体を得た。
この時マスモノ参で規制をされる入射角は！０ ＠とし
、真空槽／内の真空Ｋｔｉ４ｘｉｇ−″Ｔｏｒｒとした
。こうして得られたサンプルを一吋にスリ重 ッ卜して磁気テープＢとする。
、真空槽／内の真空Ｋｔｉ４ｘｉｇ−″Ｔｏｒｒとした
。こうして得られたサンプルを一吋にスリ重 ッ卜して磁気テープＢとする。
チーブナ／プルＡ、Ｂｏａ性膜の強度を研磨テープによ
って測定した。ｉｏｗｔｔｎφのステンレス棒にｆｊｌ
ｏｏｏｏの研磨テープを研磨面が外側になるよう巻きつ
け磁性膜が研磨向と接するように／１０ ’のラップ
角でサンプルを巻きつける。ｔンプルテープを張力コＩ
Ｉ、１３７秒で移動させ磁性膜が研磨テープによりどの
程度傷つくかにより磁性膜の強１ｆを調べ九。その結果
１表のようであった。
って測定した。ｉｏｗｔｔｎφのステンレス棒にｆｊｌ
ｏｏｏｏの研磨テープを研磨面が外側になるよう巻きつ
け磁性膜が研磨向と接するように／１０ ’のラップ
角でサンプルを巻きつける。ｔンプルテープを張力コＩ
Ｉ、１３７秒で移動させ磁性膜が研磨テープによりどの
程度傷つくかにより磁性膜の強１ｆを調べ九。その結果
１表のようであった。
実施例２゜
第２図に示された装置を用いて７０μｍ厚のボリアミド
フィルムベース上に膜厚０．７１μｍの蒸着膜を形成し
磁気記録媒体を得た。マスモノ参で規制される入射角を
参！０とし、蒸着室参内に酸素を導入して／、ＪＸｌｏ
”ｆｏｒｔとして斜方入射蒸着を実施しＣｏＣｕ （
Ｃｕｔ重量Ｉｓ）を主成分とする磁性膜を形成せしめた
。巻取り室Ｉ内の窒素分圧は／Ｘ１０”’−２Ｔｏｒｒ
として蒸着され九フィルムベースを巻取つ九、しかる後
大気中に取り出して得られたサンプルｔ−１ｔｌ１ｍ幅
にスリットして磁気テープＣとし友。
フィルムベース上に膜厚０．７１μｍの蒸着膜を形成し
磁気記録媒体を得た。マスモノ参で規制される入射角を
参！０とし、蒸着室参内に酸素を導入して／、ＪＸｌｏ
”ｆｏｒｔとして斜方入射蒸着を実施しＣｏＣｕ （
Ｃｕｔ重量Ｉｓ）を主成分とする磁性膜を形成せしめた
。巻取り室Ｉ内の窒素分圧は／Ｘ１０”’−２Ｔｏｒｒ
として蒸着され九フィルムベースを巻取つ九、しかる後
大気中に取り出して得られたサンプルｔ−１ｔｌ１ｍ幅
にスリットして磁気テープＣとし友。
一方第１図に示され九従来の装置を用いて１０μｍＤＩ
ｔｔ！リアミドフィルムベース上にＣｏＣｕ（Ｃｕｔ重
量−）を主体とする磁性膜を形成させ磁気配録媒体を得
喪。この時マスク／参で規制される入射角は≠ｊ０とし
、真空槽ｌ内に酸素を導入して圧力を１．コｘｚＯ−”
ｒｏｒｒとし、膜厚０．７１μｍとなるよう斜方入射蒸
着を実施した。
ｔｔ！リアミドフィルムベース上にＣｏＣｕ（Ｃｕｔ重
量−）を主体とする磁性膜を形成させ磁気配録媒体を得
喪。この時マスク／参で規制される入射角は≠ｊ０とし
、真空槽ｌ内に酸素を導入して圧力を１．コｘｚＯ−”
ｒｏｒｒとし、膜厚０．７１μｍとなるよう斜方入射蒸
着を実施した。
しかる後大気中に取り出して得られ九ナンプルをｔｗｇ
ｍ幅にスリットして磁気テープＤとし丸。
ｍ幅にスリットして磁気テープＤとし丸。
テープサンプルＣ，Ｄの磁性膜の強１を実施例１と同様
の方法にてテストし九ところ丁のような結果ｔ−得た。
の方法にてテストし九ところ丁のような結果ｔ−得た。
このようにプラスチック基材上に真空中にて斜方入射蒸
着によって磁性薄膜を形成した後、蒸着を行なった真空
雰囲気よシ高い一素分圧雰囲気にさらし死後大気中に取
り出して得られる磁気配碌媒体は膜強１のすぐれ死時性
を有し蒸着型磁気記録媒体の実用化上大きな進歩である
。
着によって磁性薄膜を形成した後、蒸着を行なった真空
雰囲気よシ高い一素分圧雰囲気にさらし死後大気中に取
り出して得られる磁気配碌媒体は膜強１のすぐれ死時性
を有し蒸着型磁気記録媒体の実用化上大きな進歩である
。
第１図は従来の蒸着型磁気記録媒体の製法に使用される
真空蒸着装置を示し、第２図は本発明による蒸着型磁気
記録媒体の製法を実施する丸めの真空蒸着装置の一例を
示している。
真空蒸着装置を示し、第２図は本発明による蒸着型磁気
記録媒体の製法を実施する丸めの真空蒸着装置の一例を
示している。
Claims (1)
- プラスチック基材上に真空中にて斜方入射蒸着法により
磁性薄膜を形成し死後、該基材を前記真空中より高い窒
素分圧雰囲気に曝して巻取った後大気中に取出す事を！
黴とする磁気記録媒体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6561282A JPS58182132A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 磁気記録媒体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6561282A JPS58182132A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 磁気記録媒体の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58182132A true JPS58182132A (ja) | 1983-10-25 |
Family
ID=13292012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6561282A Pending JPS58182132A (ja) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | 磁気記録媒体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58182132A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4587466A (en) * | 1982-12-09 | 1986-05-06 | Magnetic Peripherals | Two axis linear motor for optical focusing and tracking system in optical recording |
-
1982
- 1982-04-20 JP JP6561282A patent/JPS58182132A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4587466A (en) * | 1982-12-09 | 1986-05-06 | Magnetic Peripherals | Two axis linear motor for optical focusing and tracking system in optical recording |
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