JPS5820451A - エッチング装置 - Google Patents

エッチング装置

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JPS5820451A
JPS5820451A JP11931781A JP11931781A JPS5820451A JP S5820451 A JPS5820451 A JP S5820451A JP 11931781 A JP11931781 A JP 11931781A JP 11931781 A JP11931781 A JP 11931781A JP S5820451 A JPS5820451 A JP S5820451A
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JP
Japan
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etching
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master
offset
heat
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JP11931781A
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JPS6219315B2 (ja
Inventor
Kiyoaki Nakamura
中村 清明
Yoji Koganei
小金井 要二
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Iwatsu Electric Co Ltd
Iwasaki Tsushinki KK
Original Assignee
Iwatsu Electric Co Ltd
Iwasaki Tsushinki KK
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Application filed by Iwatsu Electric Co Ltd, Iwasaki Tsushinki KK filed Critical Iwatsu Electric Co Ltd
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Publication of JPS5820451A publication Critical patent/JPS5820451A/ja
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Granted legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3042—Imagewise removal using liquid means from printing plates transported horizontally through the processing stations

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Rotary Presses (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、オフセット印刷に用いるオフセットマスター
の版面を処理する装置に関し、更に詳しくは、オフセッ
トマスターの版面をエツチング(又は親水化)処理する
装置に関する。
製版機により画像形成されたオフセットマスク−を印刷
する場合、オフセットマスター版面ニ、エツチング液を
塗布して非画像部を親水面とする一方、画像部を親水面
とする一方、画像部を親油面に保つエツチング工程が必
要であることは周知の通りである。
この処理が不完全な場合に、オフセット印刷に際して、
非画像部に印刷インキの付着汚れが発生し、美麗な印刷
の仕上がりが得られなかったり、一度、形成された非画
像部の親水面(親水性化成皮膜)が徐々に壊されて親水
面と親油面との界面バランスが不完全となり、オフセッ
トマスターの耐印刷枚数が低下したりするという問題が
発生する。このようにエツチング工程は、オフセット印
刷工程の中で重要な地位を占めている。
とどろで、従来のエツチング工程は、手作業が主流であ
ったが、現在、自動エツチング装置が数多く考案されて
いる。例えば第−例として、オフセットマスターをエツ
チング処理槽に浸漬するだけの装置、第二例として、前
記エツチング処理槽内部に擦り機能を固定又はローラ回
転数を変化させだゴム及びスポンソローラ等で与え、オ
フセットマスター版面のエツチング処理性能を向上させ
る装置(例えば特公昭52−42378号参照)、第三
例として、エツチング処理槽全体をヒータ等の熱源を用
いて加熱してエツチング液の温度を高めてエツチングす
る装置(実公昭54−72102号公報参照)等が提案
されている。しかしながら、どれらのエツチング装置に
は多くの問題がある。
例えば、第−例の装置は充分なエツチング処理を施す為
には、長い処理時間が必要であり、作業性に著しく劣り
、第二例の装置は、オフセットマスター版面に強制的に
摩擦を与えるので、版面にキズが発生したり、搬送トラ
ブルが発生したりしやすいという欠点がある。また第三
例の装置は、工ツ、チング処理槽全体を加温するために
、処理適正温度に達するまでの時間が長く、多くの熱谷
月を必要としたり、加熱によるエツチング液の温度分布
を均一にする為に、エツチング液を攪拌する装置を付し
なけれr、f &らず、そのために装置が大型化し作業
性が低下したり、熱によるエツチング液の蒸発やエツチ
ング液に含まれる金属イオン成分の分館が促進されたり
するなどエツチング工程の不安定要素も多く、装置が開
発されるには至っていないのが現状である。
本発明の目的は、前記した従来のオフセットマスターノ
エッチング技術の欠点を排除し、オフセットマスターの
エツチング処理を高速で、かつ効率良く行なうどとがで
きるエツチング装置を提供するととにある。
即ち、本発明に従えば、オフセット印刷機に使用するオ
フセットマスターの版面をエツチングする装置において
、エツチング装置のエツチング部を第一エツチング部と
納二エツチング部に分割し、第−及び第二エツチング部
の中間部に、熱源を付設した熱処理部を設け、前記第一
エツチング部を通過したオフセットマスターを前記熱処
理部に搬送して、エツチングされたオフセットマスター
を熱処理した後、前記第二エツチング部に搬送して再エ
ツチングするようにしたエツチング装置が提供される。
以下、本発明の実施例を図面に従って説明する。
第1図は本発明に従ったエツチング装置の一例を示す図
面であり、製版機1で製版を完了17だオ′フセ、トマ
スター2ii画像の形成された版面2aを上側にして、
挿入ガイド板4に沿って、エツチング装置3に搬送され
る。
搬送されたオフセットマスター2は、第一エツチング部
5に入るが、第一エツチング部5は、エツチング処理液
6を収容した処理液槽15Aを崩し、この処理液槽1.
5.A内には1組又は複数のエツチングローラ対7a、
7b(第1図には2組の例を示した)が設けられていて
、少なくともエツチングローラ7bの一部は、エツチン
グ処理液6に浸漬されていなければならず、またこのエ
ツチングμmう対の上側ローラ7aは少なくとも工。
チンダ処理液6を充分に吸液できかつオフセットマスタ
ーの版面を傷つけないIネ4、例えば、多孔質の不織布
、フェルト等で構成される。下側ローラ7bは前記」下
側ローラ7aと同種の材質で構成してもよいが、開摩耗
性に優れ、 またある程度の硬度があり、上側ロー2と
の接触面を拡大するととのできるゴムローラで構成して
もよい。
本発明の装置では、第一エツチング部5に隣接して、加
熱処理部8を設ける。この加熱処理部8内の、上方の位
前に熱源9が付設されており、この熱源9は、ランプヒ
ーター、ニクロム線ヒーメー、パネルヒーター又ハ熱ロ
ールヒ−7−等に、l:り構成され、がイド板10に沿
って搬送されたオフセットマスター2を加熱するように
構成されている。熱源9は反射笠12で覆われている。
また、加熱処理部8を囲うように熱しゃへい板11が配
設されており、加熱が加熱処理部8内だけで効果的に行
なわれかつ、熱伝導により第一エツチング部5や第二エ
ツチング部14の内部温度が上昇するのを防止する作用
を有する。更に、加熱処理工程8の上部には放熱口13
が設けられ、この放熱口13はラス板等で構成されてい
て、余剰の熱はここから外部に放出されるようになって
いる。
加熱処理部8に続いて、第二エツチング部14が配設さ
れており、エツチング処理液6を収容した処理液槽15
Bを有し、この処理液槽15B内には1組又は複数組の
エツチングローラ対7a。
7b(第1図の例では2組)が設けられており、少なく
ともエツチングローラ7bの一部はエツチング処理液6
中にv:fMLでいる。このエツチングローラ対の材質
は、前述1〜た第一エッチング部5で使用し九ローラと
同じでもよく、また異なっていてもよい。上記処理液槽
15Bは、連結ホース16によって第一エッチング部5
内の処理液槽15Aと連結することができ、かくするこ
とによって液袖給又は液抜きを一括して行なうことがで
き、取り扱いが便利である。ムλニエッチング部140
刊紙側に目、排紙シュート17が設けられ、どれを直接
印刷機18に連結することができる。
次に上記実施例の作用機能を更に具体的にすると、製版
を完了したオフセットマスター2は、画像の形成された
版面を上にして、挿入ガイド板4に沿って、第一エッチ
ング都合に送られ、回転している複数のエツチングロー
ラ対7a、7bで搬送されながらエツチング処理液6を
塗布される〇エツチングされたオフセットマスター2は
5 ガイド10に沿って加熱処理部8に運ばれ、熱源9
で加熱される。加熱処理部9における熱処理条件につい
て概略説明せると熱源の容量及び搬送中のマスター表面
と熱源まで距離と、マスターを搬送する速度の条件は、
単67時間尚りのマスター表面に塗布されたエツチング
液の吸収する熱容量によって、そのエツチング反応の促
進度が異なるので、熱処理部の条件及び搬送速度は熱処
理中のマスター表面温度が、40℃以上に温度上昇する
(寂に条件設定をしなければならない。
との、熱処理により、オフセットマスター1′Jy面上
のエツチング反応が促進される。またこの加熱は、オフ
セットマスター2と、その版面上に塗布すしたエツチン
グ処理液だけに行なえば良いので熱源の容量も汁さぐて
すみ、捷だ加熱も迅速に1」なうことができる。しかも
、本発明装置ではとの加熱処理部8と、両ヱノチング部
5,14け分離されているだめ、エツチング処理液6ば
加熱さI]ないので、エツチング液が蒸発したり、熱に
ょる処理液の変質等が起ったりするととが効牙的に防止
できる。
加熱されたオフセットマスター2は、次に範二エツチン
グ部14に搬送さね、第ニエッtング部14内の複数の
エツチングローラ対7a 、7bの回転によって搬送さ
れるとともに、再びエツチング処理されるので、エツチ
ング反応が更に促進され、充分なエツチング処理が完了
する。以上のよウニエツチングされたオフセットマスタ
ーは、排紙シュート17を介し、印刷工程18に運ばれ
る。
第2図は、本発明に従ったエツチング装置の他の実施例
を示す図面であり、この例では第1図の実施例で第一エ
ッチング部5及び第二エツチング部14が、エツチング
ローラ対でエツチング処理液をオフセットマスターに塗
布しエツチングする方法であったのに代えて、オフセッ
トマスター2をエツチング処理液6に浸漬させてエツチ
ングするよう構成されている。装置の他の構成は第1図
の実施例と同じである。この場合、搬送ローラ19の材
質は、エツチング処理液に浸食されないゴムローラ等の
材質とすることができる。なお、図面には示していない
が、第1図の実施f+lJの第−及び第二エツチング部
5,14を液滴下方式により、エツチング処理液をオフ
セットマスター版面上に滴下する方法で行なっても良い
。
第3図は本発明に従ったエツチング装置の更に他の実施
例を示す図面であり、この例では製版を完了したオフセ
ットマスター2がri!iI像の形成された版面2aを
下側に1−て、第一エッチング部5に挿入する場合の実
施例であり、オフセットマスター2の版面2aはエツチ
ングローラの下側のローラ7aでエツチング液を塗布さ
れるので、塗布能力が一層向上するという特長をもつ。
装置の他の構成は、第1図の実施例と同じである。
なお、第1図、第2図及び第3図の実施例の加熱処理部
8において、いずれの場合も熱源9は、搬送中のオフセ
ットマスター2の版面2aを加熱するように配置されて
いるが、加熱効果を高めるために、熱源をオフセットマ
スター2の上下両方にくるように配置してもよい。
以上のような説明から明らかなように本発明のエツチン
グ装置によれば、オフセントマスターの版面ば2つに分
割されたエツチング部で処理され、かつその両エツチン
グ部の中間部にある加熱処理部内で、加熱されることに
より、エツチング反応が加速されて、短時間でも充分な
エツチング処理を行なうことができ、しかも、エツチン
グ工程そのものは、加熱によるエツチング処理液の蒸発
などの悪影響を受けることなく、高速自動処理が可能と
なる。    ゛ また、上記実施例では、加熱処理部内のオフセットマス
ター加熱温度は、加熱源の電力容量を増減させることや
、熱源と加熱処理部を痩送中のマスターとの距離を瑠減
さぜることなどにより、容易に可変できる。このマスタ
ーの加熱温度をTjJ変すれば、マスターとエツチング
処理液のエツチング反応の進行程度を変えるととが出来
るので、例えば雰囲気温度によって、左ッチンダ処理液
の液温が異なり、エツチング反応の進行程度が変動を受
ける場合でも、マスターの加熱温度をエツチング処理液
の温度に対応させて調整すれば常に一定のエツチング反
応の進行が得られる。また、オフセットマスターなどの
違いによって、エツチング反応の進行程度を変えたい場
合でも、マスク−の加熱温度を調艶することで可変とす
ることができる。
なお、処理液梗中のエツチングローラは1&iでもよく
、また各処理液槽[11」の連結かなくてもよいことは
いうまでもない。
次に、本発明に従ったエツチング装置の前り実施例と従
来のエツチング装置とのエツチング性能評価を、トーコ
ー810卓上オフセット印刷機を使用して装置のエツチ
ング能力及びエツチング液の疲労試験を行なった。また
、試験方法及び試験に用いた機材について示すと、まず
試験方法は次の通りでおる。
1)処理時間とエツチング能力試験 エツチング液を、各エツチング装置に投入し、均一な塗
布性能を確認後、ii!II像形成されたマスターを版
材とし、前記エツチング装置にて、処理時間(搬送速度
)を変化させエツチング処理後、オフセット印刷機にて
、2000枚の印刷を行ない、印刷物の仕上り(インキ
の汚れ画像の再現性)を評価する。
2)エツチング液の疲労度試験 各エツチング装置に、一定量のエツチング液(本試験で
は、11)を投入し、且つ、液補給装置を付設して、液
面のコントロールを施し、1日当り100版の画像形成
されたマスターを処理するという条件を、各エツチング
装置の搬送スピードの最適条件下で、5日間のランニン
グテストを行なう、又、エツチング液の疲労度を常時確
認する為に、50版処理毎に、オフセット印刷機にて、
2000枚の印刷を行ない、エツチング能力を評価し、
エツチング液の消費量とエツチング能力の関係からエツ
チング液11当りの最大処理可能版数を決める。
次に、試験に用いた機材は次の通りである。
1)印刷機・・・トーコー810卓上オフセット印刷機
。
2)版材及びエツチング液・・・看過製。
結果を下表に示す。
(注) 十干  優れる + 良好 ± 普通 −やや劣る −〜  非常に劣る 以上説明したように、本発明によればオフセットマスタ
ーのエツチング処理時間を短縮でき、また、エツチング
液の疲労を最小にでき、高速で均一なエツチング処理を
効率よく行なえる利点を有するエツチング装置が提供で
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るエツチング装置の断面図、第2図
は本発明の別の実施例を示す断面図、第3図は本発明の
さらに別の実施例を示す断面図である。 1・・・製版工程、2・・・オフセットマスター、2a
・・・版面、3・・・エツチング装置、4・・・がイド
版、5・・・第一エツチング工程、6・・・エツチング
処理液、7a、7b・・・エツチングローラ、8・・・
加熱処理工程、9・・・熱源、10・・・ガイド板51
1・・・熱しゃへい板、12・・・反射笠、13・・・
熱放出板、14・・・第二エツチング工程、15A、1
5B・・・処理液槽、16・・・連結ホース、17・・
・排紙シュート 18・・・印刷工程、19・・・搬送
ローラ。 (15) 手続補正書(自発) 昭和56年9月l 日 特許庁長官 島 1)春 樹 殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第119317号 2、発明の名称 エツチング装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 (018)岩崎通信機株式会社 4、代理人 住所 〒105東京都港区虎ノ門−丁目8番10号(外
3名) 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」Ω嘩 6、補正の内容 明細書第2頁第3行目、「画像部を親水面とする一方、
」を削除する。 以上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、オフセット印刷機に使用するオフセットマスターの
    版面をエツチングする装置において、エツチング装置の
    エツチング部を第一エツチング部と第二エツチング部に
    分割し、第−及び第二エツチング部の中間部に、熱源を
    付設した熱処理部を設け、前記第一エツチング部を通過
    したオフセットマスターを前記熱処理部に搬送して、エ
    ツチングされたオフセットマスターを熱処理した後、前
    記第二エツチング部に搬送して、再エツチングするよう
    にしたエツチング装置。
JP11931781A 1981-07-31 1981-07-31 エッチング装置 Granted JPS5820451A (ja)

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JP11931781A JPS5820451A (ja) 1981-07-31 1981-07-31 エッチング装置

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JP11931781A JPS5820451A (ja) 1981-07-31 1981-07-31 エッチング装置

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JPS5820451A true JPS5820451A (ja) 1983-02-05
JPS6219315B2 JPS6219315B2 (ja) 1987-04-27

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5938097A (ja) * 1982-08-28 1984-03-01 Tomoegawa Paper Co Ltd 平版印刷版のエツチング処理方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5938097A (ja) * 1982-08-28 1984-03-01 Tomoegawa Paper Co Ltd 平版印刷版のエツチング処理方法

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JPS6219315B2 (ja) 1987-04-27

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