JPS58202444A - 感光材料処理装置 - Google Patents
感光材料処理装置Info
- Publication number
- JPS58202444A JPS58202444A JP57085382A JP8538282A JPS58202444A JP S58202444 A JPS58202444 A JP S58202444A JP 57085382 A JP57085382 A JP 57085382A JP 8538282 A JP8538282 A JP 8538282A JP S58202444 A JPS58202444 A JP S58202444A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- plate
- soln
- photosensitive material
- processing liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03D—APPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
- G03D5/00—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected
- G03D5/04—Liquid processing apparatus in which no immersion is effected; Washing apparatus in which no immersion is effected using liquid sprays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光材料処理装置に関し、特に感光材料をシャ
ワー処理する感光材料処理装置（以下、単に「処理装置
」という。）に関するものである。
ワー処理する感光材料処理装置（以下、単に「処理装置
」という。）に関するものである。
例えば、印刷版用感光材料として知られているＰＳ版（
ｐｒｅｅｅｎｓｉｔｉｑｅｄ ｐｌａｔｅ ）の処理は
、通常、第１図に示す如く構成された処理装置によって
行われる。第１図において、１は処理液槽、２Ａ、 ２
Ｂは移送ローラ対、３Ａ、３Ｂはブランローラ、４Ａ。
ｐｒｅｅｅｎｓｉｔｉｑｅｄ ｐｌａｔｅ ）の処理は
、通常、第１図に示す如く構成された処理装置によって
行われる。第１図において、１は処理液槽、２Ａ、 ２
Ｂは移送ローラ対、３Ａ、３Ｂはブランローラ、４Ａ。
４Ｂハバツクアツプ・ローラ、５Ａ、 ５Ｂはシャワー
・パイプ、ＰＭは処理液循環用ポンプ、そしてＰはＰＳ
版移送路を示している。
・パイプ、ＰＭは処理液循環用ポンプ、そしてＰはＰＳ
版移送路を示している。
製版原稿を露光された２８版は移送ローラ対２人により
処理装置内に導入され、処理装置内を移送 。
処理装置内に導入され、処理装置内を移送 。
されつつシャワー・パイプ５Ａ、５Ｂから噴出される処
理液により処理される。ＰＳ版の移送方向と逆方向に回
転するプランローラ３Ａ、 ３Ｂハ上記処理を均一化す
るためのものである。
理液により処理される。ＰＳ版の移送方向と逆方向に回
転するプランローラ３Ａ、 ３Ｂハ上記処理を均一化す
るためのものである。
上述の処理装置においては、２８版が該処理装置から送
出された状態で、シャワー・パイプ５Ａ。
出された状態で、シャワー・パイプ５Ａ。
５Ｂから噴出される処理液が処理液槽１内の処理液面６
（一点鎖線で示されている。）に衝突することにより発
生する泡が問題となる。泡が多世に発生すると処理液槽
１の周囲から溢れ出て処理装置を汚損するばかりでなく
、処理も不均一になる。
（一点鎖線で示されている。）に衝突することにより発
生する泡が問題となる。泡が多世に発生すると処理液槽
１の周囲から溢れ出て処理装置を汚損するばかりでなく
、処理も不均一になる。
また、処理液は強アルカリ性液であるため、空気中の炭
酸ガスとの接触が激しくなると疲労が促進されることに
もなる。
酸ガスとの接触が激しくなると疲労が促進されることに
もなる。
但し、上述の泡は全く無用という訳ではなく、処理液＃
１内の処理液面６上に一様に浮かんでぃ□ る程度に
存在すると、前記処理液の炭酸ガス吸収を抑制する効果
を有するものである。
１内の処理液面６上に一様に浮かんでぃ□ る程度に
存在すると、前記処理液の炭酸ガス吸収を抑制する効果
を有するものである。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、従来の処理装置における上述の如き問題
を解消し、泡が異常に多く発生するのを防止可能とした
処理装置を提供することにある。
するところは、従来の処理装置における上述の如き問題
を解消し、泡が異常に多く発生するのを防止可能とした
処理装置を提供することにある。
本発明の上記目的は、感光材料を処理部に導入してシャ
ワー処理する処理装置において、前記処理部の感光材料
移送路下方に、シャワーされた処理液を受ける傾斜誘導
板を設けるとともに、処理液槽の壁をも傾斜させた構造
としたことを特徴とする処理装置によって達成される。
ワー処理する処理装置において、前記処理部の感光材料
移送路下方に、シャワーされた処理液を受ける傾斜誘導
板を設けるとともに、処理液槽の壁をも傾斜させた構造
としたことを特徴とする処理装置によって達成される。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
。
第２図は本発明の一実施例である２８版処理装置の要部
を示すものであり、処理部の２８版移送方向に直交する
方向の断面図である。図において、ＩＡは処理液槽、５
Ａはシャワー・パイプ、７は処理液誘導板そしてＰはＰ
Ｓ版移送路である。
を示すものであり、処理部の２８版移送方向に直交する
方向の断面図である。図において、ＩＡは処理液槽、５
Ａはシャワー・パイプ、７は処理液誘導板そしてＰはＰ
Ｓ版移送路である。
処理液槽ＩＡは傾斜した側壁１Ｂを有し、該側壁ＩＢの
内面には後述する処理液誘導板７を支承する突起ＩＣが
設けられている。
内面には後述する処理液誘導板７を支承する突起ＩＣが
設けられている。
前記処理液誘導板７は山型に成形され傾斜面で構成され
た板で、その両端部で前記処理液槽ＩＡの側壁上に支承
されている。
た板で、その両端部で前記処理液槽ＩＡの側壁上に支承
されている。
本実施例装置においては、２８版が処理部に到達する前
およびＰＳ版が処理を終了して処理部から送出された後
等、処理液がシャワー・バイブ５Ａから噴出されている
にもがかわらず、ＰＳ版がそれを受ける位置にないとい
う状態において、前記噴出される処理液を前記処理液誘
導板７で受けるようにしている。これにより、シャワー
された処理液が処理液槽ＩＡ内の処理液面６Ａに直接注
入されることがなくなり、泡の発生は大幅に減少する。
およびＰＳ版が処理を終了して処理部から送出された後
等、処理液がシャワー・バイブ５Ａから噴出されている
にもがかわらず、ＰＳ版がそれを受ける位置にないとい
う状態において、前記噴出される処理液を前記処理液誘
導板７で受けるようにしている。これにより、シャワー
された処理液が処理液槽ＩＡ内の処理液面６Ａに直接注
入されることがなくなり、泡の発生は大幅に減少する。
なお、前記処理液誘導板７で受けた処理液は、 □
該処理液誘導板γ上を傾斜面に沿って流下させ、その両
端部からは処理液槽ＩＡの傾斜した側壁ＩＢに移して更
に流下させて処理液面６Ａに到達させるように構成され
ており、泡の発生を少量に抑えることを可能にしている
。
該処理液誘導板γ上を傾斜面に沿って流下させ、その両
端部からは処理液槽ＩＡの傾斜した側壁ＩＢに移して更
に流下させて処理液面６Ａに到達させるように構成され
ており、泡の発生を少量に抑えることを可能にしている
。
前記処理製誘導板７は第３図に示す如く、平らな板を全
体か一様な傾斜を有する如く設けても良い：、なお、第
２図、第３図に示した叩く、処理部の幅方向に傾斜させ
るがわりに、処理部の前後方向（ＰＳ版移送方向）に傾
斜させても良く、両者を適宜組合わせることも可能であ
る。処理液槽ｎの側壁ＩＢの傾斜は、前記処理液誘導板
７の傾斜方向と対応させることか重□要である。
体か一様な傾斜を有する如く設けても良い：、なお、第
２図、第３図に示した叩く、処理部の幅方向に傾斜させ
るがわりに、処理部の前後方向（ＰＳ版移送方向）に傾
斜させても良く、両者を適宜組合わせることも可能であ
る。処理液槽ｎの側壁ＩＢの傾斜は、前記処理液誘導板
７の傾斜方向と対応させることか重□要である。
また、処理液槽ＩＡに前記処理液誘導板７を支承させる
方法（ま、前記実施例に示した支承用突起ＩＣを設ける
方法の他、前記処理液誘導板７の傾斜面に沿った支承部
を、処理液槽ＩＡの側壁に速読的に設けても良く、この
場合には、前記処理液誘導板７を特に成型しなくても、
その板厚等を適切に選択することにより、所定の傾斜面
を形成させることか可能となる。
方法（ま、前記実施例に示した支承用突起ＩＣを設ける
方法の他、前記処理液誘導板７の傾斜面に沿った支承部
を、処理液槽ＩＡの側壁に速読的に設けても良く、この
場合には、前記処理液誘導板７を特に成型しなくても、
その板厚等を適切に選択することにより、所定の傾斜面
を形成させることか可能となる。
前記処理液誘導板７は透明な材料で構成することは啼内
の泡の状、きが見える帳で好ましいが、必ずしもこれに
限るものではない。処理液誘導板７は処理部のカバーと
しても機能し、寒冷期に、処理装置の上部カバー（図示
されていない。）内面への結露を抑止する効果もある。
の泡の状、きが見える帳で好ましいが、必ずしもこれに
限るものではない。処理液誘導板７は処理部のカバーと
しても機能し、寒冷期に、処理装置の上部カバー（図示
されていない。）内面への結露を抑止する効果もある。
なお、上述の説明においては、２８版処理装置を例にと
ったが、本発明はこれに限定されるべきものではない。
ったが、本発明はこれに限定されるべきものではない。
以上述べた如く、本発明によれば、感光材料を処理部に
導入してシャワー処理する処理装置において、前記処理
部の感光材料移送路下方に、シャワーされた処理液を受
ける傾斜誘導板を設けるとともに、処理液槽の壁をも傾
斜させた構造としたので、泡が異常に多く発生するのを
防止し、これに起因する諸トラブルを未然に防止するこ
とが可能になり、安定した処理を可能にするという顕著
な効果を奏するものである。
導入してシャワー処理する処理装置において、前記処理
部の感光材料移送路下方に、シャワーされた処理液を受
ける傾斜誘導板を設けるとともに、処理液槽の壁をも傾
斜させた構造としたので、泡が異常に多く発生するのを
防止し、これに起因する諸トラブルを未然に防止するこ
とが可能になり、安定した処理を可能にするという顕著
な効果を奏するものである。
第１図は従来の処理装置を示す側面図、第２図。
第３図は本発明の実施例の要部を示す断面図である。
■、ＩＡ 処理液槽、２Ａ、 ２Ｂ ：移送ローラ対
、３Ａ、 ３Ｂ ニブランローラ、４Ａ、４Ｂ：バック
アップ・ローラ、５Ａ、 ５Ｂ ：シャワー・パイプ、
６゜６Ａ：処理１夜面、７：処理液誘導板。 時打出願人 富士写真フィルム株式会社代 理 人
弁理士 磯・村 雅 俊第１図 ■ 第２図 Ａ
、３Ａ、 ３Ｂ ニブランローラ、４Ａ、４Ｂ：バック
アップ・ローラ、５Ａ、 ５Ｂ ：シャワー・パイプ、
６゜６Ａ：処理１夜面、７：処理液誘導板。 時打出願人 富士写真フィルム株式会社代 理 人
弁理士 磯・村 雅 俊第１図 ■ 第２図 Ａ
Claims (1)
- 感光材料を処理部に導入してシャワー処理する感光材料
処理装置において、前記処理部の感光材料移送路下方に
、シャワーされた処理液を受ける傾斜誘導板を設けると
ともに、処理液槽の壁をも傾斜させた構造としたことを
特徴とする感光材料処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57085382A JPS58202444A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | 感光材料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57085382A JPS58202444A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | 感光材料処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58202444A true JPS58202444A (ja) | 1983-11-25 |
| JPH0234381B2 JPH0234381B2 (ja) | 1990-08-02 |
Family
ID=13857183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57085382A Granted JPS58202444A (ja) | 1982-05-20 | 1982-05-20 | 感光材料処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58202444A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6141249U (ja) * | 1984-08-18 | 1986-03-15 | コニカ株式会社 | 感光材料処理装置 |
| WO1999032939A1 (en) * | 1997-12-22 | 1999-07-01 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of developing photosensitive resin plate and developing device |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5366301U (ja) * | 1976-11-05 | 1978-06-03 | ||
| JPS54113265A (en) * | 1978-02-23 | 1979-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | Resistor developing equipement |
-
1982
- 1982-05-20 JP JP57085382A patent/JPS58202444A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5366301U (ja) * | 1976-11-05 | 1978-06-03 | ||
| JPS54113265A (en) * | 1978-02-23 | 1979-09-04 | Mitsubishi Electric Corp | Resistor developing equipement |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6141249U (ja) * | 1984-08-18 | 1986-03-15 | コニカ株式会社 | 感光材料処理装置 |
| WO1999032939A1 (en) * | 1997-12-22 | 1999-07-01 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of developing photosensitive resin plate and developing device |
| AU731539B2 (en) * | 1997-12-22 | 2001-03-29 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Method of developing photosensitive resin plate and developing apparatus |
| US6270267B1 (en) | 1997-12-22 | 2001-08-07 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Method of developing photosensitive resin plate and developing device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0234381B2 (ja) | 1990-08-02 |
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