JPS58210061A - 1−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その製造法および用途 - Google Patents
1−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その製造法および用途Info
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Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、優tた抗菌作用およびβ−ラクタマーゼ阻阻
害作用官有る新規なl−スルホ−2−オキソアゼチジン
誘導体、その製造法および用途に関するものである。
害作用官有る新規なl−スルホ−2−オキソアゼチジン
誘導体、その製造法および用途に関するものである。
従来より、2−オキソアゼチジン誘導体としては種々の
ものが合成さ肚報告さtている(たとえば、テトラヘト
C77(Tetrahedron)、第34巻(197
8)、1731〜1767頁、ケミカルレビューズ(C
hemical Reviews ) 、第76巻(1
976)、118〜346頁、ンンセシス(Synth
esis ) 、 1973年、827〜846頁等)
が、1位にスルホ基ン有し、かつ4位に置換基を有する
2−オキソアゼチジン誘導体は未だ知られていない。
ものが合成さ肚報告さtている(たとえば、テトラヘト
C77(Tetrahedron)、第34巻(197
8)、1731〜1767頁、ケミカルレビューズ(C
hemical Reviews ) 、第76巻(1
976)、118〜346頁、ンンセシス(Synth
esis ) 、 1973年、827〜846頁等)
が、1位にスルホ基ン有し、かつ4位に置換基を有する
2−オキソアゼチジン誘導体は未だ知られていない。
本発明は、1位にスルホ基を有する新規な式明細書の浄
書(内官に変更なし) 〔式中、Rは炭素原子において結合する有機残基を、R
1はアシル化されまたは保護されていてもよいアミン基
を、Xは水素原子またはメトキシ基を示す。〕で表わさ
れる1−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その塩
またはエステル、およびその製造法と用途に関するもの
である。
書(内官に変更なし) 〔式中、Rは炭素原子において結合する有機残基を、R
1はアシル化されまたは保護されていてもよいアミン基
を、Xは水素原子またはメトキシ基を示す。〕で表わさ
れる1−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その塩
またはエステル、およびその製造法と用途に関するもの
である。
〔式中の記号はrift記と同、[m)で表わされる化
合物、その塩またはエステルをスルホン化する、あるい
は式 〔式中の記号は11j記と同怠筏」で表わされる化合物
、その塩またはエステルをアシル化すると1−スルホ−
2−オキソアゼチジン誘導体(■)、その塩またはエス
テルが得られること、得られた化合物(I)またはその
塩が優れた抗菌活性およびβ−−ラクタマーゼ害作用を
有していることを見出し、これらに基づいて本発明を完
成した。即ち、本発明は、 (1)1−スルホ−2−オキソアゼチジン誘24体、そ
の塩またはエステル(I)、(2)化合物(■)、その
塩またはエステルをスルホン化することを特徴とする1
−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その塩または
エステルの製造法、(3)化合物(Ill)、その塩ま
たはエステルをアシル化することを特徴とする1−スル
ホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その塩またはエステ
ルの製造法に関する。
合物、その塩またはエステルをスルホン化する、あるい
は式 〔式中の記号は11j記と同怠筏」で表わされる化合物
、その塩またはエステルをアシル化すると1−スルホ−
2−オキソアゼチジン誘導体(■)、その塩またはエス
テルが得られること、得られた化合物(I)またはその
塩が優れた抗菌活性およびβ−−ラクタマーゼ害作用を
有していることを見出し、これらに基づいて本発明を完
成した。即ち、本発明は、 (1)1−スルホ−2−オキソアゼチジン誘24体、そ
の塩またはエステル(I)、(2)化合物(■)、その
塩またはエステルをスルホン化することを特徴とする1
−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その塩または
エステルの製造法、(3)化合物(Ill)、その塩ま
たはエステルをアシル化することを特徴とする1−スル
ホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その塩またはエステ
ルの製造法に関する。
前記式(I)、(n)、(lit)中Rで示される炭素
原子において結合する有機残基は、開基の炭素原子にお
いて2−オキソアゼチジンの4位と結合する。このよう
な有機残基としては、たとえばアルキル、シクロアルキ
ル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリー
ル、複素環基等が用いられ、これらは1〜数個の置換基
を有していてもよい。以後、本願明細書においては、「
置換基を有していてもよい」基の場合には基の右肩に*
を付して表わす。たとえば、「置換基を有していてもよ
いアルキル」を[アルキル当として表わす。この場合、
置換基の数は1個に限定されず、置換される基によって
は2〜数個の同一または相異なるIf候基を有していて
もよい。アルキルとしては、直鎖状捷たけ分校状の炭素
数1〜6の低級アルキルがよく、たとえばメチル、エチ
ル、n −プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソ
ブチル、東−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル
、イソペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシルナトが用
いられる。シクロアルキルとしては、炭素数3〜8のも
のが好壕しく、た吉えばシクロプロピル、ンクロプチル
、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、
アダマンチルなどが用いられる。アルケニルとしては、
直鎖状または分校状の炭素数2ないし6の低級アルケニ
ルがよく、タトエハビニル、アリル、イソプロペニル、
2−メタリル、2−ブテニル、3−ブテニルなどが用い
られる。アルギニルとしては、直鎖状または分校状の炭
素数2ないし6の低級アルキニルがよく、たトエハエチ
ニル、1−プロピニル、2−プロピニルなどが用いられ
る。シクロアルヶニルとしてU、i、lば1−シクロプ
ロペニル、1−シクロブテニル、1−シクロペンテニル
、2−シクロペンテニル、3−シクロペンテニル、l−
シクロヘキセニル、2−シクロヘキセニル、3−シクロ
ヘキセニル、1−syシクロプテニル、1.4−ンクロ
ヘギサジエニル等の炭素数3〜8のものが用いられ、と
りわけ炭素数4〜6のものが好ましい。
原子において結合する有機残基は、開基の炭素原子にお
いて2−オキソアゼチジンの4位と結合する。このよう
な有機残基としては、たとえばアルキル、シクロアルキ
ル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリー
ル、複素環基等が用いられ、これらは1〜数個の置換基
を有していてもよい。以後、本願明細書においては、「
置換基を有していてもよい」基の場合には基の右肩に*
を付して表わす。たとえば、「置換基を有していてもよ
いアルキル」を[アルキル当として表わす。この場合、
置換基の数は1個に限定されず、置換される基によって
は2〜数個の同一または相異なるIf候基を有していて
もよい。アルキルとしては、直鎖状捷たけ分校状の炭素
数1〜6の低級アルキルがよく、たとえばメチル、エチ
ル、n −プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソ
ブチル、東−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル
、イソペンチル、n−ヘキシル、イソヘキシルナトが用
いられる。シクロアルキルとしては、炭素数3〜8のも
のが好壕しく、た吉えばシクロプロピル、ンクロプチル
、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、
アダマンチルなどが用いられる。アルケニルとしては、
直鎖状または分校状の炭素数2ないし6の低級アルケニ
ルがよく、タトエハビニル、アリル、イソプロペニル、
2−メタリル、2−ブテニル、3−ブテニルなどが用い
られる。アルギニルとしては、直鎖状または分校状の炭
素数2ないし6の低級アルキニルがよく、たトエハエチ
ニル、1−プロピニル、2−プロピニルなどが用いられ
る。シクロアルヶニルとしてU、i、lば1−シクロプ
ロペニル、1−シクロブテニル、1−シクロペンテニル
、2−シクロペンテニル、3−シクロペンテニル、l−
シクロヘキセニル、2−シクロヘキセニル、3−シクロ
ヘキセニル、1−syシクロプテニル、1.4−ンクロ
ヘギサジエニル等の炭素数3〜8のものが用いられ、と
りわけ炭素数4〜6のものが好ましい。
アリールとしては、たとえばフェニル、α−ナフチル、
β−ナフチル、ビフェニル、アントリルなどが用いられ
るが、とりわけフェニル、ナフチルなどが繁用される。
β−ナフチル、ビフェニル、アントリルなどが用いられ
るが、とりわけフェニル、ナフチルなどが繁用される。
複素環基としては、たとえば窒素原子(オキシド化され
ていてもよい)、酸素原子、硫黄原子などのへテロ原子
を1〜数個含む5〜8員環またはその縮合環などで炭素
原子に結合手を有するものが用いられ、たとえば2−1
′には3−ピロリル、2−または3−フリル、2−また
は3−チェニル、2−または3−ピロリジニル、2−1
3−′または4−ピリジル、N−オキシド−2−13−
またば4−ピリジル、2−13−または4−ピペリジニ
ル、2−13−または4−ピラニル、’2−13−4た
は4−チオピラニル、ピラジニル、2−14−または5
−チアゾリル、2−14−または5−オキサシリル、3
−14−または5−イソチアゾリル、3−14−または
5−イソオキサシリル、2−14−または5−イミダゾ
リル、3−14−または5−ピラゾリル、3−または4
−ピリダジニル、N−オキシド−3−まだは4−ピリダ
ジニル、2−54−または5−ピリミジニル、N−オキ
シド−2−14−または5−ピリミジニル、ピペラジニ
ル、4−゛また1d5−(1゜2.3−チアジアゾリル
)、3−または5−(1゜2.4−チアジアゾリル)、
1,3.4−チアジアゾリル、1,2.5−チアジアゾ
リル、4−または5−(1,2,3−オキサジアゾリル
)、3−または5−(1,2,4−オキサジアゾリル)
、1.3.4−オキサジアゾリル、1,2.5−オキサ
ジアゾリル、1,2.3−または1,2.4−トリアゾ
リル、IHまたは2H−テトラゾリル、ピリド(2,3
−d)ピリミジル、ベンゾピラニル、1.8−.1.5
−.1.6−.1.7−。
ていてもよい)、酸素原子、硫黄原子などのへテロ原子
を1〜数個含む5〜8員環またはその縮合環などで炭素
原子に結合手を有するものが用いられ、たとえば2−1
′には3−ピロリル、2−または3−フリル、2−また
は3−チェニル、2−または3−ピロリジニル、2−1
3−′または4−ピリジル、N−オキシド−2−13−
またば4−ピリジル、2−13−または4−ピペリジニ
ル、2−13−または4−ピラニル、’2−13−4た
は4−チオピラニル、ピラジニル、2−14−または5
−チアゾリル、2−14−または5−オキサシリル、3
−14−または5−イソチアゾリル、3−14−または
5−イソオキサシリル、2−14−または5−イミダゾ
リル、3−14−または5−ピラゾリル、3−または4
−ピリダジニル、N−オキシド−3−まだは4−ピリダ
ジニル、2−54−または5−ピリミジニル、N−オキ
シド−2−14−または5−ピリミジニル、ピペラジニ
ル、4−゛また1d5−(1゜2.3−チアジアゾリル
)、3−または5−(1゜2.4−チアジアゾリル)、
1,3.4−チアジアゾリル、1,2.5−チアジアゾ
リル、4−または5−(1,2,3−オキサジアゾリル
)、3−または5−(1,2,4−オキサジアゾリル)
、1.3.4−オキサジアゾリル、1,2.5−オキサ
ジアゾリル、1,2.3−または1,2.4−トリアゾ
リル、IHまたは2H−テトラゾリル、ピリド(2,3
−d)ピリミジル、ベンゾピラニル、1.8−.1.5
−.1.6−.1.7−。
2.7−または2,6−ナフチリジル、ギノリル、ナエ
ノ〔2,3−b)ピリジルなどが繁用される。
ノ〔2,3−b)ピリジルなどが繁用される。
とりわけ、窒素原子、硫黄原子を1〜4個含む5.6員
複素環基、たとえばチェニル、チアゾリル、チアジアゾ
リル、トリアゾリル、テトラゾリルなどが好ましい。
複素環基、たとえばチェニル、チアゾリル、チアジアゾ
リル、トリアゾリル、テトラゾリルなどが好ましい。
これらのうちアルキル、アルケニル、アルギニ* −
ルは、たとえばシクロアルキル、シクロアルケニル九ア
リールi複素環基iアルコキンカルボニル、アンル、オ
キソ、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、ア
リールオキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ、ヒ
ドロキシスルホニルオキシ、アリールスルホニルオキシ
、アリールスルホニルオキシ、ニトロ、アミノ、カルボ
キン、アミノカルボニル、アルギルチオカルボニル、メ
ルカプト、アルキルチオ、アミノアルキルチオ、アシル
アミノアルキルチオ、アラルキルチオ、アリールチオ1
、 * 複素環チオ、第四級アンモニウムなどにより1〜3個置
換されていてもよい。置換されたアルキル基は、たとえ
ば式 %式% 〔式中、nはOないし3の整数を、R2、R3は同一ま
たは異なって水素原子、アルキル、シクロアルキノ5、
アラルキノコ、アリ−/L”、複素環I、アルコキシカ
ルボニル、アシル1−またはR2トR3が一緒になって
オキソを、R4は水素原子、アルキル、シクロアルキノ
ー、アリ、−1諜素環諺ハロゲン、シアン、ヒドロキシ
、アルコキシ、′アリー)誇オギシ、アラルキノ5オギ
シ、アシルオキシ、カルバモイルオキン、ヒドロキシス
ルホニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、ア!J
−/IFスルホニルオギシ、スルホオキシ、ニトロ、ア
ミノ、アジド、カルボキシ、アルコキシカルボニル、ア
ルコキシカルボニルアルキルオキシ、アミノカルボニル
、アルキルチオカルボニル、アシル、メルカプト、アル
キルチオ、アミノアルキルチオ、アン* ルアミノアルキルチオ、アラルキルチオ、アリ−*** ルテオ、複素環チオ、第四級アンモニウムを示す。〕で
表わされるものも用いられる。
リールi複素環基iアルコキンカルボニル、アンル、オ
キソ、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、アルコキシ、ア
リールオキシ、アシルオキシ、カルバモイルオキシ、ヒ
ドロキシスルホニルオキシ、アリールスルホニルオキシ
、アリールスルホニルオキシ、ニトロ、アミノ、カルボ
キン、アミノカルボニル、アルギルチオカルボニル、メ
ルカプト、アルキルチオ、アミノアルキルチオ、アシル
アミノアルキルチオ、アラルキルチオ、アリールチオ1
、 * 複素環チオ、第四級アンモニウムなどにより1〜3個置
換されていてもよい。置換されたアルキル基は、たとえ
ば式 %式% 〔式中、nはOないし3の整数を、R2、R3は同一ま
たは異なって水素原子、アルキル、シクロアルキノ5、
アラルキノコ、アリ−/L”、複素環I、アルコキシカ
ルボニル、アシル1−またはR2トR3が一緒になって
オキソを、R4は水素原子、アルキル、シクロアルキノ
ー、アリ、−1諜素環諺ハロゲン、シアン、ヒドロキシ
、アルコキシ、′アリー)誇オギシ、アラルキノ5オギ
シ、アシルオキシ、カルバモイルオキン、ヒドロキシス
ルホニルオキシ、アルキルスルホニルオキシ、ア!J
−/IFスルホニルオギシ、スルホオキシ、ニトロ、ア
ミノ、アジド、カルボキシ、アルコキシカルボニル、ア
ルコキシカルボニルアルキルオキシ、アミノカルボニル
、アルキルチオカルボニル、アシル、メルカプト、アル
キルチオ、アミノアルキルチオ、アン* ルアミノアルキルチオ、アラルキルチオ、アリ−*** ルテオ、複素環チオ、第四級アンモニウムを示す。〕で
表わされるものも用いられる。
上記、アルキル、アルケニルおよびアルキニルの置換基
、さらにR2、R3、R4で表わされる基において、ア
ルコキシとしては、直鎖状゛または分校状の炭素数1〜
6の低級アルコキシが好ましく、たとえばメトキシ、エ
トキシ、n−プロポキシ、イソプロポキン、n−ブトキ
シ、インブトキシ、渡−ブトキシ、tert−ブトキシ
、n−ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、n−へキ
シルオキシ、イソへキシルオキシなどが用いられる。ア
ラルキルとしては、たとえばベンジル、フェネチル、フ
ェニルプロピル、ナフチルメチルナトカ用いられる。ハ
ロゲンとしては、フッ素、41、臭素、ヨウ素が用いら
れる。第4級アンモニウム基としては、たとえばピリジ
ン、ニコチン酸アミドまたはイソニコチン酸アミドなど
のカルバモイル基置侯ピリジン、ニコチン酸またはイソ
ニコチン酸などのカルボギシル基置換ピリジン、ピリジ
ンスルホン酸などのスルホン酸基M換ピリジンなどのピ
リジン誘導体から導かれる一般式 〔式中、Wは水素原子、メチル基、カルバモイル基、カ
ルボキシ基、スルホン酸基またはメトキシ基を示す。〕
などで表わされる第4級アンモニウム基またはキノリニ
ウムなどが用いられる。これらの第4級アンモニウム基
は、2−オキシアゼチジンのl立スルホ基と分子内塩を
形成し得る。アシル基としては、たとえばホルミル、ア
ルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカ
ルボニル、腹素壊ホνセチルなどのほか、下記のR1に
おけるアシル基などが用いられる。とりわけ、たとえば
アセナル、プロピオニル、l)−ブチリル、イソブナリ
ル、0−ペンタノイル、]]−ヘキサノイルなどの炭素
数1ないし6のアルキルカルボニル基、タトエハヘンゾ
イル、4−ヒドロキシベンゾイル、4−メトキンベンゾ
イルなどの置換基を有していてもよいベンゾイル基、た
とえばフェニルアセチル、4−ヒドロキシフェニルアセ
チル、4−メトキシフェニルアセチルなどの置換基を有
していてもよいI#累数7ないし9のアラルキルカルボ
ニル基、たとえば2−チェニルカルボニル、2−フリル
カルボニル、2− 、44−ktd、5−fアゾリルア
セチル、2−または3−チェニルアセチル、2−または
3−フリルアセチル、2−アミノ−4または5−ナアゾ
リルアセチルなどの置換基を有していてもよい酸素原子
、窒素原子、硫黄原子の少なくとも1つを含有する5員
夏素環カルボニルまたはアセチル基などが用いられる。
、さらにR2、R3、R4で表わされる基において、ア
ルコキシとしては、直鎖状゛または分校状の炭素数1〜
6の低級アルコキシが好ましく、たとえばメトキシ、エ
トキシ、n−プロポキシ、イソプロポキン、n−ブトキ
シ、インブトキシ、渡−ブトキシ、tert−ブトキシ
、n−ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、n−へキ
シルオキシ、イソへキシルオキシなどが用いられる。ア
ラルキルとしては、たとえばベンジル、フェネチル、フ
ェニルプロピル、ナフチルメチルナトカ用いられる。ハ
ロゲンとしては、フッ素、41、臭素、ヨウ素が用いら
れる。第4級アンモニウム基としては、たとえばピリジ
ン、ニコチン酸アミドまたはイソニコチン酸アミドなど
のカルバモイル基置侯ピリジン、ニコチン酸またはイソ
ニコチン酸などのカルボギシル基置換ピリジン、ピリジ
ンスルホン酸などのスルホン酸基M換ピリジンなどのピ
リジン誘導体から導かれる一般式 〔式中、Wは水素原子、メチル基、カルバモイル基、カ
ルボキシ基、スルホン酸基またはメトキシ基を示す。〕
などで表わされる第4級アンモニウム基またはキノリニ
ウムなどが用いられる。これらの第4級アンモニウム基
は、2−オキシアゼチジンのl立スルホ基と分子内塩を
形成し得る。アシル基としては、たとえばホルミル、ア
ルキルカルボニル、アリールカルボニル、アラルキルカ
ルボニル、腹素壊ホνセチルなどのほか、下記のR1に
おけるアシル基などが用いられる。とりわけ、たとえば
アセナル、プロピオニル、l)−ブチリル、イソブナリ
ル、0−ペンタノイル、]]−ヘキサノイルなどの炭素
数1ないし6のアルキルカルボニル基、タトエハヘンゾ
イル、4−ヒドロキシベンゾイル、4−メトキンベンゾ
イルなどの置換基を有していてもよいベンゾイル基、た
とえばフェニルアセチル、4−ヒドロキシフェニルアセ
チル、4−メトキシフェニルアセチルなどの置換基を有
していてもよいI#累数7ないし9のアラルキルカルボ
ニル基、たとえば2−チェニルカルボニル、2−フリル
カルボニル、2− 、44−ktd、5−fアゾリルア
セチル、2−または3−チェニルアセチル、2−または
3−フリルアセチル、2−アミノ−4または5−ナアゾ
リルアセチルなどの置換基を有していてもよい酸素原子
、窒素原子、硫黄原子の少なくとも1つを含有する5員
夏素環カルボニルまたはアセチル基などが用いられる。
そして、アルキルスルホニルオキシ、アルキルチオカル
ボニル、アルキルチオ、アミノアルキルチオ、アンルア
ミノアルキルチオおよびアルコキシカルボニルアルキル
オキシ基におけるアルキルと、アルコキシカルボニルお
よびアルコキシカルボニルアルキルオキシ基におけるア
ルコキシと、アシルオキシおよびアンルアミノアルキル
チオ基におけるアシルは、前記と同意義を有している。
ボニル、アルキルチオ、アミノアルキルチオ、アンルア
ミノアルキルチオおよびアルコキシカルボニルアルキル
オキシ基におけるアルキルと、アルコキシカルボニルお
よびアルコキシカルボニルアルキルオキシ基におけるア
ルコキシと、アシルオキシおよびアンルアミノアルキル
チオ基におけるアシルは、前記と同意義を有している。
また、シクロアルキル、シクロアルケニル、アラルキル
、アリール、複素環基、第4級アンモニウムの置換基と
しては、たとえばアルキル、アルコキシ、アルケニル、
アリール、アラルキル、メルカプト、アルギルチオ、ア
リールチオ、アラルキルチオ、アルギルスルホニル、ア
リールスルホニル、アラルギルスルホニル、トリハロゲ
ノアルキル、ヒドロキシ、オキソ、チオキソ、ハロゲン
、ニトロ、アミノ、シアノ、カルバ七イル、カルボキシ
、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、ヒドロキシア
ルキル、カルボキシアルキル、ハロゲノアルキル、モノ
またはジアルキルアミノアルキルなどが用いられる(こ
こにおけるアルキル、アルコキシ、アルケニル、アリー
ル、アラルキル、アシル、ハロゲンは前記のごときもの
である)。
、アリール、複素環基、第4級アンモニウムの置換基と
しては、たとえばアルキル、アルコキシ、アルケニル、
アリール、アラルキル、メルカプト、アルギルチオ、ア
リールチオ、アラルキルチオ、アルギルスルホニル、ア
リールスルホニル、アラルギルスルホニル、トリハロゲ
ノアルキル、ヒドロキシ、オキソ、チオキソ、ハロゲン
、ニトロ、アミノ、シアノ、カルバ七イル、カルボキシ
、アシル、アシルオキシ、アシルアミノ、ヒドロキシア
ルキル、カルボキシアルキル、ハロゲノアルキル、モノ
またはジアルキルアミノアルキルなどが用いられる(こ
こにおけるアルキル、アルコキシ、アルケニル、アリー
ル、アラルキル、アシル、ハロゲンは前記のごときもの
である)。
目11記Rで示される炭素原子において結合する有機残
基中にアミン基がある場合には、そのアミン基は置換ま
たは保護されていてもよく、カルボキシル基、ヒドロキ
シル基がある場合にはこれらも保護されていてもよい。
基中にアミン基がある場合には、そのアミン基は置換ま
たは保護されていてもよく、カルボキシル基、ヒドロキ
シル基がある場合にはこれらも保護されていてもよい。
アミノ基の置換基としては、たとえば後記R1における
アシル、アルコキシ、アルキル、ヒドロキシアルキル、
アラルギル、アリール*、複素環基iスルホン酸基、ア
ルキルス* ルホニル、 アラルギルスルホニル ホニル、アルコキシカルボニル、アラルギルオキシカル
ボニル、アリール5キシカルボニルなどが用いられる(
ここにおいてアルギル、アルコキシ、アフルキノ譜、ア
リーノσ、複素環Iは前記のごときものが用いられる)
。さらにこのような置換基と共に、たとえばピロリジノ
、ピペリジノ、モルホリノ、ピペラジノなどの環状アミ
ノ基をJIJltしていてもよい。アミノ基の保護基と
しては、たとえば後記R1 における「アミノ基の保−
基」などが用いられる。カルボキシル基の保護基として
は、β−ラクタムおよび有機化学の分野で通常カルボキ
シル基の保護基として使用し得るものはすべて利用でき
、たとえばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、 tert−ブチル、tert−アミル、ベンシル
、p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジル、ペンツ
ヒトリール、フェナシル、フェニル、p−ニトロフェニ
ル、メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキシ
メチル、アセトキシメチル、ピパロイルオキシメチル、
β−メチルスルホニルエチル、β−トリメチルシリルエ
チル、メチルチオメチル、トリチル、β、β、β−トリ
クロロエチル、β−ヨードエチル、トリメチルシリル、
ジメチルシリル、アセチルメチル、p−二トロペンゾイ
ルメチル、p−メンルペンゾイルメチル、フタルイミド
メチル、プロピオニルオキシメチル、1、1−ジメチル
プロピル、3−メチル−3−ブテニル、サクシンイミド
メチル、3、5−シtert−7”fルー4−ヒドロキ
シベンジル、メシルメチル、ペンセンスルホニルメチル
、フェニルチオメチル、ジメナルアミノエチル、ピリジ
ン−1−オキサイド−2−メチル、メチルスルフィニル
メチル、ビスCp−メトキシフェニル)メチル、2−シ
アノ−1.1−ジメチルエチル等のエステル残基、シリ
ル尽などが用いられる。ヒドロキシル基の保護基として
は,β−ラクタムおよび有機化学の分野で通常ヒドロキ
シル基の保護基としてイ史用し得るものはすべて利用で
き、たとえばアセチル、クロロアセチルなどのエステル
残基、β、β、βートリクロロエトギシカルボニル、β
−トリメチルシリルエトキシカルボニルなどのエステル
化されたカルボキシル基, tert−ブチル、ペンシ
ル、p−ニトロペンシル、トリチル、メチルチオメチル
、β−メトキシエトキシメチルなどのエーテル残基、ト
リメチルシリル、 tert−ブチルジメチルシリルな
どのシリルエーテル残基、2−テトラヒドロビフニル、
4−メトキシ−4−テトフヒドロビラニルなどのアセタ
ール残基などが用いられる。前記保護基の選択は、本発
明においてはアミノ基、カルボキシル基の保護基と同様
、特に限定されるものではない。
アシル、アルコキシ、アルキル、ヒドロキシアルキル、
アラルギル、アリール*、複素環基iスルホン酸基、ア
ルキルス* ルホニル、 アラルギルスルホニル ホニル、アルコキシカルボニル、アラルギルオキシカル
ボニル、アリール5キシカルボニルなどが用いられる(
ここにおいてアルギル、アルコキシ、アフルキノ譜、ア
リーノσ、複素環Iは前記のごときものが用いられる)
。さらにこのような置換基と共に、たとえばピロリジノ
、ピペリジノ、モルホリノ、ピペラジノなどの環状アミ
ノ基をJIJltしていてもよい。アミノ基の保護基と
しては、たとえば後記R1 における「アミノ基の保−
基」などが用いられる。カルボキシル基の保護基として
は、β−ラクタムおよび有機化学の分野で通常カルボキ
シル基の保護基として使用し得るものはすべて利用でき
、たとえばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、 tert−ブチル、tert−アミル、ベンシル
、p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジル、ペンツ
ヒトリール、フェナシル、フェニル、p−ニトロフェニ
ル、メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキシ
メチル、アセトキシメチル、ピパロイルオキシメチル、
β−メチルスルホニルエチル、β−トリメチルシリルエ
チル、メチルチオメチル、トリチル、β、β、β−トリ
クロロエチル、β−ヨードエチル、トリメチルシリル、
ジメチルシリル、アセチルメチル、p−二トロペンゾイ
ルメチル、p−メンルペンゾイルメチル、フタルイミド
メチル、プロピオニルオキシメチル、1、1−ジメチル
プロピル、3−メチル−3−ブテニル、サクシンイミド
メチル、3、5−シtert−7”fルー4−ヒドロキ
シベンジル、メシルメチル、ペンセンスルホニルメチル
、フェニルチオメチル、ジメナルアミノエチル、ピリジ
ン−1−オキサイド−2−メチル、メチルスルフィニル
メチル、ビスCp−メトキシフェニル)メチル、2−シ
アノ−1.1−ジメチルエチル等のエステル残基、シリ
ル尽などが用いられる。ヒドロキシル基の保護基として
は,β−ラクタムおよび有機化学の分野で通常ヒドロキ
シル基の保護基としてイ史用し得るものはすべて利用で
き、たとえばアセチル、クロロアセチルなどのエステル
残基、β、β、βートリクロロエトギシカルボニル、β
−トリメチルシリルエトキシカルボニルなどのエステル
化されたカルボキシル基, tert−ブチル、ペンシ
ル、p−ニトロペンシル、トリチル、メチルチオメチル
、β−メトキシエトキシメチルなどのエーテル残基、ト
リメチルシリル、 tert−ブチルジメチルシリルな
どのシリルエーテル残基、2−テトラヒドロビフニル、
4−メトキシ−4−テトフヒドロビラニルなどのアセタ
ール残基などが用いられる。前記保護基の選択は、本発
明においてはアミノ基、カルボキシル基の保護基と同様
、特に限定されるものではない。
有4S残基Rは、上記式[A)で表わされる基であって
、R2 およびR3 が共に水素原子を示す時R4は水
素原子,アルギル(特に、直鎖状のアルキル)基以外の
基を、R2, R3の一方が水素原子を他方がアルキル
(特に、直鎖状のアルキル)基を、そしてnが0を示す
時R4は水素原子以外の基を示す場もある。
、R2 およびR3 が共に水素原子を示す時R4は水
素原子,アルギル(特に、直鎖状のアルキル)基以外の
基を、R2, R3の一方が水素原子を他方がアルキル
(特に、直鎖状のアルキル)基を、そしてnが0を示す
時R4は水素原子以外の基を示す場もある。
0
〔式中、nは前記と同意義を、R2、R3は同一または
異なって水素原子またはアルキルをまたは2/とR3′
が一緒になってオキソを、R4′は水素原子、アルキル
、アリール、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、アルコキ
シ、アラルキルオキシ、アシルオキシ、カルバモイルオ
キシ、アルキルスルホニルオキシ、スルホオキシ、置換
またはk[されていてもよいアミン、アジド、保護され
ていてもよいカルボキシ、アルコキシカルボニル、アル
コキシカルボニルアルキルオキシ、アルキルチオ、複素
壊チオまたは第四級アンモニウムを示す。但し、R2′
および3/が共に水素原子を示す時R4′は水素原子、
アルギル(特に、直鎖状アルギル)基以外の基を、R2
′、R3′の一方が水素114子を他方がアルキル(特
に、直鎖状アルギル)基を、そしてnが00時R4”
は水素原子以外の基を示す〕で表わされる基などであっ
て、なかでも式(A)、〔B〕中(1) R2とR3、
R2’とR3′が一緒になってオキソを示し、R4、R
4が置換または保護されていてもよいアミン基を示す場
合、即ち、式 〔式中、C3、C4は同一または異なって水素原子;ア
ルキル;アルコキシ;アミノ;アラルキノ5;アリール
*im素IJ基41スルホ石アルキルスルホニル;アラ
ルキルスルホニル;アリールスルホニル;アルコギシ力
ルボニル;アヲルギノーオキシカルボニル:アリ−ノー
オキシカルボニルを後記R1で述べるごときアシルまた
は保護基を示す〕で表わされる基好ましくは式 〔式中 C3’ 、C4’は同一または異なって水素j
息子、アルキル(C1−6)、アルコキシ(C1,)、
アミン、カルボキシアルキル(C,、)、カルバモイル
アルキル(C1−6)、ハロゲンで置換されていてもよ
いアルキル(C□−6)カルボニル、スルホ、フェニル
、ベンゾイル、p−ニトロペンジルオキシカルボニルま
たはβ−アルギル(C1−6)スルホニルアルコキシ(
01〜6)カルボニル基ヲ示す〕で表わされる基であり
、具体的には、カルバモイル、モノまたはジアルキル(
Cニー。)カルバモイル、フェニルカルバモイル、スル
ホカルバモイル、アルコキシ(C)カルバモイル、カ−
6 ルポキシアルキル(Cエーロ)カルバモイルなど、(2
) R” とR3,R〆 とR3′が一緒になってオ
キソを示し、R4、R4’がヒドロキシ、アルコキシ、
本 アリールオキシ、アラルキルオキシまたはアルコキシ力
ルポニルアルキルオギシ基を示す場合、即ち、式 %式% 〔式中、C5は保護されていてもよいヒドロキシ、アル
コキシ、置換されていてもよいアリールオキシ、置換さ
れていてもよいアラルキルオキシまたはアルコキシカル
ボニルアルキルオキ7基ヲ示ス〕で表わされる基、好壕
しくは式 %式% 〔式中、C5′はアルコキシ(C1−6)、p−ニトロ
ベンジルオキシまタハアルコキシ(C1−6)カルボニ
ルアルキル(C1−6)オキン基を示す〕で表わされる
基、 (3) R” とR3、R2とR3′が共に水素原子
を示す場合、たとえば式 %式% 〔式中、mは1ないし4の整数を、X は−NH−1−
S−1−〇−または結合手を、C6は水素原子、カルバ
モイル、置換されていてもよいアシル、アルキル、置換
されていてもよい複索環基または保護されていてもよい
カルボキシ基を示す〕で表わされる基など、とシわけ式 %式% 〔式中、m、X’ は前記と同意義を、Q♂はハロゲ
ンで置換されていてもよいアルキル(C1−6)カルボ
ニル1アルキル(Cxa)iベンソイル:アルキル(C
1−6)で置換されていてもよい5または6員含窒素複
素環基(たとえばピロリル、チアゾリル、チアジアゾリ
ル、ジアゾリル、オキサシリル、オキサジアゾリル、ト
リアゾリル、テトラゾリルなど);またはアルキル(C
1−6)で置換されていてもよい5または6員含窒素複
素環基を示す〕で表わされる基など、が好んで用いられ
る。
異なって水素原子またはアルキルをまたは2/とR3′
が一緒になってオキソを、R4′は水素原子、アルキル
、アリール、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシ、アルコキ
シ、アラルキルオキシ、アシルオキシ、カルバモイルオ
キシ、アルキルスルホニルオキシ、スルホオキシ、置換
またはk[されていてもよいアミン、アジド、保護され
ていてもよいカルボキシ、アルコキシカルボニル、アル
コキシカルボニルアルキルオキシ、アルキルチオ、複素
壊チオまたは第四級アンモニウムを示す。但し、R2′
および3/が共に水素原子を示す時R4′は水素原子、
アルギル(特に、直鎖状アルギル)基以外の基を、R2
′、R3′の一方が水素114子を他方がアルキル(特
に、直鎖状アルギル)基を、そしてnが00時R4”
は水素原子以外の基を示す〕で表わされる基などであっ
て、なかでも式(A)、〔B〕中(1) R2とR3、
R2’とR3′が一緒になってオキソを示し、R4、R
4が置換または保護されていてもよいアミン基を示す場
合、即ち、式 〔式中、C3、C4は同一または異なって水素原子;ア
ルキル;アルコキシ;アミノ;アラルキノ5;アリール
*im素IJ基41スルホ石アルキルスルホニル;アラ
ルキルスルホニル;アリールスルホニル;アルコギシ力
ルボニル;アヲルギノーオキシカルボニル:アリ−ノー
オキシカルボニルを後記R1で述べるごときアシルまた
は保護基を示す〕で表わされる基好ましくは式 〔式中 C3’ 、C4’は同一または異なって水素j
息子、アルキル(C1−6)、アルコキシ(C1,)、
アミン、カルボキシアルキル(C,、)、カルバモイル
アルキル(C1−6)、ハロゲンで置換されていてもよ
いアルキル(C□−6)カルボニル、スルホ、フェニル
、ベンゾイル、p−ニトロペンジルオキシカルボニルま
たはβ−アルギル(C1−6)スルホニルアルコキシ(
01〜6)カルボニル基ヲ示す〕で表わされる基であり
、具体的には、カルバモイル、モノまたはジアルキル(
Cニー。)カルバモイル、フェニルカルバモイル、スル
ホカルバモイル、アルコキシ(C)カルバモイル、カ−
6 ルポキシアルキル(Cエーロ)カルバモイルなど、(2
) R” とR3,R〆 とR3′が一緒になってオ
キソを示し、R4、R4’がヒドロキシ、アルコキシ、
本 アリールオキシ、アラルキルオキシまたはアルコキシ力
ルポニルアルキルオギシ基を示す場合、即ち、式 %式% 〔式中、C5は保護されていてもよいヒドロキシ、アル
コキシ、置換されていてもよいアリールオキシ、置換さ
れていてもよいアラルキルオキシまたはアルコキシカル
ボニルアルキルオキ7基ヲ示ス〕で表わされる基、好壕
しくは式 %式% 〔式中、C5′はアルコキシ(C1−6)、p−ニトロ
ベンジルオキシまタハアルコキシ(C1−6)カルボニ
ルアルキル(C1−6)オキン基を示す〕で表わされる
基、 (3) R” とR3、R2とR3′が共に水素原子
を示す場合、たとえば式 %式% 〔式中、mは1ないし4の整数を、X は−NH−1−
S−1−〇−または結合手を、C6は水素原子、カルバ
モイル、置換されていてもよいアシル、アルキル、置換
されていてもよい複索環基または保護されていてもよい
カルボキシ基を示す〕で表わされる基など、とシわけ式 %式% 〔式中、m、X’ は前記と同意義を、Q♂はハロゲ
ンで置換されていてもよいアルキル(C1−6)カルボ
ニル1アルキル(Cxa)iベンソイル:アルキル(C
1−6)で置換されていてもよい5または6員含窒素複
素環基(たとえばピロリル、チアゾリル、チアジアゾリ
ル、ジアゾリル、オキサシリル、オキサジアゾリル、ト
リアゾリル、テトラゾリルなど);またはアルキル(C
1−6)で置換されていてもよい5または6員含窒素複
素環基を示す〕で表わされる基など、が好んで用いられ
る。
式〔C〕で表わされる基の具体例としては、たとえばカ
ルバモイル、N−メチルカルバモイル、Iq−エチルカ
ルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−イソプロ
ピルカルバモイル、N−プロルカルバモイル N,N−ジメチルカルバモイル、N−スルホカルバモイ
ル、N−メトギンカルバモイル、N−エトキンカルバモ
イル、N−プロポキシカルバモイル、N−1’ソブロボ
キシカルバモイル、1q−ヒドロキシカルバモイル、N
−アミノカルバモイル、〔1−(■、)−ペンシルオキ
シカルボニルエチル〕アミノカルボ゛ニル、C 1 −
( L)−カルポギシエチル〕アミンカルボニル ル、N%N−ジフェニルカルバモイル、tJ−(p−ク
ロロフェニル)カルバモイル、N−ベンジルカルバモイ
ル、N,N−ジベンジルカルバモイル、N−ヒドロキシ
メチルカルバモイル、1寸−ヒドロキシエチルカルバモ
イル、N−クロロメチルカルバモイル、N−アセデルカ
ルバモイル、N−プロピオニルカルバモイル ル ーエトキシ力ルポニル力ルバモイル、N−フエノギシ力
ルポニルカルパモイルなどが用いラレル。
ルバモイル、N−メチルカルバモイル、Iq−エチルカ
ルバモイル、N−プロピルカルバモイル、N−イソプロ
ピルカルバモイル、N−プロルカルバモイル N,N−ジメチルカルバモイル、N−スルホカルバモイ
ル、N−メトギンカルバモイル、N−エトキンカルバモ
イル、N−プロポキシカルバモイル、N−1’ソブロボ
キシカルバモイル、1q−ヒドロキシカルバモイル、N
−アミノカルバモイル、〔1−(■、)−ペンシルオキ
シカルボニルエチル〕アミノカルボ゛ニル、C 1 −
( L)−カルポギシエチル〕アミンカルボニル ル、N%N−ジフェニルカルバモイル、tJ−(p−ク
ロロフェニル)カルバモイル、N−ベンジルカルバモイ
ル、N,N−ジベンジルカルバモイル、N−ヒドロキシ
メチルカルバモイル、1寸−ヒドロキシエチルカルバモ
イル、N−クロロメチルカルバモイル、N−アセデルカ
ルバモイル、N−プロピオニルカルバモイル ル ーエトキシ力ルポニル力ルバモイル、N−フエノギシ力
ルポニルカルパモイルなどが用いラレル。
式CD]で表わされる基の具体例としては、たとエバカ
ルボキン、メトキシカルボニル カルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカ
ルボニル、n−ブチロキシカルボニル、イソブチロキシ
カルボニル、渡−ブチロキシカルボニル、ベントギシ力
ルポニル、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキ
シカルボニルシカルボニルメチルオキシカルボニル、工
l−キシ力ルポニルメチルオキシカルボニル、フェニル
オキシ力ルボニル、p−クロロフェニルオキシカルボニ
ル、ヒドロキシメチルオキシカルボニルルホメチルオキ
シカルボニルなどが用いられる。
ルボキン、メトキシカルボニル カルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカ
ルボニル、n−ブチロキシカルボニル、イソブチロキシ
カルボニル、渡−ブチロキシカルボニル、ベントギシ力
ルポニル、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキ
シカルボニルシカルボニルメチルオキシカルボニル、工
l−キシ力ルポニルメチルオキシカルボニル、フェニル
オキシ力ルボニル、p−クロロフェニルオキシカルボニ
ル、ヒドロキシメチルオキシカルボニルルホメチルオキ
シカルボニルなどが用いられる。
式〔EIIで表わされる基の具体例としては、たとエバ
アシルアミノアルキル(たとえばアセチルアミノメチル
、プロピオニルアミノメチル、n−ブチリルアミノメチ
ル、イソブチリルアミンメチル、アセチルアミノエチル
、プロピオニルアミノエチル、アセチルアミノプロピル
、アセチルアミノブチル、ベンゾイルアミノメチル、ベ
ンゾイルアミノエチル、ベンゾイルアミノプロビル、ホ
ルミルアミノメチル、フェニルアセチルアミンメチル、
4−ヒドロキシフェニルアセチルアミノメチル、2−チ
ェニルカルボニルアミンメチル、2−フリルカルボニル
アミノメチル、チェニルアセチルアミツメナル、2−ア
ミノ−4−チアゾリルアセチルアミノメチルなど)、カ
ルバモイルアミノアルキル(たトエばカルバモイルアミ
ノメチルバモイルアミノエチル、カルバモイルアミノプ
ロピルなど)、アシルオキシアルギル(たとえばアセト
キシメチル、プロピオニルオキシメチル、イソプロピオ
ニルオキシメチル、アセトキシエチル、2−(2−クロ
ロアセタミド−4−チアゾリル)−(z)−2−メトキ
シイミノアセトキシメチル、2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−(Z )−2−メトキンイミノアセトキシ
メチル、2−チェニルアセトキシメチル、2−フリルア
セトキシメチル、チアゾリルアセトキシメチル、2−ア
ミノ−4−チアゾリルアセトキンメチル、ペンゾイルオ
キシメチル、ベンゾ−(ルオキシエチル、4−ヒドロキ
シベンゾイルオキシメチル、4−メトキンベンゾイルオ
キシメチル、モノクロロアセトキシメチル、トリクロロ
エトキシカルボニルオキシメチル、アセトアセトキシメ
チル、(1−メチル−I H−テトラゾール−5ーイル
)チオアセトキシメチル、(1−Ii、N−ジメチルア
ミノエチル−IH−テトラゾール−5−イル)チオアセ
トキシメチル、(1−カルボキシメチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオアセトキシメチル、(2−メチ
ルチアジアゾール−5−イル)チオアセトキシメチル、
(2−メチルオキサジアゾール−5−イル)チオアセト
キンメチル、(l−メチル−II(−)リアゾール−5
−イル)チオアセトキシメチルなど)、カルバモイルオ
キシアルキル(たとえばカルバモイルオキシメチル、カ
ルバモイルオキシエチル、カルバモイルオキシプロピル
、カルバモイルオキシイソプロピルなど)、複素環チオ
アルキル(たとえばチェニルチオメチル、チェニルチオ
エチル、チェニルチオプロピル、フリルチオメチル、フ
リルチオエチル、チアゾリルチオメチル、チアゾリルチ
オエチル、2−アミノチアゾリルチオメチル、2−アミ
ノチアゾリルチオエチル、2−アミノチアゾリルチオイ
ソプロピル、(2−メチルチアジアゾール−5−イル)
チオメチル、(2−メチルオキサジアゾール−5−イル
)チオメチル、オギサゾリルチオメチル、(1〜メチル
−IH−トリアゾール−5−イル)チオメチル、(1−
メチル−I H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
、(1−N、N−ジメチルアミンエチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル、(l−カルボキシメチ
ル−LH−テトラゾール−5−イル)チオメチル、(1
−メチル−IH−テトラゾール−5−イル)fオニチル
、(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル)チオ
プロピルなど)、アルキルチオアルギル(たとえばメチ
ルチオメチル、メチルチオエチル、メチルチオプロピル
、メチルチオイソプロピル、エチルチオメチル、エチル
チオエチル、プロピルチオメチル、プロピルチオエチル
、イソプロピルチオメチル、n−ブチルチオメチル、イ
ソグチルチオメチル、就−グチルチオメチル々ど)、カ
ルボキシアルキルまたはエステル化されたカルボキシア
ルキル(たとえばカルボキンメチル、カルボキシエチル
、カルボキシプロピル、カルボキンイソ7″ロピル、カ
ルボキシ−n−ブチル、カルボキシイソブチル、カルボ
キシ−就−グチル、メトキンカルボニルメチル、エトキ
シカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル ル キシカルボニルメチル、フェノキシカルボニルメチル、
ペンジルオキシ力ルポニルメチル、ベンジルオキシカル
ボニルエチル、p−ヒドロキシベンジルオキシ力ルポニ
ルメチル、p−メトキシベンジルオキシカルボニルメチ
ル、カルボキシメチルオキンカルポニルメチルなど)な
どが用いられる。
アシルアミノアルキル(たとえばアセチルアミノメチル
、プロピオニルアミノメチル、n−ブチリルアミノメチ
ル、イソブチリルアミンメチル、アセチルアミノエチル
、プロピオニルアミノエチル、アセチルアミノプロピル
、アセチルアミノブチル、ベンゾイルアミノメチル、ベ
ンゾイルアミノエチル、ベンゾイルアミノプロビル、ホ
ルミルアミノメチル、フェニルアセチルアミンメチル、
4−ヒドロキシフェニルアセチルアミノメチル、2−チ
ェニルカルボニルアミンメチル、2−フリルカルボニル
アミノメチル、チェニルアセチルアミツメナル、2−ア
ミノ−4−チアゾリルアセチルアミノメチルなど)、カ
ルバモイルアミノアルキル(たトエばカルバモイルアミ
ノメチルバモイルアミノエチル、カルバモイルアミノプ
ロピルなど)、アシルオキシアルギル(たとえばアセト
キシメチル、プロピオニルオキシメチル、イソプロピオ
ニルオキシメチル、アセトキシエチル、2−(2−クロ
ロアセタミド−4−チアゾリル)−(z)−2−メトキ
シイミノアセトキシメチル、2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−(Z )−2−メトキンイミノアセトキシ
メチル、2−チェニルアセトキシメチル、2−フリルア
セトキシメチル、チアゾリルアセトキシメチル、2−ア
ミノ−4−チアゾリルアセトキンメチル、ペンゾイルオ
キシメチル、ベンゾ−(ルオキシエチル、4−ヒドロキ
シベンゾイルオキシメチル、4−メトキンベンゾイルオ
キシメチル、モノクロロアセトキシメチル、トリクロロ
エトキシカルボニルオキシメチル、アセトアセトキシメ
チル、(1−メチル−I H−テトラゾール−5ーイル
)チオアセトキシメチル、(1−Ii、N−ジメチルア
ミノエチル−IH−テトラゾール−5−イル)チオアセ
トキシメチル、(1−カルボキシメチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオアセトキシメチル、(2−メチ
ルチアジアゾール−5−イル)チオアセトキシメチル、
(2−メチルオキサジアゾール−5−イル)チオアセト
キンメチル、(l−メチル−II(−)リアゾール−5
−イル)チオアセトキシメチルなど)、カルバモイルオ
キシアルキル(たとえばカルバモイルオキシメチル、カ
ルバモイルオキシエチル、カルバモイルオキシプロピル
、カルバモイルオキシイソプロピルなど)、複素環チオ
アルキル(たとえばチェニルチオメチル、チェニルチオ
エチル、チェニルチオプロピル、フリルチオメチル、フ
リルチオエチル、チアゾリルチオメチル、チアゾリルチ
オエチル、2−アミノチアゾリルチオメチル、2−アミ
ノチアゾリルチオエチル、2−アミノチアゾリルチオイ
ソプロピル、(2−メチルチアジアゾール−5−イル)
チオメチル、(2−メチルオキサジアゾール−5−イル
)チオメチル、オギサゾリルチオメチル、(1〜メチル
−IH−トリアゾール−5−イル)チオメチル、(1−
メチル−I H−テトラゾール−5−イル)チオメチル
、(1−N、N−ジメチルアミンエチル−IH−テトラ
ゾール−5−イル)チオメチル、(l−カルボキシメチ
ル−LH−テトラゾール−5−イル)チオメチル、(1
−メチル−IH−テトラゾール−5−イル)fオニチル
、(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル)チオ
プロピルなど)、アルキルチオアルギル(たとえばメチ
ルチオメチル、メチルチオエチル、メチルチオプロピル
、メチルチオイソプロピル、エチルチオメチル、エチル
チオエチル、プロピルチオメチル、プロピルチオエチル
、イソプロピルチオメチル、n−ブチルチオメチル、イ
ソグチルチオメチル、就−グチルチオメチル々ど)、カ
ルボキシアルキルまたはエステル化されたカルボキシア
ルキル(たとえばカルボキンメチル、カルボキシエチル
、カルボキシプロピル、カルボキンイソ7″ロピル、カ
ルボキシ−n−ブチル、カルボキシイソブチル、カルボ
キシ−就−グチル、メトキンカルボニルメチル、エトキ
シカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル ル キシカルボニルメチル、フェノキシカルボニルメチル、
ペンジルオキシ力ルポニルメチル、ベンジルオキシカル
ボニルエチル、p−ヒドロキシベンジルオキシ力ルポニ
ルメチル、p−メトキシベンジルオキシカルボニルメチ
ル、カルボキシメチルオキンカルポニルメチルなど)な
どが用いられる。
前記式(I)、(II)、(■)1.11R1 はア
シル化されまたは保護されていてもよいアミノ基を示し
、アシル化されているアミン基におけるアシル基として
は、従来知られているペニシリン誘導体06位アミン基
に置換しているアシル基、セファロスポリン誘導体の7
位アミン基に置換しているアシル基等が用いられる。ア
シル基の例としては、たとえば式 %式%) 〔式中、R5 は低級アルキルまたは複素環基を表わ
す。〕で表わされる基、式 〔式中、R6 は水素、アミノ酸残!(、アミン基の
は複素環Iを、11はθ〜2の整数を、それぞれ表わす
。)で表わされる基を、R”J は低級アルキル、フ
エニノコ、複素i“−カルボニルアミノまたは複素環r
を、それぞれ表わす。〕で表わされる基、式%式% 〔式中、R9 は式R” −c− (式中、R”
ii: / /L/μ 低級アルキル、低級アルケニルまたは式−% −R14
(式中、R13は低級アルキレンまたは低級アルヶニレ
ンヲ、R”ハフエニノ5、カルボキシアルキルそのエス
テルまたはモノまたはジ低級アルキルアミノを、それぞ
れ表わす。)で表わされる基を、それぞれ表わす。)で
表わされる基を、R10は単表わす。)で表わされる基
を、それぞれ表わす。〕[[中、R16ハヒドロキシ、
ヒドロキシスルホニルオキシ、カルボキシ、ウレイド汽
スルファモイノ4スルホまたはフェノキ内ルボニル、ホ
ルミルオキシを、R17は水素、低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシヲ、ソれぞれ
表わす。〕で表わされる基、式 %式%) 〔式中、R18はシアン、フエニノー、フェノキ−1低
級アルキノσ、アルケニレ?、または複素環Iを、R1
9は単なる結合手または〜S−を、それぞれ表わす。〕
で表わされる基などが用いられる。
シル化されまたは保護されていてもよいアミノ基を示し
、アシル化されているアミン基におけるアシル基として
は、従来知られているペニシリン誘導体06位アミン基
に置換しているアシル基、セファロスポリン誘導体の7
位アミン基に置換しているアシル基等が用いられる。ア
シル基の例としては、たとえば式 %式%) 〔式中、R5 は低級アルキルまたは複素環基を表わ
す。〕で表わされる基、式 〔式中、R6 は水素、アミノ酸残!(、アミン基の
は複素環Iを、11はθ〜2の整数を、それぞれ表わす
。)で表わされる基を、R”J は低級アルキル、フ
エニノコ、複素i“−カルボニルアミノまたは複素環r
を、それぞれ表わす。〕で表わされる基、式%式% 〔式中、R9 は式R” −c− (式中、R”
ii: / /L/μ 低級アルキル、低級アルケニルまたは式−% −R14
(式中、R13は低級アルキレンまたは低級アルヶニレ
ンヲ、R”ハフエニノ5、カルボキシアルキルそのエス
テルまたはモノまたはジ低級アルキルアミノを、それぞ
れ表わす。)で表わされる基を、それぞれ表わす。)で
表わされる基を、R10は単表わす。)で表わされる基
を、それぞれ表わす。〕[[中、R16ハヒドロキシ、
ヒドロキシスルホニルオキシ、カルボキシ、ウレイド汽
スルファモイノ4スルホまたはフェノキ内ルボニル、ホ
ルミルオキシを、R17は水素、低級アルキル、低級ア
ルコキシ、ハロゲン、ニトロ、ヒドロキシヲ、ソれぞれ
表わす。〕で表わされる基、式 %式%) 〔式中、R18はシアン、フエニノー、フェノキ−1低
級アルキノσ、アルケニレ?、または複素環Iを、R1
9は単なる結合手または〜S−を、それぞれ表わす。〕
で表わされる基などが用いられる。
記号R5〜R19において、アルキル、複素環基、アル
コキシ、ハロゲンとしては前記Rで述べたごときものが
用いられる。アミノ酸残基としては、7’c トエi、
jl’グリシル、アラニル、バリル、ロイシル、イソロ
イシル、セリル、スレオニル、ンステイル、シスチル、
メナオニル、α−またはβ−アスパラギル、α−一また
はr−グルタミル、リシル、アルギニル、フェニルアラ
ニル、フェニルクリシル、ナロシル、ヒスチジル、ドリ
フトファニル、フロリルなどが用いられる。アミン基の
保護基としては、後述のアミン基の保護基と同様のもの
が用いられる。アルキレンとしては直鎖状または分校状
の炭素数1〜3のものが好ましく、その例としては、た
とえばメチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレ
ンなどが用いられる。アルケニレンとしては、直鎖状ま
たは分校状の炭素数2〜4の低級アルケニレンが好まし
く、たとえばビニレン、プロペニレンなどが用いられる
。カルボキシル基におけるエステルとしては、たとえば
メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、
n−ブチルエステル、イソブチルエステル、tert
−7”チルエステルなどの炭素数1〜6の低級アルキル
エステルなどが用いられる。複素環基、フエニノコ、チ
アゾリック、フェノキクカルボニル、フェノキ7の置換
基としては、前記Rで述べた複素環I、ア* リールの置換基のごときものが用いられる。さらに、チ
アゾリルの置換基として、たとえばアルキル、アルコキ
シ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミンなどで置換された炭
素数2〜4のアシルアミノを用いてもよい。複素環M*
、置換基として、たとえばアルキル、アルコキン、ハロ
ゲン、ニトロ、アミノなどで置換されたフェニルを用い
てもよい。
コキシ、ハロゲンとしては前記Rで述べたごときものが
用いられる。アミノ酸残基としては、7’c トエi、
jl’グリシル、アラニル、バリル、ロイシル、イソロ
イシル、セリル、スレオニル、ンステイル、シスチル、
メナオニル、α−またはβ−アスパラギル、α−一また
はr−グルタミル、リシル、アルギニル、フェニルアラ
ニル、フェニルクリシル、ナロシル、ヒスチジル、ドリ
フトファニル、フロリルなどが用いられる。アミン基の
保護基としては、後述のアミン基の保護基と同様のもの
が用いられる。アルキレンとしては直鎖状または分校状
の炭素数1〜3のものが好ましく、その例としては、た
とえばメチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレ
ンなどが用いられる。アルケニレンとしては、直鎖状ま
たは分校状の炭素数2〜4の低級アルケニレンが好まし
く、たとえばビニレン、プロペニレンなどが用いられる
。カルボキシル基におけるエステルとしては、たとえば
メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、
n−ブチルエステル、イソブチルエステル、tert
−7”チルエステルなどの炭素数1〜6の低級アルキル
エステルなどが用いられる。複素環基、フエニノコ、チ
アゾリック、フェノキクカルボニル、フェノキ7の置換
基としては、前記Rで述べた複素環I、ア* リールの置換基のごときものが用いられる。さらに、チ
アゾリルの置換基として、たとえばアルキル、アルコキ
シ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミンなどで置換された炭
素数2〜4のアシルアミノを用いてもよい。複素環M*
、置換基として、たとえばアルキル、アルコキン、ハロ
ゲン、ニトロ、アミノなどで置換されたフェニルを用い
てもよい。
ウレイドtおける置換基としては、たとえば、ナトリウ
ム、カリウムなどと適宜塩を形成したスルホ、カルバモ
イル、スルファモイル、アミジノ、炭素数1〜3のアル
キルなどが用いられる。スルファモイルにおける置換基
きしては、例えば、炭素数1〜3の低級アルキル、アミ
ジノなどが用いられる。低級アルキルの置換基としては
、たとえばハロゲン、ヒドロキシ、シアン、トリフルオ
ロメチルなどが用いられる。アルケニレンの置換基とし
ては、たとえば、カルボキン、シアンなどが用いられる
。
ム、カリウムなどと適宜塩を形成したスルホ、カルバモ
イル、スルファモイル、アミジノ、炭素数1〜3のアル
キルなどが用いられる。スルファモイルにおける置換基
きしては、例えば、炭素数1〜3の低級アルキル、アミ
ジノなどが用いられる。低級アルキルの置換基としては
、たとえばハロゲン、ヒドロキシ、シアン、トリフルオ
ロメチルなどが用いられる。アルケニレンの置換基とし
ては、たとえば、カルボキン、シアンなどが用いられる
。
t i、R9ニオはル式R11−C−は、式R11−C
−111 i 虐−07 れるアンチ異性体またはそれらの混合物を表わす。
−111 i 虐−07 れるアンチ異性体またはそれらの混合物を表わす。
前記中、式〔G〕で表わされる基で好ましいものとして
は、式 %式%( 〔式中、R6′はアミン基の保護基または式R8−(C
H2)n、 −cO−g式中、R” ハ’ii素環t
を、nエ は0〜−2の整数を、それぞれ表わす。)で
表わされる基を、R7′はフエニ/IF−または複素環
♂を、それぞれ表わす。〕で表わされる基が用いられ、
式〔H〕で表わされる基で好ましいものとしては、式 %式% 〔式中、R11′は峻素環基8またはフェニルX、R”
は水素原子、低級アルキルまたは式−R13R14’【
式中、R13は前記と同慧義を、R14′はカルボキシ
ルまたはそのエステルを、それぞれ表わす1で表わされ
る基を、それぞれ表わす。〕で表わされる基が用いられ
、式CJJで表わされる基で好ましいものとしては、式 R18′−R19−CH2−C0− 〔式中、R18′は腹素環Iを、R19は前記と同意義
を示す〕で表わされる基が用いられる。
は、式 %式%( 〔式中、R6′はアミン基の保護基または式R8−(C
H2)n、 −cO−g式中、R” ハ’ii素環t
を、nエ は0〜−2の整数を、それぞれ表わす。)で
表わされる基を、R7′はフエニ/IF−または複素環
♂を、それぞれ表わす。〕で表わされる基が用いられ、
式〔H〕で表わされる基で好ましいものとしては、式 %式% 〔式中、R11′は峻素環基8またはフェニルX、R”
は水素原子、低級アルキルまたは式−R13R14’【
式中、R13は前記と同慧義を、R14′はカルボキシ
ルまたはそのエステルを、それぞれ表わす1で表わされ
る基を、それぞれ表わす。〕で表わされる基が用いられ
、式CJJで表わされる基で好ましいものとしては、式 R18′−R19−CH2−C0− 〔式中、R18′は腹素環Iを、R19は前記と同意義
を示す〕で表わされる基が用いられる。
特に、抗菌作用に関しては、式
〔式中、Q7 はアミンまたは保護されたアミン基そ
のエステルを示す〕で表わされる基が、R1のアシル化
されたアミン基のアシルとしてより有用である。
のエステルを示す〕で表わされる基が、R1のアシル化
されたアミン基のアシルとしてより有用である。
上記のアシル基において、式R,”−CO−で表わさ7
Lるアシル基の貝1体例として、たとえば3−(2,6
−ジクロロフェニル)−5−メチルイソキサゾール−4
−1ルーカルボニル、4−エチル−2,3−ジオキソー
1−ピペラジノカルボニルなどが用いられる。
Lるアシル基の貝1体例として、たとえば3−(2,6
−ジクロロフェニル)−5−メチルイソキサゾール−4
−1ルーカルボニル、4−エチル−2,3−ジオキソー
1−ピペラジノカルボニルなどが用いられる。
式R6−NH−CH−CO−で表わされるアシル基の資
7 具体例としては、たとえばD−アラニル、ベンジルN“
−カルボベンゾキシ−γ−D−グルタミル=D−7ラニ
ル、D−7エニルグリシルーD−/ラニル、N−カルボ
ベンゾキシ−1)−7ラニル、N−カルボベンゾキシ−
D−フェニルグリシル、I)−7ラニルーD−フェニル
グリシル、γ−D−グルタミルーD−アラニル、2−(
4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボ
キサミド)−2−フェニルアセチル、2−(4−エチル
−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)
−2−(4−スルホキシフェニル)アセチル、N−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボニ
ル)−D−アラニル、N−(4−エチル−2,3−ジチ
オオキソ−1−ピペラジノカルボニル)−D−フェニル
グリシル、2.2−ビス−(4−エチル−2,3−ジオ
キソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセチノペ2−
(2−アくノー4−チアゾリル)−2−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)ア
セチル、2−(4−ヒドロキシ−6−メチルニコチンア
ミド)−2−フェニルアセチル、2−(4−ヒドロキシ
−6−メチルニコチンアミ)’)−2−(4−ヒドロキ
シフェニル)アセチル、2−[5,8−ジヒドロ−2−
(4−ホルミル−1−ピペラジニル)−5−オキソピリ
ド〔2,3−d〕ピリミジン−6−カルボキサミド)−
2−フェニルアセチル、2−(3,5−!/オキソー1
゜2.4−トリアジン−6−カルボキサミド)−2−(
4−ヒドロキシフェニル)アセチル、2−(3−フルフ
リデンアミノ−2−オキソイミダゾリジン−1−カルボ
キサミド)−2−フェニルアセチル、2−(クマリン−
3−カルボキサミド)〜2−フェニルアセチル、2−(
4−ヒドロキシフェニル−1,8−ナフチリジン−3−
カルボキサミド)−2−フェニルアセチル、2−(4−
ヒドロキシ−7−ドリフルオロメチルキノリンー3−カ
ルボキサミド)−2−フェニルアセチル、N−(2−(
2−アミノ−4−チアゾリル)ア士チル’1−n−フェ
ニルクリシル、2−(6−−y”ロモー1−エチル−1
,4−ジヒドロ−4−オキソチェノ[2,3−Jlピリ
ジン−3−カルボキサミ)’)−2−フェニルアセチル
、2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ノカルボキサミド)−2−チェニルアセチル、2−(4
−n−ベンチルー2.3−ジオヤソー1−ピペラジノカ
ルボキサミド)−2−チェニルアセチル、2−(4−n
−オクチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボ
キサミド)−2−チェニルアセチル、2−(4−シクロ
ヘキシル〜2.3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキ
サミド)−2−チェニルアセチル、2−〔4−(2−フ
ェニルエチル〕−2,3−ジオキソ−1−ピベラジノカ
ルボギサミド〕−2−チェニルアセチル、2−(3−メ
チルスルホニル−2−オキソイミダゾリジン−1−カル
ボキザミド)−2−フェニルアセチル、2−(3−フル
フリデンアミノ−2−オキソイミダゾリジン−1−カル
ボキサミド)−2−(4−ヒドロキシフェニル)アセチ
ル、2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ビベラ
ジノ力ルボギサミ)’)−2−(4−ベンジルオキシフ
ェニル)アセチル、2−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピベラジノ力ルポキサミド)−2−(4−メト
キシフェニル)アセチル、2−(8−ヒドロキシ−1,
5−カッチリジン−7−カルボキサミド−2−フェニル
アセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
ホルムアミドアセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾ
リル)−2−アセタミドアセチルなどが用いられる。
7 具体例としては、たとえばD−アラニル、ベンジルN“
−カルボベンゾキシ−γ−D−グルタミル=D−7ラニ
ル、D−7エニルグリシルーD−/ラニル、N−カルボ
ベンゾキシ−1)−7ラニル、N−カルボベンゾキシ−
D−フェニルグリシル、I)−7ラニルーD−フェニル
グリシル、γ−D−グルタミルーD−アラニル、2−(
4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボ
キサミド)−2−フェニルアセチル、2−(4−エチル
−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)
−2−(4−スルホキシフェニル)アセチル、N−(4
−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボニ
ル)−D−アラニル、N−(4−エチル−2,3−ジチ
オオキソ−1−ピペラジノカルボニル)−D−フェニル
グリシル、2.2−ビス−(4−エチル−2,3−ジオ
キソ−1−ピペラジノカルボキサミド)アセチノペ2−
(2−アくノー4−チアゾリル)−2−(4−エチル−
2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド)ア
セチル、2−(4−ヒドロキシ−6−メチルニコチンア
ミド)−2−フェニルアセチル、2−(4−ヒドロキシ
−6−メチルニコチンアミ)’)−2−(4−ヒドロキ
シフェニル)アセチル、2−[5,8−ジヒドロ−2−
(4−ホルミル−1−ピペラジニル)−5−オキソピリ
ド〔2,3−d〕ピリミジン−6−カルボキサミド)−
2−フェニルアセチル、2−(3,5−!/オキソー1
゜2.4−トリアジン−6−カルボキサミド)−2−(
4−ヒドロキシフェニル)アセチル、2−(3−フルフ
リデンアミノ−2−オキソイミダゾリジン−1−カルボ
キサミド)−2−フェニルアセチル、2−(クマリン−
3−カルボキサミド)〜2−フェニルアセチル、2−(
4−ヒドロキシフェニル−1,8−ナフチリジン−3−
カルボキサミド)−2−フェニルアセチル、2−(4−
ヒドロキシ−7−ドリフルオロメチルキノリンー3−カ
ルボキサミド)−2−フェニルアセチル、N−(2−(
2−アミノ−4−チアゾリル)ア士チル’1−n−フェ
ニルクリシル、2−(6−−y”ロモー1−エチル−1
,4−ジヒドロ−4−オキソチェノ[2,3−Jlピリ
ジン−3−カルボキサミ)’)−2−フェニルアセチル
、2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジ
ノカルボキサミド)−2−チェニルアセチル、2−(4
−n−ベンチルー2.3−ジオヤソー1−ピペラジノカ
ルボキサミド)−2−チェニルアセチル、2−(4−n
−オクチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボ
キサミド)−2−チェニルアセチル、2−(4−シクロ
ヘキシル〜2.3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキ
サミド)−2−チェニルアセチル、2−〔4−(2−フ
ェニルエチル〕−2,3−ジオキソ−1−ピベラジノカ
ルボギサミド〕−2−チェニルアセチル、2−(3−メ
チルスルホニル−2−オキソイミダゾリジン−1−カル
ボキザミド)−2−フェニルアセチル、2−(3−フル
フリデンアミノ−2−オキソイミダゾリジン−1−カル
ボキサミド)−2−(4−ヒドロキシフェニル)アセチ
ル、2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ビベラ
ジノ力ルボギサミ)’)−2−(4−ベンジルオキシフ
ェニル)アセチル、2−(4−エチル−2,3−ジオキ
ソ−1−ピベラジノ力ルポキサミド)−2−(4−メト
キシフェニル)アセチル、2−(8−ヒドロキシ−1,
5−カッチリジン−7−カルボキサミド−2−フェニル
アセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
ホルムアミドアセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾ
リル)−2−アセタミドアセチルなどが用いられる。
式)i9 −R10−Co−で表わされるアシル甚の
具体例として、たとえは、N− C 2 − ( 2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチ
ル’]−D−アラニル、N − 〔2−( 2−アミノ
−4−チアゾリル)−2−メトキンイミノアセチル]−
D−フェニルグリシル、2−(2−アミノ−4−チアゾ
リル)−2−〔2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−メトキシイミノアセグミ1−″〕アセチル、2−(
2−クロロアセタミド−4−チアゾリル)−2−メトキ
シイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−メトキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−エトキンイミノアセチル、2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−プロポギンイミ
ノアセチル、2−(2−アミノ−4〜チアゾリル)−2
−エトキンイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−2−ベンジルオキシイミノアセチル、2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−アリルオキシイ
ミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−C(1−メチル−1−カルボキシエチル)オキシイ
ミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−〔( 1−メチル−1−メトキシカルボニルエチル
)オキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−カルボキシメチルオキシイミノアセチル
、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−カルボキ
シグイニルオキ/イミノアセチル、2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−カルボキシメチルオキシイミノ
アセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
メトキンカルボニルエチルオキシイミノアセチル、2−
(2−アミノ−5−クロロ−4−チアゾリル)−2−メ
トキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−5−ブロモ
−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチルペ
2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−オキシイミ
ノアセチル、2−チェニル−2−メトキシイミノアセチ
ル、2−フリル−2−メトギンイミノアセチル、2−(
1,2。
具体例として、たとえは、N− C 2 − ( 2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチ
ル’]−D−アラニル、N − 〔2−( 2−アミノ
−4−チアゾリル)−2−メトキンイミノアセチル]−
D−フェニルグリシル、2−(2−アミノ−4−チアゾ
リル)−2−〔2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−メトキシイミノアセグミ1−″〕アセチル、2−(
2−クロロアセタミド−4−チアゾリル)−2−メトキ
シイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−メトキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−エトキンイミノアセチル、2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−プロポギンイミ
ノアセチル、2−(2−アミノ−4〜チアゾリル)−2
−エトキンイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−2−ベンジルオキシイミノアセチル、2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−アリルオキシイ
ミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−C(1−メチル−1−カルボキシエチル)オキシイ
ミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−〔( 1−メチル−1−メトキシカルボニルエチル
)オキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−カルボキシメチルオキシイミノアセチル
、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−カルボキ
シグイニルオキ/イミノアセチル、2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−カルボキシメチルオキシイミノ
アセチル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−
メトキンカルボニルエチルオキシイミノアセチル、2−
(2−アミノ−5−クロロ−4−チアゾリル)−2−メ
トキシイミノアセチル、2−(2−アミノ−5−ブロモ
−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセチルペ
2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−オキシイミ
ノアセチル、2−チェニル−2−メトキシイミノアセチ
ル、2−フリル−2−メトギンイミノアセチル、2−(
1,2。
4−一チアジアゾールー3ーイル)−2−メトキシイミ
ノアセチル、2−(1,2.4−チアジアソ゛ールー5
ーイル)−2−メトキシイミノアセチル、2−(1,3
.4−チアジアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル
、2−(4−)1イドロキシフエニル)−2−メトキシ
イミノアセチル、2−フェニル−2−メトキシイミノア
セチル、2−フェニル−2−オキシイミノアセチル、2
−(4−(γ−I) − クルタミルオキン)フェニル
〕−2−オギシイミノアセチル、2−[4−(3−アミ
ノ−3−カルボキシプロポキシ)フェニル]−2−オキ
シイミノアセチルなどが用いられる。
ノアセチル、2−(1,2.4−チアジアソ゛ールー5
ーイル)−2−メトキシイミノアセチル、2−(1,3
.4−チアジアゾリル)−2−メトキシイミノアセチル
、2−(4−)1イドロキシフエニル)−2−メトキシ
イミノアセチル、2−フェニル−2−メトキシイミノア
セチル、2−フェニル−2−オキシイミノアセチル、2
−(4−(γ−I) − クルタミルオキン)フェニル
〕−2−オギシイミノアセチル、2−[4−(3−アミ
ノ−3−カルボキシプロポキシ)フェニル]−2−オキ
シイミノアセチルなどが用いられる。
16
例として、たとえば、α−スルホフェニルアセチル、α
−ハイドロキシフェニルアセチル、α−ウレイドフェニ
ルアセチル、α−スルホウレイドフェニルアセチル、α
−スルファモイルフェニルアセチル、α−フェノキシカ
ルボニルフェニルアセチル、α−(p−トリルオキシカ
ルボニル)フェニルアセチル、αーホルミルオオキフエ
ニルア七チルなどが用いられる。
−ハイドロキシフェニルアセチル、α−ウレイドフェニ
ルアセチル、α−スルホウレイドフェニルアセチル、α
−スルファモイルフェニルアセチル、α−フェノキシカ
ルボニルフェニルアセチル、α−(p−トリルオキシカ
ルボニル)フェニルアセチル、αーホルミルオオキフエ
ニルア七チルなどが用いられる。
式 R18 R19−CH,−co−テ表ワサレルア
シル基ノ具体例としては、たとえは、シアノアセチル、
フェニルアセチル、フェノキシアセチル、トリフルオロ
メチルチオアセチル、シアノメチルチオアセチル、IH
−テトラゾリル−1−アセチル、チェニルアセナル、2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)アセチル、4−ピリ
ジルチオアセチル、2−チェニルチオアセチル、a、5
−syクロロ−1、4−ジヒドロ−4−オキソピリジン
−1−アセチル、β−カルボキシビニルチオアセチル、
2−(2−アミノメチルフェニル)アセチルなどが用い
られる。
シル基ノ具体例としては、たとえは、シアノアセチル、
フェニルアセチル、フェノキシアセチル、トリフルオロ
メチルチオアセチル、シアノメチルチオアセチル、IH
−テトラゾリル−1−アセチル、チェニルアセナル、2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)アセチル、4−ピリ
ジルチオアセチル、2−チェニルチオアセチル、a、5
−syクロロ−1、4−ジヒドロ−4−オキソピリジン
−1−アセチル、β−カルボキシビニルチオアセチル、
2−(2−アミノメチルフェニル)アセチルなどが用い
られる。
上記のアシル爪巾のアミノ基および/またはカルボキシ
ル基および/またはヒドロキシル基は、保護基を有して
いる場合も含む。
ル基および/またはヒドロキシル基は、保護基を有して
いる場合も含む。
該アミノ基の保訛基としては、後述する「アミノ基の保
護基」と同様のものが用いられる。また、カルボキシル
基およびヒドロキシル基の保護基としては、Mrr記R
で述べたものなどが用いられる。
護基」と同様のものが用いられる。また、カルボキシル
基およびヒドロキシル基の保護基としては、Mrr記R
で述べたものなどが用いられる。
R1で示される保護されていてもよいアミン基の保護基
としては、β−ラククムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものが便宜に採用される。たとえば
フタロイル、p−=トロベンゾイルN I) ter
t−ブチルベンゾイル、p−t、e r t−ブチルベ
ンゼンスルホニル、ベンゼンスルボニル、トルエンスル
ホニル等の芳香族アシル基、たとえばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、モノクロロアセチル、ジクロロアセ
チル、トリクロロアセナル、メタンスルホニル、エタン
スルホニル、トリフルオロアセチル、マレイル、サクシ
ニル等の脂肪族アシル基、たとえば、メトキンカルボニ
ル、エトキシカルボニル、t−メトキンカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、2−シアノエトキシカルボニ
ル、β、β、β−トリクロロエトキシカルボニル、β−
トリメチルシリルエトキシカルボニル、β−メチルスル
ホニルエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル
、p−二トロペンジルオキシカルボニル、p−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル、ジフェニルメチルオキシカ
ルボニル、メトキシメチルオキシカルボニル、アセチル
メチルオキンカルボニル、イソボルニルオキシカルボニ
ル、フェニルオキシカルボニル等のエステル化されたカ
ルボキシル基、さらに、例エバ、トリチル、2−ニトロ
フェニルチオ、ベンジリデン、4−ニトロベンジリデン
、モジくはトリアルキルシリル、ベンジル、p−ニトロ
ベンジル等のアシル基以外のアミノ基の保幾基、プロト
ンなどが用いられる。該保護基の選択は本発明において
は、特に限定されるものではない。
としては、β−ラククムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものが便宜に採用される。たとえば
フタロイル、p−=トロベンゾイルN I) ter
t−ブチルベンゾイル、p−t、e r t−ブチルベ
ンゼンスルホニル、ベンゼンスルボニル、トルエンスル
ホニル等の芳香族アシル基、たとえばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、モノクロロアセチル、ジクロロアセ
チル、トリクロロアセナル、メタンスルホニル、エタン
スルホニル、トリフルオロアセチル、マレイル、サクシ
ニル等の脂肪族アシル基、たとえば、メトキンカルボニ
ル、エトキシカルボニル、t−メトキンカルボニル、イ
ソプロポキシカルボニル、2−シアノエトキシカルボニ
ル、β、β、β−トリクロロエトキシカルボニル、β−
トリメチルシリルエトキシカルボニル、β−メチルスル
ホニルエトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル
、p−二トロペンジルオキシカルボニル、p−メトキシ
ベンジルオキシカルボニル、ジフェニルメチルオキシカ
ルボニル、メトキシメチルオキシカルボニル、アセチル
メチルオキンカルボニル、イソボルニルオキシカルボニ
ル、フェニルオキシカルボニル等のエステル化されたカ
ルボキシル基、さらに、例エバ、トリチル、2−ニトロ
フェニルチオ、ベンジリデン、4−ニトロベンジリデン
、モジくはトリアルキルシリル、ベンジル、p−ニトロ
ベンジル等のアシル基以外のアミノ基の保幾基、プロト
ンなどが用いられる。該保護基の選択は本発明において
は、特に限定されるものではない。
本願目的物(I)は、1位のスルホ基、R,R1に含ま
れているカルボキシル基を遊離のままで用いてもよいが
、たとえばナトリウム、カリウム等の無毒性カチオン、
アルギニン、オルニチン、リジン、ヒスチジン等の塩基
性アミノ酸、N−メチルグルカミン、ジェタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、トリスヒドロキシメチルア
ミノメタンなどのポリヒドロキンアルキフレアミン等と
の塩を形成させて用いてもよい。また、R,Rに塩基性
基が含まれている場合には、たとえば酢酸、泊石酸、メ
タンスルホン酸などの有機酸との塩、たとえば塩酸、臭
化水素酸、硫酸、リン酸など無機酸との塩、たとえばア
スパラギン酸、グルタミン酸などの酸性アミノ酸との塩
などを形成させて用いてもよい。さらに、R1R1がカ
ルボキシル基を含む場合には、たとえば血中濃度を増加
させ、有効時間を延長させる効果のある生物学的に活性
なエステル誘導体に変換して用いることもできる。その
場合に有効なエステル基としては、たとえばメトキンメ
チル、エトキンメチル、イソプロポキシメチル、α−メ
トキシエチル、α−エトキシエチル等のアルコキシメチ
ル、α−アルコキシエチル等のα−アルコキシ−α−置
換メチル基、メチルチオメチル イソプロピルチオメチル等のアルキルチオメチル基、ま
たピバロイルオキシメチル、αーアセトキキンチμ等の
アシルオキシメチル基またはα−アシルオキシ−α−置
換メチル基、エトキシカルボニルオキシメチル、α−エ
トキシカルボニルオキシエチル等のα−アルコキシ炭酸
−α−置換メチル基等が用いられる。
れているカルボキシル基を遊離のままで用いてもよいが
、たとえばナトリウム、カリウム等の無毒性カチオン、
アルギニン、オルニチン、リジン、ヒスチジン等の塩基
性アミノ酸、N−メチルグルカミン、ジェタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、トリスヒドロキシメチルア
ミノメタンなどのポリヒドロキンアルキフレアミン等と
の塩を形成させて用いてもよい。また、R,Rに塩基性
基が含まれている場合には、たとえば酢酸、泊石酸、メ
タンスルホン酸などの有機酸との塩、たとえば塩酸、臭
化水素酸、硫酸、リン酸など無機酸との塩、たとえばア
スパラギン酸、グルタミン酸などの酸性アミノ酸との塩
などを形成させて用いてもよい。さらに、R1R1がカ
ルボキシル基を含む場合には、たとえば血中濃度を増加
させ、有効時間を延長させる効果のある生物学的に活性
なエステル誘導体に変換して用いることもできる。その
場合に有効なエステル基としては、たとえばメトキンメ
チル、エトキンメチル、イソプロポキシメチル、α−メ
トキシエチル、α−エトキシエチル等のアルコキシメチ
ル、α−アルコキシエチル等のα−アルコキシ−α−置
換メチル基、メチルチオメチル イソプロピルチオメチル等のアルキルチオメチル基、ま
たピバロイルオキシメチル、αーアセトキキンチμ等の
アシルオキシメチル基またはα−アシルオキシ−α−置
換メチル基、エトキシカルボニルオキシメチル、α−エ
トキシカルボニルオキシエチル等のα−アルコキシ炭酸
−α−置換メチル基等が用いられる。
本発明の化合物(I)は、下記の原料化合物(TI)と
同様に柚々の立体異性体(例、シス体、トランス体、シ
ン体、アンチ体、光学活性体)が存在し、それらの各異
性体およびそれらの混合物も本発明に含まれる。これら
異性体は単独で、あるいは混合物のいずれの状態でも医
薬として使用することができる。
同様に柚々の立体異性体(例、シス体、トランス体、シ
ン体、アンチ体、光学活性体)が存在し、それらの各異
性体およびそれらの混合物も本発明に含まれる。これら
異性体は単独で、あるいは混合物のいずれの状態でも医
薬として使用することができる。
従って、目的物(I)は立体異性体の種類にょシ、たと
えば式 〔式中、R=R1お工びXは前記と同意義を、波線はR
が3位のR1に対しトランスまたはシス配位にあること
を示す〕で表わされ得る。
えば式 〔式中、R=R1お工びXは前記と同意義を、波線はR
が3位のR1に対しトランスまたはシス配位にあること
を示す〕で表わされ得る。
本願目的物(1)の具体例として、たとえば次式で表わ
される化合物などがある。
される化合物などがある。
化合物 X R化合物
I’11X 11/ cii3゜ 化合物 R’ X R90
−0H2CONH−If −0す(Co部。
I’11X 11/ cii3゜ 化合物 R’ X R90
−0H2CONH−If −0す(Co部。
化合物 丘1 x R1
“\。。28゜
1
”\1、。1.3
化合物 RI X R1
NH[’1ONI+2
1化。
化合物 nl X B化合
物 u” X B
hI 8\。c、[13 37NH2−■ −CO2ICH3 1 N\(]Of1.5 \市〕f13 [ヒ合物 RlX 11\(Ic
H2Co2H (’:H3 化合物 RIXB 化合物 RlxR H3 NHCOCH3 化合物 )tlX R とりわけ、本発明の目的物(1)で好ましいもの汀、式 ’4=Q、Q および波線は前 〔式中のQ、 −Q 記と同一ケ帳を示す〕で表わされる化合物、その1!゛
またはエステルであって、Q がアミノ基である漏合に
4す1 fgJ)スルホ、!ンと分子内igを形成しイ
44る。
物 u” X B
hI 8\。c、[13 37NH2−■ −CO2ICH3 1 N\(]Of1.5 \市〕f13 [ヒ合物 RlX 11\(Ic
H2Co2H (’:H3 化合物 RIXB 化合物 RlxR H3 NHCOCH3 化合物 )tlX R とりわけ、本発明の目的物(1)で好ましいもの汀、式 ’4=Q、Q および波線は前 〔式中のQ、 −Q 記と同一ケ帳を示す〕で表わされる化合物、その1!゛
またはエステルであって、Q がアミノ基である漏合に
4す1 fgJ)スルホ、!ンと分子内igを形成しイ
44る。
[1的>’m (1)十たけその地あZ)いはまスデノ
四−1、種々のグラム−陽性及びグラム−陰性細凶に対
して活性な価値ある抗生物質であり、人及び家畜の医薬
として利用され、グラム−陽性ま/ζはグフムー陰性細
閑によって引起される感染を処理する抗菌剤として安全
に使用される。本発明の抗菌剤は、更に、例えば飼料を
防騙するだめに殺菌f11」として動物供給飼料に添加
される。例えば、凶科及び歯科装置M上の有害な細菌の
生長を破かい及び阻止するために及び工業用例えば水を
基にしたペイント及びペーパーミルの白水中における有
害な細酌の生長を阻止する殺菌剤として、溶液1ミリオ
ン部当り抗生物質0.1〜100部の範囲のt美度で水
性組成物に藺用することができる。
四−1、種々のグラム−陽性及びグラム−陰性細凶に対
して活性な価値ある抗生物質であり、人及び家畜の医薬
として利用され、グラム−陽性ま/ζはグフムー陰性細
閑によって引起される感染を処理する抗菌剤として安全
に使用される。本発明の抗菌剤は、更に、例えば飼料を
防騙するだめに殺菌f11」として動物供給飼料に添加
される。例えば、凶科及び歯科装置M上の有害な細菌の
生長を破かい及び阻止するために及び工業用例えば水を
基にしたペイント及びペーパーミルの白水中における有
害な細酌の生長を阻止する殺菌剤として、溶液1ミリオ
ン部当り抗生物質0.1〜100部の範囲のt美度で水
性組成物に藺用することができる。
本発明の目的物(■)、その塩またはエステルは、種々
な医薬製剤の何れかの製剤において早独でまたは他の活
性成分と組合せて使用することができ、たとえば、カプ
セル、錠剤、粉末または溶液、懸濁液またはエリキシル
として1由−用し得る。
な医薬製剤の何れかの製剤において早独でまたは他の活
性成分と組合せて使用することができ、たとえば、カプ
セル、錠剤、粉末または溶液、懸濁液またはエリキシル
として1由−用し得る。
これらは、経口的に、静脈内にまだは筋肉内に投与する
ことができる。
ことができる。
経口投4に用いる錠剤は、普通の賦形剤例えば結合剤例
えばシロップ、アラビヤゴム、ゼラチン、ソルビトール
、トラガントゴム−まだはポリビニルピロリドン、充填
剤例えばラクトース、糖類、とうもろこし澱粉、燐酸カ
ルシウム、ソルビトールまたはグリシン、潤滑剤例えば
ステアリン酸マグネシウム、メルク、ポリエチレングリ
コール、シリカ、崩かいAl1例えば馬齢蕃澱粉またけ
ナトリウムラウリルザルフェートのような利用し得る湿
潤剤を含鳴し得る。錠剤は、当該技術によく知られてい
る方法によって被覆することができる。経口液状製剤は
、水性または油性懸を蜀液、溶f1り、乳濁液、シロッ
プ、エリキシルなどの形態になし得るまたはイ史用Hf
jに水または他の適当な溶媒に溶解する乾燥製品であっ
てもよい。このような液状製剤は、懸濁剤し11えd:
ソルビトールシロップ、メチルセルローズ、グルコース
/糖類シロップ、ゼラチン、ヒドロキシエチルセルロー
ズ、カルボキンメチルセノL’ロース゛、ステアリン酸
アルミニウムゲルまたは水素i.’+’r DIl可食
油例えばアーモンド油、分溜ヤシ油、油状エステル、プ
ロピレングリコ−)L/−またはエチルアルコール、防
腐剤例えばメチルまたはプロピ)V p−ヒドロキシベ
ンゾエートまたはソルビン酸を含有させることもできる
。串刺は、普通の串刺基質例えばココア・バターまだは
他のグリセライドを用いることができる。
えばシロップ、アラビヤゴム、ゼラチン、ソルビトール
、トラガントゴム−まだはポリビニルピロリドン、充填
剤例えばラクトース、糖類、とうもろこし澱粉、燐酸カ
ルシウム、ソルビトールまたはグリシン、潤滑剤例えば
ステアリン酸マグネシウム、メルク、ポリエチレングリ
コール、シリカ、崩かいAl1例えば馬齢蕃澱粉またけ
ナトリウムラウリルザルフェートのような利用し得る湿
潤剤を含鳴し得る。錠剤は、当該技術によく知られてい
る方法によって被覆することができる。経口液状製剤は
、水性または油性懸を蜀液、溶f1り、乳濁液、シロッ
プ、エリキシルなどの形態になし得るまたはイ史用Hf
jに水または他の適当な溶媒に溶解する乾燥製品であっ
てもよい。このような液状製剤は、懸濁剤し11えd:
ソルビトールシロップ、メチルセルローズ、グルコース
/糖類シロップ、ゼラチン、ヒドロキシエチルセルロー
ズ、カルボキンメチルセノL’ロース゛、ステアリン酸
アルミニウムゲルまたは水素i.’+’r DIl可食
油例えばアーモンド油、分溜ヤシ油、油状エステル、プ
ロピレングリコ−)L/−またはエチルアルコール、防
腐剤例えばメチルまたはプロピ)V p−ヒドロキシベ
ンゾエートまたはソルビン酸を含有させることもできる
。串刺は、普通の串刺基質例えばココア・バターまだは
他のグリセライドを用いることができる。
注射用組成物は、アンプルまたは防腐剤を添加した容器
の単位使用形態で提供し得る。該組成物は、油性または
水性溶媒中の懸濁液、溶液または乳濁液のような形態で
あってもよく、懸濁剤、安定剤及び(または)分散剤の
ような補助剤を適宜含有していてもよい。−また、活性
成分は、使用前に適当な溶媒例えば殺菌した発熱性物質
を含有していない水で再構成する粉末形態になし得る。
の単位使用形態で提供し得る。該組成物は、油性または
水性溶媒中の懸濁液、溶液または乳濁液のような形態で
あってもよく、懸濁剤、安定剤及び(または)分散剤の
ような補助剤を適宜含有していてもよい。−また、活性
成分は、使用前に適当な溶媒例えば殺菌した発熱性物質
を含有していない水で再構成する粉末形態になし得る。
また、鼻及びのどの粘膜まだは気管支組織によって吸収
される適当な形態、たとえば粉末、液状スプレー又は吸
入剤、ロゼイン、のどペイントなどの形態に製剤化する
こともできる。目まだは耳の医薬投4に対しては、液状
または半固体形態のカプセルとしてまたは滴下剤として
使用し得る。
される適当な形態、たとえば粉末、液状スプレー又は吸
入剤、ロゼイン、のどペイントなどの形態に製剤化する
こともできる。目まだは耳の医薬投4に対しては、液状
または半固体形態のカプセルとしてまたは滴下剤として
使用し得る。
さらに、軟膏、クリーム、ローション、ペイント、粉末
などのような疎水性または親水性基剤を使用して外用剤
としてもよい。
などのような疎水性または親水性基剤を使用して外用剤
としてもよい。
また、担体以外に、安定剤、結合剤、鹸化防止剤、防1
民剤、潤滑剤、懸濁剤、粘稠剤まだは風味剤などのよう
な他の成分を含有し得る。更に、組成物に他の活性成分
を含有せしめてより広いスペクトルの抗菌活性を与える
こともできる。
民剤、潤滑剤、懸濁剤、粘稠剤まだは風味剤などのよう
な他の成分を含有し得る。更に、組成物に他の活性成分
を含有せしめてより広いスペクトルの抗菌活性を与える
こともできる。
家畜に対しては、長く作用するまたは速やかに放出する
基質中の乳腺内製造として処方し得る。
基質中の乳腺内製造として処方し得る。
本発明の化合物(I)は、細菌感染治療剤として、たと
えばIIIW乳動物の呼吸器感染症、尿路感染症、化膿
性疾患、胆M感染症、腹内感染症、産婦人科感染症、外
科感染症などの治療に用いることができる。その1日投
与量は、処理される患者の状態及び宿主の体重、投与の
方法及び頻度、一般的感染に幻して好適な非経口的方法
及び腸感染に刻する経[I的方法によってき゛まってく
る。一般に1日当りの経ロ的イ吏用triは、1日当り
1N1だはそれ以上の適用において、患者の体重1 k
y当り活性成分約15〜600〜からなる。大人の人間
−に対する好適な1日当りの使用量は、体重1にす当り
活性成分として約10〜約2009であり、毎日2〜4
回に分けて1回約2.5〜約1001#//kgとなる
量を非経口的に投与するのが適当である。
えばIIIW乳動物の呼吸器感染症、尿路感染症、化膿
性疾患、胆M感染症、腹内感染症、産婦人科感染症、外
科感染症などの治療に用いることができる。その1日投
与量は、処理される患者の状態及び宿主の体重、投与の
方法及び頻度、一般的感染に幻して好適な非経口的方法
及び腸感染に刻する経[I的方法によってき゛まってく
る。一般に1日当りの経ロ的イ吏用triは、1日当り
1N1だはそれ以上の適用において、患者の体重1 k
y当り活性成分約15〜600〜からなる。大人の人間
−に対する好適な1日当りの使用量は、体重1にす当り
活性成分として約10〜約2009であり、毎日2〜4
回に分けて1回約2.5〜約1001#//kgとなる
量を非経口的に投与するのが適当である。
化合物(I)を含む組成物は、例えば固体または液体の
経口的に摂取できるような幾つかの単位使用形態で投与
し得る。液体または固体の単位使用当りの組成物は活性
物質0.5〜99%を含有する。好適な範囲は、約10
〜6096である。組成物は、一般に、活性成分約15
〜1500〜を含有している。しかしながら、一般に、
約250〜1000〜の範囲の使用量を使用することが
好適である。
経口的に摂取できるような幾つかの単位使用形態で投与
し得る。液体または固体の単位使用当りの組成物は活性
物質0.5〜99%を含有する。好適な範囲は、約10
〜6096である。組成物は、一般に、活性成分約15
〜1500〜を含有している。しかしながら、一般に、
約250〜1000〜の範囲の使用量を使用することが
好適である。
本発明の化合物(■)、その塩またはエステルは、上記
のごとき用途のほかにもβーラクタマーゼ阻害作用を有
しているのでβ−ラクタム抗生物質と併用してもよい。
のごとき用途のほかにもβーラクタマーゼ阻害作用を有
しているのでβ−ラクタム抗生物質と併用してもよい。
このよりなβーラークタム系抗生物質の例としては、た
とえばベンジルペニシリン、フエノキシメチルペニシリ
ン、カルベニンリン、アンピシリン、アモキシシリン、
スルペニシリンなどのペニシリン系抗生物質が、またた
と工ばセファロリジン、セファロチン、セファゾリン、
セファレキシン、セホキシチン、セフアセドリル、セフ
ァマンドール、セフメノギシム、セファロチン、セフオ
チアム、セフオタキレム、士ファピリン、セファレキシ
ン、セフラジン、セファログリシンなどのセファロスポ
リン系抗生物質などを用いることができる。
とえばベンジルペニシリン、フエノキシメチルペニシリ
ン、カルベニンリン、アンピシリン、アモキシシリン、
スルペニシリンなどのペニシリン系抗生物質が、またた
と工ばセファロリジン、セファロチン、セファゾリン、
セファレキシン、セホキシチン、セフアセドリル、セフ
ァマンドール、セフメノギシム、セファロチン、セフオ
チアム、セフオタキレム、士ファピリン、セファレキシ
ン、セフラジン、セファログリシンなどのセファロスポ
リン系抗生物質などを用いることができる。
本Km ”d 約物の1−スルホ−2−オキソアゼチジ
ン誘導体(I)は、たとえば化合物(II)をスルホン
化するこ−とにより製造できる。
ン誘導体(I)は、たとえば化合物(II)をスルホン
化するこ−とにより製造できる。
化合物(「)は、種々の酸または塩基との塩、エステル
、シリ)し誘導体等の形で本反応の原料として使用でき
る。また、化合物(n)は、3位と4位に置換基分有す
るので、シス−トランス異性体が存在L7、さらに3位
と4位の伏素が不斉炭素でめるだめ理i!ij−ヒ少く
とも合計4種類の立体異性体が存在するが、これら立体
異性体を単独であるいは混合物のいずれの状態でも使用
することができる。RおよびR1で示される基に不斉炭
素を有する場合も同様であり、その結果生ずる立体異性
体は単独であるいは混合物のいずれの状態でも使用する
ことができる。
、シリ)し誘導体等の形で本反応の原料として使用でき
る。また、化合物(n)は、3位と4位に置換基分有す
るので、シス−トランス異性体が存在L7、さらに3位
と4位の伏素が不斉炭素でめるだめ理i!ij−ヒ少く
とも合計4種類の立体異性体が存在するが、これら立体
異性体を単独であるいは混合物のいずれの状態でも使用
することができる。RおよびR1で示される基に不斉炭
素を有する場合も同様であり、その結果生ずる立体異性
体は単独であるいは混合物のいずれの状態でも使用する
ことができる。
化合物(n)の塩またはエステルとしては、たとえば上
記の化合物(I)で述べたごとき塩、エステルなどが用
いられる。°化合物(II)はシリル化剤でシリル化さ
れていてもよい。シリル化剤としては、たとえば式P1
P”P3Si ・Hal〔式中、Pl、p2 、p3
はそれぞれたとえば炭素数1ないし4の低級アルキ/L
/ (たとえばメチル、エチル、n −プロピル、i−
プロピル、n−ブチルなど)、アリール(たとえばフェ
ニル、トリルなど)などの炭化水素基を、I(alはハ
ロゲン好ましくはクロル、ブロムを示し、そしてpl
、p2 、p3 のうち1つ−または2つはハロゲ
ン好ましくはクロル、ブロムを、pi 、p2 、p
3 のうち1つは水素原子であってもよい。〕で表わさ
れる化合物などが用いられる。さらに、たとえばヘキザ
アルキ)v(C1−4)シクロトリシラザン、オクタア
ノ7キ/L/(Cニー4)シクロテトラシラザン、トリ
アルキ)v((4−4)シリルアセタミド、ビス−トリ
アルキル(C1−4)シリルアセタミドなどもンリル化
剤として用いられる。シリル化剤の好ましいものとして
は、たとえば式 %式% 〔式中、Yl およびY2 は低級アルキル、フェ
ニル、ベンジル−または低級アルコキシ基を、¥3
はt−ブチ)Vまたはイソプロピル基を、Yはシリル化
剤から脱離する反応性の基をそれぞれ意味する〕で示さ
れるシリル化合物がある。上記の一般式で示されるシリ
ル化剤においてyl 、y2 で示される低級アルキ
)v基としては、たとえばメチル、クロ。 ( ロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロヒル。
記の化合物(I)で述べたごとき塩、エステルなどが用
いられる。°化合物(II)はシリル化剤でシリル化さ
れていてもよい。シリル化剤としては、たとえば式P1
P”P3Si ・Hal〔式中、Pl、p2 、p3
はそれぞれたとえば炭素数1ないし4の低級アルキ/L
/ (たとえばメチル、エチル、n −プロピル、i−
プロピル、n−ブチルなど)、アリール(たとえばフェ
ニル、トリルなど)などの炭化水素基を、I(alはハ
ロゲン好ましくはクロル、ブロムを示し、そしてpl
、p2 、p3 のうち1つ−または2つはハロゲ
ン好ましくはクロル、ブロムを、pi 、p2 、p
3 のうち1つは水素原子であってもよい。〕で表わさ
れる化合物などが用いられる。さらに、たとえばヘキザ
アルキ)v(C1−4)シクロトリシラザン、オクタア
ノ7キ/L/(Cニー4)シクロテトラシラザン、トリ
アルキ)v((4−4)シリルアセタミド、ビス−トリ
アルキル(C1−4)シリルアセタミドなどもンリル化
剤として用いられる。シリル化剤の好ましいものとして
は、たとえば式 %式% 〔式中、Yl およびY2 は低級アルキル、フェ
ニル、ベンジル−または低級アルコキシ基を、¥3
はt−ブチ)Vまたはイソプロピル基を、Yはシリル化
剤から脱離する反応性の基をそれぞれ意味する〕で示さ
れるシリル化合物がある。上記の一般式で示されるシリ
ル化剤においてyl 、y2 で示される低級アルキ
)v基としては、たとえばメチル、クロ。 ( ロメチル、エチル、n−プロピル、イソプロヒル。
n−ブチル、 tert−ブチル等が、低級アルコキシ
基としてはたとえばメトキン、エトキシ、n−プロポキ
シ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、土、−ブトキシ等
が用いられる。まだシリル化剤から脱離する反応性の基
Yとしては、ハロゲン(たとえばクロル、ブロム等)の
他たとえばN −() リアルギルシリル)トリフルオ
ロア士トイミドイルオキン基1N−()リアルギルシリ
ル)アセトイミドイルオキV基−ホルミルアミノ、アシ
ルアミノ基キシピオニルアミノ、ブチリルアミノ、トリ
フルオロアセチルアミノ等のアシルアミノ基;(トリー
も一ブチμジメチルシリル ピルジメチルシリルアミノ、(クロロメチルジメチルシ
リル アミノ基;アミノ:メチルアミノ、エチルアミノ。
基としてはたとえばメトキン、エトキシ、n−プロポキ
シ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、土、−ブトキシ等
が用いられる。まだシリル化剤から脱離する反応性の基
Yとしては、ハロゲン(たとえばクロル、ブロム等)の
他たとえばN −() リアルギルシリル)トリフルオ
ロア士トイミドイルオキン基1N−()リアルギルシリ
ル)アセトイミドイルオキV基−ホルミルアミノ、アシ
ルアミノ基キシピオニルアミノ、ブチリルアミノ、トリ
フルオロアセチルアミノ等のアシルアミノ基;(トリー
も一ブチμジメチルシリル ピルジメチルシリルアミノ、(クロロメチルジメチルシ
リル アミノ基;アミノ:メチルアミノ、エチルアミノ。
プロピルアミン等のアルキルアミノ
ジメチルアミノ、N−クロロメチル−N−メチルアミノ
、 Ii 、 N−ジエチルアミノ、 N 、 N−ジ
グロヒルアミノ,Nーメチ)V − N−エチルアミノ
。
、 Ii 、 N−ジエチルアミノ、 N 、 N−ジ
グロヒルアミノ,Nーメチ)V − N−エチルアミノ
。
N−メチ/l/−N−プロヒルアミノ、N−エチル−N
−プロピルアミノ等のN,N−ジアルキルアミノ基1イ
ミダシイ)v時の複素環式基が用いられる。
−プロピルアミノ等のN,N−ジアルキルアミノ基1イ
ミダシイ)v時の複素環式基が用いられる。
これらYで表わされる反応性の基におけるアルキル基と
しては、炭素数1ないし4のものがよく、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブ
チルなどが用いられる。
しては、炭素数1ないし4のものがよく、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブ
チルなどが用いられる。
このようなシリル化合物の具体的な例としては、N 、
O−ビス(t−ブチルジメチルシリル)トリフルオロ
アセトアミド、N、0−ビス(イソプロピルジメチルシ
リル チルイソプロピルシリル)アセトアミド、イソプロピル
ジメチルシリルアセトアミド、ビス(ジメチ/L/第3
級エチルンリ/l/)アセトアミド、N−メチ/l/ー
Nーtーブチルジメチルシリルアセトアミド、N−メチ
ル−N−イソプロピルジメチルシリルトリフルオロアセ
トアミド、N−t−ブチルジメチルシリルジエチルアミ
ン、1.3−ビス(クロロメチzL/)−1.1,3.
3−テトラ−t−ブチルジメチルジシラザン、N−イソ
プロピルジメチルシリルイミダゾール クロロシラン、イソプロヒルジエチルクロロシラン、イ
ソプロピルメチルシクロロンラン。
O−ビス(t−ブチルジメチルシリル)トリフルオロ
アセトアミド、N、0−ビス(イソプロピルジメチルシ
リル チルイソプロピルシリル)アセトアミド、イソプロピル
ジメチルシリルアセトアミド、ビス(ジメチ/L/第3
級エチルンリ/l/)アセトアミド、N−メチ/l/ー
Nーtーブチルジメチルシリルアセトアミド、N−メチ
ル−N−イソプロピルジメチルシリルトリフルオロアセ
トアミド、N−t−ブチルジメチルシリルジエチルアミ
ン、1.3−ビス(クロロメチzL/)−1.1,3.
3−テトラ−t−ブチルジメチルジシラザン、N−イソ
プロピルジメチルシリルイミダゾール クロロシラン、イソプロヒルジエチルクロロシラン、イ
ソプロピルメチルシクロロンラン。
tert−ブチルジメチルクロロシラン、イソプロピル
ジノチルクロロシラン、t−ブチルジエチルクロロシラ
ン等が用いられ、このうちtertープチルジメチルク
ロロシラン,イソプロピルジメチルクロロシラン等を用
いた場合にはシリル誘尋体を安定に単離しうる。シリル
化反応の温度は0°〜50°Cの温度、好ましくは38
℃までの温度、通常室温(約20℃)で行われ、反応時
間は数分(約10分)ないし24時間である。反応は例
えば、酢酸エチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,14−ジメチルホ
ルムアミド、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン
、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニ
トリル等、またはこれらの混合溶媒、その他この反応に
関与しない溶媒中で行なうのが便宜である。またこの反
応は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無
機塩基或いはたとえはトリエチルアミン、トリブチルア
ミン等のトリアルキルアミン、タトエばトリベンジルア
ミン等のトリアラルキルアミン、N−メチルモルホリン
、N−メチルピペリジンININージアルキルアニリン
、 N 、 N−ジアルキルベンジルアミン、ピリジン
、ピコリン、)vチシン等の有機三級アミン、或いは1
,5−ジアザビシクロ〔4,3.0〕ノン−5−エン、
1.4−ジアザビシクロ[2,2.2〕オクタン、■,
8−ジアザビシクロ〔5,4,4)ウンデセン−7等の
有機塩基の存在下に行なうことができ、塩基が液体のも
のは溶媒を兼ねて使用することができる。
ジノチルクロロシラン、t−ブチルジエチルクロロシラ
ン等が用いられ、このうちtertープチルジメチルク
ロロシラン,イソプロピルジメチルクロロシラン等を用
いた場合にはシリル誘尋体を安定に単離しうる。シリル
化反応の温度は0°〜50°Cの温度、好ましくは38
℃までの温度、通常室温(約20℃)で行われ、反応時
間は数分(約10分)ないし24時間である。反応は例
えば、酢酸エチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,14−ジメチルホ
ルムアミド、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン
、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニ
トリル等、またはこれらの混合溶媒、その他この反応に
関与しない溶媒中で行なうのが便宜である。またこの反
応は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の無
機塩基或いはたとえはトリエチルアミン、トリブチルア
ミン等のトリアルキルアミン、タトエばトリベンジルア
ミン等のトリアラルキルアミン、N−メチルモルホリン
、N−メチルピペリジンININージアルキルアニリン
、 N 、 N−ジアルキルベンジルアミン、ピリジン
、ピコリン、)vチシン等の有機三級アミン、或いは1
,5−ジアザビシクロ〔4,3.0〕ノン−5−エン、
1.4−ジアザビシクロ[2,2.2〕オクタン、■,
8−ジアザビシクロ〔5,4,4)ウンデセン−7等の
有機塩基の存在下に行なうことができ、塩基が液体のも
のは溶媒を兼ねて使用することができる。
かくして得られる化合物(II)のシリル銹尋体は、反
応混合物のま1であるいは下記のごとき公知の手段によ
る単離、f#製後に、本スμホン化反応の原料として用
いられる。
応混合物のま1であるいは下記のごとき公知の手段によ
る単離、f#製後に、本スμホン化反応の原料として用
いられる。
このようにして得られる化合物( ’II )の1−シ
jJivgm体において、上記R1 が保護されてい
るアミン基の場合、保護板を脱離してから、さらにアシ
ル化反応に伺し、所望の化合物(If)の1−ンリル誘
導体を製造することもできる。この3位のアシル化反応
は収率良く進行し操作も1m便なため容易に行うことが
でき、所望のアシル基で置換された柚々の2−オキソア
ゼチジン誘導体の合成にとって極めて有用であり、さら
に本発明のスルホン化反応を連続して行なうことも可能
である。
jJivgm体において、上記R1 が保護されてい
るアミン基の場合、保護板を脱離してから、さらにアシ
ル化反応に伺し、所望の化合物(If)の1−ンリル誘
導体を製造することもできる。この3位のアシル化反応
は収率良く進行し操作も1m便なため容易に行うことが
でき、所望のアシル基で置換された柚々の2−オキソア
ゼチジン誘導体の合成にとって極めて有用であり、さら
に本発明のスルホン化反応を連続して行なうことも可能
である。
本反応のスルホン化とは、化合物(1f)の1位にスル
ホ基を尋人することをいい、化合物(II)とたとえば
無水硫酸、あるいは無水硫酸の反応性誘導体などとを反
応させることにより行なう。無水硫酸の反応性誘導体と
しては、たとえば無水硫酸−塩基コンプレックス(たと
えば無水硫酸−ピリジン、無水硫酸−トリメチルアミン
、無水硫酸−ピコリン、無水硫酸−ルチジン、無水硫酸
−11、N−ジメチルホルムアミドなど)、無水硫酸−
ジオキサン、無水硫酸−クロロスルホン酸などの付加体
などが用いられる。
ホ基を尋人することをいい、化合物(II)とたとえば
無水硫酸、あるいは無水硫酸の反応性誘導体などとを反
応させることにより行なう。無水硫酸の反応性誘導体と
しては、たとえば無水硫酸−塩基コンプレックス(たと
えば無水硫酸−ピリジン、無水硫酸−トリメチルアミン
、無水硫酸−ピコリン、無水硫酸−ルチジン、無水硫酸
−11、N−ジメチルホルムアミドなど)、無水硫酸−
ジオキサン、無水硫酸−クロロスルホン酸などの付加体
などが用いられる。
上記反応は、化合物(■)1モルに対し、熱水硫酸また
はその反応性誘導体を約1〜10モル、゛好ましくは約
1〜5モル使用する。反応温度は、約−78〜約80℃
、好ましくは約−20〜約60℃である。」二記反応に
あたっては、溶媒を使用してもよく、該溶媒としては、
水、またはジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルなどのエージ/1’類、酢酸エチル、ギーエチ
ルなどのエステル類、クロロホルム、ジクロルメタンな
どのハロゲン(fJ化水素m、ベンゼン、トルエン、n
−ヘキサンなどの炭化水素類、↑J、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類など通常の有機溶媒が単独または混合して用いられる
。用いられる原料(■)、スルホン化剤、反応温度、溶
媒の種類により異なるが、通常数十分から数十時間で反
応は終了するが、ときに数十日間を要することもある。
はその反応性誘導体を約1〜10モル、゛好ましくは約
1〜5モル使用する。反応温度は、約−78〜約80℃
、好ましくは約−20〜約60℃である。」二記反応に
あたっては、溶媒を使用してもよく、該溶媒としては、
水、またはジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテルなどのエージ/1’類、酢酸エチル、ギーエチ
ルなどのエステル類、クロロホルム、ジクロルメタンな
どのハロゲン(fJ化水素m、ベンゼン、トルエン、n
−ヘキサンなどの炭化水素類、↑J、N−ジメチルホル
ムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類など通常の有機溶媒が単独または混合して用いられる
。用いられる原料(■)、スルホン化剤、反応温度、溶
媒の種類により異なるが、通常数十分から数十時間で反
応は終了するが、ときに数十日間を要することもある。
反応終了後、反応混合物を溶媒抽出、再結晶、クロマト
グツフィー等それ自体公知の精製分離手段に付すことに
より、化音物(I)を任意純度のものとして得ることが
できる。
グツフィー等それ自体公知の精製分離手段に付すことに
より、化音物(I)を任意純度のものとして得ることが
できる。
また、本願目的物(I)は、式
〔式中の記号は前記と同意義〕で表わされる化合物をア
シル化することにより製造することもできろ。
シル化することにより製造することもできろ。
本方法におけるアシル化は、化合物(■)(種々の塩、
エステル、シリル誘導体を含む)1モルに対してアシル
化剤を1モル以上好ましくは1.2〜4モル反応させる
ことにより行なわれる。この反応において使用されるア
シル化剤は、R1で表わされるアシル基を含む有機カル
ボン酸〔l C0OH:式中、RoCOijRl で示
されるアシル化されたアミン基におけるアシ/1/基と
同意1減〕、もしくはこれらの酸のカルボキシル基にお
ける反応性誘導体であってもよい。
エステル、シリル誘導体を含む)1モルに対してアシル
化剤を1モル以上好ましくは1.2〜4モル反応させる
ことにより行なわれる。この反応において使用されるア
シル化剤は、R1で表わされるアシル基を含む有機カル
ボン酸〔l C0OH:式中、RoCOijRl で示
されるアシル化されたアミン基におけるアシ/1/基と
同意1減〕、もしくはこれらの酸のカルボキシル基にお
ける反応性誘導体であってもよい。
こ\で、上記有機酸の反応性誘導体としては、例えば、
酸無水物、活性アミド、活性エステル、酸ハライド、活
性チオエステル等があげられ、このような有機酸の反応
性誘導体を具体的に述べると次のとおりである。
酸無水物、活性アミド、活性エステル、酸ハライド、活
性チオエステル等があげられ、このような有機酸の反応
性誘導体を具体的に述べると次のとおりである。
1)酸無水物:
ここで酸無水物としては、例えば、ハロゲン化水素酸(
例えば、塩酸、具化水素酸等)混合酸無水物、モノアル
キ)v炭酸混合酸無水物、脂肪族カルボン酸(例えば、
酢酸、ビパル酸、吉草酸、イソ吉草酸、トリクロル酢酸
等)混合酸無水物、芳香族カルボン酸(例えば、安息香
酸等)混合酸無水物、対称型酸無水物等があげられる。
例えば、塩酸、具化水素酸等)混合酸無水物、モノアル
キ)v炭酸混合酸無水物、脂肪族カルボン酸(例えば、
酢酸、ビパル酸、吉草酸、イソ吉草酸、トリクロル酢酸
等)混合酸無水物、芳香族カルボン酸(例えば、安息香
酸等)混合酸無水物、対称型酸無水物等があげられる。
2)活性アミド:
ここで活性アミドとしては例えば、ピラゾール、イミダ
ゾール、4−置換イミダノール、ジメチルピラゾール、
ベンゾトリアゾール等とのアミドがあげられる。
ゾール、4−置換イミダノール、ジメチルピラゾール、
ベンゾトリアゾール等とのアミドがあげられる。
3)活性エステ/L/:
ここで活性エステルとしては例えば、メチルエステル、
エチルエステル、メトキシメチルニスデル、プロパルギ
ルエステル、4−ニトロフェニルエステ/L/、2.4
−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエス
テル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニル
エステル等のエステルの他、l−ヒドロキン−IH−2
−ピリドン、N−ヒドロキシサクシンイミド、N−ヒl
’ロキシフタルイミド等と前記カルボン酸等の酸とのエ
ステル等があげられる。
エチルエステル、メトキシメチルニスデル、プロパルギ
ルエステル、4−ニトロフェニルエステ/L/、2.4
−ジニトロフェニルエステル、トリクロロフェニルエス
テル、ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニル
エステル等のエステルの他、l−ヒドロキン−IH−2
−ピリドン、N−ヒドロキシサクシンイミド、N−ヒl
’ロキシフタルイミド等と前記カルボン酸等の酸とのエ
ステル等があげられる。
このような有機酸の反応性誘導体は使用する酸の種類に
よって適宜選択さJ′L、さらにアシル化剤として遊離
の酸を使用する場合には縮合剤の存在下に反応を行なう
のが好ましく、そのような縮合剤としては例えば、N、
N−シンクロへキンpカルボジイミド、N−シクロヘキ
シ/L/ −11’−モルホリノエチルカルボジイミド
、N−シクロヘキシル−N’−(4−ジエチルアミノシ
クロヘキシ)V)カルボジイミド、N−エチル−N’−
(3−ジメチルアミノプロピ/I/)カルボジイミド等
があげられる。
よって適宜選択さJ′L、さらにアシル化剤として遊離
の酸を使用する場合には縮合剤の存在下に反応を行なう
のが好ましく、そのような縮合剤としては例えば、N、
N−シンクロへキンpカルボジイミド、N−シクロヘキ
シ/L/ −11’−モルホリノエチルカルボジイミド
、N−シクロヘキシル−N’−(4−ジエチルアミノシ
クロヘキシ)V)カルボジイミド、N−エチル−N’−
(3−ジメチルアミノプロピ/I/)カルボジイミド等
があげられる。
該アシル化反応は、通常耐媒中で行なわれる。
溶媒としては水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、N。
ル、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル、N。
N−ジメチルホルムアミド、 N 、 N−ジメチル
アセトアミド、ピリジンまたはその他の反応に関与しな
い一般有機溶媒があげられ、これらのうち親水性の溶媒
は水と混合して使用することもできる。
アセトアミド、ピリジンまたはその他の反応に関与しな
い一般有機溶媒があげられ、これらのうち親水性の溶媒
は水と混合して使用することもできる。
またアシル化反応は炭酸アルカリ金属、トリメチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N−メチル
モルホリン、N−メチルピペリジV等のトリアルキルア
ミン、 N 、 N−ジアルキルアニリン、 N 、
N−ジアルキルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン
、ルチジン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,t)l
ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ(2,2,,
2)オクタン、1゜8−ジアザビシクロ(5,,4,4
1ウンデセン−7等の塩基の存在下に行なうことができ
、塩基もしくは前述の縮合剤のうち液体のものは溶媒を
兼ねて使用することができる。反応温度は特に限定され
ないが、通常冷却下ないしは室温で行なわれることが多
い。数分〜数十時間で反応は完了する。
ン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N−メチル
モルホリン、N−メチルピペリジV等のトリアルキルア
ミン、 N 、 N−ジアルキルアニリン、 N 、
N−ジアルキルベンジルアミン、ピリジン、ピコリン
、ルチジン、1,5−ジアザビシクロ〔4,3,t)l
ノン−5−エン、1,4−ジアザビシクロ(2,2,,
2)オクタン、1゜8−ジアザビシクロ(5,,4,4
1ウンデセン−7等の塩基の存在下に行なうことができ
、塩基もしくは前述の縮合剤のうち液体のものは溶媒を
兼ねて使用することができる。反応温度は特に限定され
ないが、通常冷却下ないしは室温で行なわれることが多
い。数分〜数十時間で反応は完了する。
得られる目的物(I)は、自体公知の手段たとえば濃縮
、液性変換、転溶、溶媒抽出、結晶化、再結晶、分留、
クロマトグラフィなどによシ単離精製することができる
。
、液性変換、転溶、溶媒抽出、結晶化、再結晶、分留、
クロマトグラフィなどによシ単離精製することができる
。
このアシル化反応において、原料化合物(III)もし
くはそれらの塩類およびアンル化剤はそれらの化合物中
に不斉炭素を有する場合には、立体異性体を単独である
いは混合物のいずれの状態でも使用することができる。
くはそれらの塩類およびアンル化剤はそれらの化合物中
に不斉炭素を有する場合には、立体異性体を単独である
いは混合物のいずれの状態でも使用することができる。
また、この反応でこれらの異性体が混在して生成する場
合には必要に応じて夫々をカラムクロマトグラフィ、再
結晶等の常法により単離することができる。
合には必要に応じて夫々をカラムクロマトグラフィ、再
結晶等の常法により単離することができる。
1だ、本願目的物(I)におけるRは、1位にスルホ基
を有した状態で基の変換を行うこともでき、その結果別
の目的物に導くこともできる。たト、tJfRがアセト
キシメチル、メタンスルホニルオキシメチル、ヨードメ
チル等の場合、適当な求核性試薬を反応させることによ
#)Rを所望の基に変換することが可能である。このよ
うな求核性試薬としては、たとえばアルキノクチオール
、アリ−ノーチオール、痩素環髪オール、ピリジン1な
どが用いられ、その結果Rが置換チオメチル、第4級ア
ンモニウムメチルなどで示される目的物(j)を得るこ
とができる。アルキノ5、アリ−1f、複素環基i第四
級アンモニウム塩、さきに定義されたものと同様である
。反応は好ましくは水溶液中、あるいはたとえばアセト
ン、アセトニトリル、N。
を有した状態で基の変換を行うこともでき、その結果別
の目的物に導くこともできる。たト、tJfRがアセト
キシメチル、メタンスルホニルオキシメチル、ヨードメ
チル等の場合、適当な求核性試薬を反応させることによ
#)Rを所望の基に変換することが可能である。このよ
うな求核性試薬としては、たとえばアルキノクチオール
、アリ−ノーチオール、痩素環髪オール、ピリジン1な
どが用いられ、その結果Rが置換チオメチル、第4級ア
ンモニウムメチルなどで示される目的物(j)を得るこ
とができる。アルキノ5、アリ−1f、複素環基i第四
級アンモニウム塩、さきに定義されたものと同様である
。反応は好ましくは水溶液中、あるいはたとえばアセト
ン、アセトニトリル、N。
N−ジメチルホルムアミドのような水混和性溶媒、また
はそれらと水との混合物中で行われる。その際病酸アル
カリ、リン酸アルカリなどの塩基の添加が好ましい場合
もある。反応は通常20〜100°Cの範囲で行われる
。得られる目的物(I)はスルホン化、アシル化などに
より得られた場合と同様に、自体公知の手段で単離、精
製することができる。
はそれらと水との混合物中で行われる。その際病酸アル
カリ、リン酸アルカリなどの塩基の添加が好ましい場合
もある。反応は通常20〜100°Cの範囲で行われる
。得られる目的物(I)はスルホン化、アシル化などに
より得られた場合と同様に、自体公知の手段で単離、精
製することができる。
かくして得られる目的物(I)が保護基を有する場合に
は、必要に応じてその保護基を除去することができる。
は、必要に応じてその保護基を除去することができる。
該保護基を除去する方法としては、その保護基の81類
に応じて、酸による方法、塩基による方法、ヒドラジン
による方法、還元による方法、イミノハロゲン化剤、つ
いでイミノエーテル化剤を作用させた後必要に応じて加
水分解する方法等の常用の方法を適宜選択して行うこと
ができる。ここで酸による方法の場合には、保護基の種
類その他の条件によって異なるが、酸として例えば塩酸
、硫酸、リン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ
酢酸、プロピオン酸、ペンセンスルホン酸、p−)ルエ
ンスルホン酸等の有機溶の他、酸性イオン交換回脂等が
使用される。塩基による方法の場合には、保護基の種類
その他の条件によって異なるが、塩基として例えばナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属もしくはカルシウム
、マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸
塩等の無機塩基、金属アルコキサイド類、有機アミン類
、第四級アンモニウム塩等の有機塩基の他、塩基性イオ
ン交換樹脂等が使用される。
に応じて、酸による方法、塩基による方法、ヒドラジン
による方法、還元による方法、イミノハロゲン化剤、つ
いでイミノエーテル化剤を作用させた後必要に応じて加
水分解する方法等の常用の方法を適宜選択して行うこと
ができる。ここで酸による方法の場合には、保護基の種
類その他の条件によって異なるが、酸として例えば塩酸
、硫酸、リン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ
酢酸、プロピオン酸、ペンセンスルホン酸、p−)ルエ
ンスルホン酸等の有機溶の他、酸性イオン交換回脂等が
使用される。塩基による方法の場合には、保護基の種類
その他の条件によって異なるが、塩基として例えばナト
リウム、カリウム等のアルカリ金属もしくはカルシウム
、マグネシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸
塩等の無機塩基、金属アルコキサイド類、有機アミン類
、第四級アンモニウム塩等の有機塩基の他、塩基性イオ
ン交換樹脂等が使用される。
上記酸または塩基による方法の場合において縮媒を使用
する場合には親水性有機溶媒、水または混合溶媒が使用
されることが多い。
する場合には親水性有機溶媒、水または混合溶媒が使用
されることが多い。
還元による方法による場合には、保護基の種類その他の
条件により異なるが、例えばすす、亜鉛等の金属あるい
は2塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、酢酸、
プロピオン酸、塩酸等の有機および無機酸等の酸を使用
する方法、接触還元用金属触媒の存在下に還元する方法
等が挙げられ、ここで接触還元による方法で使用される
触媒としては、例えば白金線、白金海綿、白金黒、酸化
白金、コロイド白金等の白金触媒、パラジウムS綿、パ
ラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム硫酸バリウム
、パラジウム伏「俊バリウム、パラジウム炭素、パラジ
ウムシリカゲル、コロイドパラジウム等(Dパラジウム
MW、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル、
漆原ニッケル等が挙ケラれる。
条件により異なるが、例えばすす、亜鉛等の金属あるい
は2塩化クロム、酢酸クロム等の金属化合物と、酢酸、
プロピオン酸、塩酸等の有機および無機酸等の酸を使用
する方法、接触還元用金属触媒の存在下に還元する方法
等が挙げられ、ここで接触還元による方法で使用される
触媒としては、例えば白金線、白金海綿、白金黒、酸化
白金、コロイド白金等の白金触媒、パラジウムS綿、パ
ラジウム黒、酸化パラジウム、パラジウム硫酸バリウム
、パラジウム伏「俊バリウム、パラジウム炭素、パラジ
ウムシリカゲル、コロイドパラジウム等(Dパラジウム
MW、還元ニッケル、酸化ニッケル、ラネーニッケル、
漆原ニッケル等が挙ケラれる。
また金属と酸による還元方法の場合においては鉄、クロ
ム等の金属化合物と塩酸等の無機酸およびギ酸、酢酸、
プロピオン酸等の有機酸が使用される。還元による方法
は通常溶媒中で行われ、例えば接触還元による方法にお
いてはメタノール、エタノール、プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール等のアルコ−1v類、酢酸エチ
ル等が繁用される。また金属と酸による方法においては
水、アセトン等が繁用されるが酸が液体のときは酸自身
を溶媒として使用することもできる。
ム等の金属化合物と塩酸等の無機酸およびギ酸、酢酸、
プロピオン酸等の有機酸が使用される。還元による方法
は通常溶媒中で行われ、例えば接触還元による方法にお
いてはメタノール、エタノール、プロピルアルコール、
イソプロピルアルコール等のアルコ−1v類、酢酸エチ
ル等が繁用される。また金属と酸による方法においては
水、アセトン等が繁用されるが酸が液体のときは酸自身
を溶媒として使用することもできる。
酸による方法、塩基による方法、還元による方法におけ
る反応温度は、通常冷却下ないし加温程度で行われる。
る反応温度は、通常冷却下ないし加温程度で行われる。
また、イミノハロゲン化剤、ついティミノエーテル化剤
を作用させた後必要に応じて加水分解することによシ保
護基を脱離する方法の場合において使用されるイミノハ
ロゲン化剤としては例えば3塩化燐、5塩化燐、3臭化
燐、オキシ塩化燐、塩化チオニル、ホスゲン等が用いら
れる。この反応温度は特に限定されないが、通常室温な
いし冷却下で行なわれることが多い。このようにして得
られる反応生成物に作用させるイミノエーテル化剤とし
ては、アルコール類もしくは金属アルコキサイド類が用
いられ、アルコールとしてメタノール、エタノール、プ
ロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール、 t
ert−ブタノール等のアルカノール類またはこれらの
アルキル部分がメトキン、エトキン、プロポキシ、イソ
プロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基等装置1文され
た化合物が用いられ、金属アルコキサイド類としては、
上記)様なアルコールから誘導されるナトリウムアルコ
キサイド、カリウムア/I/:1キサイド等のアルカリ
金属アルコキサイドおよび力、A/シウムアルコギサイ
ド、バリウムアルコキサイド等のアルカリ土類金属アル
コキサイドなどが用いられる。
を作用させた後必要に応じて加水分解することによシ保
護基を脱離する方法の場合において使用されるイミノハ
ロゲン化剤としては例えば3塩化燐、5塩化燐、3臭化
燐、オキシ塩化燐、塩化チオニル、ホスゲン等が用いら
れる。この反応温度は特に限定されないが、通常室温な
いし冷却下で行なわれることが多い。このようにして得
られる反応生成物に作用させるイミノエーテル化剤とし
ては、アルコール類もしくは金属アルコキサイド類が用
いられ、アルコールとしてメタノール、エタノール、プ
ロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール、 t
ert−ブタノール等のアルカノール類またはこれらの
アルキル部分がメトキン、エトキン、プロポキシ、イソ
プロポキシ、ブトキシ等のアルコキシ基等装置1文され
た化合物が用いられ、金属アルコキサイド類としては、
上記)様なアルコールから誘導されるナトリウムアルコ
キサイド、カリウムア/I/:1キサイド等のアルカリ
金属アルコキサイドおよび力、A/シウムアルコギサイ
ド、バリウムアルコキサイド等のアルカリ土類金属アル
コキサイドなどが用いられる。
また、例えば、保護基が有機カルボン酸の残基であシそ
のカルボニル基に間接した炭素に遊離のアミン基、ヒド
ロキシル基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホン
酸基等の置換基がある場合にはこれらの基の瞬接基効果
をさらに高める処理を行ってカルボニル基の反応性を高
めて保護基を脱離すると好lしい結果が得られ、有利で
ある。
のカルボニル基に間接した炭素に遊離のアミン基、ヒド
ロキシル基、メルカプト基、カルボキシル基、スルホン
酸基等の置換基がある場合にはこれらの基の瞬接基効果
をさらに高める処理を行ってカルボニル基の反応性を高
めて保護基を脱離すると好lしい結果が得られ、有利で
ある。
そのような場合の例として、例えば上記のカルボニル基
に隣接した炭素上の置換基が遊離のアミン基である場合
について例示すると、その遊離のアミン基をチオウレイ
ド基に変換した後脱アシル化する方法等ベプタイド結合
の分解方法に用いられている公知の方法を適用して保護
基を脱離する方法が挙げられる。この反応の温度は特に
限定されず、保護基の種類、脱離方法等の種類に応じて
適宜選択されるが、冷却トないし加温程度の緩和な条件
で行うのが好ましい。
に隣接した炭素上の置換基が遊離のアミン基である場合
について例示すると、その遊離のアミン基をチオウレイ
ド基に変換した後脱アシル化する方法等ベプタイド結合
の分解方法に用いられている公知の方法を適用して保護
基を脱離する方法が挙げられる。この反応の温度は特に
限定されず、保護基の種類、脱離方法等の種類に応じて
適宜選択されるが、冷却トないし加温程度の緩和な条件
で行うのが好ましい。
この反応において、■7、R1がカルボキシル基を有す
る基の化合物の場合でそのカルボキシル基における誘導
体がカルボキシル基に転じる場合があるが、もちろんこ
の場合もこの発明の範囲に包含される。
る基の化合物の場合でそのカルボキシル基における誘導
体がカルボキシル基に転じる場合があるが、もちろんこ
の場合もこの発明の範囲に包含される。
このようにして得られる保−基の脱離された化合物(I
)は常法により所望の前記のごとき塩に辱くとともでき
る。
)は常法により所望の前記のごとき塩に辱くとともでき
る。
化合物(I)は、スルホ基を有するので、一般に、塩基
と作用して塩を形成し得る。したがって、化合物(I)
は、塩として採取されることもあシ、壕として得られた
ものを遊離形にしてもよくまた他の塩としてもよい。さ
らに、遊離形で得られた化合物(I)を塩としてもよい
。塩として得られた化合物(I)を遊離形にする方法と
しては、たとえば、酸を用いる方法等が用いられる。使
用される酸は、保護基の種類、その他の条件によって異
なるが、酸として例えば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機
酸、ギ酸、酢酸、p−1−ルエンスルホン酸等の有機酸
が繁用される。その他、酸性イオン交換樹脂等が使用さ
れる。また、溶媒としては例えばアセトン、テトラヒド
ロフラン、メタノール、エタノール、ジオキサン等の親
水性有機溶媒、水または混合溶媒が使用されることが多
い。本方法は、通常室1品で行fc h hるが、冷却
下ないし加t1情下に行なってもよい。反L(ヌ時間け
、酢おIび溶媒の桶川、温度にfつで異なるが、一般に
小時間で終わるのが好オしい。1東シられる遊離形の化
合物(1)は、前…4のとどき公知の手段により単離す
ることがで^る。
と作用して塩を形成し得る。したがって、化合物(I)
は、塩として採取されることもあシ、壕として得られた
ものを遊離形にしてもよくまた他の塩としてもよい。さ
らに、遊離形で得られた化合物(I)を塩としてもよい
。塩として得られた化合物(I)を遊離形にする方法と
しては、たとえば、酸を用いる方法等が用いられる。使
用される酸は、保護基の種類、その他の条件によって異
なるが、酸として例えば、塩酸、硫酸、リン酸等の無機
酸、ギ酸、酢酸、p−1−ルエンスルホン酸等の有機酸
が繁用される。その他、酸性イオン交換樹脂等が使用さ
れる。また、溶媒としては例えばアセトン、テトラヒド
ロフラン、メタノール、エタノール、ジオキサン等の親
水性有機溶媒、水または混合溶媒が使用されることが多
い。本方法は、通常室1品で行fc h hるが、冷却
下ないし加t1情下に行なってもよい。反L(ヌ時間け
、酢おIび溶媒の桶川、温度にfつで異なるが、一般に
小時間で終わるのが好オしい。1東シられる遊離形の化
合物(1)は、前…4のとどき公知の手段により単離す
ることがで^る。
なお、本紛臼における化合物(II)は、たとλは下記
のごとき方法あるいはそJlに準じたH firにより
製造rることかできる。
のごとき方法あるいはそJlに準じたH firにより
製造rることかできる。
方法1)
(バ〕H3
白)
(Vl )
方法2)
(x)。°H3
(xl)
(XI)
(X1ll )
H
(Xvil )
(XX)
力紙4)
(XXI ) (XXI
I )tXXm) 力紙5) H 0H3 (XXIV ) (XXVJ) (XXum) CXXsM)
CXXK)(XXX) 力紙6) (XXXII) 力広7) 力μ8) (E) (XXXIV) 00H3 (XxXv)OCH3 (XXXVII) (XXXWI) ””’ <xxxvフ 方法9) :j、4−1フンス1+ 3.4−)ンンス体 (XLLi3 (
XLIII):r 、+−トフンス1+
3.4−トランス捧刀体 lυン (XXXV) 0(+)i3 (XLl’VJ
(XLVJ力畝1力紙 011 (XLV工) 3 (XXXVII) 刀体12) (JCLfXJ (Liエエ) (LIVJ 力紙13) (LVII ) (LVI
II)力紙14) 0旦 (VI) (ltIXン (LX) (LXエン 力紙15J (LX工v) u1ll (LXVIエラ (LXVエエエン 刀体16) 1 1i (VI) (LX工X) (LXX) 力紙17) 3.4−トランCベシド 3.4−トランス体 3.4−トフンス捧 〔式中、Acはアセチル基を、Etはエチル基を、Me
ハメチル基f、1so−prはイソプロピル基ヲ、Ar
はアリール基を、R1′はアシル化されまたは保睦さt
たアミン基を、DBUは1.8−ジアザヒシク0(5,
4,0,)−7−ウンデセン、DCcはジシクロへキシ
ル力ルポジイミドを示す。〕上記の方法1)〜17)に
おける出発原料としては、たとえはジャーナル・オプ・
ザ・アメリカン・ケミカル・ソツィエティ−f: Jo
urnal of thθAmerican Chem
ical 5ociety ) 99巻、2352頁
(1977)に記載されているシス−3−アミノ−1−
(2,4−ジメトキシベンジル)−2−オキソアゼチジ
ン−4−カルボン酸メチルエステル(■)、特開昭51
−136694に記載されているシス−1−(2,4−
ジメトキシベンジル)−3〜7タルイミドー2−オキン
アゼチシンー4−カルボ/酸メチルエステル(XIV)
、ジャーナル争λフ゛・オーカニツク・ケミストリー(
Journal of Organic Ohθm1
日try)34巻、1477頁(1969)に記載され
ているシス−3−77ドー4−フェニル−2−オキソア
ゼチジン(XXI) 、ジャーナル・オプ・ザ・アメリ
カン・ケミカル拳ソサイエティー(Journal o
f tbθAmθrjcan ObemユcaI
5ociety ) 1 0 1 巻、4730
頁(1979)に記載されているシス−3−アジF−1
−(2,4−ジメトキシベンジル)−4−(2,2−ジ
メトキシエチル)−2−オキソアゼチジンCXXN)、
シンセンス(SynChθθ1s)1979年543負
に1畝ざJ−tているシス−1−(3,4−ジメトキシ
ベンジル)−3−フェノキシアセタミド−4−フェニル
−2−オキソアゼナジン(XXyJ)、 ジャーナル
・オプ・す・アメリカン−ケミカル書ソザイエティ10
0巻、313頁(1978年)にHU21kl!されて
いる2、2−ヅメナル−1−アザ−3−オギサビシクー
(4・2゛ゝオクタ−8−オン(LXX工)々どが用い
うtl ルア)Eゝこれらの例は出発原料金阻定t ル
モ(7) T tri h <、本願の目的に合91シ
合物ならば、い〃・fiる4(1)でも使用することが
できる。その具体的な例につし1ては、後に参考例とじ
て示さnる。
I )tXXm) 力紙5) H 0H3 (XXIV ) (XXVJ) (XXum) CXXsM)
CXXK)(XXX) 力紙6) (XXXII) 力広7) 力μ8) (E) (XXXIV) 00H3 (XxXv)OCH3 (XXXVII) (XXXWI) ””’ <xxxvフ 方法9) :j、4−1フンス1+ 3.4−)ンンス体 (XLLi3 (
XLIII):r 、+−トフンス1+
3.4−トランス捧刀体 lυン (XXXV) 0(+)i3 (XLl’VJ
(XLVJ力畝1力紙 011 (XLV工) 3 (XXXVII) 刀体12) (JCLfXJ (Liエエ) (LIVJ 力紙13) (LVII ) (LVI
II)力紙14) 0旦 (VI) (ltIXン (LX) (LXエン 力紙15J (LX工v) u1ll (LXVIエラ (LXVエエエン 刀体16) 1 1i (VI) (LX工X) (LXX) 力紙17) 3.4−トランCベシド 3.4−トランス体 3.4−トフンス捧 〔式中、Acはアセチル基を、Etはエチル基を、Me
ハメチル基f、1so−prはイソプロピル基ヲ、Ar
はアリール基を、R1′はアシル化されまたは保睦さt
たアミン基を、DBUは1.8−ジアザヒシク0(5,
4,0,)−7−ウンデセン、DCcはジシクロへキシ
ル力ルポジイミドを示す。〕上記の方法1)〜17)に
おける出発原料としては、たとえはジャーナル・オプ・
ザ・アメリカン・ケミカル・ソツィエティ−f: Jo
urnal of thθAmerican Chem
ical 5ociety ) 99巻、2352頁
(1977)に記載されているシス−3−アミノ−1−
(2,4−ジメトキシベンジル)−2−オキソアゼチジ
ン−4−カルボン酸メチルエステル(■)、特開昭51
−136694に記載されているシス−1−(2,4−
ジメトキシベンジル)−3〜7タルイミドー2−オキン
アゼチシンー4−カルボ/酸メチルエステル(XIV)
、ジャーナル争λフ゛・オーカニツク・ケミストリー(
Journal of Organic Ohθm1
日try)34巻、1477頁(1969)に記載され
ているシス−3−77ドー4−フェニル−2−オキソア
ゼチジン(XXI) 、ジャーナル・オプ・ザ・アメリ
カン・ケミカル拳ソサイエティー(Journal o
f tbθAmθrjcan ObemユcaI
5ociety ) 1 0 1 巻、4730
頁(1979)に記載されているシス−3−アジF−1
−(2,4−ジメトキシベンジル)−4−(2,2−ジ
メトキシエチル)−2−オキソアゼチジンCXXN)、
シンセンス(SynChθθ1s)1979年543負
に1畝ざJ−tているシス−1−(3,4−ジメトキシ
ベンジル)−3−フェノキシアセタミド−4−フェニル
−2−オキソアゼナジン(XXyJ)、 ジャーナル
・オプ・す・アメリカン−ケミカル書ソザイエティ10
0巻、313頁(1978年)にHU21kl!されて
いる2、2−ヅメナル−1−アザ−3−オギサビシクー
(4・2゛ゝオクタ−8−オン(LXX工)々どが用い
うtl ルア)Eゝこれらの例は出発原料金阻定t ル
モ(7) T tri h <、本願の目的に合91シ
合物ならば、い〃・fiる4(1)でも使用することが
できる。その具体的な例につし1ては、後に参考例とじ
て示さnる。
第1頁の続き
■Int、 C1,3識別記号 庁内整理番号//
(C07D 417/12 05100 277100 ) (C07D 417/14 05100 13100 31100 61100 277100 ) (C07D 405/12 05100 311100 ) (C07D 405/14 05100 09100 317100 ’) (C07D 401106 05100 213100 ) 0発 明 者 松尾泰介 茨木市南安威2丁目2番 0発 明 者 落合道彦 吹田市千里山東1丁目23番13号 手 続 補 正 書 (方式) %式% 1、事件の表示 昭和57 年特許願第 98468 号2、発明の名
称 l−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その製造法
および用途 3、補正をする者 事flとの関係 特許出願人 住 所 大阪市東区道修町2丁目27番地名 称(
293)武111薬品工業株式会ン」代表者 倉 林
育四部 4代理人 住 所 大阪市淀用区十三本町2丁目17番85号
5、補正命令の日付 昭和67年9月28日(発送日
)7 補正の内容 (1) 明細書第5ページから第100ページの浄書
(内容に変更なし)。
(C07D 417/12 05100 277100 ) (C07D 417/14 05100 13100 31100 61100 277100 ) (C07D 405/12 05100 311100 ) (C07D 405/14 05100 09100 317100 ’) (C07D 401106 05100 213100 ) 0発 明 者 松尾泰介 茨木市南安威2丁目2番 0発 明 者 落合道彦 吹田市千里山東1丁目23番13号 手 続 補 正 書 (方式) %式% 1、事件の表示 昭和57 年特許願第 98468 号2、発明の名
称 l−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その製造法
および用途 3、補正をする者 事flとの関係 特許出願人 住 所 大阪市東区道修町2丁目27番地名 称(
293)武111薬品工業株式会ン」代表者 倉 林
育四部 4代理人 住 所 大阪市淀用区十三本町2丁目17番85号
5、補正命令の日付 昭和67年9月28日(発送日
)7 補正の内容 (1) 明細書第5ページから第100ページの浄書
(内容に変更なし)。
g追 而
先に提出した願書および明細書(昭和57年5月81日
付提出の特許願(2))はオフセット印刷により作成し
たものである。
付提出の特許願(2))はオフセット印刷により作成し
たものである。
以上
433−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 〔式中、才は式−COQo(Qoは保護されまたは置換
さ匙ていてもよいアミノ基)、−coQ5(Q5は保護
さ匙ていてもよい水酸基)または−(CH2)n”−R
4a(n” ハ1fxイシ8 (D整数Y、 R4aハ
水素1’El子、カルバモイルアミノ、N−スルホカル
バモイルアミノ、カルバモイル、カルバモイルオキシ、
N−スルホカルバモイルオキシ、ハロゲノアルキルカル
ボニルカルパモイルオキン、アルキルスルホニルオキシ
、ピリジニオ、アルコキン、アルキルスルフィニル、ア
ルキルスルホニル、ハロゲノアルキルカルボニルオキシ
、ヒドロキシ、アルコキンカルボニル、アシルオキシ、
1−アルコキシイミノアルキル、アルキルカルボニルま
たはアシルアミノ基〕で表わされる基または含窒素複素
環基乞、R1はアンル化されまたは保護されていてもよ
いアミノ基乞、Xは水素原子またはメトキシ基乞示す〕
で表わされるl−スルホ−2〜オキソアゼチジン誘導体
、その塩またはエステル。 〔式中の記号は前記と同意義〕で表わさ扛る化合物、そ
の塩またはエステル乞スルホン化すること〔式中の記号
は前記と同意義〕で表わされる1−スルホル2−オキソ
アゼチジン誘導体、その塩またはエステルの製造法。 〔式中の記号は前記と同意義〕モ表わさ扛る化合物、そ
の塩またはエステル乞アシルカすること乞〔式中、Ra
ならび(二Xは前記と同意義ン、R1′iまアシル化さ
れたアミノ基暑示す〕で表わさねる1−スルホ−2−オ
キソアゼチジン誘導体、その塩またはエステルの製造法
。 〔式中の記号は前記と同意義〕で表わさ匙る1−スルホ
−2−オキソアゼチジン誘導体、その塩またはエステル
乞有効1戊分として含有することを特徴とする抗菌製剤
。 (5)β−ラクタム系抗生物質および式〔式中の記号は
前記と同意義〕で表わさゎる1 −スルホ−2−オキソ
アゼチジン誘導体、その塩またはエステルを含有するこ
とン特徴とする抗菌製剤。
Priority Applications (34)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57093463A JPS58210061A (ja) | 1982-05-31 | 1982-05-31 | 1−スルホ−2−オキソアゼチジン誘導体、その製造法および用途 |
| AU13445/83A AU564150B2 (en) | 1982-04-30 | 1983-04-12 | 1-sulfo-2-azetidinone derivatives |
| GB08310520A GB2124207B (en) | 1982-04-30 | 1983-04-19 | 1-sulfo-2-oxoazetidine derivatives |
| IL68451A IL68451A0 (en) | 1982-04-30 | 1983-04-21 | 1-sulfo-2-azetidinone derivatives,their production and use |
| ZW92/83A ZW9283A1 (en) | 1982-04-30 | 1983-04-22 | 1-sulfo-2-azetidinone derivatives their production and use |
| DE8383104061T DE3381353D1 (de) | 1982-04-30 | 1983-04-26 | Derivate der 2-azetidinon-1-sulfonsaeure, ihre herstellung und verwendung. |
| EP83104061A EP0093376B2 (en) | 1982-04-30 | 1983-04-26 | 1-Sulfo-2-azetidinone derivatives, their production and use |
| AT83104061T ATE51223T1 (de) | 1982-04-30 | 1983-04-26 | Derivate der 2-azetidinon-1-sulfonsaeure, ihre herstellung und verwendung. |
| DK188983A DK161832C (da) | 1982-04-30 | 1983-04-28 | Analogifremgangsmaade til fremstilling af 1-sulfo-2-azetidinonderivater eller farmaceutisk acceptable salte eller estere deraf |
| FI831457A FI831457A7 (fi) | 1982-04-30 | 1983-04-28 | 1-sulfo-2-atsetidinon-johdannaiset, niiden valmistus ja käyttö. |
| NZ215805A NZ215805A (en) | 1982-04-30 | 1983-04-28 | Heterocyclic thioesters |
| SU833590552A SU1480763A3 (ru) | 1982-04-30 | 1983-04-28 | Способ получени производных 1-сульфо-2-оксоазетидинона или их солей, или сложных эфиров |
| GR71251A GR78189B (ja) | 1982-04-30 | 1983-04-28 | |
| NZ204039A NZ204039A (en) | 1982-04-30 | 1983-04-28 | 1-sulpho-2-oxoazetidine derivatives and antimicrobial compositions |
| HU882264A HU199115B (en) | 1982-04-30 | 1983-04-29 | Process for production of derivatives of azetidinon |
| HU831486A HU194876B (en) | 1982-04-30 | 1983-04-29 | Process for production of new derivatives of 1-sulpha-2-azetidinon and medical preparatives containing these compounds |
| ES521954A ES8505340A1 (es) | 1982-04-30 | 1983-04-29 | Un metodo de producir un derivado de 1-sulfo-2-oxoazetidina. |
| KR1019830001836A KR840004403A (ko) | 1982-04-30 | 1983-04-29 | 1-술포-2-아조티디논 유도체의 제조방법 |
| MC831631A MC1513A1 (fr) | 1982-04-30 | 1983-04-29 | Derives de 1-sulfo-2-azetidinone,leur production et leur utilisation |
| DD83250410A DD212510B3 (de) | 1982-04-30 | 1983-04-29 | Verfahren zur herstellung von 1-sulfo-2-azetidinon-derivaten |
| CS833053A CS305383A2 (en) | 1982-04-30 | 1983-04-29 | Method of 1-sulpho-2-azetidinone's derivatives production |
| MX8483A MX155085A (es) | 1982-04-30 | 1983-04-29 | Procedimiento para preparar derivados de l-sulfo-2-oxoacetidina |
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