JPS5824532A - アルデヒドの製造法 - Google Patents
アルデヒドの製造法Info
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- JPS5824532A JPS5824532A JP56123465A JP12346581A JPS5824532A JP S5824532 A JPS5824532 A JP S5824532A JP 56123465 A JP56123465 A JP 56123465A JP 12346581 A JP12346581 A JP 12346581A JP S5824532 A JPS5824532 A JP S5824532A
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- styrene
- oligophosphine
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/49—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide
- C07C45/50—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide by oxo-reactions
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な触媒系を使用するオレフィンのヒト四ホ
ルにル化反応によりアルダとドを製−造する方法に関す
るものである。
ルにル化反応によりアルダとドを製−造する方法に関す
るものである。
四ジウムー第J級ホスフィン系錯体を触媒とするオレフ
ィンのヒト四ホルンル化反応について杜よく知られて−
る。
ィンのヒト四ホルンル化反応について杜よく知られて−
る。
(英国特許第ツtry餌1号、特公昭ヂター10710
等) しかしカからこの方法で祉、生成アルデヒドの直鎖異性
体/分枝異性体(以下φと略称する)の生成比が小さく
、工業的に重要な直鎖異性体を得るKFi多量の第3級
ホスフィン配位子を反応系中に共存させる必要がある。
等) しかしカからこの方法で祉、生成アルデヒドの直鎖異性
体/分枝異性体(以下φと略称する)の生成比が小さく
、工業的に重要な直鎖異性体を得るKFi多量の第3級
ホスフィン配位子を反応系中に共存させる必要がある。
該にド四ホルミル化反応においては、アルデヒドのアル
ドール縮合等の副反応により生成するアルデヒドのオリ
ゴマーおよび第3級ホスフィンの酸化生成物である第3
級ホスフィンオキシト郷の高沸点副生物が触媒液中に次
第に蓄積するため、通常は、触媒液の一部を連続的また
蝶間歇的に系外に排出し、排出された触媒液中に含まれ
る量に見合う量のロジウムと第3級ホスフィンの錯体お
よび第3級系スフィンを補給することによシ、触媒の活
性a#とともに前記高沸点副生物の系内蓄積防止が計ら
れるのが常法である。多量の第3級ホスフィンの使用は
。
ドール縮合等の副反応により生成するアルデヒドのオリ
ゴマーおよび第3級ホスフィンの酸化生成物である第3
級ホスフィンオキシト郷の高沸点副生物が触媒液中に次
第に蓄積するため、通常は、触媒液の一部を連続的また
蝶間歇的に系外に排出し、排出された触媒液中に含まれ
る量に見合う量のロジウムと第3級ホスフィンの錯体お
よび第3級系スフィンを補給することによシ、触媒の活
性a#とともに前記高沸点副生物の系内蓄積防止が計ら
れるのが常法である。多量の第3級ホスフィンの使用は
。
前記補給される第3級ホスフィンの量の増加を伴い、経
済的に不利になるばかりでなく、排出された触媒液中の
第3級ホスフィンの回収工1を設置する等、操作的に4
煩雑になる欠点を有する。
済的に不利になるばかりでなく、排出された触媒液中の
第3級ホスフィンの回収工1を設置する等、操作的に4
煩雑になる欠点を有する。
一方、ロジウム触媒を用い低濃度のホスフィンで高n/
i比を得る方法として1座配位子を用いる方法(特開昭
!!−/2/7//、特開昭ナヂー39007)及び架
橋ポリスチレンに結合したホスフィン配位子を用いる方
法(蕾AC8?? !9102(lデフ6))が提案さ
れているがいずれも第3級ホスフィン系よシ速度が遅い
欠点を有する。
i比を得る方法として1座配位子を用いる方法(特開昭
!!−/2/7//、特開昭ナヂー39007)及び架
橋ポリスチレンに結合したホスフィン配位子を用いる方
法(蕾AC8?? !9102(lデフ6))が提案さ
れているがいずれも第3級ホスフィン系よシ速度が遅い
欠点を有する。
以上の様な従来技術に於ける欠点を克服すべく1本発明
者らは鋭意研究した結果、ロジウム触媒の配位子として
ジフェニルホスフィノ基含有スチレンオリゴマーを用い
た場合、低リン濃度に於て、高活性及び高n/i比が得
られることを見いだし本発明を完成した。
者らは鋭意研究した結果、ロジウム触媒の配位子として
ジフェニルホスフィノ基含有スチレンオリゴマーを用い
た場合、低リン濃度に於て、高活性及び高n/i比が得
られることを見いだし本発明を完成した。
すなわち本発明は3価の有機リン化合物とロジウム化合
物の存在下オレフィン化合物を一酸化炭素および水素と
反応させてアルデヒドを製造する方法において、3価の
有機リン化合物として下肥式(1) で示される構造単位をt〜100モルチ有し、その基本
骨格であるスチレンオリゴマーの数平均重合度が3〜3
夕0であるジフェニルホスフィノ基含有スチレンオリゴ
マーを用いることを特徴とするアルデヒドの1!!!造
法に存する。
物の存在下オレフィン化合物を一酸化炭素および水素と
反応させてアルデヒドを製造する方法において、3価の
有機リン化合物として下肥式(1) で示される構造単位をt〜100モルチ有し、その基本
骨格であるスチレンオリゴマーの数平均重合度が3〜3
夕0であるジフェニルホスフィノ基含有スチレンオリゴ
マーを用いることを特徴とするアルデヒドの1!!!造
法に存する。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明で使用する3価の有機リン化合物は下記式(D
で示される構造単位を!〜100モルチ有し、その基本
骨格であるスチレンオリゴマーの数平均重合度が3〜1
10であるジフェニルホスフィノi含有スチレンオリゴ
マー(以下オリゴホスフィンと略称する)である。
骨格であるスチレンオリゴマーの数平均重合度が3〜1
10であるジフェニルホスフィノi含有スチレンオリゴ
マー(以下オリゴホスフィンと略称する)である。
好ましくは餌0− / 00モルチの式(I)で示され
る構造単位およびO−a Oモルチの下記式(1) で示される構造単位およびσ〜餌Qモルチの下記式 で示される構造単位を有するものである。基本骨Sであ
るスチレンオリゴマー〇数平均重合度はダ〜100のも
のが好ましい。
る構造単位およびO−a Oモルチの下記式(1) で示される構造単位およびσ〜餌Qモルチの下記式 で示される構造単位を有するものである。基本骨Sであ
るスチレンオリゴマー〇数平均重合度はダ〜100のも
のが好ましい。
前記ジフェニルホスフィノ基含有スチレンオリゴマーF
i、、ジフェニルホるフイノスチレンの低重合法あるい
は、スチレンオリゴマーのフェニル核にジフェニルホス
フィノ基を導入することによシ製、透されるが、好まし
くは後、者の方法がとられる。
i、、ジフェニルホるフイノスチレンの低重合法あるい
は、スチレンオリゴマーのフェニル核にジフェニルホス
フィノ基を導入することによシ製、透されるが、好まし
くは後、者の方法がとられる。
原料のスチレンオリゴマーは、ポリスチレンの熱等によ
る分解あるいはスチレンモノマーの低重合法により得ら
れる。特にブチルリチウムを一始剤とするアニオン低重
合法により1本発明の目的とする重合度のスチレンオリ
ゴi−が容易に得られる。
る分解あるいはスチレンモノマーの低重合法により得ら
れる。特にブチルリチウムを一始剤とするアニオン低重
合法により1本発明の目的とする重合度のスチレンオリ
ゴi−が容易に得られる。
また、本発明の目的とする重合度を有している市販スチ
レンオリゴマ一本人手容易な原料として使用される、。
レンオリゴマ一本人手容易な原料として使用される、。
該スチレンオリゴ、マーにジフェニルホスフィノ基を導
入する方法は次式に示す公知の方法をそのまま適用する
ことが出、来るが、ジフェニルホスフィノ基の導入率(
ホスフィン化率)tflll実施するのが好ましい。
入する方法は次式に示す公知の方法をそのまま適用する
ことが出、来るが、ジフェニルホスフィノ基の導入率(
ホスフィン化率)tflll実施するのが好ましい。
(B)式におけるハロゲン−化スチレンオリゴ!−は、
たとえば、クロロホルム−酢酸混合溶媒中で塩化亜鉛の
存在下にスチレンオリゴマーを臭素等のハロゲン単体と
反応させるかまたは四塩化炭素溶媒中で酢酸タリウムの
存在下にスチレンオリゴマーを臭素等のハロゲン単体と
反応させることによ秒置られる。前者の方法では。
たとえば、クロロホルム−酢酸混合溶媒中で塩化亜鉛の
存在下にスチレンオリゴマーを臭素等のハロゲン単体と
反応させるかまたは四塩化炭素溶媒中で酢酸タリウムの
存在下にスチレンオリゴマーを臭素等のハロゲン単体と
反応させることによ秒置られる。前者の方法では。
低−重合度のスチレンオリゴマー社完全にハロゲン置換
されるが、重合度の高いスチレンオリゴ脅−はスチレン
ユニットが未置換で残存する。
されるが、重合度の高いスチレンオリゴ脅−はスチレン
ユニットが未置換で残存する。
ハロゲン化されないスチレンユニット(1)の量は少な
り方が好ましくl!0モル−以下とするべきである。ハ
ロゲン化されないユニラドがあまりに多いと、最終的に
λチレンオリ゛ゴマー中に導入されるリン量が減少し、
ヒドロホルよル化反応に於てn/iが低下する等好まし
くなら。
り方が好ましくl!0モル−以下とするべきである。ハ
ロゲン化されないユニラドがあまりに多いと、最終的に
λチレンオリ゛ゴマー中に導入されるリン量が減少し、
ヒドロホルよル化反応に於てn/iが低下する等好まし
くなら。
□゛また、前者ではハロゲンの置換位置はそのテ0チ程
度がp−位であり、10%程度がo −位である。後者
の方法では、ハロゲンの置換程度は前者の方法とほぼ同
様であるが、ハロゲン11fべてp−位Kll換導入さ
れる。
度がp−位であり、10%程度がo −位である。後者
の方法では、ハロゲンの置換程度は前者の方法とほぼ同
様であるが、ハロゲン11fべてp−位Kll換導入さ
れる。
(ム)弐におけるリチウム化スチレンオリゴマーは、ス
チレンオリゴマーをM、M、M’、He−テトラメチル
エチレンシアずンの存在下Kn−ブチルリチウムと反応
させる方法、ハロゲン化ステレy#9=rマーまタハハ
ロゲノステレンオリゴi−を金属リチウ^と反応させる
方法麦どにょシ得ることができる。
チレンオリゴマーをM、M、M’、He−テトラメチル
エチレンシアずンの存在下Kn−ブチルリチウムと反応
させる方法、ハロゲン化ステレy#9=rマーまタハハ
ロゲノステレンオリゴi−を金属リチウ^と反応させる
方法麦どにょシ得ることができる。
リチウム化スチレンオリゴマーからオリゴホスツインを
製造するには、上記リチウム化により得られる反応生成
液にクロロジフェニルホスフィンなどのハ胃グツジフェ
ニルホスフィンを滴下し、若干の加熱を行なえばよい。
製造するには、上記リチウム化により得られる反応生成
液にクロロジフェニルホスフィンなどのハ胃グツジフェ
ニルホスフィンを滴下し、若干の加熱を行なえばよい。
反応の進行に伴なって、リチウム化スチレンオリゴマー
の沈澱が徐々に消失していくので、沈澱が完全に消失し
九のち、冷却してメタノール中に反応液を排出するとと
kよシ、オリゴホスフィンが白色沈澱として得られる。
の沈澱が徐々に消失していくので、沈澱が完全に消失し
九のち、冷却してメタノール中に反応液を排出するとと
kよシ、オリゴホスフィンが白色沈澱として得られる。
ハロゲン化スチレンオリゴマーからオリゴホスフィンを
製造するILこれらのオリゴマーをテトラヒドロフラン
等の溶媒に溶解し、ジフェニルホスフィンリチウム塙の
テトラヒドロフラン溶液を滴下し、加熱すればよ−。7
〜!時間加熱攪拌したのち、冷却し1反応液をメタノー
ル中に排出すること忙より、オリゴホスフィンの白色沈
澱が得られる。
製造するILこれらのオリゴマーをテトラヒドロフラン
等の溶媒に溶解し、ジフェニルホスフィンリチウム塙の
テトラヒドロフラン溶液を滴下し、加熱すればよ−。7
〜!時間加熱攪拌したのち、冷却し1反応液をメタノー
ル中に排出すること忙より、オリゴホスフィンの白色沈
澱が得られる。
ハロゲンは完全にジフェニルホスフィノ基と置換される
のが好ましいが、タカ〈と4 ハロゲンの残存率は構造
単位(II)としてaOモル−以下、好ましく#iコσ
モルチ以下とする必要がある。ハロゲンの残存率が増加
するとヒドロホルミル化反応に於てn/iあるいは反応
速廣の低下が生じ好ましくない。
のが好ましいが、タカ〈と4 ハロゲンの残存率は構造
単位(II)としてaOモル−以下、好ましく#iコσ
モルチ以下とする必要がある。ハロゲンの残存率が増加
するとヒドロホルミル化反応に於てn/iあるいは反応
速廣の低下が生じ好ましくない。
前述した式(1)で示される構造単位100%よ)なる
オリゴホスフィンを得るKFi、ブロモスチレンのジフ
ェニルホスフィン化にょ知得うれるジフェニル(ビニル
フェニル)ホスフィンを低重合させればよい。
オリゴホスフィンを得るKFi、ブロモスチレンのジフ
ェニルホスフィン化にょ知得うれるジフェニル(ビニル
フェニル)ホスフィンを低重合させればよい。
かくして、スチレンオリゴマーの数平均重合度がJ〜J
夕0.好ましくはダ〜100でホスフィン化率が!〜1
00モル嗟、好ましくは%0〜lσ0モルーのオリゴホ
スフィンを得ることが出来る。
夕0.好ましくはダ〜100でホスフィン化率が!〜1
00モル嗟、好ましくは%0〜lσ0モルーのオリゴホ
スフィンを得ることが出来る。
本発明のオリゴホスフィンは数平均重合f3〜3!00
特異的なIli!囲のスチレンオリゴマーを基本骨格に
しているととるが大きな特色であ該オリゴホスツインの
使用量はオリゴホスフィ/に含有されるリン原子とロジ
ウムとの原子比(P/Rh )で通常’〜/’0. 好
適Kat 〜t。
特異的なIli!囲のスチレンオリゴマーを基本骨格に
しているととるが大きな特色であ該オリゴホスツインの
使用量はオリゴホスフィ/に含有されるリン原子とロジ
ウムとの原子比(P/Rh )で通常’〜/’0. 好
適Kat 〜t。
の範囲で選ばれる。
オリゴホスフィンの使用方法としては、適当なロジウム
源と共にヒドロホルミル化反応器へ導入し、水素及び−
酸化炭素の混合ガスの存在下K111体を形成せしめて
用いる方法あるいはあらかじめロジウムと錯形成させて
用いる方法が挙げられる。
源と共にヒドロホルミル化反応器へ導入し、水素及び−
酸化炭素の混合ガスの存在下K111体を形成せしめて
用いる方法あるいはあらかじめロジウムと錯形成させて
用いる方法が挙げられる。
適当なロジウム源としては、ロジウムとホスフィンとを
含有する錯体1例えばRhH(Co)(Pφ、入(−は
フェニル基を意味する)等の錯体を使用してもよ埴が、
酢酸ロジウム等のロジウムの有機酸+11ihるいは硝
酸ロジウム、硫酸ロジウム等のロジウムの無櫟酸塙の如
き入手容易なロジウム化合物を適当な溶媒に溶解して用
いることが出来る。
含有する錯体1例えばRhH(Co)(Pφ、入(−は
フェニル基を意味する)等の錯体を使用してもよ埴が、
酢酸ロジウム等のロジウムの有機酸+11ihるいは硝
酸ロジウム、硫酸ロジウム等のロジウムの無櫟酸塙の如
き入手容易なロジウム化合物を適当な溶媒に溶解して用
いることが出来る。
前記オリゴホスフィンとあらかじめ錯形成させる方法と
しては、従来よ〉広く研究されて−るロジウム化合物と
第3級ホスフィンとの錯形成の手段を適用させる事が出
来るが1価のロジウム錯体との配位子交換により製造す
る方法が特に好ましい。7価のロジウム錯体としては。
しては、従来よ〉広く研究されて−るロジウム化合物と
第3級ホスフィンとの錯形成の手段を適用させる事が出
来るが1価のロジウム錯体との配位子交換により製造す
る方法が特に好ましい。7価のロジウム錯体としては。
代表的にはRh′H(co)(pφ、)1、Rh(oA
c)(00)(Pφ、)。
c)(00)(Pφ、)。
(ムCFi、アセチル基を意味する)、(”Rhcz(
シクロオクテ/ )1 )1、(Rh(OAc)(/、
!−シクロオクタジエン) ) 、 Cuhcz(c
o)、 )*、(Rh(oAc)(CO)* )e
などが挙げられる。これら錯体に含まれる第3級ホスフ
ィン類、オレフィンWs、および−酸化炭素等の配位子
け、容易に本発明の配位子と交換され、オリゴホスフィ
ンを配位したロジウム錯体が形成される。
シクロオクテ/ )1 )1、(Rh(OAc)(/、
!−シクロオクタジエン) ) 、 Cuhcz(c
o)、 )*、(Rh(oAc)(CO)* )e
などが挙げられる。これら錯体に含まれる第3級ホスフ
ィン類、オレフィンWs、および−酸化炭素等の配位子
け、容易に本発明の配位子と交換され、オリゴホスフィ
ンを配位したロジウム錯体が形成される。
ロジウム化合物の使用量Fi特に制限はないが、通常5
反応帯績における濃度がロジウム金属換算値で0./8
9−コf / t 、好ましくFi/IIIP〜/1/
1の範囲で選択される。
反応帯績における濃度がロジウム金属換算値で0./8
9−コf / t 、好ましくFi/IIIP〜/1/
1の範囲で選択される。
本発明方法にお−て反応原料として使用されるオレフィ
ン性化合物とは1分子内にオレフィン性二重結合を有す
る有機化合物であって、具体的にはエデレン、フ四ピレ
ン、ブテン−7゜ペンテン−7,ヘキセン−7,オクテ
ン−7゜ドデセン−7,スチレン、el−メチルスチレ
ン、シクロヘキセン等の炭素原子数2〜20のオレフィ
ン性炭化水素類、アクリロニトリル、アリルアルコール
、酢酸ビニル、アクリル酸メチル。
ン性化合物とは1分子内にオレフィン性二重結合を有す
る有機化合物であって、具体的にはエデレン、フ四ピレ
ン、ブテン−7゜ペンテン−7,ヘキセン−7,オクテ
ン−7゜ドデセン−7,スチレン、el−メチルスチレ
ン、シクロヘキセン等の炭素原子数2〜20のオレフィ
ン性炭化水素類、アクリロニトリル、アリルアルコール
、酢酸ビニル、アクリル酸メチル。
メタクリル酸メチル等の官能基を有するオレフィン性化
合物が挙げられる。
合物が挙げられる。
反応を行うにあたって反応溶媒の使用は必須で杜ないが
1通常はヒドロホルミル化反応に不活性で前記オリゴホ
スフィンを配位したロジウム錯化合物を溶解せしめる溶
媒の存在下に実施される。
1通常はヒドロホルミル化反応に不活性で前記オリゴホ
スフィンを配位したロジウム錯化合物を溶解せしめる溶
媒の存在下に実施される。
好ましい具体例は、ベンゼン、トルエン、キシレン、ド
デシルベンゼン等の芳香族炭化水素化合物、アセトン、
ジエチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エ
チル、プルピオン酸エチル、ジ−n−オクチルフタレー
ト等のエステル類が挙げられる。また、経済的一点より
、生成物であるアルデヒド類あるいFi副生物であるア
ルデヒドオリゴマーからなる高沸点物を溶媒として使用
することも出来る。いずれにして本反応系では、ロジウ
ム化合物とオリゴホスフィンからなる触媒系は実質的に
溶解していることが必要である。
デシルベンゼン等の芳香族炭化水素化合物、アセトン、
ジエチルケトン、メチルエチルケトン等のケトン類、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エ
チル、プルピオン酸エチル、ジ−n−オクチルフタレー
ト等のエステル類が挙げられる。また、経済的一点より
、生成物であるアルデヒド類あるいFi副生物であるア
ルデヒドオリゴマーからなる高沸点物を溶媒として使用
することも出来る。いずれにして本反応系では、ロジウ
ム化合物とオリゴホスフィンからなる触媒系は実質的に
溶解していることが必要である。
反応条件として、反応温度は室温〜コθOC好ましくは
夕0〜/1707:の範囲で行なわれ。
夕0〜/1707:の範囲で行なわれ。
反応圧力は常圧〜300気圧、好ましくFi−〜10気
圧である。圧力は低圧はどn/iが大きくなる傾向にあ
る。
圧である。圧力は低圧はどn/iが大きくなる傾向にあ
る。
水素と一酸化炭素のモル比(FiJCO’)は10//
〜l/10、好ましくはl/l−6//の範囲で選択さ
れる。
〜l/10、好ましくはl/l−6//の範囲で選択さ
れる。
以下、本発明を参考例および実施例により説明する。本
発明におけるスチレンオリゴマーの数平均賃金度(下w
)の測定法は以下の通りである。ゲル・パーメーシ璽ン
・クロマトグラフィーによって以下の条件で測定した。
発明におけるスチレンオリゴマーの数平均賃金度(下w
)の測定法は以下の通りである。ゲル・パーメーシ璽ン
・クロマトグラフィーによって以下の条件で測定した。
使用機種 IILO−40/ム (東洋曹達社製)ヵ
ラ ム GMaa (コフィート) コ本
(東洋1達社製) 条件 展開液 テトラヒドロフラン(’rHF)
オープン温度 JrC ディテクター R工 標準試料 Pressure Chemicals社
製標準ポリスチレン ・コlダ、j X / 0’ −rt、0X104 − ’I/、/X104 ・ デ、72X10’ ・ t、/ X10’ * /、0 X10’ 000 00 3 l ダ l O なお、M(タo−oo社Jのスチレンオリゴマーに対し
ては、カラムasoooH/ (Jフィート)(東洋曹
達社製)2本を用いて(測定条件は同じ′)、分子量を
確認した。
ラ ム GMaa (コフィート) コ本
(東洋1達社製) 条件 展開液 テトラヒドロフラン(’rHF)
オープン温度 JrC ディテクター R工 標準試料 Pressure Chemicals社
製標準ポリスチレン ・コlダ、j X / 0’ −rt、0X104 − ’I/、/X104 ・ デ、72X10’ ・ t、/ X10’ * /、0 X10’ 000 00 3 l ダ l O なお、M(タo−oo社Jのスチレンオリゴマーに対し
ては、カラムasoooH/ (Jフィート)(東洋曹
達社製)2本を用いて(測定条件は同じ′)、分子量を
確認した。
参考例−/(スチレンオリゴマーの合成)本発明に用い
るオリゴホスフィンの原料であるスチレンオリゴマーは
スチレンのアニオン低重合法により、容易に得ることが
できる。その合成法としては、市販のメルク社製ブチル
リチウムのヘキサン溶液(約コ規定)をTHνで希釈し
て約O,a規定とした溶液の所定量を、Oから一−or
:に冷却し、激しく攪拌を行い外から所定量のスチレン
モノマーとTHFの混合液(体積比としてl対J)を滴
下し、 ’o、yないし1時間攪拌を続ける。次いで、
この反応液を一倍景の蒸留水に滴下−して重合反応を停
止し、これよりスチレンオリゴマーを抽出分離する。ブ
チルリチウムとスチレンモノミー0モル比を調節するこ
とにより、所望の重合度をもつスチレンオリゴ!−が得
られるが、更に所望に応じて。
るオリゴホスフィンの原料であるスチレンオリゴマーは
スチレンのアニオン低重合法により、容易に得ることが
できる。その合成法としては、市販のメルク社製ブチル
リチウムのヘキサン溶液(約コ規定)をTHνで希釈し
て約O,a規定とした溶液の所定量を、Oから一−or
:に冷却し、激しく攪拌を行い外から所定量のスチレン
モノマーとTHFの混合液(体積比としてl対J)を滴
下し、 ’o、yないし1時間攪拌を続ける。次いで、
この反応液を一倍景の蒸留水に滴下−して重合反応を停
止し、これよりスチレンオリゴマーを抽出分離する。ブ
チルリチウムとスチレンモノミー0モル比を調節するこ
とにより、所望の重合度をもつスチレンオリゴ!−が得
られるが、更に所望に応じて。
九とえげカラムクロマト法(充填剤としてシリカゲル、
展開液として、ベンゼン及びn−ヘキサンからなる混合
液)を用いて分子tKよる分別を行−1本発明に適した
重合度をもつスチレンオリゴマーを得ることができる。
展開液として、ベンゼン及びn−ヘキサンからなる混合
液)を用いて分子tKよる分別を行−1本発明に適した
重合度をもつスチレンオリゴマーを得ることができる。
また、スチレンオリゴ!−としては所望の重合度を有す
る市販のスチレンオリゴ!−あるいは市販やスチレンオ
リゴマーを上記カラムクロマト法にて分離し所望の重合
度のスチレンオリゴマーとして用いるととができる。
る市販のスチレンオリゴ!−あるいは市販やスチレンオ
リゴマーを上記カラムクロマト法にて分離し所望の重合
度のスチレンオリゴマーとして用いるととができる。
本発明に用いたスチレンオリゴマー〇数平均表−7
参考例−コ (ホスフィノ基の導入)
本発明に供したオリゴホスフィンは、参考例−/に示し
たスチレンオリゴマーの核臭素化及ヒff臭素をジフェ
ニルホスフィ7基で置換するととKより得られる。その
合成法の例としては。
たスチレンオリゴマーの核臭素化及ヒff臭素をジフェ
ニルホスフィ7基で置換するととKより得られる。その
合成法の例としては。
スチレンオリゴマー9./lをり四ロホルムす0il/
に溶解し、次いで氷酢酸りO1E/、無水塩化亜鉛/
2.すtを加える。上記溶液を光から遮蔽しつつ、臭素
/ヂfとり四ロホルムコOwlからなる混合液を滴下し
、室温にて70時間攪拌する。
に溶解し、次いで氷酢酸りO1E/、無水塩化亜鉛/
2.すtを加える。上記溶液を光から遮蔽しつつ、臭素
/ヂfとり四ロホルムコOwlからなる混合液を滴下し
、室温にて70時間攪拌する。
次いで更に臭素/#、/ fとクロロホルムコOwlか
らなる混合液を滴下し、室温で10時間攪拌した後1反
応液を減圧下(約30■He )で加熱して未反応の臭
素及びクロロホルムを留去する。この釜残液をダ00t
dのメタノールに滴下し、析出した沈澱をPiすること
により、臭素含有スチレンオリゴ!−を得る。
らなる混合液を滴下し、室温で10時間攪拌した後1反
応液を減圧下(約30■He )で加熱して未反応の臭
素及びクロロホルムを留去する。この釜残液をダ00t
dのメタノールに滴下し、析出した沈澱をPiすること
により、臭素含有スチレンオリゴ!−を得る。
上記臭素含有スチレンオリゴマーの所定量(約70■原
子臭素)をTl!IIF JσW11に溶解し。
子臭素)をTl!IIF JσW11に溶解し。
ジフェニ゛ルホスフインクロライド及び金属リチウムよ
シ合成したジフェニルホスフィトリチウムのT111ν
溶液(OAe j mol/l )の所定量(臭素に対
し、7.7倍当量)を加え、tO〜60Cに加熱しダ時
間攪拌する。次いで反応液を夕倍容積のメタノールに滴
下し、析出した沈澱を戸堆することによシ、オリゴホス
フィンを得る。
シ合成したジフェニルホスフィトリチウムのT111ν
溶液(OAe j mol/l )の所定量(臭素に対
し、7.7倍当量)を加え、tO〜60Cに加熱しダ時
間攪拌する。次いで反応液を夕倍容積のメタノールに滴
下し、析出した沈澱を戸堆することによシ、オリゴホス
フィンを得る。
上記の合成法で得、本発明に用いたオリゴホスフィンの
元素分析値を表コに示す。
元素分析値を表コに示す。
こレラのオリゴホスフィンのジフェニルホスフィノ基に
由来する赤外吸収スペクトル(KBr )が以下のよう
に観察された。
由来する赤外吸収スペクトル(KBr )が以下のよう
に観察された。
/j?7cln−”(s)、 14taOon−’(8
)、 /lデQcm−’ (a<) 、 t too
cm−’ (yx)、7tOan−” (8) 。
)、 /lデQcm−’ (a<) 、 t too
cm−’ (yx)、7tOan−” (8) 。
7zOeWI−’(s)
参考例−3
本発明に用いるロジウム源は、ロジウムの塩あるいは、
−価のロジウム錯体等を用いうろことができるが、参考
例−一に示したオリゴホスフィンと予め錯形成させ、こ
れをロジウム源とすることもできる。
−価のロジウム錯体等を用いうろことができるが、参考
例−一に示したオリゴホスフィンと予め錯形成させ、こ
れをロジウム源とすることもできる。
錯形成の例としてり、所定量の(Rh(OAe)(/、
r−シクロオクタジエン)〕、のベンゼン溶液(約lタ
ダ原子Rh/l ) K室温にて、−酸化炭素をo、r
”tzいし1時間通ずることにより得られるC Rh
(oAc)(co)、 )を溶液を、所定量のオリゴホ
スフィンのベンゼン溶液(約10ot/l)中に滴下し
、室温にて1時間攪拌を続ける。次いで反応液を10倍
量のn−へキサン中に滴下し、析出した沈澱をP堰、乾
燥することにより、オリゴホスフィンを配位子とするロ
ジウム錯体を得る。該ロジウム錯体の赤外吸収スペクト
ルはl?!0〜19♂OCIn”にロジウムに配位した
カルボニルの鋭い吸収を有し、/400,1JIO譚
付近に酢酸のカルボニル基に由来する吸収を有する。さ
らに/Q9Q6n Kオリゴホスフィンのジフェニルホ
スフィノ基に由来する吸収を有する。
r−シクロオクタジエン)〕、のベンゼン溶液(約lタ
ダ原子Rh/l ) K室温にて、−酸化炭素をo、r
”tzいし1時間通ずることにより得られるC Rh
(oAc)(co)、 )を溶液を、所定量のオリゴホ
スフィンのベンゼン溶液(約10ot/l)中に滴下し
、室温にて1時間攪拌を続ける。次いで反応液を10倍
量のn−へキサン中に滴下し、析出した沈澱をP堰、乾
燥することにより、オリゴホスフィンを配位子とするロ
ジウム錯体を得る。該ロジウム錯体の赤外吸収スペクト
ルはl?!0〜19♂OCIn”にロジウムに配位した
カルボニルの鋭い吸収を有し、/400,1JIO譚
付近に酢酸のカルボニル基に由来する吸収を有する。さ
らに/Q9Q6n Kオリゴホスフィンのジフェニルホ
スフィノ基に由来する吸収を有する。
本発明に用いた上記のロジウム錯体の元素分析値を表3
に示す。
に示す。
参考例−ダ
本発明に用いるオリゴホスフィンを配位子とする、ロジ
ウム錯体は参考例−3に示した方法以外でも可能である
。
ウム錯体は参考例−3に示した方法以外でも可能である
。
公知の方法で合成した( HRh(Co)(Pφ、)、
〕θ、−4!f(Rhとしてθ、−デダ原子)及び参考
例−一の実験例/4(表コ)に示したオリゴホスフィン
八〇11(PとしてJ■原子)をベンゼンyawlに溶
解し、室温下、アルゴン気流下でコ餌時間攪拌した後、
夕00dのn−ヘキ誉ンに滴下すると沈澱が析出し、討
沈澱を一取乾燥したところ0.9 J Fであった。
〕θ、−4!f(Rhとしてθ、−デダ原子)及び参考
例−一の実験例/4(表コ)に示したオリゴホスフィン
八〇11(PとしてJ■原子)をベンゼンyawlに溶
解し、室温下、アルゴン気流下でコ餌時間攪拌した後、
夕00dのn−ヘキ誉ンに滴下すると沈澱が析出し、討
沈澱を一取乾燥したところ0.9 J Fであった。
骸沈澱の元素分析値はC76,07チ、Hj、シコチ、
Pデ、34IIRh 3.a7cI、、Br t、7
0f!sであった。
Pデ、34IIRh 3.a7cI、、Br t、7
0f!sであった。
実施例−l〜?
参考例−3(表3)に示したオリゴホスフィンを配位子
、とするロジウム錯体を用いて以下の反応を行った。
、とするロジウム錯体を用いて以下の反応を行った。
表−ダに示すロジウム錯体の所定量及びトルエンjOw
lを内容積コ0θ1の電磁攪拌式ステンレス製オートク
レーブに仕込み密閉し九後、オートクレーブ内を窒素置
換し、プロピレンO,コr matを圧入した。次いで
オートクレーブ内をlコoCまで昇温するとオートクレ
ーブ内の圧力は13ky/cdゲージとなった。これに
水素及び−酸化炭素からなる混合ガス(体積比/対l)
を圧入しオートクレーブ内の圧力を/rky / dl
ゲージとした。次い−でオートクレーブ内の温度を/2
0CIC保ちつつ攪拌を続け、オートクレーブ内の圧力
が/rkf/dlゲージとなるように水素及び−酸化炭
素からなる混合ガス(体積比l対/)を補給し所定時間
反応を行った。反応終了後、ガスク四マドグラフを用い
て。
lを内容積コ0θ1の電磁攪拌式ステンレス製オートク
レーブに仕込み密閉し九後、オートクレーブ内を窒素置
換し、プロピレンO,コr matを圧入した。次いで
オートクレーブ内をlコoCまで昇温するとオートクレ
ーブ内の圧力は13ky/cdゲージとなった。これに
水素及び−酸化炭素からなる混合ガス(体積比/対l)
を圧入しオートクレーブ内の圧力を/rky / dl
ゲージとした。次い−でオートクレーブ内の温度を/2
0CIC保ちつつ攪拌を続け、オートクレーブ内の圧力
が/rkf/dlゲージとなるように水素及び−酸化炭
素からなる混合ガス(体積比l対/)を補給し所定時間
反応を行った。反応終了後、ガスク四マドグラフを用い
て。
生成物を分析した結果、仕込んだプロピレンに対し表−
に示す反応成績を得た。また補給した水素及び−酸化炭
素からなる混合ガスの供給速度より求めた反応速度はプ
ロピレン濃度に対してほぼ一次速度式にて近似し得、得
られ九−次速度定数鴫 を表ダに並記した。
に示す反応成績を得た。また補給した水素及び−酸化炭
素からなる混合ガスの供給速度より求めた反応速度はプ
ロピレン濃度に対してほぼ一次速度式にて近似し得、得
られ九−次速度定数鴫 を表ダに並記した。
比稜例−l及びコ
実施例−/において、オリゴホスフィンを配位子とする
ロジウム錯体を用いることな−く、公知の方法で得た(
1!Rh(CIO)(Pφ3)s〕所定量及び市販の
トリフェニルホスフィン話量を用いた他、全く同様に所
定時間反応を行った結果を表−一に並記し−た。
ロジウム錯体を用いることな−く、公知の方法で得た(
1!Rh(CIO)(Pφ3)s〕所定量及び市販の
トリフェニルホスフィン話量を用いた他、全く同様に所
定時間反応を行った結果を表−一に並記し−た。
比較例−7は、実施例−l〜7と同程度のP/Rh比で
行った結果であるが、反応活性は高いものの、Vi比は
わずかに/、Jコであった。
行った結果であるが、反応活性は高いものの、Vi比は
わずかに/、Jコであった。
比較例−1は、ロジウムに対し大過剰のトリフェニルホ
スフィンヲ用い711− (P/Rh比=@/す)結果
であるが、トリフェニルホスフィンを配位子とする反応
ではこのように大量のホスフィンを要して初めて高いn
/i比を得るのであシ、その場合、比較例−7と較べp
ジウム当ヤの活性は著しく低下するのである。しかも、
このように大量のホスフィンを用いながら、実施例−2
〜7 (P/Rh比=7〜a0)と比較してなお、n/
1比は小さく、本発明の優位性は明らかである。
スフィンヲ用い711− (P/Rh比=@/す)結果
であるが、トリフェニルホスフィンを配位子とする反応
ではこのように大量のホスフィンを要して初めて高いn
/i比を得るのであシ、その場合、比較例−7と較べp
ジウム当ヤの活性は著しく低下するのである。しかも、
このように大量のホスフィンを用いながら、実施例−2
〜7 (P/Rh比=7〜a0)と比較してなお、n/
1比は小さく、本発明の優位性は明らかである。
比較例−3
市販の無架橋ポリスチレン(九#!θO)を用いて、参
考例−コに示した方法で1次の元素組成をもつ可溶性の
オリゴホスフィンを得た。
考例−コに示した方法で1次の元素組成をもつ可溶性の
オリゴホスフィンを得た。
0 : r2.22%、H:夕、toチ、P : 10
.0−1Br : 八ツrチ 次に参考例−3に示した方法で、上記のすリボホスフィ
ンを配位子とするロジウム錯体を合成したところ、ベン
ゼンに不溶のロジウム錯体が生成した。当該ロジウム錯
体の赤外吸収スペクトルは参考例−3に示し、本発明に
用いたロジウム錯体のものと有意の差Fi昭められずそ
の組成は、O: 77、タタ%、H: t、t/e
4. ? :デ、餌チ、Br : /、r3%、Rh
: j、!コチであった。
.0−1Br : 八ツrチ 次に参考例−3に示した方法で、上記のすリボホスフィ
ンを配位子とするロジウム錯体を合成したところ、ベン
ゼンに不溶のロジウム錯体が生成した。当該ロジウム錯
体の赤外吸収スペクトルは参考例−3に示し、本発明に
用いたロジウム錯体のものと有意の差Fi昭められずそ
の組成は、O: 77、タタ%、H: t、t/e
4. ? :デ、餌チ、Br : /、r3%、Rh
: j、!コチであった。
前記ジフェニルホスフィノ基含有ポリスチレンを配位子
とするロジウム錯体0.コratを用い、実施例−7に
て実験例/7(参考例−3)のロジウム錯体を用いなか
った他、全く同様に6、!時間反応を行ったところ、表
−弘に示す結果が得られた。即ち、実施例−l〜7に比
較して著しく反応活性が低下し、またn/i比について
も、何ら優位性がψめられない。
とするロジウム錯体0.コratを用い、実施例−7に
て実験例/7(参考例−3)のロジウム錯体を用いなか
った他、全く同様に6、!時間反応を行ったところ、表
−弘に示す結果が得られた。即ち、実施例−l〜7に比
較して著しく反応活性が低下し、またn/i比について
も、何ら優位性がψめられない。
実施例−!
実施例−タにおいて、昇温後、最初に圧入する水素及び
−酸化炭素からガる混合ガスの混合比を、ダ、6対lに
した以外、全く同様の方法で反応を行ったところ、ブチ
ルアルデヒド収率デ0.7嗟、n/1比?、/≦、プロ
パンダ、j嗟を得、kl#i3.コ/ hr であっ
た。
−酸化炭素からガる混合ガスの混合比を、ダ、6対lに
した以外、全く同様の方法で反応を行ったところ、ブチ
ルアルデヒド収率デ0.7嗟、n/1比?、/≦、プロ
パンダ、j嗟を得、kl#i3.コ/ hr であっ
た。
実施例−デ
実施例−/に示した方法で、オリゴホスフィンを配位子
とするロジウム錯体を用いることなく、酢酸リジウム溶
液(日本エンゲルハルト社製)をRhとして20■及び
参考例−コの実験例−74(表コ)K示したオリゴホス
フィンoJJ/l(Pとして0.3?ダ原子P/Rh原
子比=コ)を加え九他、同様にして2時間反応を行つ友
結果、ブチルアルデヒド収率?6.θチ。
とするロジウム錯体を用いることなく、酢酸リジウム溶
液(日本エンゲルハルト社製)をRhとして20■及び
参考例−コの実験例−74(表コ)K示したオリゴホス
フィンoJJ/l(Pとして0.3?ダ原子P/Rh原
子比=コ)を加え九他、同様にして2時間反応を行つ友
結果、ブチルアルデヒド収率?6.θチ。
n/L比体、72、k、 xz j、/ hr−”を得
た。
た。
実施例−10
実施例−ツにて、討オリゴホスフィンを八3/r(Pと
してJ、tデ■原子P/Rh原子比=、2o)を用いた
他、同様に5時間反応を行った結果、ブチルアルデヒド
収率? %、/チ、 n/i =x a、70゜k、
wへθりhr を得た。
してJ、tデ■原子P/Rh原子比=、2o)を用いた
他、同様に5時間反応を行った結果、ブチルアルデヒド
収率? %、/チ、 n/i =x a、70゜k、
wへθりhr を得た。
実施例−//
実施例−デにて、該オリゴホスフィン0.6タタy(p
として八り弘■原子、 P/Rh原子比=lσ)を用い
1反応中のオートクレーブ内の圧力が!σkg / c
dゲージとなるよう水素及び−酸化炭素からなる混合ガ
スを補給する以外、同様にして、3時間反応を行ったと
とる、ブチルアルデヒド収率タコ、!チ、n/i =
J、/θ、k、==/、7jhr”であった。
として八り弘■原子、 P/Rh原子比=lσ)を用い
1反応中のオートクレーブ内の圧力が!σkg / c
dゲージとなるよう水素及び−酸化炭素からなる混合ガ
スを補給する以外、同様にして、3時間反応を行ったと
とる、ブチルアルデヒド収率タコ、!チ、n/i =
J、/θ、k、==/、7jhr”であった。
実施例−/コ
したところオートクレープ内の圧力は/ 117 kl
/dゲージとなった。次いでオートクレーブ内の圧力
が12kg101ゲージとなるようK、水素及び−酸化
炭素からなる混合ガス(体積比l対/)を補給して、J
、r時間反応を行った結果、ブチルアルデヒド収率ツ6
.7 % 、 nli比I7餌をマ耳・鵬=/、Jrコ
hr であった。
/dゲージとなった。次いでオートクレーブ内の圧力
が12kg101ゲージとなるようK、水素及び−酸化
炭素からなる混合ガス(体積比l対/)を補給して、J
、r時間反応を行った結果、ブチルアルデヒド収率ツ6
.7 % 、 nli比I7餌をマ耳・鵬=/、Jrコ
hr であった。
実施例−/J
実施例−/にで、参考例−3に示されたリジウム錯体を
用いることなく、参考例−1の実験例−/ OK示され
たオリゴホスフィン0−30/f(Pとして0.97W
9原子)及び(”Rh(oAe)(1,ナーシク四オク
タジエン))、、za、/sy(nhとして/ Owg
、 P/Rh原子比wto)を用−九他、同様にして、
コ、を時間反応を行ったとζろ、ブチルアルデヒドの収
率はtへデチ。
用いることなく、参考例−1の実験例−/ OK示され
たオリゴホスフィン0−30/f(Pとして0.97W
9原子)及び(”Rh(oAe)(1,ナーシク四オク
タジエン))、、za、/sy(nhとして/ Owg
、 P/Rh原子比wto)を用−九他、同様にして、
コ、を時間反応を行ったとζろ、ブチルアルデヒドの収
率はtへデチ。
n/1比J、7 tを得、k、 #iコ、すJ hr−
”であった。
”であった。
実施例−l−゛
実施例−/にて、参考例−Jに示されたロジウム錯体を
用いると七なく、参考例−一に示し九ロジウム錯体0.
/37f (Rhとして、餌、#I9、P/Rh原子比
wx f、デ)を用いた他、同様にして、ナ時間反応を
行ったところ、ブチルアルデヒド収率7!、t、!l/
1比!、06f得、k、x5.jl+であり九。
用いると七なく、参考例−一に示し九ロジウム錯体0.
/37f (Rhとして、餌、#I9、P/Rh原子比
wx f、デ)を用いた他、同様にして、ナ時間反応を
行ったところ、ブチルアルデヒド収率7!、t、!l/
1比!、06f得、k、x5.jl+であり九。
出 願 人 三菱化成工東株式会社
昭和31.年//月/Q日
特許庁長官島田春樹殿
1 事件の表示 昭和56年 特 許 願第12311
63号2 発 明 の名称 アルデヒドの製造法 3 補正をする者 (t5Pg) 三菱化成工業株式会社 4代理人〒100 (ほか l 名) 5 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄
6補正Q内容 (1) 明細書第37頁3行〜ix行の「実施例−「
実施例−タ 実施例−lに示した方法で、オリゴホスフィンを配位子
とするロジウム錯体を用いることなく、酢酸ロジウム溶
液(日本エンゲル・・ルト社製)iRhとして20■お
よび参考例−2の実験例−7J(表−2)に示したオリ
ゴホスフィン/、3/i(Pとして3.r9rn9原子
P/Rh原子比=−zo)f加えた他、同様にして5
時間反応を行った結果、ブチルアルデヒド収率りμ、1
%、n/i = p、70− k、= 1.o r h
r−’ k得た。」(3)同第31頁下から2行に「
実施例−ii」とあるを「実施例−10Jと訂正する。
63号2 発 明 の名称 アルデヒドの製造法 3 補正をする者 (t5Pg) 三菱化成工業株式会社 4代理人〒100 (ほか l 名) 5 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄
6補正Q内容 (1) 明細書第37頁3行〜ix行の「実施例−「
実施例−タ 実施例−lに示した方法で、オリゴホスフィンを配位子
とするロジウム錯体を用いることなく、酢酸ロジウム溶
液(日本エンゲル・・ルト社製)iRhとして20■お
よび参考例−2の実験例−7J(表−2)に示したオリ
ゴホスフィン/、3/i(Pとして3.r9rn9原子
P/Rh原子比=−zo)f加えた他、同様にして5
時間反応を行った結果、ブチルアルデヒド収率りμ、1
%、n/i = p、70− k、= 1.o r h
r−’ k得た。」(3)同第31頁下から2行に「
実施例−ii」とあるを「実施例−10Jと訂正する。
(4)同第32頁g行に「実施例L12」とあるを「実
施例−1l」と訂正する。
施例−1l」と訂正する。
(5)同第32頁り行に「実施例−1/において」とあ
るを「実施例−ioにおいて」と訂正する。
るを「実施例−ioにおいて」と訂正する。
(6)同第32頁下から3行に「実施例−/3」′とあ
るを「実施例−/2jと訂正する。
るを「実施例−/2jと訂正する。
(7)同第33頁g行に「実施例−l弘」とあるを「実
施例−73」と訂正する。
施例−73」と訂正する。
以 上
Claims (3)
- (1)1価の有機リン化合物と四ジウム化合物の存在下
オレフィン化合物を一酸化脚素および水素と反応させて
アルデヒドを製造する方法において、1価の有機リン化
合物として下記式 で示される構造単位を!−100モル嘔有し。 上の基本骨格であるスチレンオリゴマーの数平均重合度
がJ〜JIOであるジフェニルホスフィノ基含有スプレ
/オリゴマーを用いることを特徴とするアルデヒドの製
造法 - (2) ジフェニルホスフィノ基含有スプレ/オリゴマ
ーがダ0〜700モルー〇式 で示される構造単位、0− # 0モルチの式(式中X
Fiハロゲンを表わす) で示される構造単位およびσ〜餌σモル−〇式 で示される構造単位からカシ、基本骨格であるスチレン
オリゴマーの数平均重合度が3〜JtOであることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法 - (3)スチレンオリゴマーの数平均重合度がダ〜100
であることを特徴とする特許請求の範囲第11itたは
第2項記載の方法
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56123465A JPS5824532A (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | アルデヒドの製造法 |
| PCT/JP1982/000303 WO1983000484A1 (fr) | 1981-08-06 | 1982-08-04 | Procede de production d'aldehyde |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56123465A JPS5824532A (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | アルデヒドの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5824532A true JPS5824532A (ja) | 1983-02-14 |
| JPH0427223B2 JPH0427223B2 (ja) | 1992-05-11 |
Family
ID=14861296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56123465A Granted JPS5824532A (ja) | 1981-08-06 | 1981-08-06 | アルデヒドの製造法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5824532A (ja) |
| WO (1) | WO1983000484A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61108731A (ja) * | 1984-10-31 | 1986-05-27 | Daiwa Spinning Co Ltd | オ−プンエンド精紡機におけるスライバ供給装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5441984A (en) * | 1977-09-09 | 1979-04-03 | Sagami Chem Res Center | Rhodium carbonyl cluster-containing polymer, its preparation and its use |
| NL8003059A (nl) * | 1980-05-28 | 1982-01-04 | Stamicarbon | Werkwijze en katalysator voor het uitvoeren van hydroformyleringsreacties. |
-
1981
- 1981-08-06 JP JP56123465A patent/JPS5824532A/ja active Granted
-
1982
- 1982-08-04 WO PCT/JP1982/000303 patent/WO1983000484A1/ja not_active Ceased
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61108731A (ja) * | 1984-10-31 | 1986-05-27 | Daiwa Spinning Co Ltd | オ−プンエンド精紡機におけるスライバ供給装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0427223B2 (ja) | 1992-05-11 |
| WO1983000484A1 (fr) | 1983-02-17 |
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