JPS58229A - 触媒の充填方法 - Google Patents
触媒の充填方法Info
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- JPS58229A JPS58229A JP56097581A JP9758181A JPS58229A JP S58229 A JPS58229 A JP S58229A JP 56097581 A JP56097581 A JP 56097581A JP 9758181 A JP9758181 A JP 9758181A JP S58229 A JPS58229 A JP S58229A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000012856 packing Methods 0.000 title abstract description 3
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- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
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- 101710162991 PRKC apoptosis WT1 regulator protein Proteins 0.000 description 2
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/008—Details of the reactor or of the particulate material; Processes to increase or to retard the rate of reaction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/248—Reactors comprising multiple separated flow channels
- B01J19/2485—Monolithic reactors
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01J19/32—Packing elements in the form of grids or built-up elements for forming a unit or module inside the apparatus for mass or heat transfer
- B01J19/325—Attachment devices therefor, e.g. hooks, consoles, brackets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01J2208/00796—Details of the reactor or of the particulate material
- B01J2208/00805—Details of the particulate material
- B01J2208/00814—Details of the particulate material the particulate material being provides in prefilled containers
-
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- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/32—Details relating to packing elements in the form of grids or built-up elements for forming a unit of module inside the apparatus for mass or heat transfer
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- B01J2219/32296—Honeycombs
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は触媒の充填方法に関し、さらに詳しくは高ダス
ト濃度の排ガスを処理する脱硝反応器内の触媒の充填方
法に関するものである。
ト濃度の排ガスを処理する脱硝反応器内の触媒の充填方
法に関するものである。
石炭焚ダイ２−排ガスのよ５な高ダスト濃度の排ガスの
脱硝装置においては、従来の重油専焼ボイラーと同様に
、脱硝用触媒は通常、カートリッジに一旦収納した後、
反応器に充填されている。
脱硝装置においては、従来の重油専焼ボイラーと同様に
、脱硝用触媒は通常、カートリッジに一旦収納した後、
反応器に充填されている。
すなわち、従来の脱硝用触媒の形状を第１−に。
およびこの触媒をカート９ツジに装填した断面図を第２
ＷＪＫ示す０図示するように、触媒１は立方体で、ガス
流れ方向２に対して平行に多数の細孔９を有している。
ＷＪＫ示す０図示するように、触媒１は立方体で、ガス
流れ方向２に対して平行に多数の細孔９を有している。
この触媒は、第２図に示すよ５に、カートリッジ３の底
部のサポートパー４上に、前記触媒の縦孔９がガス流と
平行になるよ５Ｋ。
部のサポートパー４上に、前記触媒の縦孔９がガス流と
平行になるよ５Ｋ。
多数並列充填される。ｔポートパー４は格子状でカート
リッジ側壁に固着されており、その上に触媒１が装填さ
れる。このようなカートリッジ３を製造するに幽っては
、従来、カートリッジの長さが触媒の長さよりも短かく
ならないよ５に、若干の製造誤差を加味して長目Ｋ１１
−４＄′されている０例えば第２図において、触媒長さ
ムを５ｏ・■とした場合、触媒の上下にそれぞれ５０簡
のナポート部材４の厚みＢを加味してカートリッジの長
さは６００關Ｓｔの長さに製作されている。
リッジ側壁に固着されており、その上に触媒１が装填さ
れる。このようなカートリッジ３を製造するに幽っては
、従来、カートリッジの長さが触媒の長さよりも短かく
ならないよ５に、若干の製造誤差を加味して長目Ｋ１１
−４＄′されている０例えば第２図において、触媒長さ
ムを５ｏ・■とした場合、触媒の上下にそれぞれ５０簡
のナポート部材４の厚みＢを加味してカートリッジの長
さは６００關Ｓｔの長さに製作されている。
このように触媒１を充填したカートリッジ３は反応容器
内に複数段積み重ねて使用されるが、石炭焚ボイラー排
ガスのように高ダスト濃度の場合、触媒の細孔ｓ９を通
過する排ガスは次の段の触媒ＫＡ流速のまま衡央するた
め、次の段の触媒端面の摩耗が第一段の端面より激しく
なるという問題がある。例えばある計算例によれば、触
媒細孔の内のガス流速は、触媒の空隙率が０．７程度で
あるから、９！塔流速の１／Ｑ、７−１４３倍となり、
また摩耗は流速の３乗程度に比例するため、第２段以降
の触媒端面の摩耗は第一段の触媒の３倍程度となる。
内に複数段積み重ねて使用されるが、石炭焚ボイラー排
ガスのように高ダスト濃度の場合、触媒の細孔ｓ９を通
過する排ガスは次の段の触媒ＫＡ流速のまま衡央するた
め、次の段の触媒端面の摩耗が第一段の端面より激しく
なるという問題がある。例えばある計算例によれば、触
媒細孔の内のガス流速は、触媒の空隙率が０．７程度で
あるから、９！塔流速の１／Ｑ、７−１４３倍となり、
また摩耗は流速の３乗程度に比例するため、第２段以降
の触媒端面の摩耗は第一段の触媒の３倍程度となる。
この二段目以降の触媒先端の摩耗を避けるには、上段触
媒の細孔の直下に下段触媒の細孔が位置するよ５ＫＬ、
触媒端面がガス流に直接当らないようにすればよいが、
このように触媒を充填することは実際上不可能に近い。
媒の細孔の直下に下段触媒の細孔が位置するよ５ＫＬ、
触媒端面がガス流に直接当らないようにすればよいが、
このように触媒を充填することは実際上不可能に近い。
本発明の目的は、第２段以降の触媒端面の摩耗を可及的
に少なりシ、触媒の損傷を避けるようにした触媒の充填
方法を提供することにある。
に少なりシ、触媒の損傷を避けるようにした触媒の充填
方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明は、高ダスト濃度の排
ガスの脱硝反応器に触媒を充填するＫあたり、ガス流れ
に対して二段目以降の触媒な細孔径の１０倍以上離間さ
せて充填することを特徴と本発明において、触媒充填に
カートリッジを用いる場合は、従来の製造上の誤差によ
るクリアランスに加えて、触媒細孔径Ｆ（嬉１図参照、
通常は４〜２０諺）の１０倍以上の長さの余裕を加味し
、各段のカートリッジの長さを決定する。
ガスの脱硝反応器に触媒を充填するＫあたり、ガス流れ
に対して二段目以降の触媒な細孔径の１０倍以上離間さ
せて充填することを特徴と本発明において、触媒充填に
カートリッジを用いる場合は、従来の製造上の誤差によ
るクリアランスに加えて、触媒細孔径Ｆ（嬉１図参照、
通常は４〜２０諺）の１０倍以上の長さの余裕を加味し
、各段のカートリッジの長さを決定する。
本発明において、触媒間の間隔を細孔径２０１０倍以上
としたのは、これより以下では第２段以降の触媒端面の
摩耗が避けられないからである。
としたのは、これより以下では第２段以降の触媒端面の
摩耗が避けられないからである。
次に第３図は、本発明方法によってカートリッジ３Ａ内
に触媒１を充填した場合の斜視図を示すものであるが、
第２段以降のカートリッジ３ムは、その上端から充填し
た触媒１の上面までの間隔りが、従来の製造誤差を加味
した間隔に触媒細孔径２０１０倍以上の長さを加えたも
のになるように製作される。このように触Ｉｓ１を充填
したカートリッジ３Ａを反応容器内にフフンジ５を重ね
合せて上下に積み重ねると、触媒間の間隔が充分保持さ
れるため、触媒細孔内を流出したガスが下段の触媒細孔
に入るまでに流速が均一化され、触媒端面の摩耗が防止
される。
に触媒１を充填した場合の斜視図を示すものであるが、
第２段以降のカートリッジ３ムは、その上端から充填し
た触媒１の上面までの間隔りが、従来の製造誤差を加味
した間隔に触媒細孔径２０１０倍以上の長さを加えたも
のになるように製作される。このように触Ｉｓ１を充填
したカートリッジ３Ａを反応容器内にフフンジ５を重ね
合せて上下に積み重ねると、触媒間の間隔が充分保持さ
れるため、触媒細孔内を流出したガスが下段の触媒細孔
に入るまでに流速が均一化され、触媒端面の摩耗が防止
される。
上記実施例を主、カートリッジ３ムの上部に余裕をもた
せたものであるが、下部のナポート、バー４に同様な余
裕をもたせてもよい。また本発明は、カートリッジを用
いない、触媒充填にも同様に適用することができる。
せたものであるが、下部のナポート、バー４に同様な余
裕をもたせてもよい。また本発明は、カートリッジを用
いない、触媒充填にも同様に適用することができる。
以上に述べたよ５に、本発明はガス流方向に＆つて触媒
を特定の間隔以上を保持して充填すること、により、上
段触媒出口の流速分布が均一化されるとともに局部的な
高流速が解消され、下段以降の触媒端面の摩耗を一段目
と同程度まで低減することができる。
を特定の間隔以上を保持して充填すること、により、上
段触媒出口の流速分布が均一化されるとともに局部的な
高流速が解消され、下段以降の触媒端面の摩耗を一段目
と同程度まで低減することができる。
第１図は脱硝用触媒の斜視図、第一２図は従来の触媒の
充填方法を示す触媒カー）９ツジの断両図、第３図は、
本発明の触媒の充填方法を示す触媒カートリッジの斜視
図である。 １・・・触媒、２・−ガス流、３．３ム・・・カートリ
ッジ、４・−・サポートパー。 代理人弁理士 川 尤 武 長 第１図
充填方法を示す触媒カー）９ツジの断両図、第３図は、
本発明の触媒の充填方法を示す触媒カートリッジの斜視
図である。 １・・・触媒、２・−ガス流、３．３ム・・・カートリ
ッジ、４・−・サポートパー。 代理人弁理士 川 尤 武 長 第１図
Claims (2)
- （１）高ダスト濃度の排ガスを処理する脱硝反応器に触
媒を充填するにあたり、ガス流れに対して二段目以降の
触媒な細孔径の１０倍以上離間させて充填することを特
徴とする触媒の充填方法。 - （２）触媒がカートリッジ内に装填され、かつ該カート
リッジは、触媒の細孔径の１０倍以上の触媒間隔を保持
するような長さを有することを特徴とする特許端末の範
囲第１項記載の触媒の充填方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56097581A JPS58229A (ja) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | 触媒の充填方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56097581A JPS58229A (ja) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | 触媒の充填方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58229A true JPS58229A (ja) | 1983-01-05 |
Family
ID=14196204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56097581A Pending JPS58229A (ja) | 1981-06-25 | 1981-06-25 | 触媒の充填方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58229A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5482364A (en) * | 1977-12-14 | 1979-06-30 | Babcock Hitachi Kk | Method and apparatus for reforming deflection of catalytic denitration |
-
1981
- 1981-06-25 JP JP56097581A patent/JPS58229A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5482364A (en) * | 1977-12-14 | 1979-06-30 | Babcock Hitachi Kk | Method and apparatus for reforming deflection of catalytic denitration |
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