JPS58219178A - 3,4−ジヒドロ−2h−ベンゾピラン誘導体の製造方法 - Google Patents

3,4−ジヒドロ−2h−ベンゾピラン誘導体の製造方法

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JPS58219178A
JPS58219178A JP57102541A JP10254182A JPS58219178A JP S58219178 A JPS58219178 A JP S58219178A JP 57102541 A JP57102541 A JP 57102541A JP 10254182 A JP10254182 A JP 10254182A JP S58219178 A JPS58219178 A JP S58219178A
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万蔵 塩野
Yoshiji Fujita
芳司 藤田
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西田 卓司
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Kuraray Co Ltd
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(1) で示される3、4−ジヒドロ−2H−ベンゾビラン誘導
体の製造方法に関する。
上記式中、Rは水素原子又は保護基を表わす。
保澁基としては水酸基保膿の目的を達成する限り通常用
いらiするいずれの保護基を用いてもよく。
例えばアセナルM;、グロビオニル基、ブチリル基など
のアンル基、メチル基、t−ブナル基、トリフェニルメ
チル基、ベンジル基などが挙げられる。
1(1は水素原子又tまメナル基、エテル基、プロピル
基、メチル基などの低軟アルキル基を表わす。R2及び
R3は同−又は異なり水素原子;メナル基、ニブル基、
グロビル基、ブナル基などの低級アルキル基;若[2く
はメトギア基、工l・キシ基、ノロボキ7基、lブトキ
ン基などの低級アルコキン基を表わすか、又けIt2と
R3は一緒Q(なって−CI−1−cローCH−、C1
1基を形成する。R4は有機酸R’ coonを形成し
得る14表基を表わ(71例えヲ」:メナル基、エテル
基、グロビル基、メチル基、ベンナル基、オフナル基、
ウンデンル基、ペンタテンル基、ヘゾタナ/ル基、ンク
ロベンナル基、ンクロヘギンルMi  2−シクロヘキ
ンルエテル基などのアルキル基;ビニル基、l−ゾロベ
ニル基、アリル基、インプロペニル基、2−メチルアリ
ル基。
l−ブテニル2iIK:、2−ブデニル基、1.3−ブ
タジェニルmfxどのアルケニル基:フェニルi&、l
jル基、キンリル基、ナフナル基、ピリジル基など]−
f IJ  −ル4 ; ヘンフル品、■−7エニルエ
ナル基、2−フェニルエテル基、l−フェニルプロピル
&、3−フェニルグロビル&、2−メチル−1−フェニ
ルグロビル基、2−ナフチルエチル基などのアラルギル
基;メトキ/メチル基、エトキシメチル基、プロポキン
メチル基、プトキ7メチル基、エトキンエチル基、シク
ロヘキシルオキシメチル基、メントキシメチル基などの
アルコキシアルキル基:フエノキシメテル基、2−フェ
ノキシエテル基、ナフトキンメチル基などの7す=ルオ
キシアルキル基などである。
一般式(1)で示される3、4−ジヒドロ゛−2H−ベ
ンゾビラン誘導体は有機材料、特に合成樹脂の光、熱及
び酸化剤の影響に対する安定剤として有用である(%開
開56−145283号公報参照)。
従来、3.4−ジヒドロー2H−ベシゾピラン誘導体は
ハイドロキノン又はその誘導体と次式でノ廖されるアル
ケンジオール又はそのモノエステルと全ルイス酸の存在
下で反応させ、必要によりアシル化するころにより製造
されて@′fc<%開開49−88876号公報及び特
開昭56−145282号公報参照)。しかしながら、
この方法は原料として用いるアルケンジオール及びその
モノエステルがグリニヤール反応によって製造されるな
どその製造コストは必すしも安いもので#、Lなく、工
業的に有利な方法とtま−ばい難い。
本発明者ら汀容易にしかも安価に人手できる原料′を用
いて3.4−ジヒドlJ−2H−ベンゾビラン誘導体(
lf−製造する方法を開発すべく便々検討した結果、4
−メチル−5,0−ジヒドCJ −214−ピラフ又t
、f4−メナレンテトフヒドロビランから一般式(11
) %式% (1) C式中、R4は一般式<1)におけると同じ意味を有(
2、Qは・・aゲン原子又tまR5C(JO−基を表わ
す。
ここで1t51.j 1ζ4と同−又1異なり1有磯基
を表わ丁。) で示されるアルケン誘導体が容易に得ら几、このアルク
ン誘導体km料として3,4−ジヒドロ−211−ベン
ゾビラン助導体が容易に製造されること全見出し、本発
明に至った。
すなわち1本発明によれば、一般式(ill)〔式中、
 R,R1,R2及びR3i、を一般式(しにおけると
同じ意味を有する。〕 で示される・・イドロキノン又はその誘導体と前記−・
般式(n)で示されるアルケン誘導体とをルイス酸の存
在下に反応させることにより前記一般式(1)で示され
る3、4−ジヒドロ−2H−ベンゾピラン助導体を製造
することができる。“また、一般式(1)で示されるア
ルケン誘導体は一般式(IV )(式中、X及び2のい
ずれか一方は水素原子であり他力はYと一緒になって結
合を形成1−る。)で示されるビラ/縛導体と一般式<
V)1 R’−C−Q             ・・ (V)
〔式中、R4及びQ&ま一般式(It)におけると同じ
意味を有する。」 で示される酸誘導体とをルイス酸の存在下に反応さぼる
ことによって容易にイ与られる。
原料として用いる4−メチル−5,6−シヒドロー21
(−ヒラン及び4−メナレンテトラヒドービランはイソ
ン゛テンとホルマリンよりインフ゛レンを製造する際に
多鼠に副生じ、゛また酸触媒の存在下での第3級ブタノ
ールとポルム゛fルテヒド水浴液との反応などによって
も合成することができ、容易にしかも安価に入手できる
一般式(fV)で示されるビラ/誘導体と一般式■)で
示さtする酸誘導体との縮合反応−ご用いるルイス酸と
してt、1例えば、三フッ化ホウ素 エーテル錯体、塩
化アルミニウム、臭化アルミニウム、塩化第1鉄、塩化
第2鉄、塩化第1スズ、塩化第2スズ、塩化亜鉛、鎖酸
、p−トルエンスルポン酸などを挙げることかできるか
、好ましくは塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素 エー
テル錯体でめる。
ルイス酸の使用′Mは一般式(IV)で示されるピラン
誘導体に対して0.001〜0.5倍モル針、好ましく
は0.01〜0.5倍モル蓋でろる。この縮合反応は溶
媒中で行なうのが好ましく、例えば1,2−ジクロルエ
lン、ジクロルメタン、クロロホルム、111.2−ト
リクロルエチレン、四塩化炭素、クロルベンゼンなどの
ハロゲン化炭素水累;ベンゼン、トルエン、ギシレン、
シクロヘキサン、n−ヘキサン、リグロインなどの炭化
水素;ニトロメタン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル
、アセトニトリルなどの含留素化合物;メチルエチルケ
トン、酢ば、酢酸エテル、酢飯ブナルなどの含酸素化合
物又はこれらの混合物を俗媒として使用できる。溶媒の
使用量は一般式(IV)で示されるビ゛ラン肪導体に対
して約2〜100倍LiM、好−ましくに約5〜20倍
nfi+tである。この締付反応は通常−5℃〜70℃
、好ましくは0℃〜50℃で行なう。このようにして得
られた一般式(U)で示されるアルケン峙導体を含む反
応混合物をそのまま一般式(ill)で示されるハイド
ロキノン又はその誘導体との反応に供することもできる
一般式(III)で示されるハイドロキノン又はその誘
導体と一般式(n)で示されるアルケン誘導体との縮合
反応は1上記の一般式(IV)で示されるビラン誘導体
と一般式(V)で示される酸誘導体との縮合反応で用い
ると同じルイス酸の存在下に行なうことができる。ルイ
ス酸の使用itは一般式(III)で示されるハイドロ
キノン又はその誘導体に対して0.0001−1倍モル
k、好ましくは0.001−0.1倍モル鼠である。こ
の縮合反応は溶媒中で行なうのが好祉しく、上記の一般
式(IV)で示されるピラン誘導体と一般式(V)で示
さノシる酸誘導体との縮合反応で使用される沼媒が同様
に用いられる。浴、霞・ 媒の使用hit tit一般式(nl)で示されるハイ
ドロキノン又【まその誘導体に対して約2〜100倍基
量。
好ましくは約5〜20倍mM −c hる。この縮合反
応は通常−40℃〜150℃、好ましくtio℃〜10
0℃で行なう。
本発明の好適な実施態様においては、一般式(IV)で
示されるピラン誘導体及びルイス酸を瘉媒に俗解又は懸
濁させ、ついで一般式(V)で示される酸誘導体を添加
し、約′0.5〜4時間攪拌を続けることにより一般式
(1)で示されるアルケン誘導体を含む反応混合物が得
られる。この反応混合物から例えば、蒸留操作により一
般式(1)で示されるアルケン誘導体を単離する。次に
、一般式(ill)で示されるハイドロキノン又はその
誘導体及びルイス酸′f:溶媒に溶解又は懸濁させ、窒
素等の不活性ガス雰囲気下に攪拌加熱しながら一般式(
ill)で示されるハイドロキノン又はその誘導体に約
して等モル−1,2倍モルmlの一般式(n)で示され
るアルケン誘導体を約0,5〜8時間に渡って添加し反
応させる。一般式(11)で示されるアルケン誘導体を
添加後さらに約0.5〜4時間攪拌を続けることによ 
   □り一般式(1)で示される3、4−ジヒドL:
I−2)(−ベンゾピラン肋導体を含む反応混合物が得
られる。
この反応混合物からの3,4−ジヒドu −2H〜ベン
ゾピラン誘導体の分離回収は通常の方法により行なうこ
とができる。例えば1反応混合物に水を加え、ついでエ
ーテルなどで抽出し、抽出液を水洗、乾燥したのち1浴
媒を留去し、ついで真空蒸留することtこより無色ない
り、 #;U淡黄色の粘稠な一般式(1)で示される3
、4−ジヒドロ−2H−ベンゾビラン鋳導体を得ること
ができる。
以下に実施例を皐げて本発明を具体的に説明する。
実施例1 窒素界囲気]ζにトリメチルハイドロキノン3.04V
、無水塩化亜鉛0.14r及び1,2−ジクロルエタン
20 mlの混合液に加熱還流しなから5−クロル−3
−メナルー:う一ペンテン=1−イル アセテート3.
53rを滴下し6滴下陵、1時間加熱還流したのち1反
応液を水にめけ、ついでエーテルで抽出した。抽出液を
食塩水で洗滌し、乾燥したのち、低沸点物を減圧下に留
去した。得られた濃縮液を蒸留することにより、下記の
物性を有する2−アセトギアエチル−3,4−ジヒドロ
−2,5゜7.8−デトクメテル−21−f−ベンゾピ
ラン−6−オールを5.14 F得た(収率88多)。
節点:178〜187℃/ 0.2 wnH?HMS 
NMRスペクトル(90MHz)δCD(Ja’1.2
2(8,311);1.6〜2.2(m1161();
2.56 (t 、 J=714z、 ’214) i
 4.06−4.4 (m、 2)I) ;4.55(
8,1H) 実施例2〜14 4−メチル−5,6−シヒドロー2H−ビラン1.96
W、1.2−ジp ロルx p ンl Oml 及(J
 無水塩化亜鉛o、osrの混合液に第1表に示すカル
ボン酸ハライド20mmol を滴下し、室温で1時間
攪拌した。得られた反応液をトリメチルハイドロキノン
27y、無水塩化亜鉛0.05r及び1,2−ジクロル
エタン18mgの混合液に加熱還流下に滴下した。滴下
後、2時間加熱還流したの5、反応混合物を冷却し、水
にあけ、ついでエーテルで抽出した。抽出液を水洗し、
乾燥後、低沸点物を留去し、得られた濃縮液をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーで精製することにより、相
当する2−アシルオキシエテル−3,4−ジヒド0−2
.5.7゜8−テトラメチル−2H−ベンツ゛ピラン−
6−;#−ルを第1表に示す収率で得fr、。
第  1  宍 2   CHsCOα    84 ・1.22(a、
3に4)、7−tf ルクc+ ラ1.6〜2.3 (
m 、 16H)、イド        2.56(t
、J=7Hz、2t()、4.06〜4.4(m、 2
11)、 4.55(8,IM) 3   C2H5C0α   86 1.06(t、J
=7Hz、3H)、プロピオン酸り     1.22
(s、3H)、Oう(ト=          1.5
〜2.7(rn、17H)、4.0.7〜4.42(m
、2H)、 4.75(a、LH) 4   (CHa )2cHcOα 82 1.1(d
、J=7Hz、6H)、イソ酪酸クロラ     1.
23 (s 、 3H)、イド        1.5
〜2.2 (rn 、 14H)、2.56 (t 、
 J =7)1z 、 2H’)、405〜4.6 (
m 、 314 )5   C4kisCOBr   
 76  (1,7〜2.35(m、25に’)、吉草
酸ブ01イ     2.53(t、J=ニアHz、2
B)、ド                    4
.05〜4.4 (m 、2f1)、4.83(br、
s、1l−1) 6  C6HnCO(1830,65〜2.35(m、
27H)、//7’cl 7#/ 0     2.5
3 (L 、 J=7Hz 、 214)、う(ト4.
(1ti=4.4(m、 211)、4.6(br、h
 、 1)1) 7   ψCoα  73 1.21(b、3)1)、
クロトンはクロ      1,46〜2.2(m、1
6)i)、ライド         2.53(L 、
 J−71iz 、 2H)、4.1〜4.55 (r
n 、 211 )、4.83(br、a 、 l1l
)、 5.63〜593 (口1.IH)、 6.8〜7.2 (m 、 11N ’)7.2〜’/
、6 (m 、 3 H’)、7.9〜8.1 (rn
 、 2B ’)7.2(d、J=8Hz、21)、 7.9(d、J=8Hz、2)1) 10  Cu1123eOQ!   87 0.7〜2
.33(m、 39H)、ラウ’)7tllり0   
  2.57(t、JニアHz、2)1’)、ライド 
        4.1〜4.4(m、3H)11  
C15H31COα  so  o、7〜2.as(m
、+71()、バルミチン酸1     2.55 (
t 、 J =7)Iz 、 2l−1)、a ラ(ト
4.0〜4.4(m、 2H)、5.1(br、s、1
it) 12  C6HnCOα  88 0.7〜2.35(
m、51H)、ステアリ/酸り     2.56←t
、J=7Hz、2H)、a ライ)”        
 4.05〜4.5(m、 3l−i)α−フェニル酪
     1.53〜2.2 (m 、 15)i ’
)、酸りcJ ライ)”       2.5(t 、
J=7Hz 、 2)1)、3.37(t 、J =7
J(z 、 IH)、4.05〜4.4 (m 、 3
f()、7.27 (sr ”■) 4.1−4.45 (m 、 311 )、7.36(
S、5M) 実施例15〜22 実施例1において無水塩化亜鉛o、x4y及び1゜2−
ジクロルエタ720 mlの代りに第2表に示すルイス
酸の所定量及び所定の溶媒2 Omiを用いて実施例1
と同様の方法により、2−アセトキシェナルー3.4−
ジヒドロ−2,5,7,8−テトラメチル−2H−ベン
ゾビラン−〇−オールを侍だ。その結果を亀2表に示す
第   2   表 15   JJ’tフルiニウム  1,2−ジクロル
エタン   54゜(0,13&) 16  塩化tJ2鉄 同  上  927(0,16
f) 17  塩化第2スズ  同  上   856(0,
13f) 18  三フッ化ホウ素   同   上    74
.3工−テル錯体 (0,14r) 19    塩  化  亜  鉛   リ  グ ロ
  イ  ン    91.0(0,14r) 20     同    上    ト  ル  エ 
 ン   87.3(0,14r) 21   同 上 酢酸エチル 86.9(0,14f
) 22    同    上   アセトニド リル  
 688(0,14r) ′A!h例23 窒素4囲気下にトリメナルノ1イドロキノン3゜042
、三7ツ化ホウ素・エーテル錯体0.28r及び1.2
・−ジクロルエタン20 mlの混合液に加熱還流しな
がら1.5−ジアセトキシ−3−メチル−2−ペンテン
4.0vを滴下した。滴下後、1時間加熱還流したのち
1反応液を水にあけ、ついでエーテルで抽出した。抽出
液を食塩水で洗滌し、乾燥したのち、低沸点物を減圧下
に留去した。得られた濃縮液を蒸留することにより、2
−アセトキンエテル−3,4〜′)ヒドロ−2,5,7
,8−テトラメチル−2H−ベンゾピラン−6−オール
を4.44f得た(収率76チ)。
実施例24 ♂ 窒素雰囲気下V()・イドロキノーン1.lOr、 三
7ツ化ホウ素・エーテル錯体0.14r及び1,2−ジ
クロルエタンl Om13の混合故に加熱還流しな〃ら
5−クロル−3−メチル−3−ベンゾン−1−イル ア
セデート1.76rを滴1した。滴下恢、さらVc、1
時間加熱還流したのち1反応混合物を冷却し1.これに
水を加え、ついでエーテルで抽出し7だ。
抽出液を水洗し、乾燥し/このち、低沸点物′t−貿去
留去得られた員縮液をシリカゲルカラムクロマドグシフ
イーで精製することVCより*  2− ’/セトキシ
エテルー3.4−ジヒドu−2−メチル−211−ベン
ゾζ°ラン−6−オールを1.92r倚た(収率76.
8%)。
実施例25 実施例24においてハイドロキノン1.1Orの代りに
2,3−ジメトキシ−5−メチル−p−ハイドロキノン
1,84j’を用いる以外tま実施例24と同様の方法
により反応及び後処理を行なうことにより、′2−アセ
トキシエチルー3,4−ジヒドロ−7,8−ジメトキシ
−2,5−ジメチル−2H−ベンゾビーi /−6−オ
ール’ii2.53r得た(収率78.l≠)。
実施例26 実施例24においてハイドロキノン1.lOrの代りに
2−メナルナフトギノン1.74rを用いる以外は実施
例24と同様の方法により反応及び佼処理を行なうこと
により、2−アセトキノエテル−3,4−ジヒドロ−2
,5−ジメチル−211−ナフ[1,2−b]ビラン−
6−オールを1.75f得た(収率55.7%)。
実画例27 り 窒素雰囲気下に4−γセトキシー2,3.5−)リメチ
ルフェノール1.94 r 、塩化亜鉛0142及ヒ1
12−ジクロルエタンl Outeの混合液に加熱還流
しなから5−クロル−3−ノナルー3−ペンテン−1−
イル アセテート1.76rl#下した。
滴下後、さらに1時間加熱還流したのち、反応混   
 ″合物を冷却し、これに水會加え、ついでエーテルで
抽出した。抽出液を水洗し、乾燥したのち、低沸点物を
首表し、+1られた濃縮液をシリカゲルカシムクlコマ
トグラノイーで精製することにより。
1・E、己のN M Rスペクトルを有する6−アセト
キシ−2−γセトキ/エテルー3.4−ジヒドロ−2,
5゜7.8−ナトラメナル−2H−ベンゾビラン’t−
2,73ノ得た(収率82%)。
HMS 。
NMRスペクトル(90MHz )δCDC6a ”1
.23 (S 、 3H) 、 1.6〜2.1 (m
、 lc+H)。
2.26(s、3M)、2.56(t、J=7Hz、2
に■)、40〜4.5 (Ill、 2H) 実施例28 実画例27 VCおいて4−アセトキン−2,3,5−
トリメナルフェノール1.94fの代りに4−ベンジル
オキ7’−2,3,5−トリメチルフェノール2.42
Vを用いる以外は実施向27と同様の方法により反応及
び後処理を行なうことにより、2−アセトキシエチル−
6−ベンジルオキシ−3,4−ジヒドロ−2,5,7,
8−テトラメチル−2H−ベンゾピラン全3.16F得
た(収率83饅)。
4−メチル−5,6−シヒドロー2H−ピラン1.96
?*  トルエ、yl□ml及び無水塩化亜鉛0.08
2の混合液に第3衣に示すカルボン酸ハライド2 Q 
111 mol を滴下し、室温で1時間攪拌した。得
られた反応液をトリメチルハイドロキノン2.7v、無
水塩化亜鉛0.05F及びトルエンl 8 ml!の混
合液に加熱還流下に滴下した。滴下後、2時間加熱還流
したのち5反応混合物を冷却し、水にあけ。
ついでエーテルで抽出した。抽出液を水洗し、乾燥後、
低沸点物を留去し、得られた濃縮液全シリカゲルカラム
クロマドグシフイーで精製することりこより、相当する
2−7フルλキ/エナル−3,4−ジヒドロ−2,5,
7,8−ナトラメナル−2H−ベンゾビラン−6−オー
ルを第3表にボす収率で得たC) 第 3 衣

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 (式中11ζtま水素原子又は保−基を衣わ[7、Hl
    eま水素原子又は低級アルキル基を表わず。kc2及び
    lζ3は同−又は異なり水素原子、低級γルキル基若し
    くtま低級アルコキン基を表わ[−1又t/:K R2
    とI<31ま一緒になって−CCユニ11−CロニC1
    −1−基を形成する。) で示さrするハイド−キノン又&、1 ’tの蒋導体と
    一般式 %式% (式中、1t4は有機基を表わし、匂Vす・・Iffゲ
    ン原子又d R5COO−基を表わす。ここでR5はR
    4と制−又は異なり、有機基を表わす。) で示さfLるアルケン訪導体とをルイス酸の存在下に反
    応させることを特徴とする一般式 (式中、R,R1、R2,R3及びR4は前記定義のと
    おりでおる。) で示される3、4−ジヒドロ−2H−ベンゾビラン錦導
    体の製造方法。 2、一般式 (式中、X及び2のいずれか一方は水素原子でるり他方
    はYと一緒になって結合を形成する。)で示きれるピラ
    フ11!j導体と一般式%式% (式中 R4は有機基を表わし、Qはハロゲン原子又は
    R’C00−基を表わす。ここでR5はR’と同−又に
    異なり、壱慎基を表わす。) で示さノする絃訪導体とをルイス酸の存在下に反応させ
    て一般式 %式% (式中 R4及びQ +:を前ml定萩のとおりである
    。)で示されるアルケン肪導体を得、ついで該アルケン
    妨導体と一般式 (式中、Rt/:を水素原子又は保訛基を表わし R1
    は水累原す又は低級アルキル基を衣ゎす。R2及びR3
    は同−又は異なり水素原子、低級アルギル基若しくは低
    級rルコキ/基を表わし、又tilζ2とR3は一緒に
    なッテ−CkL−C14−Cki=C)−1′M:q 
    形成−4−,60)で不されるハイドロキノン又はぞの
    誘4体とをル・fス酸の存在1:に反応させること′f
    :%敵と1−る一般式 (式中、R,R1,l尤2、R3及びR4は前記定義の
    とおりである。) で示される3、4−ジヒドロ−2H−ベンゾピラン誘導
    体の製造方法。
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