JPS5818327B2 - 結晶質シリカ - Google Patents

結晶質シリカ

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JPS5818327B2
JPS5818327B2 JP13799677A JP13799677A JPS5818327B2 JP S5818327 B2 JPS5818327 B2 JP S5818327B2 JP 13799677 A JP13799677 A JP 13799677A JP 13799677 A JP13799677 A JP 13799677A JP S5818327 B2 JPS5818327 B2 JP S5818327B2
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silica
silicalite
crystalline
water
product
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JP13799677A
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ロバ−ト・ウイリアム・グロウズ
エデイス・マリ−・フラニジエン
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Union Carbide Corp
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  • Silicon Compounds (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は概ね、新規な結晶質シリカとその製造方法に係
わる。
更に特定するに、本発明は、新規な結晶質シリカにして
、多くの結晶質アルミノけい酸塩のモレキュラーシーブ
特性を示すが、通常ゼオライトモレキュラーシーブと呼
称されるこの種の塩に不可欠なイオン交換特性を伺ら示
さない上記シリカに係わる。
結晶形のシリカは天然に見出されるが、それはまた、明
らかに天然の対応物を有さない合成形としても存在する
。
天然に見出される結晶形のシリカとして、各々が種々の
湿度範囲で安定な同質多形を有する石英、りんけい石お
よびクリストバル石が挙げられる。
通常の温度において、安定形はα−石英である。
このものは573℃で、867℃まで安定なβ−石英に
転移する。
而して、この湿度レベルにおいて、りんけい石は安定相
になり、またこの状態を1470°Cまで保持する。
1470℃より高温では、クリストバル石が安定相であ
り、而してこの状態を約1713°Cまで保持する。
初めて合成された真のシリカ多形体といえるものはコニ
サイト(coes 1te)シリカである。
この結晶質組成の定義とその製造方法についての詳細は
、1959年3月3日こ公示されたり、コエス(Coe
s)、Jr、の米国特許第2,876,072号に記さ
れている。
また、モレキュラーシーブタイプ。の結晶随アルミノけ
い酸塩を水蒸気、強酸又は有機キレート剤で処理して該
けい酸塩の四面体骨組構造からアルミニウムを抽出する
ことにより、結晶質ポリけい酸塩を製造することが提案
されている。
先駆物質組成後の生成物は仮像である。この種の詳細な
方法については、1970年4月14日こ公示されたP
、E、イバリー(Eberly\ Jr。
等の米国特許第3,506,400号に見出される筈で
ある。
而して、後者の組成はシリカのみからなると推測される
けれども、それは、単位格子当り、そのアルミノけい酸
塩先駆物質と同じシリカ量を有する欠陥構造として存続
するように思われる。
ゼオライトの骨組構造からアルミニウムを抽出する少く
ともいくつかの例において、抽出は可逆的であり、而し
てゲルマニウムの如き類似元素を四面体構造に挿入する
ことができる。
これについては、1972年2月8日こ公示されたP、
E、ピカート(Pickert)の米国特許第3,64
0,681号を参照されたい。
以下[シリカライト(si 1ical ite )
jと呼称する本発明の結晶質シリカ多形体は、水排除量
により比重測定するとき、合成したま5の形態では、2
5°Cにおいて1.99±0.05g/CCの比重を有
する。
燻焼(大気中600℃で1時間)後の形態では、シリカ
ライトはL70g±0.059/ccの比重を有する。
シリカライト結晶の、合成したままの形態および・燻焼
(大気中600°Cで1時間)後の形態について、平均
屈折率を測定するとき、夫々1.48±0.01および
1.39±0.01の値が得られる。
上記値を、比較のため、他形態の結晶質シリカの屈折率
および密度に関する値と一緒に表1に掲載する二 ■)[非不透明鉱物の顕微鏡的測定(The Micr
oscopic Determination of
theNonopaque Minerals)J 、
第2版(Geological 5urvey Bul
ietin 848、E、S、Larsen and
H,Berman、 1934)と[デーナ系鉱物学(
DaJs Systemof Mineralogy)
J、第7版(C1ifford Frondel、 1
962)からのデータ。
シリカライト(大気中1時間600°C・燻焼)のX−
線粉末回折図形はその最も強い六つのライン(すなわち
層線間隔、1nterpFnar spacin−gs
)として下記表Aに示す値を有する。
この表中「S」=強い、l’−VSj−非常に強い。
表 A d−A 相対強度 11.1±0.2 VSlo、0±〇
、2 VS 3.85±0.07 VS 3.82±0.07 8 3.76±0.05 8 3.72±0.05 8 本発明の方法(大気中1時間600℃で■焼)に従って
製造せる、(TPA)201モル当り51.9モルの8
102を含有する代表的シリカライト組成のX−線粉末
回折図形を示すデータを下記表Bに掲載する: 表 B d−A 相対強度 d−A 相対強度11.
1 100 4.35 5
10.02 64 4.25
79.73 16 4.08
38.99 1 4.00
38.04 0.5 3.85
597.42 1 3.
82 327.06 0.5
3.74 246.68 5
3.71 276.35 9
3.64 125.98 1
4 3.59 0.5d−A 相対
強度 d−A 相対強度5.70
7 3.48 35.57
8 3.44 55.36
2 3.34 115.11
2 3.30 75.01
4 3.25 34.98
5 3.17 0.54
.86 0.5 3.13
0.54.60 3 3.05
54.44 0.5 2.9
8 10シリカライトの結晶は、合成したまN
の形態、″収焼抜の形態いずれにおいても斜方晶系であ
り、而して次のような単位格子パラメータを示す:a−
20.05人、旦=20.0人、旦−13,4人。
なお、各々の値に関する精度は±0.1人である。
シリカライトの細孔直径は約6λ単位であり、またその
細孔容量を吸着法で測定するときそれは0.18CC/
gである。
シリカライトは、周囲室温でネオペンタン(動直径6.
2人)を緩徐に吸着する。
その一様な細孔構造によって、シリカライト組成は寸法
選択性モレキュラーシーブ特性を有し、またその細孔寸
法によって、p−キシレンをo−キシレン、m−キシレ
ンおよびエチルベンゼンから分離することができる。
また、シリカライトを寸法選択性吸着剤として用いると
き、第四炭素原子を有する化合物をより低い値の炭素−
炭素結合を有する化合物から分離することができる。
この吸着剤はまた、非常に有用な疎水/親有機特性を有
する。
このことは、液相又は気相の水から有機物質を選択吸着
する際該吸着剤の使用を可能にする。
然るに、シリカライトも、そのけい酸塩先駆物質もイオ
ン交換特性を示さない。
上記イオン交換能が本発明のシリカ組成に欠如している
ことは非常に有利である。
而して、成る種のアルミノけい酸塩ゼオライトは、疎水
特性を促進するように、また該ゼオライトが廃水より有
機物を選択除去しうるようなものとなるように処理する
ことができる。
しかしながら、もし疎水性アルミノけい酸塩吸着剤が残
留せるカチオン交換容量を有するなら、これは、吸着剤
がカチオン源を含有する廃水流れと接触するとき該吸着
剤にとって有害となる。
而して、かかるアルミノけい酸塩吸着剤の疎水特性およ
び(又は)細孔寸法は、該吸着剤にカチオンが固定する
と急激に変化する。
しかしながら、シリカライトは、廃水流れにカチオンが
存在しても何ら影響されない。
ここで企図される分離プロセスは概ね、有機化合物を含
有する廃水流入液の如き水溶液をシリカライトと接触さ
せ、有機化合物の少くとも一部分をこのシリカライトの
内部吸着面に吸着させ、しかる後、処理された水溶液を
流出液流れとして随意回収することを包含する。
シリカライトの製造は、水、シリカ源およびアルキロニ
ウム化合物よりなる反応混合物をpH10〜14の熱水
晶出させて含氷結品質先駆物質を形成し、次いでこの先
駆物質を・燻焼してその中に存在するアルキロニウム部
分を分解させることを包含する。
先駆物質の正確な構造はわかっていない。先駆物質はイ
オン交換能を何ら示さず、またそれは必須の骨組構造成
分としてA104−四面体を含まないので、アルキロニ
ウム化合物は、アルミノけい酸塩ゼオライトにおいてそ
の陰性電子価を均衡させると見出されるようなカチオン
を与える必要がない。
しかしながら、アルキロニウム化合物の主な機能は、S
r 04四面体の配列を、本発明のシリカライト組成
を特徴とする特定の格子形にしやすくする鋳型状物質を
もたらすと理論づけることができる。
本発明者等はこの理論に縛られたくないけれでも、観察
しうる先駆物質の性質は、アルキロニウム部分がS i
04の骨組構造の構成成分としてよりはその構造中に唯
吸蔵されているだけのものとして考える方が適切である
ことを示している。
アルキロニウムカチオンは、好ましくは反応混合物に可
溶の化合物にして概ね式: (ここでRは2〜6個の炭素原子を含有するアルキル基
であり、Xはりん又は窒素のいずれかを示す。
好ましくは、Rはエチル、プロピル又はn−ブチル、特
にプロピルであり、Xは窒素であ;る)により表わされ
る第四カチオンを含有する上記化合物によって反応混合
物に適宜供給される。
かかる化合物の例に、テトラエチルアンモニウム水酸化
物、テトラプロピルアンモニウム水酸化物、テ(・ラブ
チルアンモニウム水酸化物、テトラブチ1ルホスホニウ
ム水酸化物並びにこれら水酸化物に相当する塩特に塩化
物、よう化物および臭化物の塩例えばテトラプロピルア
ンモニウムプロミドが包含される。
かかる第四化合物は、それ自体を反応混合物に供給する
こさができ、或は第三アミン;とアルキルハロゲン化物
又は硫酸塩との反応によるなどして現場形成することが
できる。
第四カチオンが水酸化物の形でpH10〜14に等しい
塩基性を確立するのに十分量で供給されるとき、反応混
合物は追加成分として水と反応性形・シリカを含有する
ことのみを必要とする。
pHを10以上に上げる必要がある場合、その目的のた
めに水酸化アンモニウム又はアルカリ金属水酸化物、特
にリチウム、ナトリウム若しくはカリウムの水酸化物を
適宜用いることができる。
而して、またとえ第四カチオンがその水酸化物の形では
供給されないとしても、上記目的に必要なアルカリ金属
酸化物の量は第四カチオン1モル−イオンにつき6.5
モル以下であるとわかった。
反応混合物中のシリカ源を全て又は部分的にアルカリ金
属けい酸塩とすることができるが、しかし該給源は、上
記の第四カチオンに対するアルカリ金属のモル比を変え
る量以上に多い量で用いるべきでない。
他のシリカ源に、ヒユームドシリカ、シリカゾルおよび
シリカゲルの如き反応性非晶質シリカ固体が包含される
。
反応系の性質は、結晶質シリカ生成物にアルミナを不純
物として混入させるのに有利なので、シリカ源の選定に
当ってはその、不純物としてのアルミナ含量という見地
から注意を払うべきである。
市販のシリカゾルは代表的に、Al2O3を500〜7
00p−で含有し、またヒユームドシリカはAl2O3
不純物を80〜2000pI)mで含有しうる。
シリカライト製品中に存在する少量のAl2O3はシリ
カライトの本質的特性を決して有意には変えず、而して
、シリカライト中にアルミナ又は他の酸化物不純物が含
まれていても、このシリカライトを金属けい酸塩と考え
ることは、どんな意味にせよ決して正しくはない。
反応系中のシリカ量は、第四カチオン1モル−イオンに
つき13〜50モル(S 102 )とすべきである。
また、水は、第四カチオン1モル−イオン当り150〜
700モル量で存在させるべきである。
従って、結晶質シリカライト先駆物質を構造するとき、
存在するQ20〔ここでQは式R4X+(式中各Rは水
素又は、2〜6個の炭素原子を含有するアルキル基を表
わし、Xはりん又は窒素である)を有する第四カチオン
である〕1モルにつき、オキシドのモル数に換算して1
50〜700モルの水、13〜50モルの非晶質5i0
2および0〜6.5モルのM2O(ここでMはアルカリ
金属である)を含有する、pHが少くとも10の反応混
合物が形成される。
試薬の混合順序は臨界的要素でない。
反応混合物は、シリカライト先駆物質の結晶が形成する
まで通常約50〜150時間自生圧下約100〜250
℃の温度に保たれる。
結晶質の生成物は濾過の如き任意の簡便な手段によって
取得される。
有利なことに、この生成物は水で洗浄され、そして大気
巾約100℃で乾燥することができる。
反応混合物中にアルカリ金属水酸化物を用いているとき
は、アルカリ金属部分が不純物として結晶質生成物中に
現出する。
結晶質生成物中に存在するこれら不純物の形態はいまだ
決定されていないけれども、しかしそれは、可逆交換を
受けるカチオンとしては存在しない。
第四カチオン部分は、酸化雰囲気中(大気中)又は不活
性雰囲気巾約480°C〜1000℃の温度で■焼する
ことにより全く容易に熱分解され且つ除去される。
而して、生成物中に残留せるアルカリ金属は、アルカリ
金属ハロゲン化物の溶液又は塩酸の如き十分強い酸の水
溶液で洗浄することにより除くことができる。
生成物の結晶構造は、その構造中に酸溶性成分がないた
め外淵においてさえ強い鉱酸と接触しても側段影響され
ない。
シリカライトの製造方法およびその化学的、物理的性質
の特徴を下記例によって例示する二側1 (a)水10gに水酸化ナトリウム1.4gを溶かし、
かくして形成せる溶液を、5i02含量30重量%の水
性コロイドシリカゾル44gに加えて反応混合物を調製
した。
そのあと、テトラプロピルアンモニウムプロミド2.4
gを水llに溶・ かしてなる溶液を加えて、テトラプ
ロピルアンモニウム水酸化物1モルにつき4.1モルの
Na20.50.0モルのSiO2,691モルのH2
Oを含有する全反応混合物を形成した。
不活性プラスチック材料(ポリテトラフルオルエチレン
)でライニングした圧力容器に、上記の合成ミックスを
入れ、200℃で72時間加熱した。
固体の反応生成物を濾過により回収し、水洗し、大気中
110℃で乾燥した。
而して、このシリカライト先駆物質のX−線粉末回折図
形と、通常「ZSM−5族」と呼ばれる1種のアルミノ
けい酸塩ゼオライト組成によって示される図形とは、た
とえ両者が明らかに異なる組成であるとしても非常に似
ていた。
後者の有意な輪郭については米国特許第3,728,4
08号に記されている。
結晶質シリカ組成を化学分析したところ、シリカ1モル
につき、(TPA)20としてのテトラプロピルアンモ
ニウム(TPA)イオン0.016モル、Na2Oo、
o 11モルおよびH2O0,8モルの存在が示された
。
約650pp重量のアルミナ不純物も亦存在した。
(b) 上記(a)で得られた固体結晶質シリカ生成
物の一部分を大気巾約600℃で1時間・服焼した。
周囲雰囲気で室温に冷却した後、生成シリカライトの吸
着特性を、マツクベインーバクル(McBa i nB
a k r )式重力吸着装置を用いて測定した。
この装置内で、試料を減圧下350°Cに16時間加熱
するこきによって活性化した。
引続き、種々の吸着質に関する吸着測定を750トルの
圧力工種々の温度で行ったところ、次のデータを得た: 吸 着 質動直径、A吸着湿度4’C吸着率、重量%酸
素 3.46 −183 13.7 0−ブタン 4.3 23 7.5SF6
5.5 23 18.7ネオペンクン
6.2 23 0.4例2 例1と本質上同じ手順を用いて、テトラプロピルアンモ
ニウムプロミド3g、水25g、水性コロイドシリカゾ
ル(810230重量%)44gおよびKOH2,3g
を混合して、 (TPA)20・3.25に20・40.08iO2・
560H20のオキシドモル比を有する反応混合物を形
成した。
この混合物を200℃で72時間保持した後、結晶質生
成物を濾過により単離し、水洗し、110°Cで乾燥し
た。
生成物の一部分をX−線分析と化学分析に付したところ
、生成物はシリカライトと同定された。
その化学組成は、オキシドのモル数に換算して、 1.0(TPA) 20・0.63に20・52.7S
iO2・9.5H20であった。
また、アルミナ不純物も591pI)mの量で存在した
。
例3 本例では、H2O20gに(C3H7)4NBr10.
8gを溶かし、この溶液をシリカゾル(30%5in2
) 158.4 gに攪拌下添加することによってシリ
カライトを製造した。
次いで、NaOH10、:lをH2O20gに溶かして
なる溶液を上記の合成ミックスに攪拌下添加した。
合成オキシドモル組成は次の如くであった: (TPA) 20 ・6.2Na20 ・38.4 S
102 ・413H20゜プラスチックライニングせ
るガラスジャー2個に合成ミックスを入れた。
一方のミックスを100°Cで72時間加熱し、他を1
00℃で144時間加熱した。
固体の反応生成物を濾過により回収し、H2Oで洗浄し
、1108Cで乾燥した。
いずれの生成物も、X−線分析および化学分析によって
シリカライトと同定された。
72時間で結晶化せる生成物は次の組成を有した: Na2O1,5重量%、C7,7重量%、NO,96重
量六5in282.5重量%;加熱減量15.5重量%
、Al2O3不純物769ppm。
72時間製品の一部分をエアー・パージ中600℃で2
時間燻焼した。
■焼生成物1gを、H20中1.0容量%のn−ブタノ
ール溶液107nlに加え、振とうした。
この処理溶液をガスクロマトグラフィー分析したところ
、・暇焼シリカライト吸着剤は、上記溶液からn−ブタ
ノール98.8%を選択除去した。
また、有機物に関するシリカライトのH2Oにまさる選
択性を例示する別の試験において、上記燻焼生成物の1
g試料を、H20中0.1重量%のフェノール溶液10
rrLlに加え、振とうした。
この・暇焼シリカライトと接触せる溶液をガスクロマト
グラフィー分析したところ、シリカライト吸着剤は溶液
から81%のフェノールを除去した。
今度は芳香族の分離を例証する別の試験において、上記
・暇焼生成物の1g試料を、シクロヘキサン中1.0重
量%のベンゼン溶液10m1と接触させ、振とうせしめ
た。
而して、ガスクロマトグラフィーにより分析したところ
、吸着剤は、溶液から46.1重量%のベンゼンを除去
した。
例4 水25gに(C3H7)4NBr 9.9 Elを溶か
し、Ag2O5,(Bi’を加えて(C3H7)4NO
H溶液を調製した。
約80℃に加熱した後、沈降せるAgBrから(C3H
7)4NOH溶液を濾過により分離し、この溶液を水性
シリカゾル(30%SS102)44に手でかき混ぜな
がら添加した。
合成オキシドモル組成は次の如くであった: (TPA)20・13.3Si02・184H20ポリ
テトラフルオルエチレンでライニングせる圧力容器に上
記の合成ミックスを入れ、自生圧下約200℃で約72
時間加熱した。
固体の反応生成物を濾過により回収し、H2Oで洗浄し
、110°Cで乾燥した。
固体生成物の一部分をX−線分析および化学分析に付し
た。
分析せる固体のシリカライトは、既述の特徴的物性を示
した。
全固体は、Na 20 0.19重量%、C8,1重量
%、N0991重量%、S io 287.4重量%お
よびH2O1,5重量%と分析された。
痕跡量のN a 20はシリカゾル試薬に帰せられる。
例5 本例のシリカライトは、水30gに(C3H7)4NB
r 9.Ogを溶かし、この溶液を、H2O100g
中にスラリー化せるヒユームシリカ39.6gに加える
ことによって製造した。
次いで、この合成ミックスに、NaOH4,2gをH2
O3’lに溶解してなる溶液を攪拌下で添加した。
合成オキシド組成モル比は次の如くであった: (TPA)20−3.25Na20−40Si02−5
52H20゜この合成混合物を70時間200℃で結晶
化することにより得られたシリカライト生成物は、吸蔵
不純物としてアルミナをわずか155pl]I[l含有
するとわかった。
例6 本例のシリカライトは、水50gに(C4Ho)4PC
110,lを溶かし、この溶液を水性コロイドシリカゾ
ル(30重量%SiO□)44gに攪拌下加えることに
よって製造した。
次いで、この合成ミックスに、NaOH1,4gをH2
O50gに溶かしてなる溶液を加えた。
合成オキシドモル組成は次の如くであった。
(TBP)20・1.08Na20・13.3SiO2
・441H20゜ポリテトラフルオルエチレンでライニ
ングせる圧力容器に合成ミックスを入れ、自生圧下約2
00°Cで72時間加熱した。
固体の反応生成物を濾過により回収し、H2Oで洗浄し
、110℃で乾燥した。
結晶質の生成物は、その特徴的なX−線粉末回折図形と
化学分析によってシリカライトと同定された。
而して、このものは次の組成を示した:Na 200,
6重量%、C6,5重量%、 P 1.1重量%、S
i0288.0重量%、H2O2,4重量%。
生成物のオキシドモル組成は次の如くであった:(TB
P)2()0.58Na2()87.3Sio2・7.
9H20゜、’生成物の試料を大気巾約600°Cで1
時間・暇焼した。
次いで、この■焼試料をマツクベインーバクル式重力吸
着装置に入れ、減圧下350°Cで約16時間活性化し
た。
活性試料は、750トル、−183℃で14.1重量%
の0□を吸着し、 □750トル、23℃では7.
7重量%のn−ブタン、21.1重量%のSF6および
0.5重量%のネオペンタンを吸着した。
例7 本例のシリカライトは、水15gに(C2H5)4、N
Br 7.2 gを溶かし、この溶液を水性シリカゾル
(30重量%SS102)44に攪拌下加えることによ
って製造した。
次いで、この合成ミックスに、NaOH1,4gを水1
0gに溶かしてなる溶液を攪拌下部nDした。
合成オキシドモル組成は次Jの如くであった: (TEA)20 ・1.08Na20+13.3S10
2・■84H20゜テトラフルオルエチレンでライニン
グせる圧力容器に合成ミックスを入れ、自生圧下約20
0℃で72時間加熱した。
固体の反応生成物を濾過によづり回収し、H2Oで洗浄
し、110℃で乾燥した。
この生成物はシリカライトと同定された。
例8 水30gに(C3H7)、NB r 13.5 gを溶
かし、Ag2O7,5&を加えて(C3H7)、NOH
溶液を調製した。
約80°Cに加熱した後、沈降せるAgBrから(C3
H7)4NOH溶液を濾過により分離し、次いでこの溶
液を水54g中にスラリー化せる[カブ・オー・シル(
Cab−0−8i l )Jヒユームシリカ20.8g
と混合した。
合成オキシドモル組成は次の如くであった二 (TPA)20・13.3Si02・184H20゜テ
トラフルオルエチレンでライニングせる圧力容器に合成
ミックスを入れ、自生圧下約200℃で約72時間加熱
した。
固体の反応生成物を濾過により回収し、H2Oで洗浄し
、110℃で乾燥した。
生成物の一部分をX−線分析に付したところ、表Aに掲
載せるd−値を有した。
また、生成物の化学分析は次の如き組成を示した: C8,7重量%、NO,81重量%、5in28’7.
3重量%、H2O1,0重量%、A120390(匍)
卿およびNa2O501)PI以下。
生成物の構造オキシドモル組成は次の如くであった: (TPA)20・48.2Si02・1..8H20゜
合成ミックスにはNa2OないしAl2O3を故意に加
えることはしなかったが、シリカ源が痕跡量のAl2O
3およびN a 20を含有し、而してこれらは生成物
中に混入した。
生成物の試料を大気巾約600℃で1時間燻焼した。
活性試料は、750トル、−183°Cで18.2重量
%の02を吸着し、750トル、23℃では9.9重量
%のn−ブタン、26.6重量%のSF2および0.5
重量%のネオペンタンを吸着した。
例9 水30gに(C3H7) 4 NB r 10−9
gを溶かし、これを、H2O100gとNH40H35
’の混合物中にスラリー化せる[ニーカー(Ucar)
Jヒユームシリカ49.4gに加えた。
この合成オキシドモル組成は次の如くであった: (TPA)20・1.3 (NH4) 20・40 S
102・365H20゜テトラフルオルエチレンでラ
イニングせる圧力容器に合成ミックスを入れ、約200
℃で95時間加熱した。
固体の反応生成物を漣過により回収し、H2Oで洗浄し
、110°Cで乾燥した。
生成物の一部分をX−線分析に付したところ、そのX−
線図形は、表Aに掲載せるd−値を示すとわかった。
例10 例1の方法(200°C合成、6008C慨焼)によっ
て製造せる■焼シリカライトの試料を、下に概記する如
きHCI又はNaC1の水溶液と一緒に・かき混ぜた結
果、残留アルカリ金属を下記レベルにまで除去した: 次いで試料番号2より誘導した本質上純粋なSiO□生
成物を1気圧下600℃の水蒸気で6時間処理すること
により、シリカライトのすぐれた安定性が例示された。
而して、生成物はなお、シリカライトのユニークにして
特徴的な性質を示した。
更に、有機物質に関する本発明のシリカライト組成の水
にまさる顕著な選択性を例示するものとして、例11〜
13を表Cに掲載する。
これらの例で用いた手順は、前出例3に記載のものと同
じであった。
■焼(600℃)シリカライトの1,0g試料と下記有
機化合物の水溶液10.ONを血清びんに入れ、蓋をし
、振とうし、少くとも12時間平衡化させた。
比較のため、ブランク(吸着剤を除いた外は同じ有機化
合物の水溶液)を常に用いた。
処理溶液をガスクロマトグラフィーによって分析した。
*bv−容量%、bw−重量%。
(a)200℃で合成 (b)100℃で合成 例14 前出例3の最後のパラグラフに記述したと同じ手順によ
り、200°Cで合成し且つ600°Cで堰焼したシリ
カライトの1g試料をシクロヘキサン中1.0重量%の
ベンゼン溶液10Tnlと接触させた。
その結果、ガスクロマトグラフィーの分析で、この溶液
から23,8%のベンゼンが除去されたとわかった。
かかるデータは、吸着質分子の寸法差が非常に小さいに
もかかわらずシリカライトによって分離がなされうろこ
とを示している。
シリカライトの分離能に関する上記情報は、この吸着剤
を用いて種々の有用な工業的方法が実現可能となること
を立証している。
種々の工業廃液又は重賞の下水廃液流れ中にしばしば見
出される有機成分の例として、メタノール、ブクノール
、メチルセロソルブ、フェノールおよび二酸化硫黄が、
これら成分を含有する水溶液から有効に分離される。
既述のX−線粉末回折データは標準方法によって得た。
かくして、輻射線は銅のKa二重線とした。
また、ストリップ−チャートのペン記録計を備えたガイ
ガー計数管スペクトロメータを用いた。
而して、このスペクトロメータのチャートから、ピーク
又はラインの高さおよびその位置(θの2倍の関数とし
て)を読み取った。
これらの読みから、ライン又はピークの相対強度および
dlすなわち記録ラインに相当する層線間隔(A)を決
定した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 結晶質シリカよりなり且つ480〜1000°Cの
    湿度で・燻焼されたシリカ多形体であって、大気中60
    0°Cで1時間の■焼抜そのX−線粉末回折図形の最も
    強い六つのd−値として下記表Aに示す値を有する前記
    シリカ多形体。 表 A d−A 相対強度 11.1±0.2 VS lo、0±0.2 V S 3.85±0.07 VS 3.82±0.07 8 3.76±0.05 8 3.72±0.05 8 (表中「S」−強い、rVsl =非常に強い)2 更
    に、大気中600°Cで1時間の■焼後1.39±0.
    01の平均屈折率および25°Cにおける1、70±0
    .05ji/ccの比重を有する特許請求の範囲第1項
    記載のシリカ多形体。 3 シリカ多形体の製造方法であって、存在するQ20
    〔ここでQは式R,X”(式中各Rは水素又は、2〜6
    個の炭素原子を含有するアルキル基を表わし、Xはりん
    又は窒素である)を有する第四カチオンである〕1モル
    につき、オキシドのモル数に換算して150〜700モ
    ルの水、13〜50モルの非結晶質5102およびO〜
    6.5モルのM2O(ここでMはアルカリ金属である)
    を含む、pHが少くとも10の反応混合物を用意し、か
    くして用意された反応混合物を、結晶質水利先駆物質が
    形成されるまで100〜250°Cの温度で加熱し、該
    結晶質水和先駆物質を単離し、そしてこのものを480
    ℃〜1000℃の温度で燻焼することを包含する前記製
    造方法。 4 Mがナトリウムであり、Rがプロピル基を表わし、
    そしてXが窒素を表わす特許請求の範囲第3項記載の方
    法。 5 有機分子を水との混合物から分離するに当り、結晶
    質シリカよりなり且つ480〜1000℃の湿度で燻焼
    されたシリカ多形体であって、大気中600°Cで1時
    間の・服焼抜そのX−線粉末回折図形の最も強い六つの
    d−値として下記表Aに示す値を有する前記シリカ多形
    体に前記混合物を接触させることを包含する前記分離方
    法。 表 八 d−A 相対強度 11.1±0.2 VS lo、0±0.2 VS 3.85±0.07 VS 3.82±0.07 8 3.76±0.05 8 3.72±0.05 8 (表中「S」−強い、IVSj−非常に強い)」6 ・
    暇焼されたシリカ多形体が大気中600°Cで1時間の
    ・燻焼抜1.39±0.01の平均屈折率および25°
    Cにおける1、70±0.05 g/ccの比重を有す
    る特許請求の範囲第5項記載の方法。
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