JPS58224761A - インクジエツト記録ヘツド - Google Patents
インクジエツト記録ヘツドInfo
- Publication number
- JPS58224761A JPS58224761A JP10945082A JP10945082A JPS58224761A JP S58224761 A JPS58224761 A JP S58224761A JP 10945082 A JP10945082 A JP 10945082A JP 10945082 A JP10945082 A JP 10945082A JP S58224761 A JPS58224761 A JP S58224761A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- photosensitive resin
- coupling agent
- recording head
- inkjet recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1604—Production of bubble jet print heads of the edge shooter type
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
は、所謂インクジェット記録方式に用いる記録用インク
小滴を発生するためのインクジェット記録ヘッドに関す
る。′ インクジェット記録方式に適用されるインクジェット記
録ヘッドは、一般に、微細なインク吐出口（オリフィス
）、インク通路及びこのインク通路の一部に設けられる
インク吐出圧発生部を備えている。
小滴を発生するためのインクジェット記録ヘッドに関す
る。′ インクジェット記録方式に適用されるインクジェット記
録ヘッドは、一般に、微細なインク吐出口（オリフィス
）、インク通路及びこのインク通路の一部に設けられる
インク吐出圧発生部を備えている。
従来、この様なインクジェット記録ヘッドを作成する方
法として、例えば、ガラスや金属の板に切削やエノチン
グ等により、微細な溝を形成した後、この溝を形成した
板を他の適当な板と接合してインク通路の形成を行なう
方法が知られている。
法として、例えば、ガラスや金属の板に切削やエノチン
グ等により、微細な溝を形成した後、この溝を形成した
板を他の適当な板と接合してインク通路の形成を行なう
方法が知られている。
しかし、斯かる従来法によって作成されるヘッドでは、
切削加工されるインク通路内壁面の荒れが大き過ぎたり
、エツチング率の差からインク通路に歪が生じたシして
、精度の良いインク通路が得難く、製作後のインクジェ
ット記録ヘッドのインク吐出特性にバラツキが出易い。
切削加工されるインク通路内壁面の荒れが大き過ぎたり
、エツチング率の差からインク通路に歪が生じたシして
、精度の良いインク通路が得難く、製作後のインクジェ
ット記録ヘッドのインク吐出特性にバラツキが出易い。
また、切削加工の際に、板の欠けや割れが生じ易く、製
造歩留りが悪いという欠点もある。そして、エツチング
加工を行なう場合は、製造工程が多く、製造コストの上
昇を招くという不利がある。更に、上記した従来法に共
通する欠点としては、インク通路溝を形成した溝付板と
、インクに作用するエネルギーを発生する圧電素子、発
熱素子等の駆動素子が設けられた蓋板との貼合せの際に
夫々の位置合せ全精度良く行うことが困難であって量産
性に欠ける点が挙げられる。
造歩留りが悪いという欠点もある。そして、エツチング
加工を行なう場合は、製造工程が多く、製造コストの上
昇を招くという不利がある。更に、上記した従来法に共
通する欠点としては、インク通路溝を形成した溝付板と
、インクに作用するエネルギーを発生する圧電素子、発
熱素子等の駆動素子が設けられた蓋板との貼合せの際に
夫々の位置合せ全精度良く行うことが困難であって量産
性に欠ける点が挙げられる。
これ等の欠点が解決できるインクジェット記録ヘッドの
製造法として、感光性樹脂の硬化膜によりインク通路壁
を形成する方法が例えば特開昭、！；７−’ｌ−３Ｆ７
６号等に提案されている。この方法によれば、インク通
路が精度良く、正確に、且つ歩留り良く微細加工される
。また、量産化も容易であり、安価なインクジェット記
録ヘッドを提供することができるため優れた方法である
といえる。
製造法として、感光性樹脂の硬化膜によりインク通路壁
を形成する方法が例えば特開昭、！；７−’ｌ−３Ｆ７
６号等に提案されている。この方法によれば、インク通
路が精度良く、正確に、且つ歩留り良く微細加工される
。また、量産化も容易であり、安価なインクジェット記
録ヘッドを提供することができるため優れた方法である
といえる。
しかし、このように改良された製造法によシ提供された
インクジェット記録ヘッドでは、前記欠点は解決された
ものの、インクの長期浸漬に対し基板と感光性樹脂硬化
膜の密着力が徐々に低下し、微少な剥れが生じ、インク
滴の直進性、すなわち着弾点精度に影響を与えている。
インクジェット記録ヘッドでは、前記欠点は解決された
ものの、インクの長期浸漬に対し基板と感光性樹脂硬化
膜の密着力が徐々に低下し、微少な剥れが生じ、インク
滴の直進性、すなわち着弾点精度に影響を与えている。
さらに感光性樹脂組成物は紫外線照射、熱処理等の硬化
処理を行なう工程で収縮変形を起こし、このことが微小
な剥れを助長する一因ともなっている。このことは、近
年インクジェット記録方式が高密度ノズルによって高解
像度の画質が要求される中で、大きな障害となっていた
。従って、これ等の欠点が解決される構成を有するイン
クジェット記録ヘッドの開発が熱望されている。
処理を行なう工程で収縮変形を起こし、このことが微小
な剥れを助長する一因ともなっている。このことは、近
年インクジェット記録方式が高密度ノズルによって高解
像度の画質が要求される中で、大きな障害となっていた
。従って、これ等の欠点が解決される構成を有するイン
クジェット記録ヘッドの開発が熱望されている。
本発明は、上記欠点に鑑み成されたもので、精密であり
、しかも信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供
することを目的とする。また、イ１ ／り通路が精度良く、且つ設計に忠実に微細加工された
構成を有するヘッドを簡略な方法により歩留り良く製造
できるインクジェット記録ヘッドの構成を提供すること
も本発明の目的である。更に使用耐久性に優れたインク
ジェット記録ヘッドを提供することも本発明の他の目的
である。
、しかも信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供
することを目的とする。また、イ１ ／り通路が精度良く、且つ設計に忠実に微細加工された
構成を有するヘッドを簡略な方法により歩留り良く製造
できるインクジェット記録ヘッドの構成を提供すること
も本発明の目的である。更に使用耐久性に優れたインク
ジェット記録ヘッドを提供することも本発明の他の目的
である。
この様な諸口的を達成した本発明は、基板と、この基板
面にインク通路を形成する感光性樹脂硬化膜と、前記通
路の覆いとを積層してなるインクジェット記録ヘッドに
おいて、前記感光性樹脂硬化膜がカップリング剤を含有
する感光性樹脂組成物を硬化させてなるものであること
を特徴とするインクジェット記録ヘッドである。
面にインク通路を形成する感光性樹脂硬化膜と、前記通
路の覆いとを積層してなるインクジェット記録ヘッドに
おいて、前記感光性樹脂硬化膜がカップリング剤を含有
する感光性樹脂組成物を硬化させてなるものであること
を特徴とするインクジェット記録ヘッドである。
以下図面に基づいて本発明の詳細な説明する。
先ず第１図乃至第７図に示した作成工程に従って、本発
明の詳細な説明するＯ 第１図の工程では、ガラス、セラミック、プラスチック
、或は金属等の基板／上に発熱素子やピエゾ素子等のイ
ンク吐出圧発生素子２を所望の個数配置し、耐インク性
、電気絶縁性を付与する目的で、Ｓｉ Ｏ＊＋ Ｔａｔ
Ｏｓ＋ Ａｔ＊Ｏｓ； Ｓｉｓ Ｎａ ＋ ＢＮ＋
ガラス等の電気絶縁層３ｔ−被覆する。更に必要に応じ
て、耐インク性を向上させる目的で、Ｔｉ＋ Ｃｒ ＋
Ｎｉ ＋ Ｔａ ＋ Ｍｏ ＋ Ｗ ＋ Ｎｂ等の耐食
金属又はＳＵＳ、モネルメタル等の耐食合金を耐インク
層ダとして被覆してもよい。尚、インク吐出圧発生素子
λには、図示されていないが、信号入力用電極が接続し
である。
明の詳細な説明するＯ 第１図の工程では、ガラス、セラミック、プラスチック
、或は金属等の基板／上に発熱素子やピエゾ素子等のイ
ンク吐出圧発生素子２を所望の個数配置し、耐インク性
、電気絶縁性を付与する目的で、Ｓｉ Ｏ＊＋ Ｔａｔ
Ｏｓ＋ Ａｔ＊Ｏｓ； Ｓｉｓ Ｎａ ＋ ＢＮ＋
ガラス等の電気絶縁層３ｔ−被覆する。更に必要に応じ
て、耐インク性を向上させる目的で、Ｔｉ＋ Ｃｒ ＋
Ｎｉ ＋ Ｔａ ＋ Ｍｏ ＋ Ｗ ＋ Ｎｂ等の耐食
金属又はＳＵＳ、モネルメタル等の耐食合金を耐インク
層ダとして被覆してもよい。尚、インク吐出圧発生素子
λには、図示されていないが、信号入力用電極が接続し
である。
次に第７図の工程で得られた基板／の表面を浄化し、と
０〜７５０℃で７０分間乾燥させる。この基板上にカッ
プリング剤を含有する感光性樹脂組成物（デーボン社製
）く−マネントフオトポリマーコーティングＲＩＳＴ９
Ｎ ７３θＳ １０θｔ′ｌｉ−メチルエチルケトン／
θ０．−に溶解し、これにγ−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン（分子構造式Ｈ８（ＣＨ＝ ）ｓ Ｓｔ
（０ＣＲ−）−）を／？添加したもの）をスキージに
よる方法、すなわち所望の感光性樹脂組成物の膜厚に応
じた高さの壁を基板の周囲に設置しスキージによって余
分の組成物を除去する方法で塗布肱常温で乾燥した。乾
燥後の感光性樹脂層ゲの膜厚は７１Ｉ±３μｍであった
。
０〜７５０℃で７０分間乾燥させる。この基板上にカッ
プリング剤を含有する感光性樹脂組成物（デーボン社製
）く−マネントフオトポリマーコーティングＲＩＳＴ９
Ｎ ７３θＳ １０θｔ′ｌｉ−メチルエチルケトン／
θ０．−に溶解し、これにγ−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン（分子構造式Ｈ８（ＣＨ＝ ）ｓ Ｓｔ
（０ＣＲ−）−）を／？添加したもの）をスキージに
よる方法、すなわち所望の感光性樹脂組成物の膜厚に応
じた高さの壁を基板の周囲に設置しスキージによって余
分の組成物を除去する方法で塗布肱常温で乾燥した。乾
燥後の感光性樹脂層ゲの膜厚は７１Ｉ±３μｍであった
。
一般にスキージ法によって塗布を行う場合、感光性樹脂
組成物の粘度は７００〜３θｏｃｐｓの範囲が適当であ
り、また基板の周囲に置く壁の高さは、感光性樹脂組成
物の溶剤分の蒸発による減量を見込んで決定する必要が
ある。
組成物の粘度は７００〜３θｏｃｐｓの範囲が適当であ
り、また基板の周囲に置く壁の高さは、感光性樹脂組成
物の溶剤分の蒸発による減量を見込んで決定する必要が
ある。
続いて、第２図に示すように、基板面に設けた感光性樹
脂層グ上に所定のパターンを有するフォトマスクＳを重
ね合せた後、このフォトマスクＳの上部から露光を行う
。このときインク吐出圧発生素子−の設置位置と上記パ
ターンの位置合せを周知の手法で行なっておく必要があ
る。
脂層グ上に所定のパターンを有するフォトマスクＳを重
ね合せた後、このフォトマスクＳの上部から露光を行う
。このときインク吐出圧発生素子−の設置位置と上記パ
ターンの位置合せを周知の手法で行なっておく必要があ
る。
第３図は、上記露光済みのドライフィルムフォトレジス
トＳの未露光部分をトリクロルエタン等所定の有機溶剤
から成る現像液にて溶解除去した工程を示す説明図であ
る。次に基板／に残された感光性樹脂層の露光された部
分ｊＰの耐インク性向上、及び感光性樹脂層中のシラン
カツプリング剤と基板との反応を完結させるため熱処理
（例えば／！；０−２．！；θ℃で３θ分〜乙時間加熱
）又は、紫外線照射（例えばｊθ〜２０θｍｗ／ｃｄ又
はそれ以上の紫外線強度で）を行う。上記熱処理と紫外
線による硬化の両方を兼用するのも効果的である。
トＳの未露光部分をトリクロルエタン等所定の有機溶剤
から成る現像液にて溶解除去した工程を示す説明図であ
る。次に基板／に残された感光性樹脂層の露光された部
分ｊＰの耐インク性向上、及び感光性樹脂層中のシラン
カツプリング剤と基板との反応を完結させるため熱処理
（例えば／！；０−２．！；θ℃で３θ分〜乙時間加熱
）又は、紫外線照射（例えばｊθ〜２０θｍｗ／ｃｄ又
はそれ以上の紫外線強度で）を行う。上記熱処理と紫外
線による硬化の両方を兼用するのも効果的である。
第９図は、上記の充分な重合を終え硬化したドライフィ
ルムフォトレジスト９ｐでインク通路となる溝との形成
された基板／に、覆いとなる平板７を接着するか単に圧
着して固定したところを示す図である。
ルムフォトレジスト９ｐでインク通路となる溝との形成
された基板／に、覆いとなる平板７を接着するか単に圧
着して固定したところを示す図である。
第９図に示す工程に於て、覆いを付設する具体的方法と
しては、 ／）ガラス、セラミック、金属、プラスチック等の平板
７にエポキシ系接着剤を厚さ３〜グμにスピンナーコー
トした後、予備加熱して接着剤乙を所謂、Ｂステー・ジ
化させ、これを硬化したフォトレジスト膜９Ｐ上に貼り
合せて前記接着剤を本硬化させる。或は、 刀アクリル系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリエチレン等の熱可
塑性樹脂の平板７を硬化したフォトレジスト膜９Ｐ上に
、直接、熱融着させる方法がある。
しては、 ／）ガラス、セラミック、金属、プラスチック等の平板
７にエポキシ系接着剤を厚さ３〜グμにスピンナーコー
トした後、予備加熱して接着剤乙を所謂、Ｂステー・ジ
化させ、これを硬化したフォトレジスト膜９Ｐ上に貼り
合せて前記接着剤を本硬化させる。或は、 刀アクリル系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリエチレン等の熱可
塑性樹脂の平板７を硬化したフォトレジスト膜９Ｐ上に
、直接、熱融着させる方法がある。
ここで、第９図示の工程終了後のヘッド外観を第Ｓ図に
、模式的斜視図で示す。第５図中、と−／はインク供給
室、と−ノはインク細流路、２はインク供給室と−／に
不図示のインク供給管を連結させるための貫通孔を示し
ている。
、模式的斜視図で示す。第５図中、と−／はインク供給
室、と−ノはインク細流路、２はインク供給室と−／に
不図示のインク供給管を連結させるための貫通孔を示し
ている。
以上のとおり、溝を形成した基板と平板との接合が完了
した後、第Ｓ図のｃ −ｃ’線に沿って切断する。これ
は、インク細流路と−２に於て、インク吐出圧発生素子
２とインク吐出口と−３との間隔を最適化するために行
うものであり、ここで切断する領域は適宜、決定される
。、この切断に際しては、半導体工業で通常、採用され
ているダイシング法が採用される。
した後、第Ｓ図のｃ −ｃ’線に沿って切断する。これ
は、インク細流路と−２に於て、インク吐出圧発生素子
２とインク吐出口と−３との間隔を最適化するために行
うものであり、ここで切断する領域は適宜、決定される
。、この切断に際しては、半導体工業で通常、採用され
ているダイシング法が採用される。
第乙図Ｆｉ、第Ｓ図のｚ−ｚ’線切断面図である。そし
て、切断面を研磨して平滑化し、貫通孔２にインク供給
管１０を取り付けてインクジェット記録ヘッドが完成す
る（第７図）。
て、切断面を研磨して平滑化し、貫通孔２にインク供給
管１０を取り付けてインクジェット記録ヘッドが完成す
る（第７図）。
以上、図面に基づいて説明した実施例に於ては、満作與
用の感光性樹脂組成物（フォトレジスト）としてドライ
フィルムタイプ、つまり固体のものを溶剤に一度溶解し
カップリング剤を混合したものを利用したが、液状の感
光性樹脂組成物にカップリング剤を混合したものも勿論
、利用することができる。また勿論製作者の目的に合っ
た組成の感光性樹脂組成物にカップリング剤を混合し利
用することもできる。
用の感光性樹脂組成物（フォトレジスト）としてドライ
フィルムタイプ、つまり固体のものを溶剤に一度溶解し
カップリング剤を混合したものを利用したが、液状の感
光性樹脂組成物にカップリング剤を混合したものも勿論
、利用することができる。また勿論製作者の目的に合っ
た組成の感光性樹脂組成物にカップリング剤を混合し利
用することもできる。
そして、基板上へのこの感光性樹脂組成物塗膜の形成法
として１、液体の場合にはレリーフ画像の製作時に用い
られるスキージによる方法が使用できる。他方、あらか
じめカンプリング剤の混合を終え溶剤を除去しシート状
にしたものを使用する場合は、感光性樹脂組成物シート
を基板上に加熱圧着して貼着する。
として１、液体の場合にはレリーフ画像の製作時に用い
られるスキージによる方法が使用できる。他方、あらか
じめカンプリング剤の混合を終え溶剤を除去しシート状
にしたものを使用する場合は、感光性樹脂組成物シート
を基板上に加熱圧着して貼着する。
固体の感光性樹脂としては、例えば、デ＝ボン社製ハー
マネント７オトポリマーコーティンクＲＩＳＴＯＮ（ソ
ルダーマスク）７３θＳ、同７グθＳ。
マネント７オトポリマーコーティンクＲＩＳＴＯＮ（ソ
ルダーマスク）７３θＳ、同７グθＳ。
同７３θＦＲ，同７グθＦＲ，同ＳＭ／等の商品名で市
販されているものがある。この他、本発明において使用
される感光性樹脂組成物としては、感光性樹脂、フォト
レジスト等の通常のフォトリソグラフィーの分野におい
て使用されている感光性樹脂組成物の多くのものが挙げ
られる。これ等の感光性樹脂組成物としては、例えば、
ジアゾレジン、Ｐ−ジアゾキノン、更には例えばビニル
モノマーと重合開始剤を使用する光重合型フォトポリマ
ー、ポリビニルシンナメート等と増感剤を使用する工事
化型フォトポリマー、オルソナフトキノンジアジドとノ
ボラックタイプのフェノール樹脂との混合物、ポリビニ
ルアルコールとジアゾ樹脂の混合エーテル型フォトポリ
マー、Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミドと例えばアク
リルアミドベンゾフェノンとの共重合体、不飽和ポリエ
ステル系感光性樹脂〔例えばＡＰＲ（旭化成）、テビス
タ（金入）、ゾンネ（関西ペイント）等〕、不飽和ウレ
タンオリゴマー系感光性樹脂、三官能アクリルモノマー
に光重合開始剤とポリマーとを混合した感光性樹脂組成
物、重クロム酸系フォトレジスト、非クロム系水溶性フ
ォトレジスト、ポリケイ皮酸ビニル系フォトレジスト、
環化ゴム−アジド系フォトレジスト、等が挙げられる。
販されているものがある。この他、本発明において使用
される感光性樹脂組成物としては、感光性樹脂、フォト
レジスト等の通常のフォトリソグラフィーの分野におい
て使用されている感光性樹脂組成物の多くのものが挙げ
られる。これ等の感光性樹脂組成物としては、例えば、
ジアゾレジン、Ｐ−ジアゾキノン、更には例えばビニル
モノマーと重合開始剤を使用する光重合型フォトポリマ
ー、ポリビニルシンナメート等と増感剤を使用する工事
化型フォトポリマー、オルソナフトキノンジアジドとノ
ボラックタイプのフェノール樹脂との混合物、ポリビニ
ルアルコールとジアゾ樹脂の混合エーテル型フォトポリ
マー、Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミドと例えばアク
リルアミドベンゾフェノンとの共重合体、不飽和ポリエ
ステル系感光性樹脂〔例えばＡＰＲ（旭化成）、テビス
タ（金入）、ゾンネ（関西ペイント）等〕、不飽和ウレ
タンオリゴマー系感光性樹脂、三官能アクリルモノマー
に光重合開始剤とポリマーとを混合した感光性樹脂組成
物、重クロム酸系フォトレジスト、非クロム系水溶性フ
ォトレジスト、ポリケイ皮酸ビニル系フォトレジスト、
環化ゴム−アジド系フォトレジスト、等が挙げられる。
本発明においては、感光性樹脂に含有させるカップリン
グ剤として、先に実施例で用いたγ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン以外に一般にシリコン系カップリ
ング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコニウム
系カンプリング剤及びチタニウム系カップリング剤とし
て分類されるカップリング剤のなかから７種以上を使用
することができる。これらカップリング剤は使用する感
光性樹脂の組成に応じ、感光性樹脂の持つ官能基と相互
作用を生じる官能基を有するものを選択して使用するこ
とが好ましい。またカップリング剤の添加量は感光性樹
脂７００重量部に対して６７〜７０重量部の範囲が適当
である。カンプリング剤の添加量が少ない場合には基板
と感光性樹脂硬化膜との接着向上効果が認められず、一
方添加量が多過ぎる場合には感光性樹脂硬化膜の性能が
損われる。
グ剤として、先に実施例で用いたγ−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン以外に一般にシリコン系カップリ
ング剤、アルミニウム系カップリング剤、ジルコニウム
系カンプリング剤及びチタニウム系カップリング剤とし
て分類されるカップリング剤のなかから７種以上を使用
することができる。これらカップリング剤は使用する感
光性樹脂の組成に応じ、感光性樹脂の持つ官能基と相互
作用を生じる官能基を有するものを選択して使用するこ
とが好ましい。またカップリング剤の添加量は感光性樹
脂７００重量部に対して６７〜７０重量部の範囲が適当
である。カンプリング剤の添加量が少ない場合には基板
と感光性樹脂硬化膜との接着向上効果が認められず、一
方添加量が多過ぎる場合には感光性樹脂硬化膜の性能が
損われる。
これらカップリング剤のうち、シリコン系カップリング
剤及び□チタニウム系カップリング剤の代 １表的な
ものをまとめたのが表／及び表２である。
剤及び□チタニウム系カップリング剤の代 １表的な
ものをまとめたのが表／及び表２である。
表／
表−
以上詳しく説明した本発明の効果としては、次りような
ことがあげられる。
ことがあげられる。
／基板と感光性樹脂との接着が増したことにより、特に
衝撃のかかるインク吐出口形成の切断によっても、基板
からの感光性樹脂の剥れがなくなった。
衝撃のかかるインク吐出口形成の切断によっても、基板
からの感光性樹脂の剥れがなくなった。
ノ 接着部の耐溶剤性が向上し、エチレングリコール等
の溶剤を含むインクの使用によっても基板と感光性樹脂
硬化膜の通路壁が剥離することがなくなった。
の溶剤を含むインクの使用によっても基板と感光性樹脂
硬化膜の通路壁が剥離することがなくなった。
３ インク吐出口の形状安定性が高いため、経時的なイ
ンク着弾点精度が高い。
ンク着弾点精度が高い。
これら本発明の効果は、以下に示す実施例により、より
具体的に説明される。
具体的に説明される。
実施例／、２及び比較例／〜グ
各側聞で、使用した感光性樹脂並びに感光性樹脂と接す
る基板最上層の保護層の材質を変化させたことを除いて
は、先に示した実施例と同じ工程（第１図乃至第７図）
に従ってインク吐出口を／θ個有するインクジェット記
録ヘッドを多数試作した。
る基板最上層の保護層の材質を変化させたことを除いて
は、先に示した実施例と同じ工程（第１図乃至第７図）
に従ってインク吐出口を／θ個有するインクジェット記
録ヘッドを多数試作した。
使用した感光性樹脂は、実施例／及び−においては、デ
ュポン社製７３０Ｓ ドライフィルムフォトレジスト／
θθ１を／θθｉのメチルエチルケトンに溶解させこれ
に７２のγ−メルカプトグロビルトリメトキシシランを
添加し、スキージ法によって７ｑ±３μの塗膜としたも
ので、比較例／及び２ではγ−メルカプトグロビルトリ
メトキシシランを添加しないものについて同様にして同
じ膜厚を形成したもの、比較例３及びグでは膜厚７ｊμ
ｍのＲＩＳＴＯＮ ７３０ ｊ９ ドライフィルムホ
トレジストをそのまま圧着して使用した。
ュポン社製７３０Ｓ ドライフィルムフォトレジスト／
θθ１を／θθｉのメチルエチルケトンに溶解させこれ
に７２のγ−メルカプトグロビルトリメトキシシランを
添加し、スキージ法によって７ｑ±３μの塗膜としたも
ので、比較例／及び２ではγ−メルカプトグロビルトリ
メトキシシランを添加しないものについて同様にして同
じ膜厚を形成したもの、比較例３及びグでは膜厚７ｊμ
ｍのＲＩＳＴＯＮ ７３０ ｊ９ ドライフィルムホ
トレジストをそのまま圧着して使用した。
これら試作ヘッドのうち、基板と感光性樹脂の剥離のな
い正常なものについて、水！θチ及びエチレングリコー
ルとθチの組成のざ０℃の溶液に７０００時間の浸漬試
験を行った。これらの結果を表３に示す・ ′
１ また、実施例／及び比較例／で得たインクジェット記録
ヘッドに対して、／θ８、パルスの耐久印字試験を行っ
たところ、実施例のヘッドではインク着弾点精度が士７
．２μ／２ｒｍ 飛翔距離であったのに対し、比較例の
ヘッドでは士乙θμ／２簡飛翔距離であった。
い正常なものについて、水！θチ及びエチレングリコー
ルとθチの組成のざ０℃の溶液に７０００時間の浸漬試
験を行った。これらの結果を表３に示す・ ′
１ また、実施例／及び比較例／で得たインクジェット記録
ヘッドに対して、／θ８、パルスの耐久印字試験を行っ
たところ、実施例のヘッドではインク着弾点精度が士７
．２μ／２ｒｍ 飛翔距離であったのに対し、比較例の
ヘッドでは士乙θμ／２簡飛翔距離であった。
表３
第１図乃至第７図は、本発明のインクジェット記録ヘッ
ドをその製造工程に従って説明するための模式図である
。 ／：基板 、２：インク吐出圧発生素子３：保
護層 グ：感光性樹脂層ｌ／ｌＰ：感光性樹
脂硬化膜 Ｓ：フォトマスク乙：接着剤 ７
：覆い と：インク通路 と−／：インク供給室と−２：
インク細流路 と−３＝インク吐出ロタ：貫通孔
／θ：インク供給管特許出願人 キャノン株式会社 代理人 第 ２ 図
ドをその製造工程に従って説明するための模式図である
。 ／：基板 、２：インク吐出圧発生素子３：保
護層 グ：感光性樹脂層ｌ／ｌＰ：感光性樹
脂硬化膜 Ｓ：フォトマスク乙：接着剤 ７
：覆い と：インク通路 と−／：インク供給室と−２：
インク細流路 と−３＝インク吐出ロタ：貫通孔
／θ：インク供給管特許出願人 キャノン株式会社 代理人 第 ２ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ／）基板と、この基板面にインク通路を形成する感光性
樹脂硬化膜と、前記通路の覆いとを積層してなるインク
ジェット記録ヘッドにおいて、前記感光性樹脂硬化膜が
カップリング剤を含有する感光性樹脂組成物を硬化させ
てなるものであることを特徴とするインクジェット記録
ヘッド。 、２）前記カップリング剤がシリコン系カップリング剤
、アルミニウム系カップリング剤、ジルコニウム系カッ
プリング剤及びチタニウム系カップリング剤から成る群
より選ばれた７種以上である特許請求の範囲第１項記載
のインクジェット記録ヘッド。 ３）前記カップリングの含有量が感光性樹脂１０θ重量
部に対し、６７〜７０重量部の範囲である特許請求の範
囲第１項記載のインクジェット記録ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10945082A JPS58224761A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | インクジエツト記録ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10945082A JPS58224761A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | インクジエツト記録ヘツド |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32348591A Division JPH05212870A (ja) | 1991-12-07 | 1991-12-07 | インクジェット記録ヘッド製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58224761A true JPS58224761A (ja) | 1983-12-27 |
Family
ID=14510541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10945082A Pending JPS58224761A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | インクジエツト記録ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58224761A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0816095A1 (de) * | 1996-06-28 | 1998-01-07 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Tintenstrahldruckkopf mit Komponenten aus siliciumorganischen Verbindungen |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5575291A (en) * | 1978-12-01 | 1980-06-06 | Hitachi Ltd | Photosensittve resin composition for coating hybrid integrated circuit |
| JPS5793162A (en) * | 1980-12-03 | 1982-06-10 | Fujitsu Ltd | Manufacture of ink jet head |
-
1982
- 1982-06-25 JP JP10945082A patent/JPS58224761A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5575291A (en) * | 1978-12-01 | 1980-06-06 | Hitachi Ltd | Photosensittve resin composition for coating hybrid integrated circuit |
| JPS5793162A (en) * | 1980-12-03 | 1982-06-10 | Fujitsu Ltd | Manufacture of ink jet head |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0816095A1 (de) * | 1996-06-28 | 1998-01-07 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Förderung Der Angewandten Forschung E.V. | Tintenstrahldruckkopf mit Komponenten aus siliciumorganischen Verbindungen |
| WO1998000296A1 (de) * | 1996-06-28 | 1998-01-08 | Pelikan Produktions Ag | Tintenstrahldruckkopf mit komponenten aus siliciumorganischen verbindungen |
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