JPS58194856A - 新規2−アゼチジノン誘導体 - Google Patents

新規2−アゼチジノン誘導体

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JPS58194856A
JPS58194856A JP57077724A JP7772482A JPS58194856A JP S58194856 A JPS58194856 A JP S58194856A JP 57077724 A JP57077724 A JP 57077724A JP 7772482 A JP7772482 A JP 7772482A JP S58194856 A JPS58194856 A JP S58194856A
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JP
Japan
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compound
formula
group
acid
azetidinone
Prior art date
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Pending
Application number
JP57077724A
Other languages
English (en)
Inventor
Akio Koda
甲田 彰男
Tetsuya Maeda
哲哉 前田
Atsuki Yamazaki
敦城 山崎
Shinichi Tsukamoto
塚本 紳一
Yoshinobu Nagano
長野 嘉信
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Yamanouchi Pharmaceutical Co Ltd
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Publication of JPS58194856A publication Critical patent/JPS58194856A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Landscapes

  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は。
一般式 (式中I R,は水酸基および/または低級アルキル基
を有していてもよいピロリジニル−。
ピ01Jルー、ピペリジル−またはピリジル−基をI 
R2は水素原子または水酸基を+ R3およびR1は同
一または異って水素原子または低級アルキル基を1Mは
水素原子またはカチオンを表わす。) で示される2−アゼチジノン誘導体に関する。
上記R,、R3および馬の定義における低級アルキル基
とは、炭素数1〜6個の分枝状または直鎖状のアルキル
基を意味し、たとえばメチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、ブチル基。
tert−ブチル基、ぺ/チル基、ヘキンル基等が挙げ
られる。またMの定義におけるカチオンとしては、ナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属イオノ;カルシウム
、マグネシウム等のアルカリ土類金属イオノ;トリエチ
ルアンモニウムイオン等のアルキルアンモニウムイオ/
;ピリジニウムイオン、シンクロヘキシルアンモニウム
イオン等が挙げられる。
本発明化合物(1)は抗菌剤として有用な新規e ■ 化合物であり、アゼチジンのN位K −080,、M 
基を有する点に化学構造上の特徴を有する。
従来、抗菌活性を有する2−アゼチジノン誘θ ■ 導体として、アゼチジンのN位に−503M基を有する
化合物が知られて(・るが(特開昭56−125362
等)3本発明者等は鋭意研究した結果。
e ■          e ■ アゼチジンのN位の−803M基を一0803M基に変
換することによって抗菌活性が飛躍的に増加することを
見(・出し1本発明を完成するに至った。
本発明化合物(1)は種々の方法によって製造すること
ができるが、たとえば次の図式で示される方法によって
製造することができる。
上記図式中、R,、R2,R3および馬は前記の意味を
示しl R,はアミノ基の保護基を表わす。
この方法は、化合物(II)をスルホン化して(第一工
程)化合物(1)を得2次℃・で化合物(Ill)のア
ミン基の保護基を除去して(第二工程)化合物(IV)
を得、最後に化合物(rV)と化合物(V)またはその
カルボッ酸反応性誘導体を反応させる(第三工程)こと
から成るものである。
本方法における化合物(V)のカルボン酸反応性誘導体
としては、酸プロミド、酸クロリド等の酸・・ライド;
酸無水物;アルキル炭酸等との混酸無水物;N−ヒドロ
キシベンゾイミダゾール、N−ヒドロキシコハク酸イミ
ド、p−ニトロフェニル+2.4−ジニトロフェニル等
トノ活性エステル;ピラゾール、イミダゾール、ベンゾ
トリアゾール等との活性アミド等が挙げられる。
また化合物(n)および(II)におけるR5が示すア
ミノ基の保護基としては、アセチル基、プロピル基、エ
トキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、ベノ
ゾイル基、ベンジルオキシカルボニル基等が適当である
。
次に本方法の各工程について説明する。
(1)  第一工程(スルホン化) 化合物(II)のスルホン化は有機溶媒中でSO,ガス
、硫酸、クロロスルホネート、三酸化硫黄複合体等を用
い通常室温で行うことができる。有機溶媒としては、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジオキサ
ノ、テトラヒドロフラノ、メチレノクロリド、クロロホ
ルム、べ/ゼン、トルエン等およびそれらの適宜な混合
溶媒が適当である。三酸化硫黄複合体としては。
ピリジノ−三酸化硫黄、ルチジノー三酸化硫黄。
ジメチルホルムアミド−三酸化硫黄等を用いることがで
きる。
(2)  第二工程(脱保護基) 化合物(1)のアミン基の保護基の除去は有機溶媒中で
、たとえば塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等の酸を使用
したり、バラジウ゛ム炭素、酸化白金、ラネーニッケル
等の金属触媒による接触還元によって行うことができる
。有機溶媒としては、第一工程で例示された溶媒や、メ
タノール、エタノール等のアルコール類が適当である。
(3)  第三工程(アシル化) 化合物(IV)と化合物(V)またはそのカルボン酸反
応性誘導体との反応は、有機溶媒中冷却下または室温で
、好ましくは塩基の存在下行われる。
有機溶媒としては、アセトノ、テトラヒドロフラン、ア
セトニトリル、メチレンクロリド、クロロホルム、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキノド等、およびそ
れらの適宜な混合溶媒が適当であり、また塩基としては
トリエチルアミン、ピリジン等が適当である。化合物(
V)をそのまま遊離酸の状態で使用するときは、N。
N′−シンクロヘキシルカルボジイミド、N、N’−カ
ルボニルイミダゾール等の縮合剤を用(・て反応を容易
に進行させることができる。
上記第1〜3工程の反応によって遊離のオキシスルホン
酸またはその塩として得られる生成物は、所望により常
法の手段によって他のオキシスルホン酸塩に変換するこ
とができる。こうして得られた化合物(1)は、濾過、
再結晶、抽出、カラノ・クロマトグラフィー等の通常の
操作によって単離、精製される。
本方法で出発物質として使用される化合物(IT)は、
ジャーナル・アメリカン・ケミカル・ザサイアテ((J
、Am、Chem、 Soc、) 102巻C/1g 
23 ) 7026〜7032 (1980)の方法、
またはそれて準じる方法によって得られる化合物を加水
分解することによって製造することができる。
なお1本発明化合物(I)の3位の側鎖はα−8β−の
いずれも配置もとることができる。
本発明化合物(I)は通常の製剤用添加剤を用いて、散
剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤1錠剤。
注射剤、坐剤等の製剤に調製して経口または非経口的に
膜力することが可能である。
次に本発明化合物およびその製造について実施例てより
詳細に説明する。
実施例 1 (1)  第一工程 (3S、48)−1−ヒドロキシ−3−t−ブトキシカ
ルボニルアミノ−4−メチル−2−アゼチジン/10g
を1.Om乙の乾燥ジメチルホルムアミドに溶かし、ピ
リジノ−三酸化硫黄複合体294gを加え、1夜室温で
反応させる。反応液をエーテル80 ml中に注ぎ1分
離する油状物質を氷水15m1に溶かし、冷炭酸水素す
) IJウム水溶液でp)T7に調整する。水層を塩化
メチレン5 mlずつで3回洗い、カラムクロマトグラ
フィー〔ダイヤイオンカラム(HP−20)(商品名、
三菱化成社製)で精製し、 (3S、 48 )−3−
t−ブトキシカルボニルアミノ−4−メチル−2−アゼ
チジノン−1−オキシスルホン酸ナトリウム塩t24g
(収率84%)を得る。
(1)赤外線吸収スペクトル vKB”am−’ : 3350,1775,1685
,1520,1280,1250゜160 (11)核磁気共鳴スペクトル(Da  DMSOD2
0 )δ: 1.36  (3H,d、  J−7Hz
、 C4CH3)1.38  (9H,’s、  (C
H3>s C)3.90 (11(、qのd、 J=7
.2.5Hz、 C4−)()4.06  (IH,d
、  J=2.51(z )(2)第二工程 前記生成物318 mgをジメチルホルムアミドおよび
塩化メチレフ5 mlに溶かし、OC以下に冷却する。
アニソール4 mlを加えた後、トリフルオロ酢酸8 
mlを滴下し、0〜5Cで45分間反応させる。反応液
を濃縮し、エーテル60 mlを加えて沈殿物を戸数し
、エーテルで洗℃・、粗製の(3S。
4S)−3−アミノ−4−メチル−2−アゼチジノ/−
1−オキシスルホ/酸250 mgを得る。
(1)赤外線吸収スベク)・ル v KBram ’  : 3350(プ0−)’)、
  ■775,1670,1290゜1260.120
0 (11)核磁気共鳴スペクトル(D6−DMSO−D2
0 ’)δ: 1.39  (3T(、d、  J=7
Hz、 C4CT−13)4.05  (H(、d、 
 J=2.5)(z、 C3−H)4.14  (LH
,qのd、 J=7.2.5H7,C4H)(3)  
第三および四工程 前記生成物2401T1gをジメチルホルムアミド2 
mlおよび塩化メチレフ 3 mlに溶かし、トリエチ
ルアミンO,14m1を加える。この液にD−α−(4
−ヒドロキシ−6−メチルニコチンアミド)−p−ヒド
ロキシフェニルグリシ7302 qjのジメチルホルム
アミド3 ml溶液を加え、さらにN−ヒドロキシベ/
シトリアゾール1351T1gおよびジシクロへキシル
カルボジイミド2061Ttgを加えて2時間室温でか
き混ぜる。生じたウレアをP去した後、P液を減圧濃縮
し、残留物にエーテル60 mlを加えて粉末にし、P
取してエーテルで洗う。40gのシリカゲルでカラムク
ロマトグラフィーヲ行い、クロロホルム−メタノール(
3:1)混液で溶出する操作を2回くり返し、(3S。
48)−3−CI)−α−(4−ヒドロギシー〇−メチ
ルニコチンアミド)−p−ヒドロギシフェニル酢酸アミ
ド〕−4−メチル−2−アセチジノノー1−オキシスル
ホン酸〆 トリエチルアミン塩254 mgを得る。生
成物106 mgをメタノール1 mlに溶カし、ペル
フルオロブタ/スルホノ酸カリウム68mgを含むアセ
トノ2 ml溶液を加え、さらにアセトノ10m7を加
えて結晶性粉末であるカリウム塩65111gを得る。
(i)  赤外線吸収スペクトル νmax (:In: 3000〜3450,1765
,1650,1630゜1510.1280.1240 (11)核磁気共鳴スペクトル(D、 −DMSO−D
20 )δ:  1.30  (3H,d、  J=6
H7,C4CH3)3.68  (IH,qのd、  
J−6,2Hz、 C4H)4.26  (IH,d、
  J=2Hz、 C3−H)実施例 2 0■ (38)−1−ヒドロキン−3−t−ブトキシカルボニ
ルアミノ−2−アゼチジノンを実施例1の第一および第
二工程と同様に処理して得られた(3S)−3−アミノ
−2−アゼチジノン−1−オキシスルホン酸1581T
1gをジメチルホルムアミド1 mlおよび塩化メチレ
ン2mlに溶かし、トリエチルアミン70μlを加える
。その溶液に、D−α−(4−ヒドロキシ−6−メチル
ニコテ/アミド)−p−ヒドロキシフェニルジ9フフ1
51ヒドロキシベンゾトリアゾール67.5mgおよび
ジシクロへキシルカルボジイミド1103rI1を加え
て2時間室温でかき混ぜる。生じたウレアを1去した後
。
P液を減圧濃縮し,残留物にエーテル30 mlを加え
て粉末にし,P取してエーテルで洗う。50gのシリカ
ゲルでカラムクロマトグラフィーを行(・。
クロロホルム−メタノール(12:  1 ) 混ti
で溶出して、  (38)−3−[D−α−(4−ヒド
ロキシ−6−7+チルニコチンアミド)−p−ヒドロキ
シフェニル酢酸アミド〕−2−アセテジノノー1−オキ
シスルホフ酸トリエチルアミン塩1901T1gヲ得る
。生成物をメタノール4m1K溶かし、ペルフルオロブ
タノスルホン酸カリウム114 mgを含むアセ) :
/ 10 ml溶液を加え、さらにアセトノ15m7を
加えて結晶性粉末であるカリウム塩56.mgを得る。
1)赤外線吸収スペクトル νm□”   、3300(ブロード)、1765,1
650,1.5]、0゜1280〜1240.1053 11)核磁気共鳴スペクトル(Da  DMSOH2O
)3.5〜4.2 (2H,m、  C4−H)4.8
3  (IH,dd、  J−2,6Hz、 Cs  
H)15− 特許出願人 山之内製薬株式会社 代理人  佐々木 晃 − 16一

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 (式中I R,は水酸基および/または低級アルキル基
    を有していてもよいピロリジニル−。 ピロリル−、ピペリジル−またはピリジル−基をl R
    2は水素原子または水酸基を+ R3およびR4は同一
    または異って水素原子または低級アルキル基を2Mは水
    素原子またはカチオンを表わす。) で示される2−アゼチジノン誘導体。
JP57077724A 1982-05-10 1982-05-10 新規2−アゼチジノン誘導体 Pending JPS58194856A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3614317A1 (de) 1985-04-29 1986-11-06 E.R. Squibb & Sons, Inc., Princeton, N.J. O-sulfatierte ss-lactam-hydroxamsaeuren
US4638061A (en) * 1985-01-28 1987-01-20 E. R. Squibb & Sons, Inc. [3S(Z)]-2-[[[1-(2-amino-4-thiazolyl)-2-[[2,2-dimethyl-4-oxo-1-(sulfooxy)-3-azetidinyl]amino]-2-oxoethylidene]-amino]oxy] acetic acid and intermediate

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4638061A (en) * 1985-01-28 1987-01-20 E. R. Squibb & Sons, Inc. [3S(Z)]-2-[[[1-(2-amino-4-thiazolyl)-2-[[2,2-dimethyl-4-oxo-1-(sulfooxy)-3-azetidinyl]amino]-2-oxoethylidene]-amino]oxy] acetic acid and intermediate
DE3614317A1 (de) 1985-04-29 1986-11-06 E.R. Squibb & Sons, Inc., Princeton, N.J. O-sulfatierte ss-lactam-hydroxamsaeuren

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