JPS5830904B2 - フンマツジヨウヒフクソセイブツ - Google Patents
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Landscapes
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は粉体塗装に適したポリウレタン系塗料用組成物
に関する。
に関する。
さらに詳しくは従来のポリウレタン系粉体塗料組成物に
比べて焼付温度が低く、しかも塗膜性能がすぐれたポリ
ウレタン系粉末状被覆組成物に関する。
比べて焼付温度が低く、しかも塗膜性能がすぐれたポリ
ウレタン系粉末状被覆組成物に関する。
2ヶ以上の水酸基を含むポリエステル樹脂とフェノール
、クレゾールなどのフェノール類あるいはエチルアルコ
ール、セロソルブなどのアルコール類でブロック化され
たポリイソシアネートからなる粉末状組成物が粉体塗料
として使用できることは公知である。
、クレゾールなどのフェノール類あるいはエチルアルコ
ール、セロソルブなどのアルコール類でブロック化され
たポリイソシアネートからなる粉末状組成物が粉体塗料
として使用できることは公知である。
しかしこれらの組成物の欠点は、焼付温度が180〜2
20℃と高く、しかも被膜に気泡が発生するあるいは変
色するなどの現象がみられ、被膜を無価値にすることが
ある6 −また、2ヶ以上の水酸基を含む融点40℃以
上のポリエステル樹脂とε−カプロラクタムでブロック
化されたポリイソシアネートとの粉末状組成物が粉体塗
料として使用できることも公知である。
20℃と高く、しかも被膜に気泡が発生するあるいは変
色するなどの現象がみられ、被膜を無価値にすることが
ある6 −また、2ヶ以上の水酸基を含む融点40℃以
上のポリエステル樹脂とε−カプロラクタムでブロック
化されたポリイソシアネートとの粉末状組成物が粉体塗
料として使用できることも公知である。
この組成物の欠点はやはり焼付温度が200〜220℃
と高く、しかも得られる塗膜の性能が悪いことである。
と高く、しかも得られる塗膜の性能が悪いことである。
かかる事情に鑑み、本発明者らは、焼付温度が低く、し
かもすぐれた塗膜性能を有する粉体塗料用組成物の開発
研究を行っているうち、芳香族系ジイソシアネートを特
定のブロック剤でブロックしたポリイソシアネートをポ
リイソシアネート成分として用いた粉体塗料用組成物が
全く思いかけず、160℃以下という低い温度でも、比
較的短時間で焼付が可能であるということを知見し、こ
の新知見に基づいて本発明を完成した。
かもすぐれた塗膜性能を有する粉体塗料用組成物の開発
研究を行っているうち、芳香族系ジイソシアネートを特
定のブロック剤でブロックしたポリイソシアネートをポ
リイソシアネート成分として用いた粉体塗料用組成物が
全く思いかけず、160℃以下という低い温度でも、比
較的短時間で焼付が可能であるということを知見し、こ
の新知見に基づいて本発明を完成した。
すなわち、本発明は(1ト般弐 R1−0H−000R
2C式中、OH R1は水素、低級アルキル基、アリール基、R300C
!−CH2−1R,00C−OH−またはOH R500C−を示す。
2C式中、OH R1は水素、低級アルキル基、アリール基、R300C
!−CH2−1R,00C−OH−またはOH R500C−を示す。
R2,R3,R,、およびR5は炭素数1〜8のアルキ
ル基を示す。
ル基を示す。
〕で表わされるα−オキシカルボン酸エステル類でブロ
ック化された芳香族系ジイソシアネートまたはその付加
物と(2)融点40℃以上のポリオール樹脂とを含有し
てなる粉末状被覆組成物である。
ック化された芳香族系ジイソシアネートまたはその付加
物と(2)融点40℃以上のポリオール樹脂とを含有し
てなる粉末状被覆組成物である。
本発明の組成物は貯蔵中にゲル化をおこすことがなく、
極めて安定なものである。
極めて安定なものである。
しかも約160℃以下という低い温度で短時間に焼付塗
装が可能であり、そのうえ得られる塗膜はヤケや発泡な
どをおこさず、物理的性能も良好である。
装が可能であり、そのうえ得られる塗膜はヤケや発泡な
どをおこさず、物理的性能も良好である。
このようにすぐれた効果は、インシアネート成分のブロ
ック剤として従来から公知のメタノール、エタノール、
ブタノール、エチルセロソルブなどのアルコール類をブ
ロック剤として用いた場合には得られないものである。
ック剤として従来から公知のメタノール、エタノール、
ブタノール、エチルセロソルブなどのアルコール類をブ
ロック剤として用いた場合には得られないものである。
本発明において用いられるα−オキシカルボン酸エステ
ル類は、一般に式R1−CHC00Rz(式H 中、R1は水素、低級アルキル基、アリール基、アラル
キル基、R300C−CH2−1R,0OC−OH−O
H またはR500C−を示す。
ル類は、一般に式R1−CHC00Rz(式H 中、R1は水素、低級アルキル基、アリール基、アラル
キル基、R300C−CH2−1R,0OC−OH−O
H またはR500C−を示す。
R2およびR3、R4。R5は炭素数1−8のアルキル
基を示す。
基を示す。
)で表わされる化合物である。
R1で表わされる低級アルキル基としては、たとえば炭
素数が1〜4程度の直鎖状、分校状のアルキル基が挙げ
られる。
素数が1〜4程度の直鎖状、分校状のアルキル基が挙げ
られる。
R1で表わされるアリール基としては、たとえばフェニ
ル、トリル、ナフチル基などが挙げられる。
ル、トリル、ナフチル基などが挙げられる。
R2およびR3,R4,R,のアルキル基は直鎖状、分
枝状のいずれであってもよい。
枝状のいずれであってもよい。
上記一般式で表わされるα−オキシカルボン酸エステル
類の具体例としては、たとえばグリコール酸メチル、グ
リコール酸エチル、グリコール酸プロピル、グリコール
酸アミルなどのグリコール酸エステル類、α−ヒドロキ
シ酪酸メチル、α−ヒドロキシ酪酸エチル、α−ヒドロ
キシ酪酸アミルなどのα−ヒドロキシ酪酸エステル類、
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、
乳酸アミル、乳酸オクチルなどの乳酸エステル類、タル
トロン酸ジメチル、タルトロン酸ジエチル、タルトロン
酸ジプロピルなどのタルトロン酸ジエステル類、リンゴ
酸ジメチル、リンゴ酸ジエチルなどのリンゴ酸ジエステ
ル類、酒石酸ジメチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチ
ル、酒石酸ジオクチルなどの酒石酸ジエステル類、マン
デル酸メチル、マンデル酸エチルナトのマンデル酸エス
テル類などが挙げられる。
類の具体例としては、たとえばグリコール酸メチル、グ
リコール酸エチル、グリコール酸プロピル、グリコール
酸アミルなどのグリコール酸エステル類、α−ヒドロキ
シ酪酸メチル、α−ヒドロキシ酪酸エチル、α−ヒドロ
キシ酪酸アミルなどのα−ヒドロキシ酪酸エステル類、
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、
乳酸アミル、乳酸オクチルなどの乳酸エステル類、タル
トロン酸ジメチル、タルトロン酸ジエチル、タルトロン
酸ジプロピルなどのタルトロン酸ジエステル類、リンゴ
酸ジメチル、リンゴ酸ジエチルなどのリンゴ酸ジエステ
ル類、酒石酸ジメチル、酒石酸ジエチル、酒石酸ジブチ
ル、酒石酸ジオクチルなどの酒石酸ジエステル類、マン
デル酸メチル、マンデル酸エチルナトのマンデル酸エス
テル類などが挙げられる。
これらのα−オキシカルボン酸エステル類のなかで、特
に沸点が約120〜350℃のものが好ましく、具体的
には乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどの乳酸エ
ステル類が好ましい。
に沸点が約120〜350℃のものが好ましく、具体的
には乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチルなどの乳酸エ
ステル類が好ましい。
本発明において用いられる芳香族系ジイソシアネートま
たはその付加物とは、たとえばトリレンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナツタレノジ
イソシアネート、ジフェニルジインシアネート、ジメチ
ルジフェニルジイソシアネート、ジメチルジフェニルメ
タンジインシアネート、ジメトキシジフェニルジイソシ
アネート、フェニレンジイソシアネート、トリフェニル
メタントリインシアネートナどの単量体あるいはこのジ
イソシアネートの過剰と、たとえばエチレンクリコール
、フロピレンゲリコール、シフロピレングリコール、ブ
チレングリコール、トリメチロールプロパン、ヘキサン
トリオール、クリセリン、ソルビトール、ペンクエリス
リトール、ヒマシ油、エチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、エタノールアミン、ジェタノールアミン、
トリエタノールアミン、水、アンモニア、尿素f、f
トの低分子活性水素化合物、または各種ポIJ エーテ
ルポリオール、ポリエステルポリオール、アクリルポリ
オールなどの高分子活性水素化合物とを反応させて得ら
れるポリイソシアネートあるいはこれらのアロファネー
ト、ビウレット化物あるいはアニリンとホルマリンの縮
合アミンをホスゲン化して得られるポリインシアネート
などである。
たはその付加物とは、たとえばトリレンジイソシアネー
ト、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナツタレノジ
イソシアネート、ジフェニルジインシアネート、ジメチ
ルジフェニルジイソシアネート、ジメチルジフェニルメ
タンジインシアネート、ジメトキシジフェニルジイソシ
アネート、フェニレンジイソシアネート、トリフェニル
メタントリインシアネートナどの単量体あるいはこのジ
イソシアネートの過剰と、たとえばエチレンクリコール
、フロピレンゲリコール、シフロピレングリコール、ブ
チレングリコール、トリメチロールプロパン、ヘキサン
トリオール、クリセリン、ソルビトール、ペンクエリス
リトール、ヒマシ油、エチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、エタノールアミン、ジェタノールアミン、
トリエタノールアミン、水、アンモニア、尿素f、f
トの低分子活性水素化合物、または各種ポIJ エーテ
ルポリオール、ポリエステルポリオール、アクリルポリ
オールなどの高分子活性水素化合物とを反応させて得ら
れるポリイソシアネートあるいはこれらのアロファネー
ト、ビウレット化物あるいはアニリンとホルマリンの縮
合アミンをホスゲン化して得られるポリインシアネート
などである。
上記芳香族系ジイソシアネートまたはその付加物とα−
オキシカルボン酸エステル類との反応は、活性水素を持
たない溶媒中もしくは無溶媒で、公知の方法でおこなわ
れる。
オキシカルボン酸エステル類との反応は、活性水素を持
たない溶媒中もしくは無溶媒で、公知の方法でおこなわ
れる。
反応に際しては3級アミン、有機金属などの公知の触媒
を使用してもよい。
を使用してもよい。
溶媒を使用し反応終了後それを除去する必要がある場合
はスプレードライヤー、ドラムドライヤー、薄膜蒸発機
などにより留去することができる○力)<シて固体状の
ブロックポリイソシアネートが製造される。
はスプレードライヤー、ドラムドライヤー、薄膜蒸発機
などにより留去することができる○力)<シて固体状の
ブロックポリイソシアネートが製造される。
このブロックポリイソシアネートの融点は約40〜20
0℃、好ましくは約60〜150°Cである。
0℃、好ましくは約60〜150°Cである。
本発明においては、このブロックポリイソシアネートと
融点40°C以上のポリオール樹脂を混合して塗料組成
物とするが、両者の混合比はそのブロックポリイソシア
ネートの再生インシアネート基と水酸基との当量比が0
.5〜2.0、好ましくは0.6〜1.5になるように
調節する。
融点40°C以上のポリオール樹脂を混合して塗料組成
物とするが、両者の混合比はそのブロックポリイソシア
ネートの再生インシアネート基と水酸基との当量比が0
.5〜2.0、好ましくは0.6〜1.5になるように
調節する。
本発明において用いられる融点40℃以上のポリオール
樹脂としては、たとえばポリエステル樹脂、アクリルポ
リオール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリ
エーテルエステル樹脂あるいはこれらの混合物などが挙
げられる。
樹脂としては、たとえばポリエステル樹脂、アクリルポ
リオール樹脂、エポキシ樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリ
エーテルエステル樹脂あるいはこれらの混合物などが挙
げられる。
ポリエステル樹脂としては、たとえばフタル酸、イソフ
タル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、コハク
酸、アジピン酸、セパチン酸、アゼライン酸、トリメッ
ト酸などの多塩基酸とたとえばエチレングリコール、ジ
エチレンクリコール、フロピレンゲリコール、ジプロピ
レングリコール、■、3ブタンジオール、1,4−ブタ
ンジオール、■、5−ベンタンジオール、ネオペンチル
グリコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレン
グリコール、ハイドロキノンビス(ヒドロキシエチルエ
ーテル)、水添ビスフェノールA1 トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、
グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキ
シエチル)インシアヌレート、シクロヘキサンジメタツ
ールなどのポリオールを常法により水酸基過剰の条件下
に縮合させることにより得られる。
タル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、コハク
酸、アジピン酸、セパチン酸、アゼライン酸、トリメッ
ト酸などの多塩基酸とたとえばエチレングリコール、ジ
エチレンクリコール、フロピレンゲリコール、ジプロピ
レングリコール、■、3ブタンジオール、1,4−ブタ
ンジオール、■、5−ベンタンジオール、ネオペンチル
グリコール、ヘキサメチレングリコール、デカメチレン
グリコール、ハイドロキノンビス(ヒドロキシエチルエ
ーテル)、水添ビスフェノールA1 トリメチロールエ
タン、トリメチロールプロパン、ヘキサントリオール、
グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(ヒドロキ
シエチル)インシアヌレート、シクロヘキサンジメタツ
ールなどのポリオールを常法により水酸基過剰の条件下
に縮合させることにより得られる。
この場合、酸あるいはポリオールはそれぞれ2種又はそ
れ以上を併用することも可能である。
れ以上を併用することも可能である。
またヒマシ油、高級脂肪酸などを併用していわゆる油変
性ポリエステルポリオールとしてもよい。
性ポリエステルポリオールとしてもよい。
上記原料の組み合わせで得られるポリエステル樹脂とし
ては、分子量500〜4,000好ましくはi、ooo
〜3,000、水酸基価10〜300、好ましくは20
〜200、酸価1〜30、融点60〜120°Cのもの
が好んで用いられる。
ては、分子量500〜4,000好ましくはi、ooo
〜3,000、水酸基価10〜300、好ましくは20
〜200、酸価1〜30、融点60〜120°Cのもの
が好んで用いられる。
融点40℃以下では組成物のブロッキングがおこり、ま
た120℃以上では熔融ブレンド時にゲル化しやすくな
る。
た120℃以上では熔融ブレンド時にゲル化しやすくな
る。
アクリルポリオール樹脂としては、たとえば(1)アク
リル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキ
シプロピル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタ
クリル改2−ヒドロキシプロピル、アリルアルコール、
ケイヒアルコール、クロトニルアルコール、あるいは、
たとえばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマ
ル酸、クロトン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸と
エチレングリコール、エチレンオキサイド、フロピレン
ゲリコール、プロピレンオキサイド、ブチレングリコー
ル、■、4−シクロヘキシルジメタツール、フェニルグ
リシジルエーテル、グリシジルデカノエー)ffどとの
反応生成物である水酸基含有単量体と(2)たとえばア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プ
ロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチ
ル、アクリル酸tert−ブチル、アクリル酸2−エチ
ルヘキシルなどのアクリル酸エステル類、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピ
ル、メタクリル酸イソプロピル、メククリル酸n−ブチ
ル、メタクリル酸ter t−ブチル、メタクリル酸2
−エチルヘキシルなどのメタクリル酸エステル類、スチ
レン、ビニルトルエン、αメチルスチレンなどのスチレ
ン系単量体;その池酢酸ビニル、フロピオン酸ビニル、
アクリロニドニル、ステアリン酸ビニル、アクリルアセ
テート、アジピン酸ジアリル、イタコン酸ジメチル、マ
レイン酸ジエチル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、エチ
レン、メタクリル酸グリシジル、N−メチロールアクリ
ルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド、アクリ
ルアミド、ダイアセトンアクリルアミドなどの共重合可
能なα、β−エチレン性不飽和単量体とを共重合させて
得られるもので、その水酸基価は約10〜300、好ま
しくは約20〜200である。
リル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸2−ヒドロキ
シプロピル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、メタ
クリル改2−ヒドロキシプロピル、アリルアルコール、
ケイヒアルコール、クロトニルアルコール、あるいは、
たとえばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマ
ル酸、クロトン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸と
エチレングリコール、エチレンオキサイド、フロピレン
ゲリコール、プロピレンオキサイド、ブチレングリコー
ル、■、4−シクロヘキシルジメタツール、フェニルグ
リシジルエーテル、グリシジルデカノエー)ffどとの
反応生成物である水酸基含有単量体と(2)たとえばア
クリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−プ
ロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸n−ブチ
ル、アクリル酸tert−ブチル、アクリル酸2−エチ
ルヘキシルなどのアクリル酸エステル類、メタクリル酸
メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n−プロピ
ル、メタクリル酸イソプロピル、メククリル酸n−ブチ
ル、メタクリル酸ter t−ブチル、メタクリル酸2
−エチルヘキシルなどのメタクリル酸エステル類、スチ
レン、ビニルトルエン、αメチルスチレンなどのスチレ
ン系単量体;その池酢酸ビニル、フロピオン酸ビニル、
アクリロニドニル、ステアリン酸ビニル、アクリルアセ
テート、アジピン酸ジアリル、イタコン酸ジメチル、マ
レイン酸ジエチル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、エチ
レン、メタクリル酸グリシジル、N−メチロールアクリ
ルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド、アクリ
ルアミド、ダイアセトンアクリルアミドなどの共重合可
能なα、β−エチレン性不飽和単量体とを共重合させて
得られるもので、その水酸基価は約10〜300、好ま
しくは約20〜200である。
また、その融点は約40〜150℃、好ましくは約60
〜120℃である。
〜120℃である。
エポキシ樹脂としては、1分子内に少なくとも2ケの水
酸基を有するものであり、通常、ビスフェノールAとエ
ピクロルヒドリンとを反応させて得られる縮合系エポキ
シ樹脂である。
酸基を有するものであり、通常、ビスフェノールAとエ
ピクロルヒドリンとを反応させて得られる縮合系エポキ
シ樹脂である。
このエポキシ樹脂は次のような化学構造を有している。
上記のエポキシ樹脂のなかで、nが2〜12程度特に2
・−10のものが好ましく、一方エボキシ当量では42
5〜10,000特に425〜4,000のものが好ま
しい。
・−10のものが好ましく、一方エボキシ当量では42
5〜10,000特に425〜4,000のものが好ま
しい。
また、その融点は約40〜200℃好ましくは約60〜
150℃である。
150℃である。
さらに上記のエポキシ樹脂の外に、たとえば大豆油脂肪
酸とエポキシ樹脂とを反応させて得られるエポキシエス
テル樹脂も使用することができる。
酸とエポキシ樹脂とを反応させて得られるエポキシエス
テル樹脂も使用することができる。
ポリエーテル樹脂としては、たとえばパラホルムアルデ
ヒド、α−ポリオキシメチレン、オイポリオキシメチレ
ン、トリオキサンなどの重合物あるいはポリテトラメチ
レンエーテルグリコール、ポリへキサメチレンエーテル
グリコールなとで、その分子量は約500〜4,000
、水酸基価約20〜200、融点約60〜120℃のも
のが好んで用いられる。
ヒド、α−ポリオキシメチレン、オイポリオキシメチレ
ン、トリオキサンなどの重合物あるいはポリテトラメチ
レンエーテルグリコール、ポリへキサメチレンエーテル
グリコールなとで、その分子量は約500〜4,000
、水酸基価約20〜200、融点約60〜120℃のも
のが好んで用いられる。
ポリエーテルエステル樹脂としては、(1)たとえば水
酸基価約45〜200のポリエーテルポリ゛オール、(
2)たとえば無水フタール酸、無水マレイン酸、無水コ
ハク酸、テトラヒドロ無水フタール酸、3.6−ニンド
メチレンテトラヒドロ無水フタール酸、3,6−ニンド
ジクロロメチレンテトラクロロ無水フタル酸、テトラク
ロロ無水フタール酸、テトラブロモ無水フタール酸なと
の二塩基酸無水物、(3)たとえば酸化エチレン、酸化
プロピレン、酸化ブチレン、酸化スチレン、フェニルグ
リシジルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどのオ
キシラン化合物とを公知の方法で反応させて得ら**れ
るものであり、その分子量は約500〜4,000水酸
基価約20〜200、融点約60〜1208Cのものが
好んで用いられる。
酸基価約45〜200のポリエーテルポリ゛オール、(
2)たとえば無水フタール酸、無水マレイン酸、無水コ
ハク酸、テトラヒドロ無水フタール酸、3.6−ニンド
メチレンテトラヒドロ無水フタール酸、3,6−ニンド
ジクロロメチレンテトラクロロ無水フタル酸、テトラク
ロロ無水フタール酸、テトラブロモ無水フタール酸なと
の二塩基酸無水物、(3)たとえば酸化エチレン、酸化
プロピレン、酸化ブチレン、酸化スチレン、フェニルグ
リシジルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどのオ
キシラン化合物とを公知の方法で反応させて得ら**れ
るものであり、その分子量は約500〜4,000水酸
基価約20〜200、融点約60〜1208Cのものが
好んで用いられる。
ブロックポリイソシアネートとポリオール樹脂から粉体
塗装に適した組成物を製造するには従来公知のいかなる
方法を用いてもよい。
塗装に適した組成物を製造するには従来公知のいかなる
方法を用いてもよい。
すなわち溶媒の存在下で両成分を溶解混合し、必要に応
じて抑に顔料、レベリング剤、解離触媒、安定剤等を混
合した後、スプレードライヤーを用いてこれを微粉末と
する方法、または固型の両成分を80〜140℃に加熱
融解状態で混合し、これに顔料その池の添加剤を混練し
、冷却固化後微粉砕する方法が採られる。
じて抑に顔料、レベリング剤、解離触媒、安定剤等を混
合した後、スプレードライヤーを用いてこれを微粉末と
する方法、または固型の両成分を80〜140℃に加熱
融解状態で混合し、これに顔料その池の添加剤を混練し
、冷却固化後微粉砕する方法が採られる。
粉末の粒径は5〜500ミクロン、さらに望ましくは1
0〜300ミクロンである0 本発明の実施に際しては、焼付温度を低下させる目的で
ブロックポリイソシアネートの解離触媒を使用するのが
望ましい。
0〜300ミクロンである0 本発明の実施に際しては、焼付温度を低下させる目的で
ブロックポリイソシアネートの解離触媒を使用するのが
望ましい。
また、耐熱性、耐候性を向上させる目的で安定剤を使用
するのが望ましい。
するのが望ましい。
触媒としてはアミン系、金属系その池いかなる公知のも
のも使用できる。
のも使用できる。
触媒の添加量は被覆組成物の0.01〜51〜5重量部
である。
である。
安定剤としては、フェノール系、リン系その池いかなる
公知のものも使用できるが、 〔式中、アルキレンは炭素数1〜5のアルキレン基、n
は1〜5の整数を示す〕で表わされるリン系化合物が望
ましい。
公知のものも使用できるが、 〔式中、アルキレンは炭素数1〜5のアルキレン基、n
は1〜5の整数を示す〕で表わされるリン系化合物が望
ましい。
安定剤の添加量は被覆組成物の0.01〜51〜5重量
部である。
部である。
上記リン系化合物の例としては、テトラフェニルジプロ
ピレングリコールジホスファイト、テトラフェニルブチ
レングリコールジホスファイト、テトラフェニルブチレ
ングリコールジホスファイトナどがあげられる。
ピレングリコールジホスファイト、テトラフェニルブチ
レングリコールジホスファイト、テトラフェニルブチレ
ングリコールジホスファイトナどがあげられる。
かくして得られる樹脂組成物は粉体塗料として有用であ
り、粉体塗装をするにあたっては流動塗装、静電塗装な
どの方法によって被塗物に塗布した後、約150〜17
0℃で焼付けをおこなえば、再生したインシアネート基
と水酸基との反応により架橋がおこり、強靭な被膜とな
る。
り、粉体塗装をするにあたっては流動塗装、静電塗装な
どの方法によって被塗物に塗布した後、約150〜17
0℃で焼付けをおこなえば、再生したインシアネート基
と水酸基との反応により架橋がおこり、強靭な被膜とな
る。
生成した塗膜はいわゆるヤケ、熱劣化はみられず、しか
も物理的性能は良好である。
も物理的性能は良好である。
以下実施例によって本発明を具体的に説明する。
実施例中、部あるいは優はそれぞれ重量部もしくは重量
部を示す〇 実施例 1 ジメチルテレフタレート388部、エチレングリコール
93部、1,3−ブチレングリコール135部、トリメ
チロールプロパン36部を180℃〜220℃に加熱し
、生成するメタノールを連続的に系外に除去しながら4
時間反応させた後、無水フタール酸148部を加え副生
ずる水を分離除去しながら更に240℃で4時間反応さ
せて酸価8.0、水酸基価77、融点72℃のポリエス
テル樹脂を得た。
部を示す〇 実施例 1 ジメチルテレフタレート388部、エチレングリコール
93部、1,3−ブチレングリコール135部、トリメ
チロールプロパン36部を180℃〜220℃に加熱し
、生成するメタノールを連続的に系外に除去しながら4
時間反応させた後、無水フタール酸148部を加え副生
ずる水を分離除去しながら更に240℃で4時間反応さ
せて酸価8.0、水酸基価77、融点72℃のポリエス
テル樹脂を得た。
一方、トリレンジイソシアネート3モルとトリメチロー
ルプロパン1モルとの付加物の75%酢酸エチル溶液2
92部に乳酸エチル124部を加え、75〜80℃で4
時間反応させると、遊離のNCO基が0.1%以下にな
った。
ルプロパン1モルとの付加物の75%酢酸エチル溶液2
92部に乳酸エチル124部を加え、75〜80℃で4
時間反応させると、遊離のNCO基が0.1%以下にな
った。
ついで減圧下120℃以下の加熱により酢酸エチルを完
全に除去すると融点100〜110°Cのブロックイソ
シアネートが得られた。
全に除去すると融点100〜110°Cのブロックイソ
シアネートが得られた。
このブロックイソシアネート343部、前記のポリエス
テル樹脂728部(NCO10H比は1.0)、酸化チ
タン(タイベークR−930、石層産業■製)540部
、モダフロー(レベリング剤、モンサンド社製)5部、
1.1,3.3−テトラブチル−1,3−ジアセトキシ
ジスタノキサン3部、テトラフェニルジプロピレングリ
コールジホスファイト2部をヘンシェルミキサーで5分
間プレミックスした。
テル樹脂728部(NCO10H比は1.0)、酸化チ
タン(タイベークR−930、石層産業■製)540部
、モダフロー(レベリング剤、モンサンド社製)5部、
1.1,3.3−テトラブチル−1,3−ジアセトキシ
ジスタノキサン3部、テトラフェニルジプロピレングリ
コールジホスファイト2部をヘンシェルミキサーで5分
間プレミックスした。
その混合物を100〜110℃にセットした押出機で熔
融ブレンドし、冷却したのちアトマイザ−で100μ以
下の粒子径に粉砕したものを軟鋼板に60KVで80〜
100μの膜厚になるように静電塗装し160℃で30
分焼付けると堅牢で、光沢のある白色塗膜を得た。
融ブレンドし、冷却したのちアトマイザ−で100μ以
下の粒子径に粉砕したものを軟鋼板に60KVで80〜
100μの膜厚になるように静電塗装し160℃で30
分焼付けると堅牢で、光沢のある白色塗膜を得た。
塗膜性能を第1表に示す。実施例 2
トリレンジイソシアネート174部、トリメチロールプ
ロパン31部、1,3ブチレンクリコ一ル14部、マン
デル酸メチル174部、酢酸エチル140部を実施例1
と同じ方法で反応させて融点90〜100℃のフロック
インシアネートを得た。
ロパン31部、1,3ブチレンクリコ一ル14部、マン
デル酸メチル174部、酢酸エチル140部を実施例1
と同じ方法で反応させて融点90〜100℃のフロック
インシアネートを得た。
このブロックインシアネート393部、実施例1のポリ
エステル樹脂730部(NOO10H比は1.0)、酸
化チタン(タイベークR,−930、石層産業■製)5
65部、モダフロー5.5部、■。
エステル樹脂730部(NOO10H比は1.0)、酸
化チタン(タイベークR,−930、石層産業■製)5
65部、モダフロー5.5部、■。
1.3.3−テトラブチル−1,3−ジアセトキシジス
タノキサン3.5部、テトラフェニルジプロピレングリ
コールジホスファイト2部を熔融混合し、実施例1と同
じ方法で粉体化し、軟鋼板に60KVで80〜100μ
の膜厚になるように静電塗装し、160℃で30分焼付
けると堅牢で、光沢のある白色塗膜を得た。
タノキサン3.5部、テトラフェニルジプロピレングリ
コールジホスファイト2部を熔融混合し、実施例1と同
じ方法で粉体化し、軟鋼板に60KVで80〜100μ
の膜厚になるように静電塗装し、160℃で30分焼付
けると堅牢で、光沢のある白色塗膜を得た。
塗膜性能を第1表に示す。
実施例 3
実施例1で用いたトリレンジイソシアネートとトリメチ
ロールプロパンとの付加物292部、マンデル酸エチル
190部、ジブチル錫ジラウレー10.1部、酢酸ブチ
ル60部を実施例1と同じ方法で反応させ、融点95〜
105℃のブロックインシアネートを得た。
ロールプロパンとの付加物292部、マンデル酸エチル
190部、ジブチル錫ジラウレー10.1部、酢酸ブチ
ル60部を実施例1と同じ方法で反応させ、融点95〜
105℃のブロックインシアネートを得た。
このブロックインシアネート41O部、エポキシ樹脂(
商品名エピコート1004、シェルケミカル社製、エポ
キシ当量約1.000、融点95〜104°G)320
部(NOO10H比は1.0)、酸化チタン365部、
モダフロー4部、1,1,3.3−テトラブチル−1゜
3−ジアセトキシジスタノキサン2部、テトラフェニル
ブチレングリコールジホスファイト1,4部を熔融混合
し、実施例1と同じ方法で粉体化し、軟鋼板に60KV
で80−100μの膜厚になるように静電塗装し、16
0℃で30分焼付けると堅牢で、光沢のある白色塗膜を
得た。
商品名エピコート1004、シェルケミカル社製、エポ
キシ当量約1.000、融点95〜104°G)320
部(NOO10H比は1.0)、酸化チタン365部、
モダフロー4部、1,1,3.3−テトラブチル−1゜
3−ジアセトキシジスタノキサン2部、テトラフェニル
ブチレングリコールジホスファイト1,4部を熔融混合
し、実施例1と同じ方法で粉体化し、軟鋼板に60KV
で80−100μの膜厚になるように静電塗装し、16
0℃で30分焼付けると堅牢で、光沢のある白色塗膜を
得た。
塗膜性能を第1表に示す。
実施例 4
ジフェニルメタンジイソシアネート125部、グリコー
ル酸エチル104部、ジブチル錫ジラウレート0.1部
、酢酸エチル40部を実施例1と同じ方法で反応させ、
融点80−90℃のブロックポリインシアネートを得た
。
ル酸エチル104部、ジブチル錫ジラウレート0.1部
、酢酸エチル40部を実施例1と同じ方法で反応させ、
融点80−90℃のブロックポリインシアネートを得た
。
スチレン50部、n−ブチルアクリレート30部、メタ
クリル酸2−ヒドロキシエチル20部を常法により共重
合して得られる融点77−84℃、水酸基価85のアク
リルポリオール660部と上記のブロックイソシアネー
ト229部(NOOlo)(比は1.0)、酸化チタン
450部、モダフロー4部、1 、1 、3゜3−テト
ラブチル−1,3−ジアセトキシジスタノキサン2.5
部、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファ
イト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で粉体化し
、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚になるよう
に静電塗装し、160℃で30分焼付けると堅牢で、光
沢のある白色塗膜を得た。
クリル酸2−ヒドロキシエチル20部を常法により共重
合して得られる融点77−84℃、水酸基価85のアク
リルポリオール660部と上記のブロックイソシアネー
ト229部(NOOlo)(比は1.0)、酸化チタン
450部、モダフロー4部、1 、1 、3゜3−テト
ラブチル−1,3−ジアセトキシジスタノキサン2.5
部、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファ
イト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で粉体化し
、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚になるよう
に静電塗装し、160℃で30分焼付けると堅牢で、光
沢のある白色塗膜を得た。
塗膜性能を第1表に示す。実施例 5
ナフタレンジイソシアネート210部、トリメチロール
プロパン31部、1,3ブチレンクリコ一ル14部、リ
ンゴ酸ジエチル190部を実施例1と同じ方法で反応さ
せて融点75〜85℃のブロックインシアネートを得た
。
プロパン31部、1,3ブチレンクリコ一ル14部、リ
ンゴ酸ジエチル190部を実施例1と同じ方法で反応さ
せて融点75〜85℃のブロックインシアネートを得た
。
このブロックイソシアネート445部、実施例1のポリ
エステル樹脂730部(NC!010H比は1.0)、
酸化チタン590部、モダフロー5.5部、1,1,3
.3−テトラブチル−1,3〜ジアセトキシジスタノキ
サ73.5部、テトラフェニルジエチレングリコールジ
ホスファイト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で
粉体化し、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚に
なるように静電塗装し、160℃で30分焼付けると堅
牢で光沢のある白色塗膜を得た。
エステル樹脂730部(NC!010H比は1.0)、
酸化チタン590部、モダフロー5.5部、1,1,3
.3−テトラブチル−1,3〜ジアセトキシジスタノキ
サ73.5部、テトラフェニルジエチレングリコールジ
ホスファイト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で
粉体化し、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚に
なるように静電塗装し、160℃で30分焼付けると堅
牢で光沢のある白色塗膜を得た。
塗膜性能を第1表に示す。実施例 6
ジメチルジフェニルジイソシアネート132部と酒石酸
ジエチル155部を実施例1と同じ方法で反応させて、
融点100〜110℃のブロックイソシアネートを得た
。
ジエチル155部を実施例1と同じ方法で反応させて、
融点100〜110℃のブロックイソシアネートを得た
。
このブロックインシアホー428フ部、実施例1のポリ
エステル樹脂730部(N0010H比は1.0)、酸
化チタン505部、モダフロー5部、1,1,3.3−
テトラブチル−1,3−ジアセトキシジスタノキサン3
部、テトラフェニルシフ0口ピレングリコールジホスフ
ァイト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で粉体化
し、軟鋼板に60 KVで80〜100μの膜厚になる
ように静電塗装し、160℃で30分焼付けると、堅牢
で光沢のある白色塗膜を得た。
エステル樹脂730部(N0010H比は1.0)、酸
化チタン505部、モダフロー5部、1,1,3.3−
テトラブチル−1,3−ジアセトキシジスタノキサン3
部、テトラフェニルシフ0口ピレングリコールジホスフ
ァイト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で粉体化
し、軟鋼板に60 KVで80〜100μの膜厚になる
ように静電塗装し、160℃で30分焼付けると、堅牢
で光沢のある白色塗膜を得た。
塗膜性能を第1表に示す。
実施例 7
実施例1で用いたトリレンジイソシアネートとトリメチ
ロールプロパンとの付加物292部、タルトロン酸ジエ
チル176部、ジブチル錫ジラウレート0.1部、酢酸
エチル60部を実施例1と同じ方法で反応させ、融点9
0〜100℃のブロックイソシアネートを得た。
ロールプロパンとの付加物292部、タルトロン酸ジエ
チル176部、ジブチル錫ジラウレート0.1部、酢酸
エチル60部を実施例1と同じ方法で反応させ、融点9
0〜100℃のブロックイソシアネートを得た。
このブロックイソシアネート395部、実施例4のアク
リルポリオール660部(NCo10H比は1.0)、
酸化チタン530部、モダフロー4部、1,1,3.3
−テトラブチル−1,3−ジアセトキシジスタノキサン
3部、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスフ
ァイト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で粉体化
し、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚になるよ
うに静電塗装し、160℃で30分焼付けると堅牢で光
沢のある白色塗膜を得た。
リルポリオール660部(NCo10H比は1.0)、
酸化チタン530部、モダフロー4部、1,1,3.3
−テトラブチル−1,3−ジアセトキシジスタノキサン
3部、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスフ
ァイト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で粉体化
し、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚になるよ
うに静電塗装し、160℃で30分焼付けると堅牢で光
沢のある白色塗膜を得た。
塗膜性能を第1表に示す。実施例 8
トリレンジイソシアネート174部、酒石酸ジエチル1
03部をまず反応させた後、乳酸エチル120部を反応
させて、融点70〜80°Cのブロックイソシアネート
を得た。
03部をまず反応させた後、乳酸エチル120部を反応
させて、融点70〜80°Cのブロックイソシアネート
を得た。
このブロックイソシアネート200部、実施例1のポリ
エステル樹脂728部(NCo10H比は1.0)、酸
化チタン465部、モダフロー4部、ジブチル錫ジラウ
レート2.5部、テトラフェニルブチレングリコールジ
ホスファイト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で
粉体化し、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚に
なるように静電塗装し、160℃で30分焼付けると堅
牢で光沢のある白色塗膜を得た。
エステル樹脂728部(NCo10H比は1.0)、酸
化チタン465部、モダフロー4部、ジブチル錫ジラウ
レート2.5部、テトラフェニルブチレングリコールジ
ホスファイト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で
粉体化し、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚に
なるように静電塗装し、160℃で30分焼付けると堅
牢で光沢のある白色塗膜を得た。
塗膜性能を第1表に示す。比較例 1
トリレンジイソシアネート3モルとトリメチロールプロ
パン1モルとの付加物の75%酢酸エチル溶液292部
にエタノール46部を実施例1と同じ方法で反応させて
、融点90〜100℃のブロックイソシアネートを得た
。
パン1モルとの付加物の75%酢酸エチル溶液292部
にエタノール46部を実施例1と同じ方法で反応させて
、融点90〜100℃のブロックイソシアネートを得た
。
このフロックイソシアネート265部、実施例1のポリ
エステル樹脂730部(NCo10H比は1.0)、酸
化チタン500部、モダフロー5部、1,1,3.3テ
トラブチル−1,3−ジアセトキシジスタノキサン3部
、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイ
ト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で粉体化し、
軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚になるように
静電塗装し、160℃で30分焼付けると白色塗膜を得
た。
エステル樹脂730部(NCo10H比は1.0)、酸
化チタン500部、モダフロー5部、1,1,3.3テ
トラブチル−1,3−ジアセトキシジスタノキサン3部
、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイ
ト2部を熔融混合し、実施例1と同じ方法で粉体化し、
軟鋼板に60KVで80〜100μの膜厚になるように
静電塗装し、160℃で30分焼付けると白色塗膜を得
た。
塗膜性能を第1表に示す。
実施例 9
ジメチルテレフタレート1550部、分子量560のポ
リプロピレングリコール560部、水添ビスフェノール
Al680部、トリメチロールプロパン134部を18
0〜220°Cに加熱し、生成するメタノールを連続的
に系外に除去しながら8時間反応させて、酸価1以下、
水酸基価50、融点70℃のポリエーテルエステル樹脂
を得た。
リプロピレングリコール560部、水添ビスフェノール
Al680部、トリメチロールプロパン134部を18
0〜220°Cに加熱し、生成するメタノールを連続的
に系外に除去しながら8時間反応させて、酸価1以下、
水酸基価50、融点70℃のポリエーテルエステル樹脂
を得た。
一方、トリレンジイソシアネート3モルとトリメチロー
ルプロパン1モルとの付加物の75%酢酸エチル溶液2
92部にα−ヒドロキシ酪酸エチル132部を加え75
〜80℃で6時間反応させると、遊離のNCO基が0.
1%以下になった。
ルプロパン1モルとの付加物の75%酢酸エチル溶液2
92部にα−ヒドロキシ酪酸エチル132部を加え75
〜80℃で6時間反応させると、遊離のNCO基が0.
1%以下になった。
ついで減圧下120〜130℃の加熱により酢酸エチル
を完全に除去すると融点100℃のブロックイソシアネ
ートが得られた。
を完全に除去すると融点100℃のブロックイソシアネ
ートが得られた。
このブロックインシアネート350部、前記のポリエー
テルポリエステル樹脂1100部(NC!010H比は
1.0)、酸化チタン600部、モダフロー6部、1,
1,3.3−テトラブチル1,3−ジアセトキシジスク
ツキサン3部、テトラフェニルブチレングリコールジホ
スファイト1.5部を熔融混合し、実施例1と同様の方
法で粉体化し、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜
厚になるように静電塗装し160℃で30分焼き付ける
と堅牢で光沢のある白色塗膜を得た。
テルポリエステル樹脂1100部(NC!010H比は
1.0)、酸化チタン600部、モダフロー6部、1,
1,3.3−テトラブチル1,3−ジアセトキシジスク
ツキサン3部、テトラフェニルブチレングリコールジホ
スファイト1.5部を熔融混合し、実施例1と同様の方
法で粉体化し、軟鋼板に60KVで80〜100μの膜
厚になるように静電塗装し160℃で30分焼き付ける
と堅牢で光沢のある白色塗膜を得た。
光沢(60°鏡面反射) 95%硬度(鉛
筆) H 屈曲試験 米 10M、φ 合格エリクセン
試験 871gl1耐溶剤性 米
(酢酸エチル) 合格LIIS K−5400
に準じておこなった。
筆) H 屈曲試験 米 10M、φ 合格エリクセン
試験 871gl1耐溶剤性 米
(酢酸エチル) 合格LIIS K−5400
に準じておこなった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1(1)一般式Rr (EH000R2(式中、R8
(りOH は水素、低級アルキル基、アリール基、R300C−C
H2−1R4000−CH−またはR,000−OH を示す。 R2s R3s R4およびR6は炭素数1〜8のア
ルキル基を示す。 〕で表わされるα−オキシカルボン酸エステル類でブロ
ック化された芳香族系ジインシアネートまたはその付加
物と(2)融点40℃以上のポリオール樹脂とを含有し
てなる粉末状被覆組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50102262A JPS5830904B2 (ja) | 1975-08-22 | 1975-08-22 | フンマツジヨウヒフクソセイブツ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50102262A JPS5830904B2 (ja) | 1975-08-22 | 1975-08-22 | フンマツジヨウヒフクソセイブツ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5225830A JPS5225830A (en) | 1977-02-26 |
| JPS5830904B2 true JPS5830904B2 (ja) | 1983-07-02 |
Family
ID=14322668
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50102262A Expired JPS5830904B2 (ja) | 1975-08-22 | 1975-08-22 | フンマツジヨウヒフクソセイブツ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5830904B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1982002203A1 (en) * | 1980-12-22 | 1982-07-08 | Suenobu Koreyoshi | Process for producing polyurethane polymer |
| IT1169010B (it) * | 1981-01-08 | 1987-05-20 | Hoechst Ag | Leganti polimerici, solidi, per vernici termoindurenti in polvere a base di prepolimeri poliuretanici carbossilati con gruppi isocianici bloccati e vernici contenenti detti leganti |
| DE19504530A1 (de) * | 1995-02-11 | 1996-08-14 | Huels Chemische Werke Ag | Blockierte Polyisocyanate, Verfahren zu ihrer Herstellung und daraus hergestellte Lacke und Beschichtungssysteme |
| US5955561A (en) * | 1997-12-19 | 1999-09-21 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Hydroxy esters and amides derived from active ester urethanes and their use in film-forming compositions |
| US5905121A (en) * | 1997-12-19 | 1999-05-18 | Ppg Industries, Inc. | Active ester urethane crosslinking agents and their use in film-forming compositions |
| KR102891441B1 (ko) * | 2020-12-28 | 2025-11-25 | 가부시끼가이샤 레조낙 | 블록 이소시아네이트 화합물 |
| KR20240042104A (ko) * | 2021-10-15 | 2024-04-01 | 가부시끼가이샤 레조낙 | 수지 전구체, 수지, 수지 조성물 및 수지 경화막 |
-
1975
- 1975-08-22 JP JP50102262A patent/JPS5830904B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5225830A (en) | 1977-02-26 |
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