JPH0476467B2 - - Google Patents

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JPH0476467B2
JPH0476467B2 JP61110086A JP11008686A JPH0476467B2 JP H0476467 B2 JPH0476467 B2 JP H0476467B2 JP 61110086 A JP61110086 A JP 61110086A JP 11008686 A JP11008686 A JP 11008686A JP H0476467 B2 JPH0476467 B2 JP H0476467B2
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JP
Japan
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liquid
roller
processing
gum
coating
Prior art date
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JP61110086A
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JPS62266542A (ja
Inventor
Kazunari Aoki
Shozo Ookuwa
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Publication date
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、処理液を塗布ローラにより感光材
料に塗布して処理する感光材料処理装置に関する
ものである。
[従来の技術] この種の感光材料処理装置として、例えば、露
光されたフイルム等の感光材料を、その装置本体
内部に設けられた処理部を通過するとき、処理液
を噴射して処理する自動現像機がある。また、露
光系を備えた装置として、例えば、IDカード作
成装置や、特願昭60−73010号に記載される装置
のように感光材料上に複写画像を形成する感光材
料複写方法を用いるものがある。
さらに、平版印刷版(一般的にはPS版が多く
用いられる)を現像処理した後、版上の非画像部
に残つたフイルムの合せ印や、その他の汚れ等を
消去液を使用し、印刷時に紙に汚れが出ないよう
に消去し、その後、水洗し、ガムコータで、手指
の油の付着や、空気中のホコリ、その他の油分の
付着を防止するために、ガム液を塗布する処理を
行なうものがある。これは平版印刷版が画像部の
親油正(疎水性)と、親水性(疎油性)であるこ
とを利用しているため、非画像部に油が付着する
と印刷時にその部分にインクが乗り、汚れとなる
ことを防止している。
このように感光材料に、現像液や、ガム液等の
処理液を塗布する手段として、例えば、ガムコー
タにおいては、第6図に示すように、装置本体8
0の処理部81には一対を搬送ローラ82と、塗
布ローラ83とが配置され、この両者の間には噴
射孔84aを有する液循環ノズル84が配置され
ている。この液循環ノズル84はホース85を介
して循環ポンプ86と連結され、処理部81の下
方に配置された処理液槽87に貯溜するガム液を
液循環ノズル84に圧送して、搬送ローラ82及
び塗布ローラ83方向へ噴射し、挿入台88から
挿入される平板印刷版89にガム液を塗布してい
る。この平版印刷版89は処理部81の後段に配
置された乾燥部90のガイドローラ91によつて
搬送され、この搬送中に温風吹出ノズル92で乾
燥し、モルトンローラ93を介して排出される。
ところで、このガム液を塗布するものでは液循
環ノズル84の噴射孔84aのピツチにより、液
が直接当つている所、搬送ローラ82及び塗布ロ
ーラ83で間接的に広げられる所があり、これに
より塗布ムラが発生することがある。
また、第7図に示すように、液循環ノズル84
から平版印刷版89に直接塗布し、塗布ローラ8
3で均一にならすものがあるが、塗布ローラ83
に付着したガム液が時間の経過により乾燥するこ
とがあり、時間間隔をおいて平版印刷版89が処
理される場合に塗布ムラが生じるおそれがある。
さらに、第8図に示すように、ゴムローラ94
にリード溝94aを周方向に設け、これを塗布ロ
ーラ83に接触して支持し、ゴムローラ94の下
側にガム液を貯溜する液バツト95を配置したも
のがある。このものはゴムローラ94のリード溝
94aにガム液を溜めて塗布ローラ83に導き、
塗布ローラ83から平版印刷版89に塗布してい
るが、リード溝94aのピツチで塗布ムラが生じ
ることがあり、またガム液の供給量が比較的少な
いため低速送りに用いられている。
また、第9図に示すように、リード溝94aを
有するゴムローラ94が塗布ローラ83に接触し
て配置され、この両者間に液供給バイブ96でガ
ム液を供給して液溜りを作り、ゴムローラ94の
リード溝94aからガム液を平版印刷版89に供
給して塗布ローラ83で均一にする。この場合に
はゴムローラ94のリード溝94aの大きさ、ピ
ツチ、深さ等によつては、液溜りができなくなつ
たり、オーバーフローすることがあり、ガム液の
供給量とのバランスがむずかしい。また、液溜り
を形成するため、低速送りの処理に用いられる傾
向にある。
さらに、第10図に示すように、下側に配置さ
れている塗布ローラ83を液バツト95のガム液
に漬け、平版印刷版89が搬送されないとき上側
に配置された塗布ローラ83に転写させ、この上
側塗布ローラ83により平版印刷版89に塗布す
るものがある。このものは、塗布ローラ83にモ
ルトン等のソフトなローラを用い、塗布ローラ8
3に含まれているガム液を平版印刷版89上に塗
布するため、画像部にキズが付くことを避けるよ
うに感光層を上向きにして処理するが、上側の塗
布ローラ83にガム液が連続的に供給されないの
で、平版印刷版89の先端部と末端部とではガム
液の膜厚が変化する。また、塗布ローラ83にソ
フトローラを使用することになり、薄塗りができ
ず高速処理には適当ではない。
[発明が解決がしようとする課題] このように、平版印刷版89にガム液を塗布す
る手段が種々用いられているが、平版印刷89に
均一に塗布することが困難で、塗布ムラが生じ
る。また、この種の塗布ローラ83での処理方式
によれば、低速処理から高速処理において、ガム
液を薄く均一に塗布することが難しい。
この発明はかかる背景に基づきなされたもの
で、低速処理から高速処理において、平版印刷版
等の感光材料に、ガム液等の処理液を薄く均一に
塗布できる感光材料処理装置を提供することを目
的としている。
[課題を解決するための手段] 前記課題を解決するためには、この発明は、処
理液を塗布ローラに導き、この塗布ローラにより
処理液を感光材料に塗布して処理する感光材料処
理装置において、前記処理液を一旦貯溜して前記
塗布ローラに供給する液供給手段を塗布ローラに
沿つて配置し、この液供給手段液はオーバフロー
する前記処理液を整流する規制ガイドと、この規
制ガイドで整流された処理液を前記塗布ローラの
表面に導く転写ローラとを有することを特徴とし
ている。
[作用] この発明では、処理液を一旦貯溜し、この処理
液が規制ガイドからオーバフローして整流され、
この整流された処理液は転写ローラで塗布ローラ
の表面に均一な膜状になつて導かれる。
このようにして、処理液は塗布ローラの表面に
導かれるため、塗布ローラのローラ表面上で均一
な膜状になり、この塗布ローラによつて処理液が
感光材料に塗布ムラなく塗布される。さらに、低
速処理において全面に円滑に塗布することができ
るとともに、高速処理において、十分な処理液が
塗布ローラに供給され、感光材料に塗布ムラが生
じることが軽減される。
[実施例] 以下、この発明をガムコータに適用した一実施
例を第1図及び第2図に基づいて詳細に説明す
る。1はガムコータを示し、このガムコータ1に
は処理部2と乾燥部3とが備えられている。
処理部2には一対の塗布ローラ4,5がそれぞ
れ水平に配置され、乾燥部3にはガイドローラ
6、一対のモルトンローラ7がそれぞれ水平に配
置されている。これらのローラ4,5,6,7で
挿入台8から搬入される感光材料である平版印刷
版9の搬送路が形成され、下側に配置された塗布
ローラ4,5、ガイドローラ6及びモルトンロー
ラ7のローラ軸部には図示しない駆動ギヤが設け
られ、駆動軸によつて連動して駆動されるように
なつている。
この搬送路の上側に位置する処理部2の上側塗
布ローラ4と塗布ローラ5との間には、塗布ロー
ラ4,5に沿つて液供給手段10が配置され、乾
燥部3のガイドローラ6とモルトンローラ7との
間には温風吹出ノズル11が配置されている。こ
の液供給手段10は液供給ノズル12と、液バツ
ト13、転写ローラ21とを有しており、この液
バツト13は塗布ローラ4,5の幅方向に沿つて
水平に配置され、この液バツト13にはパイプ状
の液供給ノズル12が塗布ローラ4,5と略平行
に配置されている。
液供給ノズル12の下側には軸方向に所定の間
隔で噴射孔12aが形成され、この液供給ノズル
12はホース14を介して循環ポンプ15と接続
され、この処理部2の下方に配置された処理液槽
16に貯溜するガム液が、循環ポンプ15の駆動
で圧送される。
液供給ノズル12から供給されるガム液は液バ
ツト13に一旦貯溜され、液バツト13の軸方向
と直交する方向の両側には塗布ローラ4及び塗布
ローラ5に近接して延びる規制ガイド13a,1
3bが形成されている。
この規制ガイド13a,13bは塗布ローラ4
及び塗布ローラ5と同一又はそれ以上の長さに形
成され、その先端が下方へ若干傾斜して、塗布ロ
ーラ4及び塗布ローラ5側が低くなるようにし、
ガム液が液バツト13の裏側につたわらないよう
に配慮されている。
規制ガイド13a,13bと塗布ローラ4及び
塗布ローラ5のローラ表面とは、例えば、1〜3
mm程度の間隔をもつて配置され、この間隔は締付
けボルト18を緩め、液供給ノズル12に対して
液バツト13を回動することにより、ガム液の粘
性に応じて自由に調整される。
塗布ローラ4と塗布ローラ5との間に配置され
た液バツト13は断面をV字状に形成され、この
液バツト13のプレート17の塗布ローラ4側の
端部にはブラケツト19が固定されている。この
ブラケツト19に形成された上下方向の長孔20
には転写ローラ21の両端に形成されたローラ軸
21aが軸受けされ、その範囲内では自由に移動
できるように拘束されている。転写ローラ21は
塗布ローラ4に自重で接触している。
液供給ノズル12には転写ガイド22の取付部
22aが回転可能に設けられ、この転写ガイド2
2の先端部22bは転写ローラ21に自重で接触
している。
従つて、塗布ローラ5には、液バツト13の規
制ガイド13aから整流されたガム液が供給され
る。
一方、塗布ローラ4には、液バツト13の表面
張力で盛り上がつたガム液が、規制ガイド13b
で整流され、かつ規制ガイド13bと転写ガイド
22との隙間の毛細管現像により転写ローラ21
に導かれる。そして、転写ローラ21に接する塗
布ローラ4のガム液は薄い均一な液膜として供給
され、塗布ローラ4の全面を均一にぬらす。
このようにして、塗布ローラ4はその全面が均
一にぬらされ、しかも必要以上にガム液が供給さ
れることがなくなる。従つて、塗布ローラ4の表
面の乾燥防止を行なうのに必要な微量のガム液の
供給を行なうのに最適である。
転写ガイド22は必要に応じて1箇所又はそれ
以上の箇所に配置してもよく、これにより、各種
の長さの異なる搬送ローラ4に対応することがで
きる。
さらに、ガム液の粘性に応じて、規制ガイド1
3bと転写ガイド22との間の間隔を必要に応じ
て適正に調整する。
例えば、この実施例においては、第4図に示す
ように、液バツト13を0点を中心にして時計方
向へ傾斜(第4図中N―N線に沿う位置からM―
M線に沿う位置に傾斜)する。これにより、規制
ガイド13bは規制ガイド13aによりDだけ高
くなるが、規制ガイド13bと転写ガイド22と
の間隙が狭くなり、毛細管現象による転写ローラ
21へのガム液の供給量が制御される。
このとき、転写ローラ21が規制ガイド13b
によつて持ち上げられるが、転写ローラ21のロ
ーラ軸21aは長孔20にガイドされて下側に落
込み、搬送ローラ4と接触した状態で塗布ローラ
4の周速と同調して回転する。
このため、塗布ローラ4及び塗布ローラ5は、
その表面が均一な液膜に包まれ、塗布ローラ4及
び塗布ローラ5の回転による搬送で平版印刷版9
の上側な塗布ムラなく、全面に均一に塗布するこ
とができる。
そして、この平版印刷版9は感光層が形成され
てない下側に配置されたガイドローラ6により送
られ、温風吹出ノズル11で温風を搬送される平
版印刷版9の表及び裏面に送る。そして、乾燥処
理の後、モルトンローラ7でスクイズして排出口
から排出される。
この稼動状態で、平版印刷版9を処理する時間
間隔が、たとえ長時間になつても、塗布ローラ4
及び塗布ローラ5の回転により、その表面にガム
液が導かれて均一にぬれているため、ガム液が表
面でかたまることによつて生じる塗布ムラの発生
が防止される。
また、ガム液の供給量は供給ノズル12の噴射
孔12aからの供給量によつて制御され、両者の
バランスをとることにより、少量のガム液の塗布
ローラ5への供給が可能である。
そして、平版印刷版9上において、その塗布ロ
ーラ5の手前に液溜りを作り、塗布ローラ5の回
転で均一にスクイズするようにすると、高速処理
を行なつても塗布ムラなく処理することができ
る。
なお、この実施例において、液供給ノズル12
の噴射孔12aの数及び位置等は任意に形成され
るが、規制ガイド13a,13bから供給される
ガム液に対流を発生させない位置にする。
さらに、液バツト13の断面形状も前記のもの
に限定されず、U字状または四角の箱状のもので
あつてもよい。
第5図は塗布ローラ4側の転写ローラ21に加
え、転写ローラ23を塗布ローラ5側に配置した
ものである。液供給ノズル12に支持された転写
ガイド24は、その先端部を転写ローラ21,2
3に自重で接触されている。
これにより、液バツト13に表面張力で盛り上
がつているガム液が、規制ガイド13aと転写ガ
イド24との間の隙間による毛細管現象により、
転写ローラ23に円滑に導かれ、転写ローラ23
に接する塗布ローラ5の全面を均一にぬらす。
さらに、この発明はガムコータにおけるガム液
の塗布に限定されず、例えば、自動現像機におい
てフイルムや印画紙へ、処理液を塗布して現像処
理する場合にも同様に適用される。
[発明の効果] 前記のように、この発明は、処理液を一旦貯溜
して塗布ローラに供給する液供給手段を塗布ロー
ラに沿つて配置し、この液供給手段液はオーバフ
ローする処理液を整流する規制ガイドと、この規
制ガイドで整流された処理液を塗布ローラの表面
に導く転写ローラとを有するから、一旦貯溜した
処理液が規制ガイドからオーバフローして整流さ
れ、この整流された処理液は転写ローラで塗布ロ
ーラの表面に均一な膜状になつて導かれる。
従つて、処理液は塗布ローラの表面に導かれる
ため、塗布ローラのローラ表面上で均一な膜状に
なり、この塗布ローラによつて処理液が感光材料
に塗布ムラなく塗布され、低速処理において全面
に円滑に塗布することができるとともに、高速処
理において十分な処理液が塗布ローラに供給さ
れ、感光材料に塗布ムラが生じることが軽減され
る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明を適用したガムコータの全体
概略図、第2図は要部拡大斜視図、第3図は要部
拡大斜視図、第4図は液バツトを調整した状態を
示す要部断面図、第5図は他の実施例の要部断面
図、第6図は従来のガムコータの全体概略図、第
7図乃至第10図は従来のガム液の塗布手段を示
す要部断面図である。 1……ガムコータ、2……処理部、3……乾燥
部、4,5……塗布ローラ、9……平版印刷版、
10……液供給手段、12……液ノズル、13…
…液バツト、13a,13b……規制ガイド、2
1……転写ローラ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 処理液を塗布ローラに導き、この塗布ローラ
    により処理液を感光材料に塗布して処理する感光
    材料処理装置において、前記処理液を一旦貯溜し
    て前記塗布ローラに供給する液供給手段を塗布ロ
    ーラに沿つて配置し、この液供給手段液はオーバ
    フローする前記処理液を整流する規制ガイドと、
    この規制ガイドで整流された処理液を前記塗布ロ
    ーラの表面に導く転写ローラとを有することを特
    徴とする感光材料処理装置。
JP11008686A 1986-05-14 1986-05-14 感光材料処理装置 Granted JPS62266542A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11008686A JPS62266542A (ja) 1986-05-14 1986-05-14 感光材料処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11008686A JPS62266542A (ja) 1986-05-14 1986-05-14 感光材料処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62266542A JPS62266542A (ja) 1987-11-19
JPH0476467B2 true JPH0476467B2 (ja) 1992-12-03

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ID=14526669

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JP11008686A Granted JPS62266542A (ja) 1986-05-14 1986-05-14 感光材料処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01200993A (ja) * 1988-02-05 1989-08-14 Fuji Photo Film Co Ltd ガム液塗布装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS453113Y1 (ja) * 1966-12-15 1970-02-10
JPS59181353A (ja) * 1983-03-31 1984-10-15 Fuji Photo Film Co Ltd 熱現像転写装置
JPS608498A (ja) * 1983-06-27 1985-01-17 Mitsubishi Electric Corp 風量制御装置

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JPS62266542A (ja) 1987-11-19

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