JPS5837476A - ロ−タリキルン構造 - Google Patents
ロ−タリキルン構造Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はキルン構造に関する。より詳細には、限られる
わけではないが、二酸化ウランの製造についで適用する
キルン構造に関する。
わけではないが、二酸化ウランの製造についで適用する
キルン構造に関する。
このような構造において生ずる問題としては、キルン構
造があつ過ぎる場合には、製造された二酸化ウランの物
理的性質は次の工程でうまく処理されない限り、不完全
である。一方、キルン構造が冷え過ぎでいる場合には、
二酸化ウラン中のフッ素含有量が大変高くなる。
造があつ過ぎる場合には、製造された二酸化ウランの物
理的性質は次の工程でうまく処理されない限り、不完全
である。一方、キルン構造が冷え過ぎでいる場合には、
二酸化ウラン中のフッ素含有量が大変高くなる。
本発明によれば、反応が向流反応物質間で起り、少なく
とも一方の反応物質用の噴射器が反応帯域の中へ延びで
いるようなロータリキルン構造であって、該キルン構造
は、温度を反応帯域全体にわたって所望範囲内に維持す
る手段を備え、この手段は噴射された反応物質の温度を
この反応物質が噴射器の中にある間所望範囲内の温度に
調節する手段を備えでいる。
とも一方の反応物質用の噴射器が反応帯域の中へ延びで
いるようなロータリキルン構造であって、該キルン構造
は、温度を反応帯域全体にわたって所望範囲内に維持す
る手段を備え、この手段は噴射された反応物質の温度を
この反応物質が噴射器の中にある間所望範囲内の温度に
調節する手段を備えでいる。
好ましくは、噴射器は少なくとも一個の長さ方向に配置
された電気加熱器を収容する細長い管よりなる。有利に
は、該電気加熱器は噴射された反応物質の温度を制御す
るように調節可能な要素を有している。
された電気加熱器を収容する細長い管よりなる。有利に
は、該電気加熱器は噴射された反応物質の温度を制御す
るように調節可能な要素を有している。
有利には、キルン構造は信号を出す温度感知装置（噴射
器と平行関係に配置される）を備え、噴射された物質の
温度はこの信号によって制御される。
器と平行関係に配置される）を備え、噴射された物質の
温度はこの信号によって制御される。
以下添付図面を参照して本発明の実施態様について説明
する。
する。
まず第１図について説明する。図中、ロータリキルンは
支持骨組４上に示されでいる。このキル／は傾斜バレル
１、入口室２および受は部１０を有している。この入口
室はバレル１の上端と連結しでおり、ガス状反応物質の
入口噴射器５を備えている。バレル１の下端には排出ホ
ッパ３が設けてあり、このホツノ４を通して他の反応物
質入口６が延びでいる。更に別の反応物質入口（図示せ
ずもまた設けられでいる。キルンバレルはその周囲に配
置された複数の電気加熱ユニット１を有しでいる。３個
の加熱ユニットカ図中キルンバレルの周囲に示されてい
る。複数の軸受８（第１図に詳細には示されでいない）
によりキルンは回転できかつ長さ方向に熱膨張できるよ
うになっている。
支持骨組４上に示されでいる。このキル／は傾斜バレル
１、入口室２および受は部１０を有している。この入口
室はバレル１の上端と連結しでおり、ガス状反応物質の
入口噴射器５を備えている。バレル１の下端には排出ホ
ッパ３が設けてあり、このホツノ４を通して他の反応物
質入口６が延びでいる。更に別の反応物質入口（図示せ
ずもまた設けられでいる。キルンバレルはその周囲に配
置された複数の電気加熱ユニット１を有しでいる。３個
の加熱ユニットカ図中キルンバレルの周囲に示されてい
る。複数の軸受８（第１図に詳細には示されでいない）
によりキルンは回転できかつ長さ方向に熱膨張できるよ
うになっている。
複数の口過器９が受は部１ｏの上方に設けられでいる。
次に第２図について説明する。第２図は第１図における
排出ホン・ぐ３のまわりの部分をより詳細に示しでいる
。キルンの端部に取付けられた軸受８の部分は番号２０
で示されでおり、キルンと排出ホッパ３との間のシール
は番号２１によって示すレテいる。シール２１は、排出
ホソノ？２１．！＝１ルンとの相対的な動きを、熱膨張
時に生じるような漏れなしに可能にするように設けられ
ている。
排出ホン・ぐ３のまわりの部分をより詳細に示しでいる
。キルンの端部に取付けられた軸受８の部分は番号２０
で示されでおり、キルンと排出ホッパ３との間のシール
は番号２１によって示すレテいる。シール２１は、排出
ホソノ？２１．！＝１ルンとの相対的な動きを、熱膨張
時に生じるような漏れなしに可能にするように設けられ
ている。
キルン１のこのような動きの方向は図中Ｘによって示さ
れている。
れている。
蒸気入口管２２には蒸気が連結用フランツ２３を経て供
給される。入口管２２は蒸気を電気加熱要素２５．２Ｂ
を収容している加熱管２４中に供給する。これらの要素
は一般的にＵ−字形であり、加熱要素２５に関しては曲
折部が２７で見られ、また両要素は加熱管の長さに沿っ
て複数のスペーサ格子２８によって支持きれでいる。ま
た、加熱管２４内には又保護スリーブ３０で套管されで
いる熱電対２９が設けられ、同じく、格子によって保持
きれでいる。電気加熱要素および熱電対用の電気接続体
が接続箱３１内に設けられでおり、電気加熱要素用の電
気接続体３２で示されでいる。
給される。入口管２２は蒸気を電気加熱要素２５．２Ｂ
を収容している加熱管２４中に供給する。これらの要素
は一般的にＵ−字形であり、加熱要素２５に関しては曲
折部が２７で見られ、また両要素は加熱管の長さに沿っ
て複数のスペーサ格子２８によって支持きれでいる。ま
た、加熱管２４内には又保護スリーブ３０で套管されで
いる熱電対２９が設けられ、同じく、格子によって保持
きれでいる。電気加熱要素および熱電対用の電気接続体
が接続箱３１内に設けられでおり、電気加熱要素用の電
気接続体３２で示されでいる。
電気加熱要素２５．２６の制御ワイヤは制御箱３３から
操作され、この制御ワイヤには熱電対２９から出力信号
が供給される。キルンに使用する別の熱電対は３８によ
って示されでいる。この熱電対３８はスジリング３９お
よびロックナンド構造４０によつで提供されるばね付勢
によって所定位置に保持されでいる。加熱管２４はキル
ン内で栓４１によって密封されでいろ。蒸気は加熱管２
４から穴４２を通って出る。加熱要素２５．２６の形状
は第３図においでより明瞭にわかることがで登る。同、
第３図においで、第２図と同じ番号が同一部分を示すの
に使用されでいる。
操作され、この制御ワイヤには熱電対２９から出力信号
が供給される。キルンに使用する別の熱電対は３８によ
って示されでいる。この熱電対３８はスジリング３９お
よびロックナンド構造４０によつで提供されるばね付勢
によって所定位置に保持されでいる。加熱管２４はキル
ン内で栓４１によって密封されでいろ。蒸気は加熱管２
４から穴４２を通って出る。加熱要素２５．２６の形状
は第３図においでより明瞭にわかることがで登る。同、
第３図においで、第２図と同じ番号が同一部分を示すの
に使用されでいる。
次に第≠図について、同一部分には第１図〜第３図と同
じ番号が用いられている。加熱管２４と電気接続箱３１
との間の継手がある程度詳細に示されている。加熱管２
４は５１．５２によって示された２個の溶接部で板５０
に溶接されている。
じ番号が用いられている。加熱管２４と電気接続箱３１
との間の継手がある程度詳細に示されている。加熱管２
４は５１．５２によって示された２個の溶接部で板５０
に溶接されている。
板５０はボルト（図示せず）などの手段によって接続箱
３１０部分に固着されている。ガスケット５３が板５０
と接続箱３１との間に配置されていで上記継手を確実に
気密にしでいる。加熱要素２４．２５の外套管は５４で
示されている。この外套管５４は接続箱３１に固定され
ている。熱電対保護スリーブ３０は溶接部５５で接続箱
３１に溶接されでいる。熱電対２９自身は接続箱３１に
接触していない。
３１０部分に固着されている。ガスケット５３が板５０
と接続箱３１との間に配置されていで上記継手を確実に
気密にしでいる。加熱要素２４．２５の外套管は５４で
示されている。この外套管５４は接続箱３１に固定され
ている。熱電対保護スリーブ３０は溶接部５５で接続箱
３１に溶接されでいる。熱電対２９自身は接続箱３１に
接触していない。
次に図すべてを参照してキルン構造の作動を説明する。
六フッ化ウランおよび乾燥蒸気を入口噴射器５によって
キルンの中へ噴射する。噴射器のノズルから共に出る六
フッ化ウランと乾燥蒸気はキルンバレル１の上端に向け
られるプラム（柱状のもの）の形をなして互に反応する
。代表的には、蒸気の温度は／３０Ｃ，六フッ化ウラン
の温度はりＯＣであり、両者の反応が発熱反応であるか
ら、プラムの温度はｊＯＯ−乙ＯＯＣに達する。この反
応によって生成するフン化ウラ；ルは、使用中回転する
キルンバレル１の上端に堆積する。フッ化ウラニルはキ
ルンのバレル１を進む際、高温度（６００〜７！；ＯＣ
）で蒸気／水素混合物と反応して酸化ウラン粉末を生成
する。必要な温度はキルンの中に加熱ユニット１によっ
て維持される。
キルンの中へ噴射する。噴射器のノズルから共に出る六
フッ化ウランと乾燥蒸気はキルンバレル１の上端に向け
られるプラム（柱状のもの）の形をなして互に反応する
。代表的には、蒸気の温度は／３０Ｃ，六フッ化ウラン
の温度はりＯＣであり、両者の反応が発熱反応であるか
ら、プラムの温度はｊＯＯ−乙ＯＯＣに達する。この反
応によって生成するフン化ウラ；ルは、使用中回転する
キルンバレル１の上端に堆積する。フッ化ウラニルはキ
ルンのバレル１を進む際、高温度（６００〜７！；ＯＣ
）で蒸気／水素混合物と反応して酸化ウラン粉末を生成
する。必要な温度はキルンの中に加熱ユニット１によっ
て維持される。
一連の加熱ユニットを使用することによりキルンバレル
１の長さに沿って必要な温度勾配を設定することができ
る。蒸気は入口６（第２図を参照しτ上にまたは以下に
詳細に説明されでいる）からキルンバレルの下端部に供
給され、水素は入口を通しで排出ホツノぐ３の中へ入る
。
１の長さに沿って必要な温度勾配を設定することができ
る。蒸気は入口６（第２図を参照しτ上にまたは以下に
詳細に説明されでいる）からキルンバレルの下端部に供
給され、水素は入口を通しで排出ホツノぐ３の中へ入る
。
キルンバレル１の中の持上げ用羽根（図示せず）がフン
化ウラニル粉末をひつくり返し、キルンバレルを通して
上方に進む蒸気／水素混合物と向流をなして一般的に下
方に移動させる。フン化ウラニル粉末の持上げおよびひ
つくり返し運動により効率的な固−気接触を保証し、か
つフッ化ウラニル粉末の酸化ウラン粉末への急速で効率
的な転化を保証する。生成された酸化ウランは排出ホソ
・ぐ３の中へ落下し次の処理のために排出される。
化ウラニル粉末をひつくり返し、キルンバレルを通して
上方に進む蒸気／水素混合物と向流をなして一般的に下
方に移動させる。フン化ウラニル粉末の持上げおよびひ
つくり返し運動により効率的な固−気接触を保証し、か
つフッ化ウラニル粉末の酸化ウラン粉末への急速で効率
的な転化を保証する。生成された酸化ウランは排出ホソ
・ぐ３の中へ落下し次の処理のために排出される。
入口６からキルンバレル１に入る蒸気の温度は制御ユニ
ット３３の助力を得でまたは得ずに熱電対２９．３８か
らの信号に応答し又、加熱要素２５．２６の作動によっ
て制御される。この制御の目的はキルンバレルの中心と
その周囲との間の放射方向の熱分布を最ｌド、すなわち
／ｊ−２０Ｃに制限することである。蒸気があまりにも
低い温度でキルンバレルに入る場合には、加熱ユニット
７からの入力を増して補償しなければならず、又あまり
にも高い場合には、酸化ウラン生成物中のフッ素濃度が
さけられることになり、放射方向の大きな熱分布が生じ
る。その結果キルンバレルの周囲の温度が大変高いので
酸化ウラン生成物の望ましい物理的性質が悪くなる。従
つ１、キルンバレルの中へ噴射される時の蒸気の温度は
入口６のまわりのキルンバレル領域で起る反応に好まし
い温度に匹敵し、加熱ユニットＩが同様に制御される。
ット３３の助力を得でまたは得ずに熱電対２９．３８か
らの信号に応答し又、加熱要素２５．２６の作動によっ
て制御される。この制御の目的はキルンバレルの中心と
その周囲との間の放射方向の熱分布を最ｌド、すなわち
／ｊ−２０Ｃに制限することである。蒸気があまりにも
低い温度でキルンバレルに入る場合には、加熱ユニット
７からの入力を増して補償しなければならず、又あまり
にも高い場合には、酸化ウラン生成物中のフッ素濃度が
さけられることになり、放射方向の大きな熱分布が生じ
る。その結果キルンバレルの周囲の温度が大変高いので
酸化ウラン生成物の望ましい物理的性質が悪くなる。従
つ１、キルンバレルの中へ噴射される時の蒸気の温度は
入口６のまわりのキルンバレル領域で起る反応に好まし
い温度に匹敵し、加熱ユニットＩが同様に制御される。
加熱管２４の機械構造は、加熱管自身またはキルンの熱
膨張が起る時にキルンの他のいかなる構成要素も妨害し
ないようになっている。それでも、気密シールはキルン
の構成要素間に常に設けられる。加熱管２４は排出ホッ
パ３に固着されでいるので回転しない。加熱管はまた、
キルンのいかなる回転構成要素をも妨害しないように構
成されでいる。図示された電気接続箱の構成では蒸気が
接続箱３１内に入るような通路は設けられていない。
膨張が起る時にキルンの他のいかなる構成要素も妨害し
ないようになっている。それでも、気密シールはキルン
の構成要素間に常に設けられる。加熱管２４は排出ホッ
パ３に固着されでいるので回転しない。加熱管はまた、
キルンのいかなる回転構成要素をも妨害しないように構
成されでいる。図示された電気接続箱の構成では蒸気が
接続箱３１内に入るような通路は設けられていない。
これはすべての通路個所が加熱要素２５．２６の外套管
５４および熱電対スリーブ３０と接続箱３１と間の溶接
部５５によって密封されでいるからである。ガスケット
５３が可能性のある逃げ路を塞ぐため蒸気は接続箱３１
および板５２との間から漏れることはない。
５４および熱電対スリーブ３０と接続箱３１と間の溶接
部５５によって密封されでいるからである。ガスケット
５３が可能性のある逃げ路を塞ぐため蒸気は接続箱３１
および板５２との間から漏れることはない。
弘簡単な図面の説明
第１図は立面図、第２図は第１図と比較してその反対側
から見た概略縦断面図、第３図は異なる大きさで示す、
第２図の断面図、および第≠図は第２図に示された構成
要素の断面図である。
から見た概略縦断面図、第３図は異なる大きさで示す、
第２図の断面図、および第≠図は第２図に示された構成
要素の断面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ 反応が向流反応物質間で起り、少なくとも一方の反
応物質用の噴射器が反応帯域の中へ延びているロータリ
キルン構造において、温度を反応帯域全体にわたって所
望範囲内に維持する手段を設け、該手段が噴射された反
応物質の温度をこの反応物質が噴射器の中にある間所望
範囲内の温度に調節する手段を備えていることを特徴と
するロータリキルン構造。 コ 所望範囲がｔｏｏ〜７！ＯＣである特許請求の範囲
第１項に記載のロータリキルン構造。 ３ 噴射器が細長い管よりなり、噴射された反応物質の
温度を調節する手段が該管内に収容された長さ方向配置
の電気加熱器よりなる特許請求の範囲第１項ないし第２
項のいずれかの項に記載のロータリキルン構造。 ≠ 噴射器と平行関係に配置された温度感知装置が加熱
器を制御するように設けられでいる特許請求の範囲第３
項に記載のロータリキルン構造。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB08124666A GB2103772B (en) | 1981-08-12 | 1981-08-12 | Rotary kiln arrangements |
| GB24666 | 1981-08-12 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5837476A true JPS5837476A (ja) | 1983-03-04 |
| JPH026000B2 JPH026000B2 (ja) | 1990-02-06 |
Family
ID=10523900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57139654A Granted JPS5837476A (ja) | 1981-08-12 | 1982-08-11 | ロ−タリキルン構造 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5955033A (ja) |
| EP (1) | EP0072164B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5837476A (ja) |
| KR (1) | KR890001074B1 (ja) |
| AU (1) | AU550629B2 (ja) |
| CA (1) | CA1196186A (ja) |
| DE (1) | DE3277324D1 (ja) |
| ES (1) | ES8503832A1 (ja) |
| GB (1) | GB2103772B (ja) |
| ZA (1) | ZA825549B (ja) |
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| FR2805044B1 (fr) * | 2000-02-11 | 2002-05-17 | Franco Belge Combustibles | Procede et dispositif de determination de l'evolution d'une reaction chimique dans un four et de reglage de la reaction |
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| CN102534567B (zh) * | 2012-03-21 | 2014-01-15 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 控制化学气相沉积腔室内的基底加热的装置及方法 |
| CN110449111A (zh) * | 2019-08-31 | 2019-11-15 | 刘传刚 | 一种化学生产用加热装置 |
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|---|---|---|---|---|
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- 1981-08-12 GB GB08124666A patent/GB2103772B/en not_active Expired
-
1982
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- 1982-07-30 DE DE8282304043T patent/DE3277324D1/de not_active Expired
- 1982-08-02 ZA ZA825549A patent/ZA825549B/xx unknown
- 1982-08-04 AU AU86760/82A patent/AU550629B2/en not_active Ceased
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- 1982-08-09 KR KR8203580A patent/KR890001074B1/ko not_active Expired
- 1982-08-11 JP JP57139654A patent/JPS5837476A/ja active Granted
- 1982-08-11 ES ES514908A patent/ES8503832A1/es not_active Expired
-
1993
- 1993-09-15 US US08/445,451 patent/US5955033A/en not_active Expired - Fee Related
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| KR840001324A (ko) | 1984-04-30 |
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| ES8503832A1 (es) | 1985-03-01 |
| GB2103772B (en) | 1984-09-26 |
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