JPS583280A - サイリスタ - Google Patents
サイリスタInfo
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- JPS583280A JPS583280A JP56101568A JP10156881A JPS583280A JP S583280 A JPS583280 A JP S583280A JP 56101568 A JP56101568 A JP 56101568A JP 10156881 A JP10156881 A JP 10156881A JP S583280 A JPS583280 A JP S583280A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thyristor
- layer
- turn
- electrode
- main
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D18/00—Thyristors
- H10D18/221—Thyristors having amplifying gate structures, e.g. cascade configurations
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F30/00—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors
- H10F30/20—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors
- H10F30/21—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
- H10F30/26—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation the devices having three or more potential barriers, e.g. photothyristors
- H10F30/263—Photothyristors
Landscapes
- Thyristors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はdi/dt酎量の増耐と高感度化を図り九ナイ
リスタに関する。
リスタに関する。
サイリスタは導電蓋を交互に異ならせ、表裏O半導体層
表面にアノード電極とカソード電極とを取付けた4つの
半導体層によシ構成され、アノード電極側より一般El
’工1.タ層、Nペース層、Pベース層、Nエミ、一層
とした構造を有してい石。しかしてこのサイリスタでは
、Pベース層に設妙られ九r−)電極にトリガ信号を印
加することによりて、先ずr−)近傍の小面積がターン
オンし、時間の経過K fF 5てその接合全面積に亘
りてターンオン領域が拡大して導通する。この為、ター
ンオン時の突入電流上昇率dl/dtが大きいと、素子
能力以上Kr−)近傍の限られた導通部分に電流が集中
し、仁の結果、局所的な温度上昇による熱破壊が生じる
ことがある。
表面にアノード電極とカソード電極とを取付けた4つの
半導体層によシ構成され、アノード電極側より一般El
’工1.タ層、Nペース層、Pベース層、Nエミ、一層
とした構造を有してい石。しかしてこのサイリスタでは
、Pベース層に設妙られ九r−)電極にトリガ信号を印
加することによりて、先ずr−)近傍の小面積がターン
オンし、時間の経過K fF 5てその接合全面積に亘
りてターンオン領域が拡大して導通する。この為、ター
ンオン時の突入電流上昇率dl/dtが大きいと、素子
能力以上Kr−)近傍の限られた導通部分に電流が集中
し、仁の結果、局所的な温度上昇による熱破壊が生じる
ことがある。
そζで近年では、サイリスタの高耐圧化、大容量化に伴
い、スイッテンダ時Od1/dt耐量が大きく、シかも
r−)制御電流のできるだけ小さいサイリスタの出現が
望會れている。然し乍ら一般的Kadi/dtを大きく
するとr−)制御電流が増大すると云う相反する問題が
あった。
い、スイッテンダ時Od1/dt耐量が大きく、シかも
r−)制御電流のできるだけ小さいサイリスタの出現が
望會れている。然し乍ら一般的Kadi/dtを大きく
するとr−)制御電流が増大すると云う相反する問題が
あった。
また近時、ff−)電流に代えて光信号によりスイッチ
ング動作を制御する光サイリスタが開発されているが、
利用可能な光エネルイーに限度力する上、ハイ・f−)
・ドライブが困難な為、di/dt耐量を大きくできな
かった。これ故、d1/dt耐量を損うことなしKf−
)感度の向上を図った高耐圧・大容量のサイリスタの開
発が強く望まれていた。
ング動作を制御する光サイリスタが開発されているが、
利用可能な光エネルイーに限度力する上、ハイ・f−)
・ドライブが困難な為、di/dt耐量を大きくできな
かった。これ故、d1/dt耐量を損うことなしKf−
)感度の向上を図った高耐圧・大容量のサイリスタの開
発が強く望まれていた。
第1図はこのような問題を解決すべく構成された光サイ
リスタの断面構造を模式的に示した本のである。図にお
いて、Pエミ、り層1、Nイー1層2、Pイー1層3、
N工き、夕層4からなる4つの半導体層からなるサイリ
スクの上記Pエミ、り層1表面にはアノード電極5が、
まえ、エヘ2.層イ。表面にはカッ−2電極。
リスタの断面構造を模式的に示した本のである。図にお
いて、Pエミ、り層1、Nイー1層2、Pイー1層3、
N工き、夕層4からなる4つの半導体層からなるサイリ
スクの上記Pエミ、り層1表面にはアノード電極5が、
まえ、エヘ2.層イ。表面にはカッ−2電極。
が配設されており、メインサイリスタが形成されている
。上記N工Z、タ層4は、Pイー1層3の外周側に円環
状に形成され九ものである。
。上記N工Z、タ層4は、Pイー1層3の外周側に円環
状に形成され九ものである。
またこのメインサイリスクのPイー1層1には、複数の
ノ臂イロ、トサイリスタを形成するエミ。
ノ臂イロ、トサイリスタを形成するエミ。
り層1が同心固状に形成され、その上面には電極8が形
成されている。そしてこの74イロツトサイリスタの中
央部には受光部9が形成されている。
成されている。そしてこの74イロツトサイリスタの中
央部には受光部9が形成されている。
しかして今、このサイリスクの受光部9に光トリガ信号
り、を照射すると、これKよって発生する光電流xph
は、Pイー1層3を横方向に流れ、メインサイリスタの
Nエン、り層4に設けられた短絡部10を経由してカソ
ード電極Cに流れる3、このと舞、上記光電流IpkK
よってPイー1層JK発生する横方向電位差は、ノ臂イ
ロ、トサイリスタのNニオツタ層1を順方向にバイアス
する。この順方向バイアスの一番深い部分、つまり受光
部6の電圧がPイー1層3とNエン、り層1との間に形
成される接合部のビルトインポテンシャルの値に近付く
と、Nエン。
り、を照射すると、これKよって発生する光電流xph
は、Pイー1層3を横方向に流れ、メインサイリスタの
Nエン、り層4に設けられた短絡部10を経由してカソ
ード電極Cに流れる3、このと舞、上記光電流IpkK
よってPイー1層JK発生する横方向電位差は、ノ臂イ
ロ、トサイリスタのNニオツタ層1を順方向にバイアス
する。この順方向バイアスの一番深い部分、つまり受光
部6の電圧がPイー1層3とNエン、り層1との間に形
成される接合部のビルトインポテンシャルの値に近付く
と、Nエン。
り層1からPイー1層Jへの電子の注入が急増し、この
結果ノ量イロ、トサイリスタは受光部Cの領域からター
ンオンする。このターンオン電流は電極8を経由して上
記Pペース層Jを流れ、ノ・イf−)ドライ!電流とし
て機能してメインサイリスタをターンオンさせる。この
ノ々イロットサイリスクとメインサイリスタと9間のP
べ一一層3には、ケミカルエツチング等によって溝11
が設けられており、この領域においてPベース層3の横
方向抵抗が部分的に高められている。この溝11によっ
て、ターンオン初期に流れる過電流が上記ンぐイロ、ト
サイリスタに集中することが防止逼れている。つまり、
ターンオン初期時の過大な電力損失を上記メインサイリ
スタ、パイロットサイリスタ、溝11部のPイー1層3
に分散させ、これKよりホットスポットの発生を防止し
て、di/dt耐量の向上が図られている。
結果ノ量イロ、トサイリスタは受光部Cの領域からター
ンオンする。このターンオン電流は電極8を経由して上
記Pペース層Jを流れ、ノ・イf−)ドライ!電流とし
て機能してメインサイリスタをターンオンさせる。この
ノ々イロットサイリスクとメインサイリスタと9間のP
べ一一層3には、ケミカルエツチング等によって溝11
が設けられており、この領域においてPベース層3の横
方向抵抗が部分的に高められている。この溝11によっ
て、ターンオン初期に流れる過電流が上記ンぐイロ、ト
サイリスタに集中することが防止逼れている。つまり、
ターンオン初期時の過大な電力損失を上記メインサイリ
スタ、パイロットサイリスタ、溝11部のPイー1層3
に分散させ、これKよりホットスポットの発生を防止し
て、di/dt耐量の向上が図られている。
ところが、このような従来構造では、溝11部OPペー
ス層3−の抵抗を大きくしてノ臂イロットサイリスタの
ターンオン電流を抑制すると、メインサイリスタに対す
るノ1イr−トドライブ効果が失われ、メインサイリス
タのターンオン特性が劣化する不具合がある。しか4メ
インサイリスタを流れる電流が増大する結果、ターンオ
ン時に発生する過大な電力損失がメインサイリスクに集
中する不都合が生じえ。従って、溝11によって設けら
れる高抵抗によるパイロ。
ス層3−の抵抗を大きくしてノ臂イロットサイリスタの
ターンオン電流を抑制すると、メインサイリスタに対す
るノ1イr−トドライブ効果が失われ、メインサイリス
タのターンオン特性が劣化する不具合がある。しか4メ
インサイリスタを流れる電流が増大する結果、ターンオ
ン時に発生する過大な電力損失がメインサイリスクに集
中する不都合が生じえ。従って、溝11によって設けら
れる高抵抗によるパイロ。
トサイリスタのターンオン初期における急激な電力集中
からの保護にも、自づと限界があり九。
からの保護にも、自づと限界があり九。
一方、Nエミツタ層1直下のPイー1層1の抵抗値を高
め、これKよりて光電流IphKよる横方向電位差を大
きくして、光感度を高めることが考えられている。とこ
ろが、仁のようkすると、サイリスタ主回路から、急峻
な電圧上昇率dv/dtを持つ電圧ノイズがカソード電
極5とアノード電極6との間に加わると、これによって
生じる変位電流が上記光電流IPkと同じ経路を通って
流れる為、この電圧ノイズによって誤点弧しやすくなる
と云う不具合がある。この誤点弧を防ぐ許容可能な最大
な4マ/dt値をdマ/it耐量と呼ぶが、このdマ/
dt耐量を犠牲にすることなく光感度を高めるKは、上
記Pペース層3の抵抗を高め、且っNニオ、り層10牛
径Rを小さくして、この領域での変位電流の発生を抑制
すればよい。然し乍ら、このようKすると/譬イo、)
サイリスタの初期導通領域が減少し、dl/dt耐量が
減少す石。しかも前記したように溝11部のPペース層
1の抵抗値を大きくジノ臂イEiy)サイリスタへの電
流集中を抑制するKは限界があることから、dマ/dt
耐量、光感度を犠牲にすることな(d1/dt耐量を大
きくすることが困難であった。またこのような問題は、
上述した光サイリスタに限らず、電気) リ/式のサイ
リスタにありても同様に存在した。
め、これKよりて光電流IphKよる横方向電位差を大
きくして、光感度を高めることが考えられている。とこ
ろが、仁のようkすると、サイリスタ主回路から、急峻
な電圧上昇率dv/dtを持つ電圧ノイズがカソード電
極5とアノード電極6との間に加わると、これによって
生じる変位電流が上記光電流IPkと同じ経路を通って
流れる為、この電圧ノイズによって誤点弧しやすくなる
と云う不具合がある。この誤点弧を防ぐ許容可能な最大
な4マ/dt値をdマ/it耐量と呼ぶが、このdマ/
dt耐量を犠牲にすることなく光感度を高めるKは、上
記Pペース層3の抵抗を高め、且っNニオ、り層10牛
径Rを小さくして、この領域での変位電流の発生を抑制
すればよい。然し乍ら、このようKすると/譬イo、)
サイリスタの初期導通領域が減少し、dl/dt耐量が
減少す石。しかも前記したように溝11部のPペース層
1の抵抗値を大きくジノ臂イEiy)サイリスタへの電
流集中を抑制するKは限界があることから、dマ/dt
耐量、光感度を犠牲にすることな(d1/dt耐量を大
きくすることが困難であった。またこのような問題は、
上述した光サイリスタに限らず、電気) リ/式のサイ
リスタにありても同様に存在した。
本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的とするとζろは、dマ/at耐量等の主要な特性
を犠牲にすることなしにダート感度の向上とdi/dt
耐量の増大を図りた実用性の高いサイリスタを提供する
ことKある。
の目的とするとζろは、dマ/at耐量等の主要な特性
を犠牲にすることなしにダート感度の向上とdi/dt
耐量の増大を図りた実用性の高いサイリスタを提供する
ことKある。
即ち本発明はメインサイリスタトノ豐イロ、トサイリス
タとの間のペース層上に電極を設け、この電極と上記ノ
臂イH,トサイリスタのエミッタ電極との間に抵抗およ
びコンデンサを並列接続することKよってターンオン電
流のパイ/譬ス回路を設け、これによりメインサイリス
タのターンオン特性を劣化きせることなしに上述した目
的を効果的に達成するようにし九4のである。
タとの間のペース層上に電極を設け、この電極と上記ノ
臂イH,トサイリスタのエミッタ電極との間に抵抗およ
びコンデンサを並列接続することKよってターンオン電
流のパイ/譬ス回路を設け、これによりメインサイリス
タのターンオン特性を劣化きせることなしに上述した目
的を効果的に達成するようにし九4のである。
以下、図面を参照して本発明の一実施例につき説明する
。
。
第2図は実施例に係るサイリスタの概略構成図で、第1
図に示す従来構造と同一部分には同一符号を付して示し
である。仁のサイリスタ社、メインサイリスタとパイロ
ットサイリスタとの間のPペース層3上に1従来のよう
な溝11を設けることに代えて電極11を配設形成し、
この電極11とI譬イロットナイリスタのエン、り電極
1との間に抵抗13およびコンデンサー4をそれぞれ並
列接続し九構造となっている。この抵抗11およびコン
デンサ14は、/4イロ。
図に示す従来構造と同一部分には同一符号を付して示し
である。仁のサイリスタ社、メインサイリスタとパイロ
ットサイリスタとの間のPペース層3上に1従来のよう
な溝11を設けることに代えて電極11を配設形成し、
この電極11とI譬イロットナイリスタのエン、り電極
1との間に抵抗13およびコンデンサー4をそれぞれ並
列接続し九構造となっている。この抵抗11およびコン
デンサ14は、/4イロ。
トサイリスタのターンオン電流イのメインサイリスクへ
のパイノ譬ス回路15を形成するものであ6゜ しかしてこのような構造であれば、受光部tKjlll
射し走光トリガ信号によって生起される光電流!、hは
、Pイー1層3を横力向に流れて、メインサイリスタの
短絡部10を介してカソード電極6に流れる。このとき
、Pイー1層3に発生する横方向電位差によって、ノ譬
イロットサイリスタがターンオンする。そして、この/
譬イロvトサイリスタのターンオン電流1pは、エン、
り電極8から上記バイパス回路15を経由してメインサ
イリスタに流れるととKなる。
のパイノ譬ス回路15を形成するものであ6゜ しかしてこのような構造であれば、受光部tKjlll
射し走光トリガ信号によって生起される光電流!、hは
、Pイー1層3を横力向に流れて、メインサイリスタの
短絡部10を介してカソード電極6に流れる。このとき
、Pイー1層3に発生する横方向電位差によって、ノ譬
イロットサイリスタがターンオンする。そして、この/
譬イロvトサイリスタのターンオン電流1pは、エン、
り電極8から上記バイパス回路15を経由してメインサ
イリスタに流れるととKなる。
このとき、ターンオン電流1は、先ずコンデン914を
介して流れる。このコンデンサー4を介して流れる電流
のピーク値は、メインサイリスクのターンオン特性が劣
化しない程度K、例えば前記第1図に示す従来構造のサ
イリスタにおいて、溝11によって調整されるPペース
層1の抵抗値を最適化し九場合と同程度になるように定
められる。一方、このとき、このコンデンt140両端
電圧は、Nニオ、夕層1を逆方向に/セイアスするから
、メインサイリスクが上記ターンオン電流によってター
ンオンするに従って、上記ターンオン電流は急激に減少
する。
介して流れる。このコンデンサー4を介して流れる電流
のピーク値は、メインサイリスクのターンオン特性が劣
化しない程度K、例えば前記第1図に示す従来構造のサ
イリスタにおいて、溝11によって調整されるPペース
層1の抵抗値を最適化し九場合と同程度になるように定
められる。一方、このとき、このコンデンt140両端
電圧は、Nニオ、夕層1を逆方向に/セイアスするから
、メインサイリスクが上記ターンオン電流によってター
ンオンするに従って、上記ターンオン電流は急激に減少
する。
そして、ターンオン電流が流れ表くなると、コンデンサ
14に充電寧れ九電荷は抵抗IJを介して放電されるこ
とKなる。
14に充電寧れ九電荷は抵抗IJを介して放電されるこ
とKなる。
第3図はこのターンオン電流波形を示したもので、特性
ムは第1図に示す従来構造のもの、また特性Bは本サイ
リスタのものをそれぞれ示している。この両特性を対比
しても明らかなように1本サイリスクでは、メインサイ
リスタのターンオン特性を犠牲にすることなしに1ター
ンオン電流の適正化を図ることができる。
ムは第1図に示す従来構造のもの、また特性Bは本サイ
リスタのものをそれぞれ示している。この両特性を対比
しても明らかなように1本サイリスクでは、メインサイ
リスタのターンオン特性を犠牲にすることなしに1ター
ンオン電流の適正化を図ることができる。
以上のように本サイリスタによれば、メインサイリスタ
の所l!特性を犠牲にすることなく、・量イμットサイ
リスタの電力損失分担を軽減することができるので、パ
イロットサイリスタのエン、り層1の半径Rを容aK小
さくすることができる。しかも、このNニオ、り層1直
下のPペース層Sの抵抗を大きくする仁とが可能となる
ので、dv/dt耐量を損うことなしにr−)感度(光
感度)の高感度化を図ることができる。
の所l!特性を犠牲にすることなく、・量イμットサイ
リスタの電力損失分担を軽減することができるので、パ
イロットサイリスタのエン、り層1の半径Rを容aK小
さくすることができる。しかも、このNニオ、り層1直
下のPペース層Sの抵抗を大きくする仁とが可能となる
ので、dv/dt耐量を損うことなしにr−)感度(光
感度)の高感度化を図ることができる。
ちなみに、Pペース層30層抵抗を2000Q/[1゜
R悶l■、C= O,SμF、R=250と選定した場
合、di/dt耐量を従来のものに比して2倍以上に向
上できることが確認された。
R悶l■、C= O,SμF、R=250と選定した場
合、di/dt耐量を従来のものに比して2倍以上に向
上できることが確認された。
第4図は電気トリを式のサイリスタの構造を示す亀ので
、受光部9のPペース層3露出部に?−)電極16を配
設した構造を示す。このような電気トリガ式のサイリス
タでhりても、上述した光サイリスタと同様な効果が奏
せられることは云う壕で4ない。
、受光部9のPペース層3露出部に?−)電極16を配
設した構造を示す。このような電気トリガ式のサイリス
タでhりても、上述した光サイリスタと同様な効果が奏
せられることは云う壕で4ない。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、簡易
にして、dv/dt耐量およびr−)感度を犠牲にする
ことなしに、di/dt耐量の大幅な向上を図り得、緒
特性に優れた絶大なる効果を奏するサイリスタを提供す
ることができる。
にして、dv/dt耐量およびr−)感度を犠牲にする
ことなしに、di/dt耐量の大幅な向上を図り得、緒
特性に優れた絶大なる効果を奏するサイリスタを提供す
ることができる。
冑、本発明は上記実施例に限定されるものではない。例
えば/譬イロ、トサイリスタの構成段数を1に増すこと
4可能である。またコンデン+14の容量C等は、仕様
に応じて定めればよいものであり、要するに本発明はそ
の要旨を逸脱しない範囲で種々変形して*施することが
できる。
えば/譬イロ、トサイリスタの構成段数を1に増すこと
4可能である。またコンデン+14の容量C等は、仕様
に応じて定めればよいものであり、要するに本発明はそ
の要旨を逸脱しない範囲で種々変形して*施することが
できる。
第1図は従来構造の一例を示す図、第2図は本発明の一
実施例構造を示す図、第3図はターンオン電流の波形特
性を示す図、第4図は本発明の他の実施例構造を示す図
である。 3・・・p−’t−スML 4・・・Nエン、夕層(
メインサイリスタ)、6・・・カソード電極、1・・・
Nエミツタ層(ノダイロットナイリスタ)、8・・・エ
ミッタ電極、9・・・受光部、10・・・短絡部、11
・・・溝、12・、・電極、13・・・抵抗、14・・
・コンデンサ、15・・・パイノ臂ス回路、1g・・・
ダート電極出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 門弟
1図 第3図 第4図
実施例構造を示す図、第3図はターンオン電流の波形特
性を示す図、第4図は本発明の他の実施例構造を示す図
である。 3・・・p−’t−スML 4・・・Nエン、夕層(
メインサイリスタ)、6・・・カソード電極、1・・・
Nエミツタ層(ノダイロットナイリスタ)、8・・・エ
ミッタ電極、9・・・受光部、10・・・短絡部、11
・・・溝、12・、・電極、13・・・抵抗、14・・
・コンデンサ、15・・・パイノ臂ス回路、1g・・・
ダート電極出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 門弟
1図 第3図 第4図
Claims (1)
- (1)導電型を交互に異ならせて積層畜れた4つの半導
体層からなるメインサイリスタのペース層中に上記メイ
ンサイリスタのエミ、り層を除く他の3つの半導体層を
共有する/臂イ四、)サイリスタの工之、一層を前記メ
インサイリスタのエンツタ層から分離し、且つこのメイ
ンサイリスクのニオ、り層と同導電型に形成してなるサ
イリスタにおいて、前記メインサイリスタのエイツタ層
と/fイロットサイリスタの工(ツタ層との間のベース
層上に金属膜を設け、この金属膜と上記)譬イロットサ
イリスタのエミツタ層上に設けた工2.タ電極との間に
抵抗およびコンデンサを1列接続してなることを特徴と
するサイリスタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56101568A JPS583280A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | サイリスタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56101568A JPS583280A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | サイリスタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583280A true JPS583280A (ja) | 1983-01-10 |
Family
ID=14304005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56101568A Pending JPS583280A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | サイリスタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583280A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60152064A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-08-10 | ウェスティングハウス ブレイク アンド シグナル ハウルディングス リミテッド | 増幅ゲ−トサイリスタ |
| US4939564A (en) * | 1988-05-13 | 1990-07-03 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Gate-controlled bidirectional semiconductor switching device with rectifier |
| US4994884A (en) * | 1987-03-31 | 1991-02-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Gate-controlled bi-directional semiconductor switching device |
-
1981
- 1981-06-30 JP JP56101568A patent/JPS583280A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US4994884A (en) * | 1987-03-31 | 1991-02-19 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Gate-controlled bi-directional semiconductor switching device |
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