JPS5837638A - 画像形成材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 木兄ＩＪＪＪは、予め）ｒ腎へさｈた染料−または顔料
含有マスク層の十に感光層ケ設゛け、この感光層に像様
謝光を与えた杯・に、表面ケ水処理することによシ甚コ
ントラス［のＩσ１１像紮形成し得る画像形成材料に関
う゛る。

従才、平版印刷原稿と（−で用いられる非銀塩感光枳翠
Ｉのうち、中相や顔ネ１を含む感光（４樹脂層ケ用いる
り１７″としてｅま、特開昭５２−６２４２７月、同５
２−２５２０号公報等に開示さ１１ているものがある。

　１− コ（Ｄ　力ｉ１’：　Ｔ　Ｉｔｌ、ｉＤｉ＃７Ｊｊ　ノ
ミ曲ｆ＆’　ｋ　１１．１：　’）　ｌシーｒ、−１感
光ｔｊ−並！　１ｌｉｆ層中の中相や顔料全型やすと、
染第１や顔料が感光性（☆Ｉ　Ｊｌｉｙの感光ケ促−４
〜活性光線會吸収するために、かえって感ＩＡに低］・
４・きｆｒシてり、　ｔう。

１；ｆｒ、１Ｂ＜＜光性ｍ・Ｉ　ＩＪＰ＋層でレリーフ
１ｉｌＩＩ（＄　ｋ形成する及び／　−１ｆｒ　ｔｒ、
にレリーフロ１１１像Ｊに成ｔＸに染色する夕１プとし
ては、’？６開昭開開−２２９２り′ｒＪ１回４９−２
２９３０号公報に開７１Ｃさ）１．ているものがある。

この方法では、染オ・１ケ會イ１するｌ特別の染色ｍ処
理が必要になること、ζらに適度ム濃度に什十けるため
には染色条件（ｒｆト藷深く＝１ン）　ｒｌ−ｔじノる
必要がある。

壕だ、予めマスク層（ｒ−設け、イニの十に感Ｗ：　（
’１拉１脂層紮設ける夕１ブとＬＴ’ｔｊ：、’ｌｂ開
昭開開１（−（ｉ　５９２７月、同５０−１３９７２０
弓公軸に記敞されているものがある。

この方法では、金り状のマスクＩ−４・月１いる力θ、
で、像様餡光分与えた後から、画像を形成するために行
なう金稿層のエツチングには、特殊な酸か、アルカリが
必要であるため、処月−沿安＞ｉｉ性や公害上、労働衛
生上の問題があり、好１しくない。

−力、生「開明４７−１６１２４号、同５２−８９９１
６叶公報には高分子バインダー中に染料や顔不く１を混
合あるいは分散［７たマスクＩＩ？、Ｄヒに感光性杓１
１１Ｔ層令・設は乙方法が開示さり、でいる。

と−の方法に、Ｉると感光、啼ケ現像するに１丁、やは
りｌ持″１ｊミの；（Ｔ　ｔ＋ヤ溶６ｋｒやアルカリ否
−必卯とし、公害」二、労働衛生１−の間；）１口があ
り、好４しくない。

本発明者ら（１丁、−、Ｆ　６ｊ’ｈ問題点ないし不ｊ
）１≦合ケ解決−Ｉろべく、鋭斯研究ケ１ｈ−ねた結果
、オ〈発明？完成するに至りた。

本発明の目的は、Ａ・＼）Ｙ層に水軟什イイ１高分子什
合１勿を月１い、水で」混作１ｉｆ能であり、しかもｔ
１永黄す曽のＩＪＦ、　１ｌｌｈ　”７’Ｉｉ　ＩｉＪ
“ｉｒ：　ｉＸ：’）＜、（％　ｔｌ、　＊　皮１１７
．＊　Ｊ３成（ｊｔセにイｊ’ｔ、Ｙ−１そのｊ〃１１
りにｌｒｌ　　ビンホーｌυが少なく、面濃度で高コン
トラスｉの両ｆνが安定して得られる画像形成材Ｆ）　
ｈ：　１ｊＩＩ供−することにある。

かかる本づに町の［１的に、支持体上に、支持体に近い
４１＋１１から、（ａｌカ・−１色マスク層及び、（ｂ
）　Ｉ’分子中に少なくとも２つの１１′ｒ＠可能な不
ｆ？ｑ　；Ｊｌノ、（２イコするエチレン性不飽和什付
物、光ＴＩｔ台開始削及び水軟什性晶分Ｙ−化合物倉乱
冶−Ｊる感光層ケイ闇゛ン）ことを牛“ｒ像とする画像
形成相別にＪっ−Ｃ達Ｊ、ｖさｉ’ｒ　Ｚ、。

ル、−Ｔ−１本発［山１についでｉ１Ｔ＋し１：すン）
。

先ず、本発明の構成のう０、水＄什１／１茜つドｆ−什
台物について酬ｔＩ＋］する。

水軟化４ｆ＋茜分子什付物と［Ｊｌ　子のヤング率か水
のイｒイ＋−トで低−卜する化ｒイ物で、−ｆの／ｌＸ
ｌ、）１仁が相７・１醒度８０％（２５℃）で１．５％
へ・３０係−ｃ″ｋ）乙給分子什付物が６？才しい。

このヤング率ｕ　ｒ　Ｒｈｅｏｖｉｂｒｏｎ　（’Ｉ”
ｏｙｏ　ｌｌａｌｄｗｉｎ　Ｇｏ、　Ｌｔｄ、　ｆ　）
　ｊ　（／Ｊ　、Ｊ、つな市ＩＤＩ　ルＥ　＃；’で測
定できる。−±に水分率は例え１丁［（１マ・１と７に
分ハンドブック（高分子学会編、几立出版１　！１６８
　）　Ｊに記載の各梱フｊ法で測定でき２．。

このような旨分子化介′吻の例と１．でＶｌ、エチルセ
ルロース、エチルセルロース、エチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、カルボギシメチルセルロース
、シアノエナルセルＩＪ−ス、セルロースアセテート、
セルローストリアセフ−１、セルロースアセテートブチ
レート、セルロースアセテ−］フタレート、ヒドロキシ
プロピルメチルセルロースフタレート、ヒドロキシグロ
ビルメテルセルｒ】−スヘキサヒドロフクレート、ホリ
アクリル酸エステル、ポリメメクリル酸エステル、ポリ
ビニルブテラーノυ、ポリメチルど二／Ｌ、ケトン、ナ
イロン６６、ポリアミド、ポリビニルメトギシア士ター
ル、ポリ酢７’ｌ；ビニル、エポキシｉ＋月ｈ、ポリウ
レタン宿がある。

上記十ル「１−ス誘導体におけるｓ、ｃ、（５ｕｂｓｔ
Ｌ−一１ハ汁、ｅｒｌ、　　　　　ｃｔｙｎｆ：ｅ−ｎ
イザ　　　　　　　）、　　Ｄ、Ｓ、　　　（ｔ１６２
ト／？ｅｒ２−　　０４−ｇｂ、ｘＬｒ、私ｙｌ、−’
ｂｏ看　）　は４１１述した水飲イヒ件の定義のａ・）
ｉ囲に１？いて決めらねる。

この他に、側鎖にカルボキシ基ケ有する付加重付１１例
えｉｆメタクリル酸共重脅体、アクリル酸Ｊ（重合体、
１タコン酪・共重合体、部分エステル化マレイン酸共重
合体、マレイン酸共重合体、クロトン酸！（重合体等が
ある。

（１１１１１４４ｐ（ｚｌ酸基、カルバモイル基、ジメ
チルアミノ部を４４−、Ｆる附加重合体も同様に月１い
られ、例えはビニルアルコール共■ｆ脅体、ビニル了り
一／Ｌア／Ｌ、　コ−ＪＬ　共重合体、メ５１ノンジエ
’／ルマｔｙ　；ｆ、　−１共重付体（還元物）、Ｊ＋
＋ｑ水−フレ１ン酸１（重合体（還元物）、アクリル了
ミドＪいｊ「イ（体、メタクリルアミド共′申合体、Ｎ
、Ｎ−ジメチルっ′ミノメナルメメクリレートＪｆ７＃
Ｔ合体、Ｎ、Ｎ−ジメシルアζ゛）工ナル了クリレート
共重合１４：、Ｎ、Ｎ−ジメプルーｒミノエテルメタク
リレート共？ｆＩ付体等があす、この他にビニルピロリ
ドン共１１台体等も４１月１であＺ）。

−ヒ計１用重合体に卦けるカルボキシ基、水酸リメ、カ
ルバモイル基、ジメチルアミ７１１０モル１１淳け、そ
の他の共重合体成分の禎力′Ｊによって異なり、＾１７
述した水軟化ｔ１の定義の範囲によ？いて決められる。

かかるへ１分−Ｆ化付物ＩＩ、単独もしくｉ１２ゎハ以
十彷用して使用さ′ｉ′する。

本発明の１分子中にｌＬ−なくとも２つの１８４ｆＦｉ
１ｆ化な不飽和基ケイ］するエチレン性不飽和化イ１を
吻と［２てば、多価アルコールのアクリル酸エスヶｌｂ
　Ｍ　Ｕメメクリル酸エステルが適当であり、：［ザレ
ングリコ・−ル、トリエチレングリコール、テト９エナ
レンゲリコール、プロピレンクリコール、ト＋Ｊｙｔ　
　　　’−Ｊロールプロパン、ペンタエリスリト−ル、
ネオペンチルグリコール舌のアクリル酸、メタアクリル
酸エステルＹ例として挙げ得る。

ビスフェノールＡから食付誘導されたアクリルＣ１ベ　
メタアクリル酸エステル例えばビスフェノールＡ−工ビ
クｒ］ルヒドリン系エポキシ拉１脂プレポリマーとアク
リル酸あるいはメタアクリル酸トの反応生成物、ビスフ
ェノールＡのアルキレンオキシド付加杯あるいはその水
素添加物のアクリル酸、メタアクリル酸エステル等も使
用し得る。

Ｃ，ノ１．らのエステル系とは別にメチレンビスアクリ
ルアミド、メチレンビスメタアクリルアミド並びにエチ
レンジアミン、プロピレンジアミン、ブナレンジアミン
、ペンタメチレンジアミン等のジアミンのビス了りリル
〜士たけビスメタアクリルアミドも右列４−ｒ凌ンる。

゛マタ、ジオールモノアクリレートもしくはジオールモ
ノメタアクリレートとジイソシアネートとの反応化！戊
物、トリアクリル示ルマールーまｆｃはトリアリルシア
ヌレート等も適シている。

これらのモノマー件化合物とけ別に、（ｌ’ｌｌｌ　’
ｊ！′Ｉに°γクリロイルオギシ基、メタアクリロ１ル
オキシ基全含む線状高分子イし金物、例λはグリシジ／
Ｌメタアクリレートの開環共重合物、ダリシジＪｋメタ
アクリレ−１のビニル共重合物のアクリル酸、メタクリ
ル酸付加反応物等も使用ａＪ能である。

光感度の簡においてペンタジェンＩＪ）−ルテトラアク
リレ−１およびトリメナロールブロノ（ントリアクリレ
ートが竹に好′ましいモノマーで、使用可能である。

本発明に用いられる光ｉｌｒ合開始削としては、エチレ
ン性不飽１゛（１化合物と併用するのに有効な一般に公
知のもので、次の化付物が含まれるがこれに限定される
ものではない。

具体例としては、アシロ１ン：ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエー
テル等のアシロ１ン誘導体；臭化デシル、塩化デシル、
デシル了ミン等；ベンゾフェノン、アセトフェノン、ペ
ンジルνよびベンゾ　７− イルシクＩＪブタノン等のケトン：ミヒラーのケトン、
ジエ［キシアセトフェノン、および）ｈロゲン化アセを
−及びベンゾフェノン等の置換ベンゾフェノン：チオキ
サントン、クロルチオキサントン、イソプロピルチオキ
サン１ン、メチルチオキサンｌンぐトのチオギサン［ン
誘導体、キノン及びペンゾギノン、アン１ラギノンとフ
エナンルンキノンの」、うな多核環式キノン；クロルア
ンＩラキノン、メチル了ントラキノン、オクメメテルア
ントラキノン、ナフトキノン、ジクロナフトキノン等の
置換多核環式キノン：）為ロゲン化脂肪族、脂環族及び
芳香Ｉβミ腹什水累及びそれらの混合物などで、（ｊｉ
ｌ、、ハロゲンは塩素、臭素、弗素、沃１であり、Ｎ　
えｒ、、ｒモノ−及びポリクロロベンゼン、モノ及びポ
リブロモベンゼン、モノー及ヒボリクロロギシレン、モ
ノ−及びポリブロモキシレン、ジクロロ無水マレイン２
．１−　（クロロ−２−メチル）ナフタレン、２．４−
ジメチルベンゼン塩イヒモルホニル、１−プロ１÷−３
−（ｍ−フェノキシフェノキシ）ベンゼン、２−プロモ
ノナルメチルエーテル、−９−へ− ８− 無水クロレンゲイン酎及びその対応エステル、１１に化
クロロメチルナフチル、クロロメチルナフタレン、ブロ
モメチルフェナントレン、ショートメチルアントラセン
、ヘキサクロロシクロペンタジェン、ヘキサクロロベン
ゼン、オクロクロロシクロペンテン及びそれらの化合物
、ロフィン二針体、及びＮ−メチル−２−ベンゾイルメ
チレン−β−ナフトチアゾール、Ｎ−エテル−２−（２
−デノイル）メチレン−β−ナフトチアゾールＫ（ｔ＆
これる〜素環化合物がある。

本発明の水軟化性高分子化合物からなる光ＴＩｒＩｒ光
感光層組成物添加物として所望により、熱重合禁止剤、
可塑剤、す？、像ｆ１へ進＾１１及び接着ｆｌｌ改良外
どの各種添加削倉含有させることができる。

更に、熱重合禁１Ｆ削の具体例−一シては、例えばバラ
メトキシフェノール、ヒドロキノン、アルキルもしくに
アリール置換ヒドロキノン、Ｌ−ブチルカテコール、ヒ
ロガロール、ｆＭ什Ｕ　Ｉ　ｆＭ、７　ｆｆ−ノテアジ
ン、フロラニール、ナフグールアミン、β−す７Ｆ−ル
、２，６−ジーｔ−ブナルー■）−クレー　１　〇　− ゾール、ピリジン、ニトロベンゼン、ジニトロベ　　”
ンゼン、ｐ−Ｆル１ジン、メチレンブルー、有機酸銅（
セ・１１えｉｆ酢酸釘９１など）などがある。

１１塑削としては、ジメチｌし７タレート、ジエチルフ
タレート、ジブチルフタレート、ジイソブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、オクチルカプリルツクレー
ト、ジシクロへキシルフクレー１、ジオクチルフタレー
ト、プチルベンジルフタレ〜ト、ジイソデシルフタレー
［、ジアリール７メレー１・などの７タル酸エステル類
、ジメチルグリコール７タレート、エチルフタリルエナ
ルグ！ＪコＬ’−）、メチル７クリルエチルクリコレー
ト、ブナルフタリルプチルグリコレート、トリエチレン
クリコールシカノリルｌジエステルなどのグリコールエ
ステル類、１リクレジル７第２７１ｍ、−）、１リフェ
ニル７オスフェートｆｔ、トのリン酸エステル類、ジイ
ソブチルアジベート、ジオクチルアジペート、ジメチル
セバケート、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレー
ト、ジブチルマレートなどの脂肪族二ｌｆｊ　Ｌ　Ｈエ
ステル類、クエン酸トリエナル、グリセリントリアセプ
ルエステル、ラウリン酸ブチルなどがある。

本発明の水軟化性高分子化合物から庁Ｚ、感光層に用い
るエグーレン性不飽和什０物の添加−ｆｉｔ　幻、光１
合感光層組成物中、２０〜７　（］　’Ｔｌｊ附係、Ｉ
ｒ甘しくけ２５〜５０　＠方；采Ｔある。す１に、光７
１ｉイＩ）１始削伶加１）は、エチレン（？ｌ−不飽和
化伯物に刻１−７て約０．１重ｉｉ’１〜約３０　Ｍｒ
却％　、Ｉｒ−６しくｒｆ−Ｆｒ　（１゜５７ｊｉ’＋
１Ｈ％〜約２０１「荀チの範囲である。１１に、熱重合
禁止剤のね加番才１１、光重付性組成物］　００１１’
ｆ　Ｌｉ部に文１して０．００１〜５’［ｒｊ’；部が
望剪しい。なお、感光Ｍ＋の１挨厚として幻、０．１　
ｊｌｌｌｌ　〜７　μｍＸｔｊｒ　ｔ　ｌ／＜　ｉｊ　
Ｏ，５ＡｌｌＴｌ　〜４　ｐｍ　　がよい。

仄に不発明のネ色マスク層について膜中１する１）この
着色マスク層の機能は、ｆｌｅｅ光漕が１６　Ｍ’　Ｋ
より溶解除去された領域で同一のｎ′４媒により溶解除
去あるい１Ｊ擦シ除去されて着色１ｉｊｉｉ　＠　ｈ：
形成する層となっている。該着色画像形成層り着色間と
しての染料、顔料が結合剤中に分散、混合あるいは溶解
して形成されておシ、染′４’ｌは紫外線吸収削その他
の染料（暦１？ｉｊ昭４７−１６１２４号公報に記９の
もの等）、及び顔料は４１機顔料、無機顔料（顔料便覧
：］−１本顔別技術協会編及び上記１ｊ’ｒｉ許にＣピ
ｄＩのもの竹）から適宜選択して用いられ３゜本発明の
画像形成材ｔ１ケ平版印刷用原稿としてＩｌ＋いるｊＪ
／’１合には、特にカーボンブラックケ着色Ｐｉｌｉと
して１月いるのがＩｒ　４しい。これはカーボンフ゛ラ
ックσ）カバリングパワーが高いので、同−濃度全Ｔ！
Ｉるための１１０厚が薄く出来、画像再現性が良好であ
ることによる。

本発明の帽色マスク層に用いる結合剤としてけ棟々の高
分子結着へ１１が用いられるが、水溶性またを二重水軟
化４ノ（高分子化合物であればいずれも用いることがで
きる。水溶性高分子化合物としては、例えはカゼイン、
アルブミン、ゼラチン、アラビアガム昏の天然性高分子
（Ｌ合物、例えばメチルセルｏ−ｘ、ｉＪルホキシメチ
ルセルロース、とドロキシエチルセルロース、ヒドロキ
シグロビルメテルセルロースなどの水溶性セルロースエ
ーテル、例えＬ丁ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、
ポリアクリルアミド′、ポリどニルピロリドン、ポリソ
ジウムーＬ−ダルタメート、水ｍ＋Ｕ：＝＋ζリビニル
プテラール、ポリビニルアルコール、ビニルアルコール
とマレイン酸との共＊合体、ビニルアルコールとアクリ
ルアミド共重合体、ビニルピロリドンと酢酸ビニルとの
共重合体、（メメ）アクリル酸エステルと（メメ）アク
リル酸の共重合体、アシル化セラチン（例えばフタル化
ゼラチン、マレイン化ゼラチン）の合成水溶性高分子化
付物が含壕ノ１、これらは単独もしくけ２棟以十併用し
て使用さｆする。

水軟化性高分子化合物の例としてはメチルセルロース、
ゴチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、シアノエ
チルセルロース、セルロースアセテート、セルロースト
リアセテート、セルｏ　　ｘアセテートフチレート、セ
ルロースアセテートツメレート、ヒドロキシグロビルメ
チルセルロース７タレー［、ヒドロキシグロビルメチル
セルロースへキサヒドロ７タレー）、ボ！Ｊアクリル酸
エステル、ポリメメクリル酸エステル、ポリビニルブチ
ラール、ポリメチルビニルケＦン、ナ１０ン６６、ポリ
アミド、ポリビニルメトキシアセクール、ポリ酢酸ビニ
ル、エポキシ樹脂、ボリウレクン等がある。

この他に、ｉ”Ｉ釦にカルボキシ基を不する附加重合体
、例えはメタクリル酸共重会体、アクリル酸共Ｔｌｒ付
体、１クコン酸共重合体、部分エステル化マレ１ン醍共
重合体、マレイン酸共市付体、クロトン酸共１ｆｒ合体
等がある。

側鎖に水酸基、カルバモイル基、ジメチルアミノ基をイ
１′する附加１「合体も同様に用いられ７、例えｋｌ’
ビニルアルコール共重合体、ビニルアリ−ルア／１．　
Ｊ−ル共市侶体、メチレンジエテルマロネーＦ共重合体
（還元物）、無水マレ１ン酸共′７Ｆ＠体（還元物）、
アクリルアミド共重合体、メタクリルアミド共重合体、
ＮｌＮ−ジメチルアミノメチルメタクリレート共重合体
、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート共重付体
、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート共重合
体等がある。

この他にビニルピロリドン共重合体４Ｄも有用である。

上記共重合体におけるカルボキシ基、水Ｃψ基、カルバ
モイル基、ジメチルアミノ基のモル比率は、その他の共
７′Ｊｆ分体成分の神類によって異なり、前述した水軟
化性の定義の範囲に釦いで決められる。

かかる高分子化合物は１１ｉｂもしく６脂神以上イノ１
用して使用される。

本発明に用いるマスク層の惰色へ１）／結合剤のＩＬ率
は、目橋とする光学８度とマスク層の水に対する除去性
？考慮して同梨省に公知の方法により定めることができ
る。

本発明のマスク層及び水吠（ＩＪｊ・高分子４Ｌ封物か
らなる感光層ケ塗設させる支持体としては、紙、ブラス
チツ／ｙ（９！ｌえばボリエナレン、ポリプロピレン、
ポリスチレンりがラミネートされた紙、透明プラスチッ
ク支持体、例えｒＩ′酢酸セ／１．０−ス、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリノロピレン、ポリスチレン、塩
化ビニリデン昏が用いられる。

史に、マスク層の接着性改良の／ｒめに、十山鳩を設け
ても良い。下塗層として適当な合成樹ＪＩＥ−＋として
は、アクリル酸エステル１．１脂、塩化ビニリデン松Ｊ
ＩＥｆ　ＸＩｉ化ビニリデンーア〃リロニトリルーイタ
コン酸共重合樹脂、１π化ビニル−酢酸ビニル−無水マ
レイン酸１；、−ｄｒ台並１脂、ア〃リル酸了ミド又は
メタクリル酸アミド誘導体とアクリル酸又はメタクリル
酸のアルキルエステル、脂肪酸ビニルエステル、ブチレ
ン又はアクリロニトリルとの共重合樹脂、フタル酸又は
イソフメル酸トダリコール類とのコポリエステル樹脂、
グリシジルアクリレ−）又はグリシジルメタカリレート
の重合体又は共重合体などかあυ、またゼラチンも下塗
層成分として有効である。

壬塗層會形成するための成分は上記の他にも多数の合成
樹脂が知られておシ、又、塗布浴の調整力法や塗布方法
については、本発明が幽する写真４Ｓ４料製造工業界で
は周知の技術なので適宜それら會応ｆ１１することがで
きる。一般には上述したごとき合成樹脂を水または有機
溶媒によって溶液となし、これ會ギーザー塗布、ロール
塗布、エアーナイフ塗布、スプレー塗布などの塗布方法
によって支持体上に塗布する。

本発明のｉｉ！ｉｉ像形成材利の製造法全具体的に示す
と、一般には、マスクツ鯖結着削、感光ＪＷＩ仁１アセ
トン、メタノール、エタノール、メチルエグ−ルケトン
、メチル１ツブチルケトン、２４口ヘキサノン、β−ヒ
ドロキシエチルメチルエーテル（メチルセロソルブ）、
β−アセトキシエチルメチルエーテル、メチルセロソル
ブアセテート、ジメナルホルムアミド、ヘキザメチルホ
スホンアミド、テトラヒドロ７ラン、クロルベンゼン、
トリエチレングリコールなどの溶好に可溶＋ｉである。

ナこで土Ｖの溶媒（単独溶媒又は２［以上のイＡ機Ｐ４
媒會含む混合浴Ｉｓ）から適当なものを選択し、この中
に溶解せしめて塗布液全調整する。

このようにして調整これる塗布液打１１　位来から公知
の各棟の塗４ｔＪ技術に適用きれるようなＲ’ｉ度に調
整される。

塗布液は公知のホラ１ラー塗布、デ１ツフ塗布、カーテ
ン塗布、ロール塗布、スプレー’ｆｆＩ布、エア−ナイ
フ塗布、ド〃クーナイフ塗布々どの塗布方法のうちから
選択された方法によって、透明支持体上に塗布ジれる。

不発り）の効果について述べると、本発明の画像形成材
料１ヶ用いる画像形成力法は、上記のように作ら′１″
１だ画像形成相オ」全、まず活性光線で像露光する。光
源とじてにｊ二、例えばセ（高圧水銀灯、タングスデン
ランプ、水銀灯、キセノンランプ、ＣＲＴ光源、１／−
ザー光源など各種の光源が用いられる。

紫乞わトＩ等活（ａ・光線で像露光芒九た感うｖ４層で
は、バー１１ｒ付による架橋反応が進行して、承に対し
て不溶化する。

光照射面は接着価（ヒネれているので、露光後の１ＩＩ
ｌｌ像形成相ネ」は水中に浸漬し、水胡５ｆ埃した場合
、ｉｉｆ＋ｉ像未絽薯」１５り容易に、軽くラビング・
擦９現像される。このとき、感光層の未露光部とその部
分に当る一トｊ−のマスク層が除去てれ、ポジーネガの
フィルム１ＩｔＩｌ像が形成される。

以−トに本発明の実殉例ケ記すが、本発明の吹癲　１９
− 態様はノン二Ｆの記数に限定づｈるもので１，１なし。

実にロケ１ 埋さ１００　ｎｍのポリエチレンプレフタレート７４　
Ａ　ムノ片？ｎｌ　Ｋ、下ｎｌ’Ｊｌｉ成］４Ｎ　＋’
４　？ｆｋ　ｋ　幹、検体の弾厚が１μｍになるように
塗布し乾燥’ＩＮ／め−（着色マスク層に一形成し７に
−０ （ａ）　　着色マスク層 この着色マスク層十に一ト８１１オ欠−９１の感光層Ａ
１比４［！２感光液Ｂ、Ｃを乾燥Ｖ・の喚厚が１μｍに
なるように塗布し、画像形成材料Ａ２口、Ｃを得た。

（ｂ）（感光液Ａ） （感光液Ｂ） （感光液Ｃ） 上記３種類の画像形成材料の各試＊：１分網点ポジ原稿
（３％〜９７％、　１５０１ｉｎｅｓ／１ｎｃｂ）と重
ね付わせて各々メタルハライドア１１・′ルフィン２０
００［岩崎電気■製〕で８０ｒＩｎの距離かＣ）４５秒
間露光し、次に３０℃の水中に１分間ｌｖ涜し、スポン
ジでｌｌ１ｆ＜擦すって現像した−８かくしで得られた
ネガ黒色マスクフィルムの画像特性をＡ、］１、Ｃの３
種類について比較すると、）１表１にｈくす結果が得ら
れた。

表　　　１ 表１から明らかなように、本発明に係る画像形成材料に
、水現像可能で、きわめてレジスト性の良好な優れた性
能１に廟することがわかる。

ＴＫｌｉ例２ 基ｌ殉例１と同様のイ）色マスク層上に、下記の不発ｕ
Ｊ＋感光沿で塗布乾燥後の膜厚が１．５ｚｒｍになるよ
うに被査、塗布しに０ 上記画像形成４Ａ料ケボジ原稿とＭｌね会わせてメタル
ハライドアイドルフィン２０００　Ｃ昭崎１ｆ＞気Ｇａ
ｊｖ　〕Ｔ　８０　ｃｎ＋の距に１［から２０秒間にに
′光し、次に３０℃の水中に３０秒間浸漬し、スポンジ
で軽く擦ずって現像した。得られたネガ黒色マスク画像
の紫ダ１線による散光酔度は３．５以十あシ、きわめで
解明な１ｌｊｉｉ像であった。

実殉例３ コロナ放電処ア１ジした厚さ１００μＩｎのボリエリレ
ンテレフタレートフイルムの片？１１１１／Ｃ”Ｉ・ｔ
４１１の組成の被１液を乾燥後の膜厚が１．０μｍＨに
なる。ｔうに塗布し乾燥せしめて着色マスク層？形成し
７だ。

矢に、この着色マス力層十に］・記の本発明感光液組成
で塗布乾燥後の膜ｊすが１．５μｍに力るように被覆し
た。

２３− 上記、ｊ！！ｉ像形成４ｔ　ｕ）？実％ｉ４例２と同様
に露光現像１．／ｃところ、ピンホールのきわめて少な
い黒点マスク画像が侍らｆ′１、表面のスリキズに７１
する耐久（’Ｊ：　ＦＪきわめて良好であった。

／＋４１．ｆｌ−出願人　　小西六写真、工業株式会社
代理人　弁理士　　坂　口　　信　昭 （ほか１名） ２５− ２４− 手続補正１１Ｆ（自発） １１〆（和５７で１１０月　７１１ 特許庁長官乙−杉和夫　殿 １′ｊ１イ′１の表示 昭和　５６　イ［特　　　、γ１゛　願　２イｉ　　］
１９３３２１ｊ２、　発明の名称　　ＩＦＩｌｉ像１１
づ成４Ａオ゛［３補正をする渚 」１イ１１との関係　　特ｙｒｏ＋願人４　代　　理　
　人　　〒１．０５ 住　所　　東票都ｒ（を区虎〕門２　、Ｊ−’　Ｉｆ　
４５　Ｈ”ｉ　］　（１１３後藤ビル４１９．４７　　
巳５（１１−’１／１４４５　補正命令の１１付　自　
発 ６　補正により増加する発明の数 ７　補止の対象 明細書（詳細な説明の桐１） ８　補正の内容 別紙の通り 補正の内容 １　明細Ｕ）中筒４Ｆ１第１３行〜第１５行に「また水
分率は・・・・・・測定できる。」とあるを「高分子バ
インダーの水分率は、例えば温度２５°ｃ１相対湿＋（
：　８０％の環境に置かれた高分子バインダーを、１０
５°Ｃ，２時間の加熱処理した場合の１ｔｆｆｔ減量率
で表４つされる３、−１と補正する。

２　同第４負第１６行〜第５貴第３行および第１４伺第
１２行〜第１９行に［メチルセルロース・・・・・・メ
チルセルロースフタレ−１〜、」とあるのを、［メチル
セルロース（ｓ、　ｃ、　＝　３〜１０％）、エチルセ
ルロース（＋）、　Ｓ、　＝　０．５〜０．７．２，２
．３．３）　、ブチＪレセルロース、１ニドロギシェチ
ルセルロース（Ｓ、　Ｃ。

工り３０％、〉５５％）、カルボキシメチルセルロース
（Ｓ、Ｃ，二５〜１０％、ン３０％）、シアノエチルセ
ルロース（ｓ、　ｃ、　＝　Ｂ〜１２％、ン５０％）、
セルロースアセテ−ｈ（＋）・Ｓ、　＝　１．３〜１．
７，２，２．３）　、セルロースＩ−リアセテー１−、
セルロースアセテートブチレー１−、セルｌ’］−ヌア
セテー１〜フタレート、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロースフタレ−ト（メトキシル基＝１２〜３８Ｗ１％、
ヒト１７キシブｌ］ポキシル基＝２〜１５ｗｔ％、カル
ボギシベンゾイル、！１（＝１２〜５Ｑｗｔ％）、」と
補正する。

３　同第５頁第１０行〜第１３行に「Ｉ−記セルロース
・・・・・・・・決められる。」とあるを［−１−１冒
分子化合物のうち、セルロース誘導体以外の合成１’ｔ
６分子化合物についＣは、平均分子ｌｉｔ　１．．００
０〜１．０００００の範囲で選択される。−１と補正す
る。

４　同第６負第１３行および第１６自第５行〜第６行に
「決められる。」とあるを「決められ、平均分子量１，
００６〜１００，０００の範囲で選択される。」と補正
する。

５　第１５頁第５行の［レタン等がある。１の次に［上
記高分子化合物のうち、セルロース誘導体以外の合成高
分子化合物については、平均分子量１．０００〜１００
Ｊ］００の範囲で選択される。」を加入する。

６　同第１６貞第１０行に１０橋−１とあるを［１］標
］と補正する。

７　同第２０頁第１０行、国王から第３行および第２４
頁第８行に「フタリル基」とあるを「カルボキシベンゾ
イル話」と補正する。

以上 −３−−２３Ｃ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 支持体１−に、支持体に五い側から、（ａ）Ｘｔ色マス
   ク層おＪ：ひ、（ｂ）’＋分子中に少々くとも２つの重
   合可能な不飽和基（ｒ−有するエチレン性不飽和化合物
   、光１Ｆ付開始削及び水軟什↑′１．υ１分子化合物ケ
   含有する感光層全４１することケ特徴とする画像形成材
   料。