JPS5819604A - ヒ−トセンタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明の出願人は先に熱プラントの省エネルギ化の中心
となるヒートセンタの゛提案（特願昭５５−１５１４２
１号）を行ったが、本発明はそのヒートセンタの改良に
関するものである。

ヒートセンタはドレンの回収と蓄熱、給水の脱気と予熱
、低圧蒸気の供給等の機能を備え、ボイラ郷の熱プラン
トの廃熱回収の中心的役割を演するが、プラントの立上
り時に多量のガスを含んだドレンが集中的にヒートセン
タに流入すると、ガスが抜は切れずに低圧蒸気回路にガ
スが入り、フラッシュ蒸気回路に悪影替を及ぼすおそえ
がある。

本発明の課題は、吹見ｉＬ＋詩的に多量のガスを含むド
レンがヒートセンタに回収されてもガスを確実に除去し
フラッシュ蒸気回路にガスが入ら力いようにすることに
ある。

前記課題を達成するため、本発明のヒートセンタは直立
円筒状本体の内部にドレンを噴霧状に吹き込むフラシュ
装置を有し、そのフラッシュ装置の入口と出口にドレン
回路とガス抜き回路が接続される。ドレンに含まれるガ
スはヒートセンタの内部には入らずカス抜き回路を通じ
て外部に放出される。

本発明を図面に示す実施例に基づいて説明する。

第１図に示すように、ヒートセンタの直立円筒状本体１
の内部に多段の脱気用の加熱器２を設け、その直下にフ
ラッシュリング３を配置する。フラッシュリング３の下
に加熱用蒸気が入る加熱器をへ 設け、その下方にヒータ５を装着する。本体１の頂上に
補給水回路６を導入し、その傍らに安全弁とガス抜き弁
からなる説、気回路７を接続する。本体１の加熱器２の
上方に圧力検出口８とフラッシュ蒸気回路９の取出口を
設け、前記加熱器４の下方の水相部に循環水回路１８の
入口１ｏ及び出口１１、水位制御器１２、排水回路１３
、ボイラ給水回路１４をそれぞれ取付ける。−：／”−
４に加熱用蒸気回路１５を接続し、フラッシュリング３
の入口にドレン回路１６を出口にガス抜き弁を備えたガ
ス抜き回路１フをそれぞれ接続する。

フラッシュリング３は底面に多数の小孔をあけた中空の
環状管体からなシ、出口側は入口側よりもや＼高目に設
置される。

第２図に示すように、軟水器を経た原水は軟水タンク１
９に入り、そのタンクの水はポンプ２０によシ補給水回
路６に供給される。水位制御器１２はヒートセンタの本
体ユ内の水位を検知し、補給水回路６と排水回路１３の
弁２１．２２を制御する。圧力検出口８に圧力制御器２
３の検出部を取付け、本体１の内圧を検出してスチーム
ヘッダ２４からヒートセンタに至る加熱蒸気回路１５の
弁２５を制御する。本体１内の熱水はポンプを野てボイ
ラ２６に給水され、生じた蒸気はスチームヘッダ２４に
供給される。循環水回路１８はボイラ煙道２７に設けた
熱交換器２日を含み、一部は分岐して軟水タンク１９に
還流するレリーフ回路２９と力る。

次に、本発明のヒートセンタの役割を説明する。

ボイラ２６の排気熱回収用熱交換器２８の低温腐蝕は、
排気中の硫黄分の状態に関係する限界温度以下に回収コ
イルの表面の温度が低下することにより発生するが、ヒ
ートセンタ本体ユの内圧を飽和温度が限界低温以上にな
るように設定すれば、循環回路１８の熱交換器２日を高
い温度の水が循環して回収コイルの表面の温度を限界低
温以上に維持するので、低温腐蝕の発生は未然に防止さ
れる。設定温度を限界低温よりわずかに高くして排気温
度から硫酸腐蝕限界低温までの落差熱を回収することが
望ましい。

蒸気使用系の高圧ドレンをドレン回路１６を通じて回収
し、フラッシュリング３から本体１内に噴射する。ドレ
ンに含まれているガスはガス抜き回路１７から外部に放
出される。ドレンの水は用水としてボイラ給水回路１４
と循環水回路１０に供給され、回収熱は加熱器２の加熱
に２１用される。

余興の低圧蒸気はフラッシュ蒸気回路９を通じて取出し
使用することができる。プラントの立上り時に多量のガ
スを含むドレンが集中的に流入しても、ドレン中のカス
はフラッシュリング３の出口に接続したガス抜き回路１
７から直接排出されるため、フラッシュ蒸気回路９にド
レン中のガスが入り込むことはない。

ヒートセンタの水位は通常弁２１により言：■整される
が、水位が急上昇すると弁２２が開く。熱交換器２８に
おいて循環水の異常が検知されると、レリーフ弁３０が
開き、循環水はタンク１９へ送られる。圧力制御器２３
は本体１の内圧と熱交換器２８の出口の排気温度の信号
を受け、あらかじめ設定した基準により蒸気弁２５と循
環回路１８の流量調整弁３１を制御する０ヒートセンタ
内に十分な加熱蒸気のない始動時にはヒータ５により水
を所定の飽和温度に維持する。したがって、ヒートセン
タは負荷の変動に自動的に対処し、熱プラントの排熱と
ドレンを効率よく回収することができる。

上記のとおり、熱プラントの省エネルギ化の中心となる
本発明のヒートセンタは、一時的に多量のガスを含むド
レンが回収されても、ガスを直ちに排出することができ
るので、ガスが７ラツシユ蒸気回路に入シ悪影響を及す
おそれは々いといえる。

実施例において、フラッシュ装置として環状管体のフラ
ッシュリングを示したが、フラシュ装置はフラッシュリ
ングに限る必要はなく、円筒等の容器状のものでもよい
。又、必要に応じて加熱器と一体に形成することもでき
る。さらに、位置も加熱棚の下に限る必要はなく、その
上に設けてもよい。

４、追加の関係 本発明は、［特願昭５５−１５１４２１号の発明の構成
に欠くことができない事項の筒状の本体の上部に脱気棚
を内設し、前記本体の前記脱気棚の上方に補給水回路と
脱気回路を、前記脱気棚の下方に加圧蒸気回路を、前記
加圧蒸気回路よシも上方にドレン回路とフラッシュ蒸気
回路をそれぞれ接続し、前記本体の下部にボイラ給水（
用水）回路、水位調節回路、循環水回路及び復路をそれ
ぞれ接続し、前記本体内の圧力を検出して前記加圧蒸気
回路の蒸気弁を制御する圧力制御器を設け、前記本体内
の水位を検出して前記補給水回路と前記水位調節回路の
６弁を制御する水位制御器を設けたこと」をその構成に
欠くことができない事項の主要部とするものであってそ
の発明と同一の目的を達成するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例のヒートセンタの断面図、第
２図は第１図のヒートセンタを含む廃熱回収システムを
備えたボイラプラントの回路図である。 １：本体　　　　　２：加熱棚 ３：フラッシュｉｆｆ　（フラッシュリング）６：補給
水回路　　７：脱気回路 ９：フラッシュ蒸気回路　　　１２：水位制御器１３：
排水回路　　１４：ボイラ給水回路市：加熱蒸気回路１
６：ドレン回路 １７：ガス抜き回路１８：循環水回路 出願人　株式会社サンブラント 代理人　川　上　　　肇（外１名）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ｌ）円筒状本体の上部に脱気用の加熱棚を内設し、前記
   本体の前記加熱棚の上方に補給水回路、脱気回路をそれ
   ぞれ接続し、前記本体の前記加熱棚の下方に設けた加熱
   器に加熱蒸気回路を接続し、前記本体の前記加熱器よシ
   も上の位置にドレン回路とフラッシュ蒸気回路をそれぞ
   れ接続し、前記本体の下部にボイラ給水（用水）回路、
   排水回路、循環水回路をそれぞれ接続し、前記本体内の
   圧力を検出して前記加熱蒸気回路の蒸気弁を制御する圧
   力制御器を設け、前記本体内の水位を検出して前記補給
   水回路と前酊補給水回路と前記排水回路の６弁を制御す
   る水位制御器を設けてなるヒートセンタにおいて、噴射
   口を備えたフラッシュ装置を前記加熱器と一体に又はそ
   れよシ上の位置に独立に設け、前記フラシュ装置の入口
   と出口に前記ドレン回路とガス抜き回路をそれぞれ接続
   したことを特徴としてなるヒートセンタ。 ２１）フラシュ蒸気回路を本体の加熱棚の上方に接続し
   たことを特徴としてなる特許請求の範囲第１項記載のヒ
   ートセンタ。