JPS5832446B2 - 撮像管タ−ゲットの製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、色分解線条フィルタを備えた小形カラーテレ
ビカメラに最適なカラーテレビジョン用等の撮像管ター
ゲットの製造方法に関する。

一般に、色分解線条フィルタを備えたカラーテレビジョ
ン用撮像管は、透光性基板と透明電極との間に種々の方
法で色分解線条フィルタを介在させ、次に透明電極上に
光導電膜を形成した色分解線条フィルタ内蔵ターゲット
部と、電子銃部とを管内に真空封止して構成される。

さらに、色分解線条フィルタ内蔵ターゲット部の構造お
よび製造方法について詳述する。

従来の色分解線条フィルタ内蔵ターゲット部の構造を第
１図に示す。

第１図において、１１は透光性基板で線膨張係数４５
Ｘ １０−７／℃のＥ−２ガラス（市原光学社製）や、
線膨張係数 ４６ Ｘ １０−７／’Ｃの７０５９ガラス（コーハン
グ社製）等が用いられている。

１２は色分解線条フィルタである。

１３は透光性薄膜で線膨張係数５、５ Ｘ １０−７／
℃の石英ガラスが主に用いられている。

透光性薄膜１３が熱歪によりクラックを生じるような場
合、透光性基板１１と同種のガラスが用いられる。

１４は透明電極で、Ｓ ｎ ０２やＩｎ２Ｏ３膜等が用
いられている。

１５は光導電膜でＳｂ２Ｓ３膜が用いられている。

次に、上記従来構造の製造方法について述べる。

第２図ａ、ｂは、その構造および製造工程を示したもの
である。

構造の各部の番号は、第１図示の各部の番号と対応して
いる。

まずイの色分解線条フィルタの形成工程で透光性基板１
１上に蒸着法とＩＣ技術を用いて色分解線条フィルタ１
２を形成する。

次に口の透光性薄膜の形成工程で、透光性薄膜１３を電
子ビーム蒸着法あるいはスパッタリング法等により、色
分解線条フィルタ１２を被覆する。

次にハの平滑化工程で、透光性薄膜１３の表面凹凸を研
摩法などにより平滑化する。

次に二の透明電極の形成工程で、Ｓ ｎ ０２膜あるい
はＩｎ２Ｏ３膜などの透明導電膜１４を吹き付は法ある
いは蒸着法あるいはスパッタリング法などにより形成す
る。

次にホの光導電膜の形成工程で、５ｂ２０３の光導電膜
１５を蒸着法により、基板温度室温のもとで形成する。

以上のような構造および製造工程によって、従来の色分
解線条フィルタ内蔵ターゲットは得られていた。

従来のターゲットにおいて、とくに、 （ＺｎｘＣｄｔ−ｘＴｅ）ｙ（Ｉｎ２Ｔｅ３）ｘ−ｙを
含む光導電膜を用いると、製造工程において、この光導
電膜を３００〜７００℃で熱処理する工程が不可欠のた
め、フィルタ表面の汚れ、フィルタ内部への薬品の吸着
等により透光性薄膜にクラックが発生し、さらにそれが
光導電膜に影響をおよぼして、画質を悪化させたり、暗
電流を増大させる等の問題があり、良好な色分解線条フ
ィルタ内蔵ターゲットは得られなかった。

本発明は、透光性基板上に色分解線条フィルタ、透光性
薄膜、光導電膜を形成する撮像ターゲットにおいて、画
質の悪化、暗電流の増大を防止することのできる製造方
法を提供するものである。

次に、本発明について述べる。

第３図は、本発明の構造を示す色分解線条フィルタ内蔵
ターゲットの断面図である。

図において、３１は透光性基板で線膨張係数が５６ Ｘ
１０−７／’Ｃ〜ｌｌ０ＸＩＯ−、／’Ｃである。

３２は色分解線条フィルタである。

３３は透光性薄膜で線膨張係数が５６ Ｘ １ ｏ−ｙ
℃〜ｌｌ０ＸＩＯ−７℃である。

３４は透明電極である。

３５は光導電膜で、たとえば（Ｚｎ Ｃｄ、−Ｔｅ ）
、 （Ｉｎ２Ｔｅ３ ） ＩＸ Ｘ （０≦Ｘ≦１）、（０＜ｙ≦１）を含んでいる。

なお、第３図の構造において、透光性基板３１および透
光性薄膜３３ともに線膨張係数をｓ ６ Ｘ １０−’
／’Ｃ〜１１０×１０−′／／℃とすると画質、暗電流
の点でより好ましい。

第４図ａ、ｂは、本発明の製造工程を示した一実施例で
ある。

構造の各部の番号は、前記本発明の構造を示す第３図の
各部の番号と対応している。

イの色分解線条フィルタの形成工程で、透光性基板３１
上に色分解線条フィルタ用材料を蒸着し、ＩＣ技術を用
いてフィルタ３２をパターン形成する。

次に口の熱処理工程で、空気中または酸素を含む不活性
ガス中すなわち酸素雰囲気中で３００℃〜６０００Ｇ、
３０分〜ｉｓｏ分熱処理を施して、無機材料からなる多
層膜で構成されるフィルタ３２の表面の清浄化、吸着成
分の除去等を行う。

次にへの透光性薄膜の形成工程で、透光性薄膜３３をス
パッタリング法により数μ〜１０μの厚さに形成する。

次に二の平滑化工程で、透光性薄膜３３の表面凹凸を研
摩法により平滑化する。

次にホの透明電極の形成工程でＳ ｎ ０２膜からなる
透明電極３４を吹き付は法により形成する。

次にべの光導電膜の形成工程で、第１層がＺｎ５ｅ膜で
、第２層が（Ｚｎ０７７ＣｄＯ，３Ｔ ｅ ）０．９５
（Ｉ ｎ２ Ｔ ｅ３ ）０．０５からなる光導電膜
３５を蒸着法により形成する。

次にトの熱処理工程で、真空中５５０℃数分〜数十分間
熱処理する。

以上のようにして撮像管ターゲットは製造される。

第２図の従来の製造工程と第４図の本発明の製造工程と
の対比かられかるように、本発明の製造方法は、透光性
薄膜３３の形成工程前に、酸素雰囲気中での熱処理工程
を備えている。

この工程を備えていないと、画質が非常に低下し、暗電
流も幾分増加の傾向を示す。

このような、熱処理工程を備えることによって、画質、
暗電流などが向上したのは、無機材料からなるフィルタ
の熱処理効果として、前述のごとく、表面の清浄化、フ
ィルタの結晶性の安定化などが考えられ、特に画質に影
響するようなフィルタ３２上に形成される透光性薄膜３
３のクラックなどが減少し、良好な透光性薄膜、さらに
は良好な光導電膜が形成できるようになったためと思わ
れる。

そして酸素の存在により、フィルタ３２のパターン形成
時に使用されるレジスト等の有機成分を有効に除去でき
る。

なお、透光性薄膜３３の表面凹凸は、透明電極３４の断
線や光導電膜３５の特性劣化のため、平滑化が必要であ
る。

通常この凹凸は１μ前後で平滑化は研摩法により実施さ
れる。

この時、研摩は低速度で行なうのが一般的であり、透光
性薄膜の材料によって、研摩時間が非常に違う。

例えば、石英ガラスやサファイアなどは、平滑化に数時
間を要する。

これらに対し、クラウンガラスやフリントガラス、さら
にはクラウンおよびフリントガラスは、数十分で平滑化
でき、非常に製造が容易である。

以上説明したように、本発明は透光性基板上に無機材料
からなる色分解線条フィルタを形成後、酸素雰囲気中で
熱処理したのち透光性薄膜、光導電膜を形成するもので
あり、画質、暗電流の向上を行うことができ、高品質な
撮像管ターゲットの製造に大きく寄与するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の色分解線条フィルタ内蔵ターゲットの断
面図、第２図ａ、ｂは各々従来の色分解線条フィルタ内
蔵ターゲット製造工程図およびその説明図、第３図は本
発明の一実施例の方法により作成された色分解線条フィ
ルタ内蔵ターゲットの断面図、第４図ａ、ｂは同ターゲ
ットの製造工程図および説明図である。 ３１・・・・・・透光性基板、３２・・・・・・色分解
線条フィルタ、３３・・・・・・透光性薄膜、３４・・
・・・・透明電極、３５・・・・・・光導電膜。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 透光性基板上に無機材料よりなる色分解線条フィル
   タを形成後、酸素雰囲気中で熱処理する工程と、前記基
   板およびフィルタ上に透光性薄膜を形成する工程と、前
   記薄膜上に透明電極および光導電膜を形成する工程とを
   備えたことを特徴とする撮像管ターゲットの製造方法。