JPS58204599A - セラミツク多層回路基板の製造方法 - Google Patents

セラミツク多層回路基板の製造方法

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JPS58204599A
JPS58204599A JP8842782A JP8842782A JPS58204599A JP S58204599 A JPS58204599 A JP S58204599A JP 8842782 A JP8842782 A JP 8842782A JP 8842782 A JP8842782 A JP 8842782A JP S58204599 A JPS58204599 A JP S58204599A
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JP
Japan
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paste
flux
conductor
ceramic
circuit board
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JP8842782A
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JPS6238878B2 (ja
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秀次 桑島
矢吹 隆義
隆男 山田
上山 守
章三 山名
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Resonac Corp
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はセラミック多層回路基板の製造方法に関する。
従来でラミック多・斎回烙基板社、予め焼結さ几tセラ
ミック等板上lζ導体ペースト全印刷後。
、色嘩ペーストで印卯lし、これ全復数・司くり一叉し
て多層回路を形成しt希暁狡して型造゛〜でハたが、こ
の方法によると焼成の際に壱禄層は基板より収縮が犬で
あるためクラックが生じたり。
反りなどが発生する欠点があった。
この欠点を補うためセラミックグリーンンート(以下グ
リーンンートという)上に前述のごとく導体ペーストと
絶縁ペーストとを用いて多層回路を形成し、同時・焼成
する方法が試みちれ友が、この方法でも多層印刷した絶
縁ペーストが焼結される際にクラック、反りなどが発生
するという欠点があった。
さらに上記の欠点を捕う之め本発明者らは・貫々検討し
た結果、絶縁ペーストに含まするスラックスト同一のフ
ラックスで含有させた連成ペーストを用・ハて多重回・
洛を形成し、同時・焼゛iしてセラミック多層回路基板
全製造したところ。
クラック、反りなどの発生を防上することができた。し
かし反面、最外側の導体層のメタライズ部分の接着強度
が低下し、銀ろう付けしたリードビン、端子など、Vi
んだ付けしたチップ千ヤリアなどが刊雌するという欠截
が生じた、不発明(′i逆遣層にクラック、反ジなどの
発生がなく、かつ最外側の導体層のメタライズ部分の接
着強度が低下しないセラミック多層回路基板の製造方法
を提供することを目的とするものである。
本発明者らは上記欠点についてさらに検討を行なった結
果、最外側の導体層を形成する導体ペーストにはフラッ
クス成分を含有しない導体ペーストラ、内部の導体層(
スルホール部及び回路部)を形成する導率ペーストには
フラックス成分を含有する導体ペーストを使用したとこ
ろクラック、反りなどが発生せず、また銀ろう付けした
11−ドビン、端子など、はんだ付けしたチップキャリ
アなどが剥離しないセラミック多層回路基板全製造する
ことができた。
本発明は導体ペース17′9とセラミック質の絶縁ペー
ストとをグリーンシート上に複数回印刷し。
同時焼成してセラミック多層回路基板を製造する方法に
おいて、最外側の導体層を形成する導体ペーストにはフ
ラックス成分を含有しない導体ペーストを、内部の導体
層を形成する導体ペーストにはフラックス成分を含有す
る導体ペーストを使用するセラミック$層回v!r藁板
の羨遣方法に関する。
なお本発明においてセラミック質は何ら制限されるもの
ではなく1例えばアルミナが多く使用される。、またグ
リーンシートは厚さ、材質。
フラックスなど何ら制限されない。
本発明は最外側の導体層を形成する導体ペーストにはフ
ラックス成分金含有しない導体ペーストを、内部の導体
層を形喫する導体ペーストにはフラックス成分を含有す
る1体ペーストヲ使用することが必要であり、最べ側の
導体層全形成する導・本ベース)fフラックスを含有さ
せるとメタライズ部分の接着強度が低下する欠点が生じ
、まt内部の4本層を形成する導体ペーストにフラック
ス成分を含有させないと絶縁・−の焼結不達を1消する
ことI/iできず、不発明の目的を達成することはでき
ない8、 不発明における内部の導体層とは、スルーホール部支び
:回路部を示すS′Dでろり、使用されるフラックスは
7色繰ペーストに含有するフラックスと同一のものを使
用することが好ましく。
その含有量は何ら制限されるものではないが。
ペースト中に20重量係以下(O重昔係は含まない)含
有することが好ましい。
本発明において使用される導体ペーストの種類、印刷厚
さなど何ら制限されない。
以下実施例により本発明′6L:税男する。
実施例1 平均粒径2μmの高純度アルミナ(アルミナ純度99.
54以上)96.2重量部に稟1表に示すフラックス2
3.8重量部添加し均一に混合して原料粉Aとした。
この原料粉A100重量部にノくインダーとしてポリビ
ニルブチラール4L+W8重量部、可塑剤としてフタル
酸エステル4重1部、尋剤と1−でフ゛タノール20重
量部、トリクロルエチレン50重量部を添加し、ボール
ミルにて50時間均一に混合してセラミックスリップと
した着、テープギヤステインク法により、4さ0.8 
atのグリーンシートライ尋た。
一方前述のセラミックスリップをそのまま絶縁ペースト
として使用した。
次にW(タングステン)導体ペースト(アサヒ化学裏、
 商品名3TW−1000)90重量部に第1表に示す
フラックスを10重量部添加し乳iばちで均一に混合し
てフラックス入り導体ペーストを作成した。
欠いて前述のグリーンシートに直i0.3−φ)のスル
ーホールを形成した後このスルーホールにフラックス入
り導率ペーストk1M布し、さら&Cグ11−ンシート
の表、裏そ1ぞれにフラックス入り導体ペーストで回路
を形成(この状態の時グ1)−ンシートの表裏は導通さ
乳る)シ、その上部に前述の絶鐵ペース)t:30μm
の1厚さ、で印刷し、こ・D工程を表側4回、裏111
12回く9返し6層の多層同名を形成した後最外側の1
本・iにフラックス成分多含有しないW4体ペースト(
アサヒ化学型、商品名3TW−1000)を禽布した。
その後空気中で301) ’Cまで5 ′)’C−′−
#引υ昇、−希速ずで、−0楔し。
30θ°Cから、i*弐竿頬気中で39°C/時間の昇
温法′ずで1.10 ’1 ′C”、で昇・爆をぐてグ
11−ンンート、フラックス(す導体ペースE、フラッ
クス成4+を含有しない〜VJ本ペースト、及び職責ペ
ーストを同時・暁成しセラミック多、1可洛某坪を得た
こ))セラミック多・爾回絡$板について外観を更察し
たが絶縁層にクラック、反りなどは発世しなかった。ま
tメタライズ部分の端子−ヒにリードビンを張ろうで接
着したが 11−ドピノの剥離は生じなかった。
第 1 表 比較例1 メ1崩例1で使用したグリーンノート、7)スルーホー
ルにフラックス茂/+全含有しないW−4本ペースト(
アサヒ′ヒ学ツ、商品63T′V−1、))・〕)士1
布し4次いでグリーンノートの表、裏−C几ぞれに前述
と同じフラックス成分を含有しないW導体ペースト及び
実施例1で使用した絶縁ペーストを使用しその他は実施
例1と同僚の方法で6層の多層回路を形成した。このも
のを実施例1と同様の条件で焼成してセラミック多層回
路基板を得た。
このセラミック多層回路基板について外観を観察したと
ころスルーホール上の絶縁層にマイクロクラック、反り
などが発生した。ただしメタライズ部分の端子上にリー
ドビン’r%ろうで接着したが、リードビンの剥離は生
じなかった。
比較例2 最外側の導体層に実施例1で便用したフランクス入り導
体ペーストを使用し、その池は実施例1と同様の方法文
び条件でセラミック多層回路基板を得た。
このセラミック多重画・洛基板について外観を観察した
ところスルーホール上の砲禄鰯にマイクロクラック、反
りなどは発生しなフ1つたが、メタライズ部分の端子上
に・)−トビ/″−張ろう・対しtζころり−「゛ビ/
ノ):姦着唖I斐ンユ、長飛・川】の約504′て、唆
少し、:)−ドヒ゛ンンζ圧力士少しが灯t、iけでヨ
1離し之っ 本発明ri雇外1則の導体層・と形成する導体ペースト
にはフラックス成分全含有しない導体ペースト金、内部
の4体層を形成する4本ペーストシてはフラックス成分
を含有する導体ペースト全使用するので、絶縁層の焼結
不足が解消されクラック、反すなどの発生を青年にする
ことがでさると共に最外側の導体層のメタライズ部分の
接着強度が低下しないためリードビン、端子、チップキ
ャリアなどが剥離しないセラミック多1同名塞板を製造
することがでさる− 代理人 弁理士 若 林 几 彦 ギー)、) −Lノ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.41−<−ストとセラミック質の絶縁ペーストとを
    セラミックグリーンノート上に頂数回印刷し、同時焼成
    してセラミック多層同格基板全製造する方法において、
    最外側の導体層全形成する導体ペーストにはフラックス
    成分を含有しない導体ペーストラ、内部の導体層全形成
    する導体ペーストてはフラックス成分全含有する4本ペ
    ーストで使用することを特徴とするセラミック多層回路
    基板の製造方法。
JP8842782A 1982-05-25 1982-05-25 セラミツク多層回路基板の製造方法 Granted JPS58204599A (ja)

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JPS58204599A true JPS58204599A (ja) 1983-11-29
JPS6238878B2 JPS6238878B2 (ja) 1987-08-20

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ID=13942481

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5696794A (en) * 1979-12-29 1981-08-05 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Metalizing composition
JPS5782188A (en) * 1980-11-07 1982-05-22 Hitachi Ltd Metallizing paste

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5696794A (en) * 1979-12-29 1981-08-05 Matsushita Electric Industrial Co Ltd Metalizing composition
JPS5782188A (en) * 1980-11-07 1982-05-22 Hitachi Ltd Metallizing paste

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