JPS5834189A - 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 - Google Patents
亜鉛−ニツケル合金電気めつき液Info
- Publication number
- JPS5834189A JPS5834189A JP56130341A JP13034181A JPS5834189A JP S5834189 A JPS5834189 A JP S5834189A JP 56130341 A JP56130341 A JP 56130341A JP 13034181 A JP13034181 A JP 13034181A JP S5834189 A JPS5834189 A JP S5834189A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chloride
- surfactant
- chain
- zinc
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明状電気めつ1!により光沢良好なZm−Ni合金
めつ自を行うためのめっき液に関するものである。
めつ自を行うためのめっき液に関するものである。
Zn−Ni 合金めつ自はNiめつ愈また社Znめつ
IK比較゛して非常に優れた耐食性を有するので、この
めっきのためにいろ−ろなめつ電液が古くから提案され
ている。
IK比較゛して非常に優れた耐食性を有するので、この
めっきのためにいろ−ろなめつ電液が古くから提案され
ている。
しかしながら、Zgs−Ni合金めつ@ FIN iめ
つ愈等に有効な光沢剤をめっき液に添加しても光沢面を
得ることが難しく、また均一電着性にもや一■があ艶、
このためわずかに鋼板、線材等高度の光沢と均一電着性
を必要としな≠公費における連続めり自にお−てのみ実
用化されているのが現状である。
つ愈等に有効な光沢剤をめっき液に添加しても光沢面を
得ることが難しく、また均一電着性にもや一■があ艶、
このためわずかに鋼板、線材等高度の光沢と均一電着性
を必要としな≠公費における連続めり自にお−てのみ実
用化されているのが現状である。
そζで本発明者らはZm−Ni合金めり自の光沢外観、
均−電着性及び皮膜の物性を欽曽するため、めり愈iu
i處につ−て広く検討した結果、塩化墓船、塩化ニッケ
ル及び塩化アンモニウムを2−“として1・〜IOg/
L、Ni寓1として5〜160g / As NHa″
+としてII”l!Og/jの範囲で、ただし、Za雪
十/Ni”(重量比)が15以下であるととく含有し、
さもl(&リオキシアル中しン鎖を有する昇画活性剤を
含有することを特徴とすゐ亜鉛−ニッケル会金電気めつ
電液から光沢と均一電着性に優れえz+a−Ni合金め
り愈を得るととに成功し友。11さらに、以上のめつ電
液に適宜雪状光沢剤を選んで添加することによ抄、鏡函
光沢%胃能になりことを見いだした。
均−電着性及び皮膜の物性を欽曽するため、めり愈iu
i處につ−て広く検討した結果、塩化墓船、塩化ニッケ
ル及び塩化アンモニウムを2−“として1・〜IOg/
L、Ni寓1として5〜160g / As NHa″
+としてII”l!Og/jの範囲で、ただし、Za雪
十/Ni”(重量比)が15以下であるととく含有し、
さもl(&リオキシアル中しン鎖を有する昇画活性剤を
含有することを特徴とすゐ亜鉛−ニッケル会金電気めつ
電液から光沢と均一電着性に優れえz+a−Ni合金め
り愈を得るととに成功し友。11さらに、以上のめつ電
液に適宜雪状光沢剤を選んで添加することによ抄、鏡函
光沢%胃能になりことを見いだした。
本発明によるめり電液は塩化物を主剤としNH,tを含
有するーわゆる塩化アンそン篤浴である。硫酸浴で紘本
発@による効果は全く得られない。めり自浴中の金属濃
度1jZn”+が10〜9611/l−lN11+がs
〜sag/zであ抄、これ、らOSm外で鯰党沢に優れ
た6つ龜外観社得ら5れな−。しか1、Z *” J−
N i ” t)濃度lrl、Zss”/Ni”十(重
量比)≦11なる関係を満足する必要がある。
有するーわゆる塩化アンそン篤浴である。硫酸浴で紘本
発@による効果は全く得られない。めり自浴中の金属濃
度1jZn”+が10〜9611/l−lN11+がs
〜sag/zであ抄、これ、らOSm外で鯰党沢に優れ
た6つ龜外観社得ら5れな−。しか1、Z *” J−
N i ” t)濃度lrl、Zss”/Ni”十(重
量比)≦11なる関係を満足する必要がある。
上記濃度比が2.、sを越えると、めつ龜外観FA均一
にならず、中電流部が無光沢めつ自となる。また、めつ
電波に#iNH,が必要であるが、この最少必要量はZ
gs”+濃度が高くなるにつれて増す。Zml”II
5〜l Og / AOと亀、NH,o最少必要量轄約
sg/lである。NH,は過剰に添加しても何ら問題は
な−が、そO溶解限度は約120 g / Lである。
にならず、中電流部が無光沢めつ自となる。また、めつ
電波に#iNH,が必要であるが、この最少必要量はZ
gs”+濃度が高くなるにつれて増す。Zml”II
5〜l Og / AOと亀、NH,o最少必要量轄約
sg/lである。NH,は過剰に添加しても何ら問題は
な−が、そO溶解限度は約120 g / Lである。
めっき液のpH社4.7〜10であることが望まし一〇
表7以下で紘めつ愈O析出が粗雑に1に砂、均一な外観
が得られ1に≠。また、10以上ではめつ自が−るとと
もに浴からアンモニアガスが発生し、作IIIg4境を
悪化させる。
表7以下で紘めつ愈O析出が粗雑に1に砂、均一な外観
が得られ1に≠。また、10以上ではめつ自が−るとと
もに浴からアンモニアガスが発生し、作IIIg4境を
悪化させる。
本発明にお−ては、上記塩類の鐘かに、めり自光沢と均
一電着性を改曽するOKW員的に有効なぎリオ中ジアル
キレン鎖を有する非イオン性界函活性剤を添加する。本
発明のめつ1波に用いるζowio界画活性剤として特
Ellれて−るの韓、lリオキシエチレンアル中ルエ・
−チル〔たとえばライオン■O「リポノックス0C8J
)、mリオキシエチレンアルキルアリールエーテル〔
たとえdライオン@1)rW&ノックスNC’rJ )
、ポリオキシエナレン19オキシブ四ピレンエーテル〔
たとえ社旭電化工aSの「プルリエツクL4$44)、
−9オキシエチレン脂肪酸エステル〔たとえばライオン
アタゾ■の「エソ7アツ)0/zoJ]、I9オキシエ
チレンアルキルアミン〔たとえdライオンアタゾ@O[
エソミンC/zsJ]、*リオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル〔たとえば花王アトラス■の[シウィー
ン4oJ]、&リオキシエチレン !、4,7.1−テ
シテメチルーS#デシン−4,7−ジオール〔たとえば
日進化学1康@Or?−74/−ha s s 」)、
19オキシエチレンアミド〔たとえばライオンアクゾ■
の[エソマイト0/l 5J ]、プリオキシエチレン
プリオ今シブ讐ピレンエチレンシア之ン〔たとえ社旭電
化工業@O「テ)−ニック?(14J)などである。
一電着性を改曽するOKW員的に有効なぎリオ中ジアル
キレン鎖を有する非イオン性界函活性剤を添加する。本
発明のめつ1波に用いるζowio界画活性剤として特
Ellれて−るの韓、lリオキシエチレンアル中ルエ・
−チル〔たとえばライオン■O「リポノックス0C8J
)、mリオキシエチレンアルキルアリールエーテル〔
たとえdライオン@1)rW&ノックスNC’rJ )
、ポリオキシエナレン19オキシブ四ピレンエーテル〔
たとえ社旭電化工aSの「プルリエツクL4$44)、
−9オキシエチレン脂肪酸エステル〔たとえばライオン
アタゾ■の「エソ7アツ)0/zoJ]、I9オキシエ
チレンアルキルアミン〔たとえdライオンアタゾ@O[
エソミンC/zsJ]、*リオキシエチレンソルビタン
脂肪酸エステル〔たとえば花王アトラス■の[シウィー
ン4oJ]、&リオキシエチレン !、4,7.1−テ
シテメチルーS#デシン−4,7−ジオール〔たとえば
日進化学1康@Or?−74/−ha s s 」)、
19オキシエチレンアミド〔たとえばライオンアクゾ■
の[エソマイト0/l 5J ]、プリオキシエチレン
プリオ今シブ讐ピレンエチレンシア之ン〔たとえ社旭電
化工業@O「テ)−ニック?(14J)などである。
これらQ化合物を添加することによシ、前記塩化アンモ
ン浴からOめつ自の析出は微調化し、光沢及び陶−電着
性が着しく改良される。この化合物は、通常o、xg/
を以下の添加量でれ十分な効果社期待で禽な−0また、
これを大過剰に添加しても関題韓な!が、200fl/
を以上添加するのは経済的に無益である。
ン浴からOめつ自の析出は微調化し、光沢及び陶−電着
性が着しく改良される。この化合物は、通常o、xg/
を以下の添加量でれ十分な効果社期待で禽な−0また、
これを大過剰に添加しても関題韓な!が、200fl/
を以上添加するのは経済的に無益である。
以上のようなめつき浴を用いて得られるめつ自は、完全
な鏡面光沢とはならな−が、従来□ Z tx−Ni会
金めつ愈に比べるとはるかに微結晶性の均一な外観を示
し、鏡面光沢を必要としない場合KIIi十分使用でき
る。
な鏡面光沢とはならな−が、従来□ Z tx−Ni会
金めつ愈に比べるとはるかに微結晶性の均一な外観を示
し、鏡面光沢を必要としない場合KIIi十分使用でき
る。
モしてこのめつ1液に−わゆる1次光沢剤的な作用を有
する化合物を添加しておくと、上記微結晶性のN1−Z
a会金めつ龜は一層緻密化し、美麗な鏡面光沢を示すも
のとなる。
する化合物を添加しておくと、上記微結晶性のN1−Z
a会金めつ龜は一層緻密化し、美麗な鏡面光沢を示すも
のとなる。
上記界画活性剤を含有する本発明のめり電液に添加する
2次光沢剤として時に優れて−るのは、アリールアルデ
ヒド(たとえば0−りWttペンスアルデヒド)、アリ
ールケシン(たとえdベンジルメチルケトン、フェニル
エチルケトン)、アリールオレフィンアルデヒド(たと
えばシンナムアルデヒF)、アリールオレアインケFン
(たとえばベンザルアセシン)等の、アリール基を有す
るアルデヒドまたは+)ンである。これらの2次光沢剤
OII加量&i6.01〜2g/lが適当である。
2次光沢剤として時に優れて−るのは、アリールアルデ
ヒド(たとえば0−りWttペンスアルデヒド)、アリ
ールケシン(たとえdベンジルメチルケトン、フェニル
エチルケトン)、アリールオレフィンアルデヒド(たと
えばシンナムアルデヒF)、アリールオレアインケFン
(たとえばベンザルアセシン)等の、アリール基を有す
るアルデヒドまたは+)ンである。これらの2次光沢剤
OII加量&i6.01〜2g/lが適当である。
zg/を以上社溶解しK<いばかヤでなく、低電流部に
スキップ具象(めつ1未析出)があられれることがある
。
スキップ具象(めつ1未析出)があられれることがある
。
こO本発明によるめっき液を用−ためっき方法としては
、逓當O2履めつ龜ある一層Niめつきと同様、ラック
及びバレルによる方法が可能である。壜た、望まし―め
つ愈作業条件社次に示すとお勤である。
、逓當O2履めつ龜ある一層Niめつきと同様、ラック
及びバレルによる方法が可能である。壜た、望まし―め
つ愈作業条件社次に示すとお勤である。
陰極電流密度=1〜8ム/ d m”
−極電流密度=1〜S A / d vn寓浴
温:30740℃ 陽極:Zm及びN1を約9=1で用−1浴中のZmQ及
びNil+の濃度を維持する(Zn陽極のみを用い、減
少する浴中 ONkm+に対しては塩化ニラナルを補充することも可
能である。)。
温:30740℃ 陽極:Zm及びN1を約9=1で用−1浴中のZmQ及
びNil+の濃度を維持する(Zn陽極のみを用い、減
少する浴中 ONkm+に対しては塩化ニラナルを補充することも可
能である。)。
浴opu調整!塩酸また社アンモニア水を用−て行う。
次に本発明の実施例につ−て述べる。以下の例はすべて
267−へルセルを用−てめり自を行ったものである。
267−へルセルを用−てめり自を行ったものである。
めつ自条件は次のとおシである。
電流:2A めり龜時間:S分
浴温:ss’c 陽極:zn
陰極雪プライ)鋼板
実施例I
Imp:ZlnClt ′11019g/z、NiC1
1−sH,Os z o g/l、 NH,CI 24
0 g/L%ナーフイノー#48 S I g/ 1
. pH51ハルセル試験の結果、半光択で均一な外観
が得られた。また均一電着性を調べるため^ルセルの膜
厚分布を測定し′kが、その結果#i第1閣に示すと′
ss艶である。
1−sH,Os z o g/l、 NH,CI 24
0 g/L%ナーフイノー#48 S I g/ 1
. pH51ハルセル試験の結果、半光択で均一な外観
が得られた。また均一電着性を調べるため^ルセルの膜
厚分布を測定し′kが、その結果#i第1閣に示すと′
ss艶である。
比較例1
浴部4:ZmC1,1(10g/j%NiC1,。
5HsOt z o g/1%NH,C1冨40g/I
−sHLs へル七ル試験り結果、高電流部から中電流部にかけては
灰色無光沢めつ龜とな)、低電流部は黒色O析出とを5
た・ tた、実施例1の場合と同様にめつ電膜厚分布を測定し
たが、結果は第igに示すとお砂であゐ・ これによ!、9−フイノール48sの添加はZm−Ni
会会めつIO光沢と均一電着性の改曽に効果があること
が確認され−k。
−sHLs へル七ル試験り結果、高電流部から中電流部にかけては
灰色無光沢めつ龜とな)、低電流部は黒色O析出とを5
た・ tた、実施例1の場合と同様にめつ電膜厚分布を測定し
たが、結果は第igに示すとお砂であゐ・ これによ!、9−フイノール48sの添加はZm−Ni
会会めつIO光沢と均一電着性の改曽に効果があること
が確認され−k。
実施例言
WIlrflill& 、:Lm Cl 312 g
/ l−s N t C1B ・@ HI O* 6
g / I−s NH6Cl 250 g /’sナ
ーフイノールass sg/lsベンザルア* )
> L * I! g / L 、p HIL II
八へセル試験の結果、高電流部にわずかにクラックが生
じたものの、中電流部から低電流部社鏡画光沢O良好な
めり自が得られた。
/ l−s N t C1B ・@ HI O* 6
g / I−s NH6Cl 250 g /’sナ
ーフイノールass sg/lsベンザルア* )
> L * I! g / L 、p HIL II
八へセル試験の結果、高電流部にわずかにクラックが生
じたものの、中電流部から低電流部社鏡画光沢O良好な
めり自が得られた。
実施例3
浴組成: ZtsC1120g/ t、 Nt C1g
・@HaOZ 50 g/Z%NH4C1i 5 K
/LsKCI sag/ls りぎノフタスNCT
21/1− s ヘ> f # 7 * ) >
6−04 g / t s 9 H5,6−^ルセル試
験の結果、高電流部にわずかなタラツクを生じたが、他
の部分は鏡面光沢のめっきが得られた@ 実施例4 浴組成: ZnCA章 801171%NiC1,。
・@HaOZ 50 g/Z%NH4C1i 5 K
/LsKCI sag/ls りぎノフタスNCT
21/1− s ヘ> f # 7 * ) >
6−04 g / t s 9 H5,6−^ルセル試
験の結果、高電流部にわずかなタラツクを生じたが、他
の部分は鏡面光沢のめっきが得られた@ 実施例4 浴組成: ZnCA章 801171%NiC1,。
sH,0120g/l、 NHaCl 180 g/L
1プルシニツクLs41g/Axシンナムアルデヒド
o、o2x/l、pHts八ルセへ試験の結果、わずか
に曇珈を生じているものの、鏡面に近−めつきが得られ
た。
1プルシニツクLs41g/Axシンナムアルデヒド
o、o2x/l、pHts八ルセへ試験の結果、わずか
に曇珈を生じているものの、鏡面に近−めつきが得られ
た。
実施例5
浴部*:ZnC1,フOg/l、NiC1m。
6H富Og 4 og/z、NH,C1sow/l。
エソミンC/251g/As・−クロロベンズアルデヒ
ド 0.02 g/l、 PH5,3八ルセル試験の結
果、わず1PKll砂を生じている400.鏡面光沢に
近−めつ11が得られた。
ド 0.02 g/l、 PH5,3八ルセル試験の結
果、わず1PKll砂を生じている400.鏡面光沢に
近−めつ11が得られた。
実施例6
濠1−*: ZmCl、 26 g/ t−、Ni
C15・6H寓0 意 4 g/l、 NH,C
1z s o g/’sエン!イド O/ 11
2 g / t、 7エエルエチルケ)ン (1,1
g/ t、 pH8,1八ル令ル試験の結果、高電流部
にわずかなタラツタを生じたものの、鏡面光沢に近−め
つ自が得られた。
C15・6H寓0 意 4 g/l、 NH,C
1z s o g/’sエン!イド O/ 11
2 g / t、 7エエルエチルケ)ン (1,1
g/ t、 pH8,1八ル令ル試験の結果、高電流部
にわずかなタラツタを生じたものの、鏡面光沢に近−め
つ自が得られた。
まえ、中電流部Kiけるめ一9自皮膜中のNi□含有量
を分析し友とζろ、7.3≦であった。
を分析し友とζろ、7.3≦であった。
実施例7
浴組成3 ZmCl、 120 g/ L%NI C
1@ ・@)I、o 1 2 G g/ L、
NH,C1240jig/l、t−フイ/−# 4
8 sl 0 g/ tlへ:yザルアセ)ン 0.3
g/ L、 pHL6八ルセル試験の結果、全面鏡面
光沢めっきが得られた。
1@ ・@)I、o 1 2 G g/ L、
NH,C1240jig/l、t−フイ/−# 4
8 sl 0 g/ tlへ:yザルアセ)ン 0.3
g/ L、 pHL6八ルセル試験の結果、全面鏡面
光沢めっきが得られた。
また、ハル七ル板の高電流側から2a&、!!6゜$纒
の部分におけるめつ亀皮腹中ONM含有量を分析した結
果、それぞれ7.6%、7.I≦、10.7−であった
。tえ、実施例10場合と同様に^ルセルのめつ金膜厚
分布を測定したが、その結果は第1図に示すとお鰺であ
る。またさらに、本発明によるZs−Ni合金めり自の
耐食性を調べるため、ζOめつ1液により鋼板に轢は均
一に約3#講めつ亀を行つえものと、これと同様に1光
沢Nlめつ愈及び光沢塩化Zmめつ龜したものとを塩水
噴霧試験した。この結果、Niめつ自、zaめつ自の赤
さび発生時間はそれぞれ$時間、40時間であったのに
対し、Zm −Nj メツ@d 1 m ()時fRf
ト4〜2a倍0耐食性を示した。
の部分におけるめつ亀皮腹中ONM含有量を分析した結
果、それぞれ7.6%、7.I≦、10.7−であった
。tえ、実施例10場合と同様に^ルセルのめつ金膜厚
分布を測定したが、その結果は第1図に示すとお鰺であ
る。またさらに、本発明によるZs−Ni合金めり自の
耐食性を調べるため、ζOめつ1液により鋼板に轢は均
一に約3#講めつ亀を行つえものと、これと同様に1光
沢Nlめつ愈及び光沢塩化Zmめつ龜したものとを塩水
噴霧試験した。この結果、Niめつ自、zaめつ自の赤
さび発生時間はそれぞれ$時間、40時間であったのに
対し、Zm −Nj メツ@d 1 m ()時fRf
ト4〜2a倍0耐食性を示した。
実施例8
浴部311 : ZIIC1寓i 00 g/ As
N I C”* ’@1(,0146fl/l、 N
H,CI 2 6 0 g/L、エソ7アツ)
07to 鵞x / t sペンデルアセトン &O
5g/j、9H!L5ハルセル試験の結果、全面鏡面光
沢めつ自が得られえ。
N I C”* ’@1(,0146fl/l、 N
H,CI 2 6 0 g/L、エソ7アツ)
07to 鵞x / t sペンデルアセトン &O
5g/j、9H!L5ハルセル試験の結果、全面鏡面光
沢めつ自が得られえ。
実施例9
浴11js Zmoll 100 g/z%NiCl
、 −si(mo 1 1 0 g / L、
NHHCl2 z 4 og/l、 昇m活性
剤 sg/A、ペンデルアセトンL@g/A%pH1,
s (界面活性剤として韓ツプノツタスOC8、シウ
ィーン40又はテ)胃ニッタ764を用−た0) へル七ル試験の結果、−ずれの場合も全面鏡面光沢めつ
龜が得られた0 このように、本発明は非常に優れ大耐食性を有するZm
−Ni合金めつ1に優れ友光沢と均一電着性を与え為こ
とに成功したもので、これによシZn−Ni合金めつき
が一般のめつ龜にも適用できるようにな抄、工業上大食
な意−を1つ1のである・ t mmo簡単な説明 第1図社実施例1、実施例2及び比較例1によるめつ亀
の膜厚分布を測定した結果を示すグ517である。
、 −si(mo 1 1 0 g / L、
NHHCl2 z 4 og/l、 昇m活性
剤 sg/A、ペンデルアセトンL@g/A%pH1,
s (界面活性剤として韓ツプノツタスOC8、シウ
ィーン40又はテ)胃ニッタ764を用−た0) へル七ル試験の結果、−ずれの場合も全面鏡面光沢めつ
龜が得られた0 このように、本発明は非常に優れ大耐食性を有するZm
−Ni合金めつ1に優れ友光沢と均一電着性を与え為こ
とに成功したもので、これによシZn−Ni合金めつき
が一般のめつ龜にも適用できるようにな抄、工業上大食
な意−を1つ1のである・ t mmo簡単な説明 第1図社実施例1、実施例2及び比較例1によるめつ亀
の膜厚分布を測定した結果を示すグ517である。
代理人 弁理士 榎 井 −職
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)塩化亜鉛、塩化ニッケル及び塩化アン毫ニウムを
ZnS+として10〜90 g/ t、 Ni”十をs
〜s o g/Ax NHa+としてS〜120 g
/Lの範囲で、但しZn雪十/N i l+(重量比)
がU以下であるどと〈含有し、さらにlリオキシアルキ
レン鎖を有する界面活性剤を含有することを特徴とする
亜鉛−ニッケル合金電気めっき液。 (2)キリオキシアルキレン鎖を有すゐ界fI活性剤が
プリオキシエチレンアルキルエーテル、Iリオキシエチ
レンアルキ身アリールエーテル、ポリオキシエチレンプ
リオキシプロピレンエーテル、ぎ雫オキシエチレン脂肪
酸エステル、19オ命ジエチレンアルキルアミン、ポリ
オキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、llIr9
オキシエチレン 2,4.?、I・テトラメチル−5−
デシン−4,7−ジオール、プリオキシエチレンアルキ
ルア之ドまたはぎリオキシエチレンポ呼オキシブーピレ
ンエチレンジアミンである特許請求の@1第1項記載O
めつ含液@(3)pHが4.7〜LOである特許請求の
範囲第1項記載Oめつ1波。 ←) 植化亜船、塩化ニッケル及び塩化アンモニラA
@ Z 11″十として10−$011/1SNi”と
してS〜・@g/j、Nl(、+として!!N120g
/lo11mlで、たffLZm”ンNi”(重量比)
がLH以下であるごとく含有し、さもK(リオキシアル
キレン鎖を有する界面活性剤及び2次光液剤としてアラ
ールアルデヒド、アリールケシン、アリールオレフィン
アルデヒドま、たは了り−ルオレフインナ)ンを含有す
ることを曹微とする墓船−エツナル合金電気めっき液。 00 冨次光沢剤がペンずルアセトン1.シンナムア
ルデヒド、〇−タWWペンスアルデヒドt′kIfiL
7エエルエチルケシンである特許請求の範**4項記載
のめつ11液。 (6)pHが4.7〜86である特許請求の範囲第4項
記載Oめつ1液。
Priority Applications (13)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56130341A JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
| AU87056/82A AU534369B2 (en) | 1981-08-21 | 1982-08-11 | Electrodeposition of zinc-nickel alloys |
| NLAANVRAGE8203266,A NL184070C (nl) | 1981-08-21 | 1982-08-19 | Waterig bad voor elektrolytische afzetting van zink-nikkellegeringen; alsmede voortbrengselen met een dergelijke afzetting. |
| ES515149A ES8308366A1 (es) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | "un procedimiento para obtener depositos electroliticos brillantes y uniformes de aleacion de zinc-niquel". |
| FR8214424A FR2511707A1 (fr) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composition et procede pour l'electrodeposition de depots d'alliages zinc-nickel |
| MX194081A MX158623A (es) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composicion acuosa mejorada para la electrodeposicion de depositos de aleacion de zinc y niquel |
| IN970/CAL/82A IN157700B (ja) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | |
| DE3231054A DE3231054A1 (de) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Waessriges elektrolytbad zur kathodischen abscheidung von zink-nickel-legierungen und seine verwendung |
| IT68027/82A IT1156492B (it) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composizione acquosa per l elettro deposizione di leghe di zinco e nichel e procedimento di elettrode posizione utilizzante tale composizione |
| CA000409819A CA1210732A (en) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composition and process for the electrodeposition of zinc-nickel alloy deposits |
| KR8203747A KR880001584B1 (ko) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | 아연-니켈합금 전착용 수용성 조성물 |
| BR8204892A BR8204892A (pt) | 1981-08-21 | 1982-08-20 | Composicao aquosa para a eletroposicao de ligas de zinco-niquel e processo para produzir eletrodepositos de ligas de zinco-niquel uniformes e brilhantes |
| GB08224176A GB2104920B (en) | 1981-08-21 | 1982-08-23 | Electrodeposition of zinc-nickel alloy deposits |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56130341A JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5834189A true JPS5834189A (ja) | 1983-02-28 |
| JPS6012434B2 JPS6012434B2 (ja) | 1985-04-01 |
Family
ID=15032062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56130341A Expired JPS6012434B2 (ja) | 1981-08-21 | 1981-08-21 | 亜鉛−ニツケル合金電気めつき液 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6012434B2 (ja) |
| KR (1) | KR880001584B1 (ja) |
| AU (1) | AU534369B2 (ja) |
| BR (1) | BR8204892A (ja) |
| CA (1) | CA1210732A (ja) |
| DE (1) | DE3231054A1 (ja) |
| ES (1) | ES8308366A1 (ja) |
| FR (1) | FR2511707A1 (ja) |
| GB (1) | GB2104920B (ja) |
| IN (1) | IN157700B (ja) |
| IT (1) | IT1156492B (ja) |
| MX (1) | MX158623A (ja) |
| NL (1) | NL184070C (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4877496A (en) * | 1986-08-22 | 1989-10-31 | Nippon Hyomen Kagaku Kabushiki Kaisha | Zinc-nickel alloy plating solution |
| KR20020010046A (ko) * | 2000-07-28 | 2002-02-02 | 이구택 | 아연-니켈 도금강판의 오염 방지제 |
| KR100368221B1 (ko) * | 1998-09-01 | 2003-04-21 | 주식회사 포스코 | 염화물욕가용성양극을사용한아연-니켈합금전기도금용액및이용액을이용한아연-니켈합금전기도금강판의제조방법 |
| KR100417931B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-30 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
| KR100417930B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-31 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
| CN1656255B (zh) | 2002-05-23 | 2010-06-16 | 埃托特克德国有限公司 | 用于电解沉积缎纹镍沉积物的酸电镀浴及方法 |
| CN105002532A (zh) * | 2015-08-21 | 2015-10-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种低泡型弱酸性氯化物锌镍合金电镀液 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3465347D1 (en) * | 1983-11-01 | 1987-09-17 | Nippon Steel Corp | Process for electroplating a metallic material with an iron-zinc alloy |
| JPS60228693A (ja) * | 1984-04-25 | 1985-11-13 | Kawasaki Steel Corp | Zn−Ni合金めつき鋼板の製造方法 |
| JPS61110794A (ja) * | 1984-11-06 | 1986-05-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 銅箔の表面処理方法 |
| JPS622776U (ja) * | 1985-06-21 | 1987-01-09 | ||
| JPS6236178U (ja) * | 1985-08-21 | 1987-03-03 | ||
| US4666791A (en) * | 1985-12-06 | 1987-05-19 | Bethlehem Steel Corporation Of Delaware | Ni-Zn electroplated product resistant to paint delamination |
| US4772362A (en) * | 1985-12-09 | 1988-09-20 | Omi International Corporation | Zinc alloy electrolyte and process |
| JPS62113272U (ja) * | 1985-12-31 | 1987-07-18 | ||
| US7442286B2 (en) | 2004-02-26 | 2008-10-28 | Atotech Deutschland Gmbh | Articles with electroplated zinc-nickel ternary and higher alloys, electroplating baths, processes and systems for electroplating such alloys |
| CN103451693B (zh) * | 2013-07-29 | 2015-08-26 | 山东建筑大学 | 一种镍含量稳定的碱性锌镍合金脉冲电镀方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE470874A (ja) * | 1940-12-21 | |||
| US3420754A (en) * | 1965-03-12 | 1969-01-07 | Pittsburgh Steel Co | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel |
| DE1521029C3 (de) * | 1966-05-28 | 1984-01-19 | Dr.-Ing. Max Schlötter GmbH & Co KG, 7340 Geislingen | Saures galvanisches Glanzzinkbad |
| US3558442A (en) * | 1969-01-31 | 1971-01-26 | Wheeling Pittsburgh Steel Corp | Electroplating a ductile zinc-nickel alloy onto strip steel |
| JPS5128533A (en) * | 1974-09-04 | 1976-03-10 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Aen nitsukerugokin metsukyodenkaieki |
| US4070256A (en) * | 1975-06-16 | 1978-01-24 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Acid zinc electroplating bath and process |
| SU571528A1 (ru) * | 1975-09-17 | 1977-09-05 | Pavlov Anatolij V | Электролит дл осаждени сплавов на основе цинка |
| SU827608A1 (ru) * | 1978-05-12 | 1981-05-07 | Предприятие П/Я В-8173 | Электролит дл осаждени покрытийиз СплАВА циНК-НиКЕль |
| US4313802A (en) * | 1979-02-15 | 1982-02-02 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Method of plating steel strip with nickel-zinc alloy |
| JPS5839236B2 (ja) * | 1979-03-30 | 1983-08-29 | 住友金属工業株式会社 | 合金電気メッキ方法 |
| US4282073A (en) * | 1979-08-22 | 1981-08-04 | Thomas Steel Strip Corporation | Electro-co-deposition of corrosion resistant nickel/zinc alloys onto steel substrates |
| US4268364A (en) * | 1980-03-18 | 1981-05-19 | Inco Research & Development Center Inc. | Nickel-zinc alloy deposition from a sulfamate bath |
-
1981
- 1981-08-21 JP JP56130341A patent/JPS6012434B2/ja not_active Expired
-
1982
- 1982-08-11 AU AU87056/82A patent/AU534369B2/en not_active Ceased
- 1982-08-19 NL NLAANVRAGE8203266,A patent/NL184070C/xx not_active IP Right Cessation
- 1982-08-20 DE DE3231054A patent/DE3231054A1/de active Granted
- 1982-08-20 FR FR8214424A patent/FR2511707A1/fr active Granted
- 1982-08-20 KR KR8203747A patent/KR880001584B1/ko not_active Expired
- 1982-08-20 CA CA000409819A patent/CA1210732A/en not_active Expired
- 1982-08-20 IN IN970/CAL/82A patent/IN157700B/en unknown
- 1982-08-20 ES ES515149A patent/ES8308366A1/es not_active Expired
- 1982-08-20 MX MX194081A patent/MX158623A/es unknown
- 1982-08-20 IT IT68027/82A patent/IT1156492B/it active
- 1982-08-20 BR BR8204892A patent/BR8204892A/pt unknown
- 1982-08-23 GB GB08224176A patent/GB2104920B/en not_active Expired
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4877496A (en) * | 1986-08-22 | 1989-10-31 | Nippon Hyomen Kagaku Kabushiki Kaisha | Zinc-nickel alloy plating solution |
| KR100417931B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-30 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
| KR100417930B1 (ko) * | 1996-12-26 | 2004-03-31 | 주식회사 포스코 | 아연-니켈합금전기도금액 |
| KR100368221B1 (ko) * | 1998-09-01 | 2003-04-21 | 주식회사 포스코 | 염화물욕가용성양극을사용한아연-니켈합금전기도금용액및이용액을이용한아연-니켈합금전기도금강판의제조방법 |
| KR20020010046A (ko) * | 2000-07-28 | 2002-02-02 | 이구택 | 아연-니켈 도금강판의 오염 방지제 |
| CN1656255B (zh) | 2002-05-23 | 2010-06-16 | 埃托特克德国有限公司 | 用于电解沉积缎纹镍沉积物的酸电镀浴及方法 |
| CN105002532A (zh) * | 2015-08-21 | 2015-10-28 | 哈尔滨工业大学 | 一种低泡型弱酸性氯化物锌镍合金电镀液 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2104920A (en) | 1983-03-16 |
| KR840001231A (ko) | 1984-03-28 |
| NL184070B (nl) | 1988-11-01 |
| GB2104920B (en) | 1985-02-27 |
| NL8203266A (nl) | 1983-03-16 |
| DE3231054C2 (ja) | 1989-04-27 |
| CA1210732A (en) | 1986-09-02 |
| DE3231054A1 (de) | 1983-03-03 |
| MX158623A (es) | 1989-02-20 |
| ES515149A0 (es) | 1983-08-16 |
| KR880001584B1 (ko) | 1988-08-24 |
| FR2511707A1 (fr) | 1983-02-25 |
| IT8268027A0 (it) | 1982-08-20 |
| BR8204892A (pt) | 1983-08-02 |
| ES8308366A1 (es) | 1983-08-16 |
| IT1156492B (it) | 1987-02-04 |
| AU534369B2 (en) | 1984-01-26 |
| JPS6012434B2 (ja) | 1985-04-01 |
| IN157700B (ja) | 1986-05-24 |
| NL184070C (nl) | 1989-04-03 |
| IT8268027A1 (it) | 1984-02-20 |
| FR2511707B1 (ja) | 1985-05-03 |
| AU8705682A (en) | 1983-02-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2342219C (en) | Aqueous alkaline cyanide-free bath for the galvanic deposition of zinc or zinc alloy coatings | |
| US3925170A (en) | Method and composition for producing bright palladium electrodepositions | |
| GB2294472A (en) | Cationic quaternary ammonium polymer additive in alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths | |
| JPS60436B2 (ja) | 金属表面の電着処理方法 | |
| US3812566A (en) | Composite nickel iron electroplate and method of making said electroplate | |
| IT8268027A1 (it) | Composizione acquosa per l'elttrodeposizione di leghe di zinco e nichel e procedimento di elettrodeposizione utilizzante tale composizione | |
| JPS60169588A (ja) | 亜鉛用または亜鉛合金用酸性電着浴 | |
| US3793162A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
| US4521282A (en) | Cyanide-free copper electrolyte and process | |
| CA1149324A (en) | Silver electrodeposition composition and process | |
| US5194140A (en) | Electroplating composition and process | |
| NO784204L (no) | Fremgangsmaate til fremstilling av blanke elektrolytiske zinkutfellinger og vandig, surt pletteringsbad til utfoerelse av fremgangsmaaten | |
| US3960677A (en) | Acid zinc electroplating | |
| EP0088192B1 (en) | Control of anode gas evolution in trivalent chromium plating bath | |
| JPH025833B2 (ja) | ||
| IT8148564A1 (it) | Composizione di bagno e metodo per elettrodepositare leghe di cobalto-zinco simulanti una placcatura di cromo | |
| US3580821A (en) | Bright silver electroplating | |
| US2809156A (en) | Electrodeposition of iron and iron alloys | |
| US4138294A (en) | Acid zinc electroplating process and composition | |
| US4244790A (en) | Composition and method for electrodeposition of black nickel | |
| US3969198A (en) | Ni-Fe electro-plating | |
| JPS5921394B2 (ja) | 鉄合金めっき水溶液 | |
| CA1180676A (en) | Electrolytic nickel plating bath containing amine, borate and conductivity salt | |
| JPH11193487A (ja) | アルカリ性亜鉛又は亜鉛合金用めっき液及びめっきプロセス | |
| JPS6053118B2 (ja) | 電着されるパラジウム−ニツケル合金の耐食性を高める方法 |