JPS5838290A - 新規セフエム化合物およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規セフェム化合物および七の塩類に関する
。さらに詳しくは、この発明は抗菌活性を有する新規セ
フェム化合物およびその塩類、それらの製造法、それら
を有効成分とする医薬組成物に関するものである。

すなわち、この発明の一つの目的は多くの病原菌に対し
て有効な、とシわけ経口投与用としての新規セフェム化
合物およびその塩類を提供することにある。

こＯ発明の別の目的は新規セフェム化合物およびその塩
類の製造法を提供すること＃ｃＩｈる。

この発明のもう一つの目的は前記の新規セフェム化合物
およびその塩類を有効成分として含有する医薬組成物を
提供することにある。

この発明の目的とするセフェム化合物は＃風化合物であ
シ、次の一般式α）で示すことができる。

〔式中　Ｒ１はカルボキシ（低級）アルキルまたは保護
されたカルボキシ（低級）アルキル、Ｒ２はカルボキシ
または保護されたカルボキシ、Ｒ３は水素または低級ア
ルキル　Ｒ４は低級アルキル、低級アルコキシ、アシル
オキシメチル、低級アルキルチオメチル、低級アルコ中
ジメチル、ハロゲン、低級アルケニルまたは水素をそれ
ぞれ意味する〕。

この発明に従って、新規セフェム化合物α）は下記反応
式で示される種々の製造法で製造される。　製造法１ （ＩＩ）　　　　　　、　（Ｉｌｌ） もしくはそのアンノ基に　　もしくはそのカルボキシお
ける反応性誘導体また　　基における反応性誘導体はそ
れらの塩類　　　　　　またはそれらの塩類製造法２ （Ｉａ） （Ｉｂ） またはその塩類 製造法６ （Ｉｃ） Ｉｃ＋ （□） またはその塩類 製造法４ （１，１） （ＩＱ） またはその塩類 〔式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ５，Ｒ４はそれぞれ前と同じ意
味でＴｏ！＋、〜は保護された力弗ポキシ（低級）アル
キル、へはカルボキシ（低級）アルキル、くけ保護され
たカルボキシ％Ｒ５Ｕ、弐ニー〇〇ＯＲ’なる基で示さ
れるエステル化されたカルボ今Ｖｏエステル部分をそれ
ぞれ意味する〕。

原料化合物（２）は新規化合物であシ、下記反応式で示
される製造法で製造することができる。

製造法ム 〜 （■マ）　　　　　　（Ｖ）’　　　　（ＩＩＩ）また
はその塩類　　またはその塩類　　またはその塩類製造
法Ｂ （マＩ）（Ｉｌｌａ） またはその塩類　　　　　　またはその塩類製造法Ｃ （夏ＩＩｂ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
（ＩＩＩ）またはその塩類　　　　　　またはその塩類
〔式中、Ｒ１は前と同じ意味であり、Ｒ６はカルボキシ
または保臘されたカルボキシ、Ｒ７は保護され九カルボ
中シをそれぞれ意味する〕。

この発明において、目的化合物（Ｉ）および（Ｉａ）〜
（ＩＩ）ならびにその他の化合物（２）、（臘）　、（
ＩＭｂ）および（ＶＩ）Ｋ一ついては、これらの化合物
１ｃ社すべて、シン異性体、アンチ異性体およびそれら
の混合物が含まれるものとする。さら禄、目的化合物（
ＤｅＣついては、そのシン異性体は式：〔式中、ＲＦｉ
前と同じ意味〕で示される基を有する一つの幾何異性体
を意味し、アンチ異性体は式： 〔式中、Ｒは前と同じ意味〕で示される基金有する他の
幾何異性体を意味する。

さらに他の化合物に′）ｈて４、それらのシンヤ異性体
およびアンチ異性体は、それぞれ目的化合物山と同様な
幾何学的立体配置くよって示されゐ非毒性塩であ〉、例
えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩およ
び、例えばカルシウム塩、！グネシウム塩等のアルカリ
土類金属塩Ｏような金属塩、アン電工りム塩、例えばト
リエチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩、
ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’−ジ
ベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩、または例
えばアルギニン、アスパツギン酸、グルタンン酸勢のア
ミノ酸との塩等がその例として挙げられる。

この明細書のｖＪ記記載ならびに以下の記載において、
この発明の範囲内に包含される種々の定義の適切な例と
説明と金以下詳細に述べる。

「低級」とは、４１ｖ−指示がなゆれｄ１炭素原子１〜
６個を意味する。

適当な「保護され九カルボ命シ」および［保護され九カ
ルボ中￥（低級）アルキル」の［保護され九カルボキ７
部分］にはエステル化されたカルボキシ等が含まれる。

前記エステル化され九カルボ中シのエステル部分および
、式：　−００ＯＲなる基によって示されるエステル化
されたカルボキクのエステル部分の適当な例としては、
少なくとも１個の適当な置換基を有していてもよい、例
えばメチルエステル、エチルエステル、プｏピルエステ
ル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、インブチ
ルエステル、第三級ブチルエステル、ペンチルエステル
、ヘキシルエステル、１−シクロプロピルエチルエステ
ル尋の低級アルキルエステル例えば、ア竜トキシメチル
エステル、プロピオニルオキシエチルエステル、プチリ
ルオ中シ）？ルエステル、バレリルオ中ジメチルエステ
ル、ピパロイルオキシメチルエステル、ヘキナノイルオ
キシメチルエステル１．１（ｔたは２）−アセト中ジエ
チルエステル、１（ｔたａ２を九は３）−アセト午ジプ
ロピルエステル、１（ま九ａ２を九はＳまた社４）−ア
セトキシブチル工ｘｆ＊、１　（ｔ＊ａ２　）−プロピ
オニルオキシエチルエステル、１（または２１九は５）
−グロビオニルオキシグロビルエステル、ｔ（を九社２
）−プチリルオ中ジエチルエステル、１（鷹た往２）−
イソブチリルオキシメチルエステル、ｔ（を九１ｉ２）
−に’パロイルオ中ジエチルエステル、Ｄｔ九は２）−
ヘキナノイへオキクエチルエステル、イソブチリルオキ
シメチルエステル、２−エチルブチリルオキシメチルエ
ステル、６．５−ジメチルブチリルオキシメチルエステ
ル、１（または２）−ペンタノイルオキシエチルエステ
ル等の低級アルカノイルオキク（低級）アルキルエステ
ル、例えば２−メシルエチルエステル等の低級アルカン
スルホニル（低級）アルキルエステル、例工ば２−ヨー
ドエチルエステル、　２．２．２−ト’）Ｉロロエチル
エステル等のモノ（ま九はジを九はトリ）−ハロ（低級
）アルキルエステル、例えばエトキシカルボニルオキシ
エチルエステル、エトキシカルボニルオキシメチルエス
テル、２−メトキシカルボニルオキシエチルエステル、
１−エトキシカルボニルオキシエチルエステル、１−イ
ングロポ中シカルボニルオ中ジエチルエステル等の低級
アルコキシカルＪ１％（低級）アルキルエステル、フタ
リジリデン（低級）アルキルエステル、または例えば（
５−メチル−２−オキソ−１，５−ジオキソ−ルー４−
イル）メチルエステル、（５−エチ１ｓＩ−２−オキソ
ー１．５−ジオキン−ルー４−イル）メチルエステル、
（５−ブロビル−２−オキソ−１，５−ジオキソ−ルー
４−イル）エチルエステル等の（ｓ−低１ｉｋアル中ル
ー２−オキソ−１，３−ジオキン−ルー４−イル）（１
ｊｔＭ）アルキルエステル；例えばビニルエステル、ア
リルエステル等の低級アルケニルエステル： 例エバエチニルエステル、フロビニルエステル等ａｉｍ
アルキニルエステル； 少なくとも１個の適当な置換基を有していてもよい、例
えばモノ（ｔた性ジま九はトリ）フエ二４１級）アルキ
ルエステル等のアル（低級）アルキルエステル、例えば
ベンジルエステル、４−、ｙｌ）キシベンジルエステル
、４−ニトロベンシルエステル、７エネチルエステル、
）！１ルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビス（メ
ト中シ７工＝ル）メチルエステル、翫４−ジメトヤシベ
ンジルエステル、４−ヒドロキシ−３゜５−シー１１Ｎ
三Ｍｋフｆルベンジルエステル勢；少なくと４１個Ｑｊ
Ｉ当な置換基を有していてもよいアリールエステル例え
ば、フェニルエステ’ｓ　４−り’ロフェニルエステル
、トリルエステル、第三級ブチルフェニルエステル、キ
シリルエステル、メシチルニスデル、クメニルエステル
吟が挙げられる。

上記のエステル化されたカルボキシの好ましイ％ｌには
、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プ
ロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、インブトキシカルボニル、第三級ブト
キシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、第三級ペ
ンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルｌニル、
１−￥／ｐ７’ロピルエトキシヵルボニル等の低級アル
コキシカルボニル、例えばアセトキクメトキシカルボニ
ル、ピバロイルオキシメトキシカルボニル、ヘキナノイ
ルオキシメトキシカルボニル、１（ｔたＵ２）−プロピ
オニルオキシエトキシカルｌニル等の低級アルカノイル
に’Ｐ’ｙ　（低Ｍ　）アルコキシカルボニル、例えば
メトキシカルボニルオキシメトキシカルボニル、１−メ
トキシカルボニルオキシメトキシカルボニル、１−イソ
グロボキシカルボニルオキシエトキシカルボニル勢の低
級アルコキシカルボニルオキシ（低１１ｔ）アルコキシ
カルボニル、例えば（５−メチル−２−オキノー１．６
−ジオキソ−ルー４−イル）エトキシカルボニル等の（
５−低級アルキルー２−オキソ−１，６−シオキノール
ー４−イル）（低級）アルコキシカルボニル、少なくと
４１個の置換基を有していてもよい、例えばモノ（を九
はジまたはトリ）フェニル＜低ａ＞アルコキシカルボニ
ル等０アル（ａＵＳ＞アルコキシカルボニル例えハ、ベ
ンジルオキシカルボニル、４−メト中Ｖベンジルオキシ
カルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルｌニル、フ
エ本チルオキシカルボニル、トリテルオ中ジカルボニル
、ペンズヒドリルオキシカルホニル等が含まれる。

適当な「低級アルキル」ならびに「カルホキＶ（低Ｍ）
７＊中ル」、「保Ｉｌされたカルボキシ（低級）アルキ
ル」および［低級アルキルチオメチル」の−級アル中ル
部分」としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、第三級ブチル、ペンチル、ヘキシル等が
その例として挙げられるが、好ましくは縦索原子１〜４
個を有するアルキルである。

適当な「低級アルコキシ」および「低級アルコキシメチ
ル」の−級アルコキシ婦分ＪＵ、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、イノグロボヤ７、プトキ／、第三級ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられるが
、好ましくは縦木原子１〜４個のアルコΦ７である。

「アフルオキ７メチル」の適当な「アシル」としてはＭ
ｌ肪族アシル基、および芳香濃ま九は複素ｓ１−含むア
シル基が挙げられる。前記アシルの適当な例は、例えば
ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブ
チリル、バレリル、インバレリル、ピバロイル等の低級
アルカノイル、好ましく紘炭嵩原子１〜４個を有する低
級アルカノイル； 例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、１−シクロプロピルエト中シカルメ
ニル、イソプロポキシカルボニル、メトキシカルボニル
、第三級ブトキシカルｌニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、第三級べ／チルオ中シカルゲニル、へ中シルオキジ
カルボニル等の低級アルコキシカルボニル；例エバメタ
ル、エタンスルホニル、プロパンスルホニル、イソプロ
パンスルホニル、ブタンスルホニル＊ｏ低級アルカンス
ルホニル；Ｎ、ｔばベンインスルホニル、トシル等のア
レンスルホニル量 ｆ４Ｌばベンゾイル、トルオイル、ナフトイル、７タロ
イル、インダンカルボニル等のアロイル７例エバフェニ
ルアセチル、フェニルプロピオニル勢のアル（低級）ア
ルカノイル； 例えばベンジルオキシカルボニル、７エネチルオキシカ
ルＩニル等のアル（低級）アルコキシカルボニル等があ
る。

好ましい「アシル」としては、例えば、ホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、インバレリル、ピバロイル等の低級アルカノイル勢
である。

適当な「ハロゲン」の例は塩素、臭素、コー素また＃ｉ
−ｙツ嵩である。

適当な「低級アルケニル」にはビニル、１−プロベニル
、アリル、１ま九は２または３−ブテニル、１または２
または３ｔたは４−ペンテニル、＋または２または５１
九は４または５−へキセニル等、好運しく社員素原子２
〜４個のアルクニルが含まれる。

目的化合物ａ）における好ましい例は次のとおりである
。

Ｒの好ましい例はカルｌキシ（低ｉりアルキ＊　ｔ　ｋ
　ｋＡ　ｘ　ｘチル化されたカルボキシ（低ＩｊＩｋ）
アルキル〔さらに好ましくは低級アルコキシカルボニル
（低級）アルキル、またはモノ（ｔたはジまたはトリ）
フェニル（低級）アルコキシカルボニル（低級）アル＋
Ｓ）； Ｒ２の好ましい例はカルボキクまたはエステル化された
カルボキシ〔さらく好ましくはニドＱで置換されていて
もよｈモノ（ｔたはジま＆ｄ）！Ｊ）；ｙエニル（低ｉ
）アルコキクカルボニル、低級アルカノイルオキシ（低
級）アルコキクカルボニル、低級アルコ中ジカルボニル
オキシ（低ｉｔ）アルコ平ジカルボニル、または（５−
低級アルキル−２−オキノー１゜３−ジオキソ−ルー４
−イル）（低Ｍ）アルコキシカルボニル〕； Ｒ３の好ましい何社水素または低級アルキル（最も好ま
しくはメチル）； Ｒ４Ｏ好ましい例は低級アルキル（最も好ましくはメチ
ル）、低級アルコキシ（最屯好ましくはメトキシ）、低
級アルカノイルオキシメチル（最も好ましくはアセトキ
シメチル）、低級アルキルチオメチル（最も好ましくは
メチルチオメチル）、低級アルコキシメチル（最４好ま
しくはハ平ジメチル）、ハロゲン（最も好ましくは塩素
）、低級アルケニル（最も好ましくはビニル）ｔ７□は
水嵩である。

この発明の目的化合物の製造法を以下＃！１Ｉ１１ｃ説
明する。

製造法１： 目的化合物（Ｉ）またはその塩類は、化合物■もしくは
そのアミノ基における反応性誘導体またはそれらの塩類
を、化合物旬もしくはそのカルボキシ基における反応性
誘導体またはそれらの塩類と反応させることにより製造
することができる。

化合物（社）のアミノ基における適当な反応性誘導体と
しては、化合物（２）とアルデヒド、ケトン等のような
カルボニル化合物との反応によって得られるシック塩基
型イミノ基もしくはそのエナきン謔互変異性体；化合物
曲とビス（トリメチルシリル）アセトアンド、トリメチ
ルクリルアミド等のようなシリル化合物との反応によっ
て生成したシリル鱒導体；化合＊（社）と三塩化リンま
九はホスゲンとの反応にようて生成した誘導体等がその
例として挙げられる。

化合物■の適当な塩類としては、例えばナトリウム塩、
カリウム塩等のアルカリ金属塩および例えばカルシウム
塩、ｉグネシウム塩勢のアルカリ土類金属塩のような金
属塩、アンモニウム塩、例えばトリメチルアン／塩、ト
リエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、シンクロ
ヘキシルアイソ塩、Ｎ、トジベンジルエチレンジアζン
塩等の有機塩基塩、例えば酢酸塩、マレイン酸塩、酒石
酸塩、メタンスルホン酸塩、ペン（ンスルホン酸塩、ギ
峻塩、トルエンスルホ／酸塩等の有機酸塩、例えば塩峻
塩、臭化水素酸塩、硫峻塩、リン酸塩等の無犠鍛塩、を
友は、例えばアルギニン、アスパラギン酸、ダケタＺ）
陵等のアンノ酸との塩等がその例として挙げられる。

化合物（２）の適当な塩類としては、化合物（１）につ
いて例示し友ものと同じものを挙げることができる。

化合物（２）のカルボキシ基における適当な反応性誘導
体として杜、蒙ハライド、酸無水物、活性アずド、活性
エステル等が挙げられる。その好ましい例は峻塩化物；
駿アジド；例えばジアルキルリフ酸、７ｘニルリン駿、
）ｙエニルリ／酸、ジベンジルリン蒙、ハロゲン化リン
酸等の置換され九リン酸、ジアルキル亜りン峻、亜硫酸
、チオ硫酸、硫酸、アルキル炭酸、例えばピバリン酸、
ぺ／タン酸、インペンタン酸、２−エチル酪酸またはト
リクロロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、またハ、例えば安
息香酸等の芳香族カルボン酸のような酸との混合酸無水
物；対称型酸無水物；イミダゾール、４−置換イミダゾ
ール、ジメチルピラゾール、トリアゾール、またはテト
ラゾールとの活性アミド；または伺えばシアノメチルエ
ステル、メトキノメチルエステル、ジメチルインツメチ
ル（（ｃｎ、）２Ｔｉ＝ａｍ−）エステル、ビニルエス
テル、グロバルギルエステル、４−二トロフェニルエス
テル、２．４−ジニトロフェニルエステル、ト９りａａ
７エ二ルエルエステルンタクロロフェニルエステル、メ
シルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエステル
、フェニルチオエステル、４−ニトロフェニルチオエス
テル、４−クレジルチオエステル、カルボキシ、°チル
チオエステル、ビンニルエステル、ヒリシルエステル、
ヒヘリシルエステル、６−キツリルチオエステル等の活
性エステル、または例えばＮ、Ｍ−ジメチルヒドロキシ
ル１ンン、１−ヒドロキシ−２−（ＩＨ）−ピリドン、
ｙ−ヒト０中シスクシンインド、Ｎ−ヒドロキシ７タル
イミド、１−ヒドロキシ−６−りａｏ−ＩＨ−ベンゾト
リアゾール等ＯＮ−ヒドロ午シ化合物とのエステル等で
ある。

これらの反応性誘導体は、使用すべき化合物輔の種類に
よって、その中から任意に選択することができる。

反応は通常、水、ア竜トン、ジオ今ナン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフ２ン、酢酸エチル、１１、Ｎ−ジメチルホル
ムアンド、ピリジンのような慣用ＯＩＩ媒中で行なわれ
るが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他
のいかなる有機溶媒も使用することができる。これらの
慣用のｓｌｓは、また水と混合して使用してもよい。

化合物（２）が遊離酸または塩の形で反応に使用される
場合、反応を、Ｎ、ｌｌＩ’−ジシクロへ中ジルカルボ
シイ々ド；ｙ−シクロヘキシル−菫−モルホリノエチル
カルボジイミド；ｌ−シクロヘキシル−Ｎ’−（４−ジ
エチルアミノシクロへ中シル）カルルーＭ’−（３−ジ
メチルアミノプロピル）カルボジイミド；Ｍ、Ｎ−カル
ボニルビス−（２−メチルイミダゾール）；ペンタメチ
レンケテン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；ジフェニルケ
テン−Ｎ−シクロヘキシルイミン；エトヤシアセチレン
；１−７ｔｈコ中シー１−クロロエチレン１トリアルキ
ル亜リン酸；エチルポリリン酸；イソグロビルボリリン
酸；オ午シ塩化リン（塩化本スフオリル）；三塩化りン
；塩化チオニル；塩化オキナリル；トリフェニルホスフ
ィン；２−エチル−７−ヒドロ中シベンズインオ中すゾ
リウム塩；２−エチル−５−（＠　−スルホフェニル）
インオキサシリウムヒドロキサイド分子内塩：１　　（
ｐ−クロロベン（／スルホニルオキシ）　−６−／ロー
−１Ｈ−ベンゾトリアゾール；　Ｍ、　Ｎ−ジメチルホ
ルムアンドと塩化チオニル、ホスゲン、オ午シ塩化リン
等との反応によって調製したいわゆるビルスマイヤー試
薬等のような慣用の縮合剤の存在下に行なうことが望ま
しい。

反応はｔ九、炭酸水素アルカリ金属、トリ（低級）アル
中ルアンン、ピリジン、Ｎ−（低級）アルキルモルホリ
ン、Ｎ、Ｍ−ジ（低級）アルキルベンジルアミン等のよ
うな無機塩基または有機塩基の存在下に行なってもよい
。反応温度は特に限定されず、反応は通常冷却下または
室温において行なわれる。

製造法２： 目的化合物（Ｉｂ）またはその塩類は、化合物（Ｉａ）
　　また社その塩類をＲＨにおけるカルｌ中シ保膜基の
脱離反応に付すことによって製造することができる。

化合物（Ｉａ）’および（Ｉｂ）の適当な塩類としては
、化合物（Ｉ）について例示した塩類を挙げることがで
きる。

この反応は加水分解、還元等の慣用の方法に従って行な
うことができる。

保−基がエステルである場合には、保麟基は加水分解に
よって脱離することができる。

加水分解は塩基または酸の存在下に行なう仁とが望まし
い。適当な塩基として社、例えばナトリウム、カリウム
等のアルカリ金属、例えばマグネシウム、カルシウム婢
のアルカリ土類金属４しくけこれらの金属の水酸化物ま
たは炭酸塩または炭酸水素塩、例えばトリメチルアミン
、トリエチルアミン尋のトリアルキルアミン、ピコリン
、１．５−ジアザビシクロ（４，５，０）ノン−５−二
ン、１．４−ジアゾビシクロ（２，２，２）オクタン、
１．８−シアずビシクロ（５，４，０）クンデセン−７
等のような無機塩基および有機塩基が、その例として挙
けられる。適当な酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および、例えば
塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。トリ
フルオロ酢酸を用いる駿加水分解の場合には、通常アニ
ソールを加えて反応を促進する。

反応は通常、水、塩化メチレン、例えばメタノール、エ
タノール等のアルコールのような溶媒またはそれらの混
合物中で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒
であればその他のいかなる溶媒でも使用することができ
る。液状の塩基または液状の酸もｆＩＩＩ＆として使用
することができる。

反応温度は％に限定されず、反応社通常冷却下ないし加
温下の範囲で行なわれる。

１１元ハａ−ニトロベンジル、２−ヨードエチル、２、
２．２−　）リクロμエチル等のような保護基の脱離に
適用することが望ましい。

還元線化学的還元および接触還元を含む慣用の方法で行
なわれる。

化学的還元（使用される適当な還元剤は、例えばスズ、
亜鉛、鉄部Ｏ金属ま九は、例えば塩化クロム、酢酸クロ
ム勢の金属化合物と、例えばギ酸、酢酸、ブーピオン酸
、トリフルオロ酢酸、ｐ−）ルエンスルホン酸、塩酸、
臭化水素酸等の有機酸または無りｌ酸との組合わせであ
る。

接触還元に使用される適当な触媒は、例えば白金板、白
金ＮＭ、白金蝿、コロイド白金、酸化白金、白金Ｉｗｔ
の白金触媒、例えばノ（ラジウム海綿、パラジウム黒、
酸化パラジウム、Ｉ（ラジウム−炭素、コロイドパラジ
ウム、〕（〕ラジウムーａ酸／リウム、パラジウム−炭
酸ツリウム等の〕くラジウム触媒、例えば還元ニッケル
、酸化ニッケル、ラネーニッケル等のニッケル触媒、例
えば還元コノ（ルト、ラネーコバルト等のコバルト触媒
、例えば還元鉄、ラネー鉄等の鉄触媒、例えば還元鋼、
ラネー鋼、クルマン鋼等の銅触媒等のような慣用の触媒
である。

還元は過電、水、例えにメタノール、エタノール等のア
ルコール、Ｎ、トジメチルホルムアミト°、テトラヒド
ロフランもしくはこれらの混合物中で行なわれるが、反
応に悪影響を及ぼさない溶媒であれば、その他のいかな
る溶媒で４使用することができる。

さらに、化学的還元に使用される曲記酸が液体である場
合には、これらを溶媒として使用することもできる。

この還元反応の反応温度社特に限定されず、反応は通常
冷却下ないし加温下の範囲で行なわれる。

この発明においては　Ｒ２の保膳されたカルボキシ基が
こＯ反応の工程中４しくはこの反応の後処理工程中に遊
離カルぽキシ基に変化する場合ｔこの発−の範囲内に含
まれる。

脱離反応に付すことにより製造することができる。

化食物（Ｉｃ）および（ｌａ）の適当な塩類としては、
化合物（Ｉ）について例示したものと同じ塩類が挙げら
れる。

この脱離反応は前記製造法２Ｗ−準じて実施することが
できる。

製造＠４ 目的化合物（Ｉｓ）　ｔたはその塩類は、化合物（Ｉａ
）　ｔたはその塩類をエステル化反応に付すことによｐ
製造することができる。

化合物（１・）の適当な塩類としては、化合物（ＤＩｃ
ついて例示し丸ものと同じ塩ＩＩｍを挙げることができ
る。

この反応は化合物（Ｉａ）　ｔたはその塩類をエステル
化剤と反応させることによシ行なう仁とができる。

適当なエステル化剤としては、式：Ｘ−８５、〔式中、
Ｒ５は前と同じ意味であり、Ｘはヒドロキシまたはその
反応性誘導体を意味する〕で示される化合物が挙げられ
る。

Ｘのヒドロ午シの適当な反応性誘導体としては、前記ハ
ロゲン等のような酸残基が挙げられる。

この反応は通常、ジメチルホルムアミド、ピリジン、ヘ
キナメチルリン酸トリアミド、ジメチルスルホキシドの
ような溶媒中で行なわれるが、反応に悪影響を及ぼさな
い溶媒であればその他のいかなる溶媒も使用することが
できる。

化合物（Ｉｄ）を遊離酸の湖で使用する場合、反応を製
造法２で述べたような塩基の存在下に行なうことが望ま
しい。

反応温度は特に限定されないが、冷却下、室温または加
温下に反応を行なうことが望ましい。

目的化合物（Ｉ）が遊離カルボキシ基を有する場合、慣
用の方法によってその塩類に変化させることができる。

原料化合物の製造法を以下詳ＩＩＡに＠明する。

製造法人 化合物（２）またはその塩類は、化合物（ｎ）またはそ
の塩類を化合物（Ｔ）ｔた唸その塩類と反応させること
によシ製造することができる。

化合物（Ｎ）の適当な塩類としては、化合物（Ｉ）Ｅつ
いて例示したものと同じ塩類を挙げることができる。

化合物ｆｆ）の適当な塩類としては、化合物■について
例示しえものと同じ塩類を挙げることができる。

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール、１ｇ
パノール等のアルコール、ジオキナン、テトツＬドロ７
ラン等のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒を
九社それらの混合物中で行なわれる。反応温度ａｌｆ！
１Ｉｌｃ限定されず、通常冷却下ないし加熱下に反応が
行なわれる。

製造法Ｂ 化合物０１１ａ）またはその塩類は、化合物（Ｗ）ま九
はその塩類を脱ア電ノ反応に付すことにより製造するこ
とができる。

化合物α〕の適当な塩類としては、化合物■で例示した
ものと同じ塩類を挙げることができる。

化合物（Ｈｌａ）の適当な塩類としては、化合（１）に
ついて例示したものと同じ塩類を挙げることがで自る。

この反応は化合物ｌ）ｔたはその塩類を、例えば亜硝酸
ナトリウム、亜硝酸カリウム等の亜硝酸アルカリ金属、
または例えば亜硝酸第三級ブチル、亜硝酸イソペンチル
等の亜硝酸（低級）アルキルと反応させることによ〕行
なうことができる。

この反応は通常、ナト２ヒドロフラン、Ｍ、Ｎ−ジメデ
ルホルムアミド等のような反応に悪影響會及ばさない慣
用の溶媒中て行なわれる。

反応温度はＩＩ！ｉに限定されず、室温ないし溶媒の沸
点までの加熱の範囲で反応が行表われる。

製造法０ 化合物（２）またはその塩類は、化合物個ｂ）を九はそ
の塩類を　Ｒ７におけるカルボキシ保饅基の脱離反応に
付すことによ抄製造することができる。

この反応は前記製造法２の方法に準じて行なうことがで
きる。

この発明の目的化合物（１）およびその塩類は、優れた
抗菌作用を有する新規化合物であシ、ダラム陽性曹およ
びダラム隘性面を含む広範囲の病ｊ！ｌｆ＊の発育を阻
止し、抗生物質、Ｉｌ＃に経口投与用抗性物質として有
用である。この発明の目的化合物α）を丸線その塩類を
治療の目的で投与するにあ九りては、上記化合物を主成
分とし、これに医薬上許容される担体、例えば経口、非
経口を九は外用に適し九有機もしくは無機、固体もしく
は液体の賦形系を加え友製剤の形で使用できる。こ０よ
うな製剤としては、カブ七−１錠剤、顆粒剤、軟膏、層
剤、液剤、けんだ〈剤、乳剤等が含まれる。さらＥ、必
Ｉ＆に応じて前記製剤中に補助剤、安定触ａｆ１４剤、
乳化剤、緩衝剤、その他繁用される添加剤を含有させる
仁とができる。

化合物の投与量は患者の年令、状態、疾病の種類、シよ
び投与化合物α）の１１類によ）異なるが、１回の平均
投与量としては、この発明の目的化合物（Ｉ）約１０’
Ｌ　５０１１ｖ、　１００ｑ、　２５０ｑ。

５ｏｏｌＩｖおよび＋　０００ＩＩｖを、病原面による
疾病の治療のために投与することができる。一般に、１
日当ｎｌｑないし約６０００〜ｔたはそれ以上の量を投
与できる。

ζＯ発Ｉｊ１０目的化合物の有用Ｉ！１．を示すためζ
Ｑ発明の代表的な化合物の抗菌活性、尿中排泄および胆
汁中排泄を以下に示す。

（１）　　試験化合物 ７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−チア
ゾリル）アセトアミドツー３−セフェム−４−カルボン
酸（シン異性体）、（以下化合物■と略称する）。

（乃　試験 （４）最低発育阻止濃度 Ｑ）試験法 試験管内抗−活性を、下記０ｇｌ１天平板倍数希釈法に
よシ一定した。

トリグチケース・ソーイ・プロス（ＩＩｗｌｌｏ”／ｊ
）中で一夜培養した各種試験菌株の１白金耳を、各濃度
の代表試験化合物を含むハート響インフュージョン拳ア
ガー（Ｈ工寒天）ＩＣ接種し、３７℃で２０時間培養し
た後、最低発育阻止濃１１ｍ（ＭＩＣ）を厘鷹単位で測
定した。

■　試験結果 Ｍ工０　（用ｌ讐） （２）尿中排泄 ■　試験法 試験化合物１０（１＋ｖ／＃を経口投与し九ラットの口
ないし６時間および６ないし２４時間内の尿を採尿器を
用いて集めた。尿検体中の抗生物質濃度を、Ｍ／１５燐
酸緩Ｉｉｉ液により擬した標準液を用いてバイオアッセ
イによ１測定し、２４時間内の尿中回収量を計算した。

■　試験結果 （Ｑ　胆汁中排泄 ■　試験法 ベンドパルビタールで麻酔し九ラントを仰向けに固短し
、ボリエテレ／管１胆管に挿入した。試験化合＃ＩＩＪ
１００■／幻を経口投与し九後口ないしＳ％Ｓないし６
および６ないし２４時間内Ｏ胆汁検体會集めた。胆汁検
体中の抗生物質濃度を、Ｍ／１５燐酸緩衝液によシ製し
た標準液を用いて〕（イオアツセイにより極短し、２４
時間内の胆汁空回収量を醐定した。

■　試験結果 以下この発明を製造例および実施例に従ってａ明する。

製造例１ ２−第三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（
２−ホμムアミドテアゾーμ一番一イｌｖ）酢酸（シン
真性体）　（１５，ｏｒ）および濃塩酸（９，５ｆ）の
メタノ−／Ｌ／（７５ｉｕ）中温合物を室温で２．５時
間攪拌した。反応混合物に水（１００１７）を加え、こ
の溶液を水酸化ナトリウム１０％水溶液で攪拌下１ｃ　
ｐＨ３，０に調整した。沈ｗｋｉＦ取し、水およびジイ
ソプロピルエーテμで洗浄し、乾燥して、２−第三級ブ
トキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２−アンノテ
アゾー／Ｌ／−４−イＡ／）酢酸（シン異性体）　（１
２，′Ｉｆ）　ｔ−得た。

ＩＲ（ヌジョー／Ｗ　）　：　３３４０．１７４０．１
６３０　ｃｔｒＭＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ＠、　Ｊ）　：　
１．４３（９Ｈ，ｅ）、　４．５１　（ｇＨ，１１）、
　　６．’／フ　（３Ｈ，ａ）製造例２ ２−第三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（
＄１−ア建ノテアゾー！−４−イ／Ｌ／）酢酸（シン異
性体）　（１１，５Ｆ）のテトラヒドロ７ラン（Ａｏ、
Ｉ５　ｄ　ｌ中Ｍｌｌ液に亜硝酸第三級ブチμ（６，５
Ｐ）のナト２ヒドロフラン（３２，５１１４）溶液ｔ″
５０〜５７℃で攪拌下に滴下し、混合物ｔ−５０〜５５
℃で２０分間攪拌した。反応混合物を酢酸エテμと水と
の混合物中に注ぎ、溶液を１０％塩酸でｐＨ１，０に調
整した。分離した有機層に水（６０ｉｕ）ｉ加え、混合
物を４０％訳酸カリウム水溶液でｐＨ６，０に調整した
。分離した水溶液を酢酸エテ〜で洗浄し、１０％塩酸で
ｐＨ２，８に調整した。この酸性溶液を酢酸エチルで抽
出し、酢酸エチル層ｔ−ａ酸マグネシウムで乾燥して溶
Ｖ＆を留去した。残渣をジイソプロピルエーテル中で粉
砕して、２−第三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ
−２−（４−チアシリＡ／）酢酸（シン異性体）　（６
，１ｊ）　ｔ−得た。融点１４１℃（分解）。

ＩＲ（ヌジョーＡ／）　：　１７３０　（ＷＮＭＲ（Ｄ
ｍｓｏ−ａｓ、　Ｊ）　：　Ｌｉ２　（９Ｊｓ）ｌ’６
９　（２Ｈ。

ｓ）、　８．０８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ−２，０Ｈｚ）、　
９．２１　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝ｉ、０Ｈｚ） 製造例３ 亜硝酸イソペンテ／’　（５，９ｙｄ　）のテトラヒド
ロ７ラン（５０ＩＩ７）溶液を２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イＮ）−２−（ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルメトキシイミノ）酢酸（シン異性体）（１０，６ｔ
）のテトラヒドロ７う７　（１００３１４）中温合物に
５０〜５５℃で攪拌下に滴下し、混合物ｉ５５〜６０℃
で３０分間攪拌した。テトラヒドロ７ランを減圧下に留
去した。残渣を酢酸エテμと水との混合物に溶解し、混
合物ヲ脚酸カリウム２０％水溶液でｐＨ７，５にＮ整し
た。分離した水層を取シ、１０％塩酸でｐＨ２ＬＯＩＩ
Ｃ調整して酢酸エテμで抽出した。抽出層を塩化ナトリ
ウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し友
後、溶ｖ＆ｔ−留去して、２−（ベンズヒドリ〜オキシ
カμボニＮメトキシイ建））−２−（４−テアシリ／Ｉ
／）酢酸（シン異性体）　（４・９ｆ）　を得た。

ＩＲ（ヌジョー／Ｌ／）　：　１７３５備ＮＭＲ（ＤＭ
ＳＯ−ｄａ、　Ｊ）　：　４．９６　（２）１．ｓ）、
　６．９０　（ＩＨ，ｓ）、　　’７．１８−グ、５８
　　（ｌｏｇ、！＋１）、　　８．０３　　（ＬＨ。

ｄ、Ｊ＝＝２．０Ｈｓ）、　９．１８　（ＬＨ，ｄ、Ｊ
＝２．０Ｈ１）製造例４ メタノ−／Ｉ／（２３ｉｕ）中２−（４−テアゾリルフ
グリオキシル酸（２，３９）および２−アミノオキシ酢
酸の第三級ブチルエステル（２，，６ｆ）の混合物を室
温で１時間攪拌した。反応混合物を酢酸エチルと水との
混合物に加え、訳酸水素ナトリウム飽和水浴液でｐＨ１
，５にＩｔ整した。分離した水層を１０９６塩酸でｐＨ
２，０に調整し、塩化ナトリウムを飽和させた。この酸
性混合物を酢酸エテμで抽出し、抽出液を塩化ナトリウ
ム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後
、溶媒を留去して、２−第三級ブトキシカルボニルメト
キシイミノ−２−（４−テアグリル）酢酸（シン異性体
）　＜２．８？）　’ｔ”得た。融点１３６〜１３９℃
。

ＩＲ（ヌジ−ｓ　−／Ｉ／　）　：　１７３０　ｃＩＲ
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ＠、　ａ）　：　１．４６　（９
Ｈ，ａ）、　４．６９　（２Ｈ。

ｓ）、　８．０８　（ＬＨ，ｄ、Ｊ−２ｈＯＨｚ）、　
９．２１　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝龜０Ｈｚ） 製造例５ （１）２−第三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−
２−（２−ホμムアミドテアゾー１ｖ−４−イｌ％／）
酢酸（シン異性体）　（６５，９９）の酢酸エテル（３
００ｉｕ）およびテトラヒドロ７’）７（２００１１４
）溶液に、ジフェニルジアゾメタンの酢酸エチル溶液（
ｌミ〃モｙｖ／ｍｌ　、　２ｏｏ　ｄ　）を室温で滴下
し、混合物を１時間攪拌し九。生成した混合物ｔ−決醋
酸水素ナトリウム飽和水溶液よび食塩水で洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥した。溶媒を留去して、２−第三級
ブトキシカ〜ボニ、Ｕメトキシイミノ）−２−（２−ホ
Ａ／ムアイドテアゾール一番−イル酢酸のベンズヒドリ
ルエステ〃（シンＪ［体）（ｇｏ、３ｆ）　ｔ−得た。

２−第三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（
２−ホルムアミドチアゾ−／Ｉ／　−４−イル）酢酸の
ベンズヒドリルエステル（シン真性体）　Ｃ９９，Ｏｆ
）　ｆ）ｌ　ＩＩ）　−／ｌ／　（５００ｗｔ）溶液に
濃塩酸（４１，６ｆ）　ｔ−室温で加え、混合物を同じ
温度で１．５時間攪拌した。反応混合物を炭酸水素ナト
リウム（３３，６Ｆ）の水（２ＪＪ）溶液に注ぎ、酢酸
エテ〜で抽出した。抽出液を食塩水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶謀會餉去して残渣をエーテル中
で粉砕して、２−第三級ブトキシカルボ二μメトキシイ
ミノ−２−（２−アミノチアゾ−Ａ／　−４−イル〕酢
酸のベンズヒドリルエステｙｖ（シン異性体）（７２，
３ｆ）　ｔ″得た。

ＩＲ（フィルム）　：　１７４０．１６１０国ＮＭＲ（
ＤＭ８０−ｄ４．　Ｊ）　：　１．４３　（９Ｈ，ｓ）
、　４．１８　（２Ｈ，ａ）、　６．７３　（１）（，
８）、　６．９８　（ｌＨｉＬ）、Ｏ’７−７．６０　
（ＩＯＨ，ｒｎ）（２）亜硝酸第三級ブチＡ／（１，７
Ｆ）のテトラヒドロフラン（ｌｏｌＩｊ）溶液を２−第
三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（２−７
ミノチアゾーμ一番一イ／Ｌ／）酢酸のベンズヒドリル
エステ／Ｉ／（シン真性体）　（５Ｆ）のテトラヒドロ
フラン（５０ｓｕ）溶液に５０〜５３℃で攪拌下に滴下
し、混合物を同じ温度で２５分間攪拌した。反応混合物
を酢酸エチルと水との混合物に注ぎ、有機層を分離した
。有機層を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶ｇｔ−留去して残渣ｔシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付した。カラムをベンゼンと酢酸エテＮと
の混合溶Ｋ（１９！ｌ）で溶出し、目的化合物を含む溶
出液１ｋＸ発乾１して、２−第三級ブトキシカルボ二μ
メトキシイミノ−２−（４−チアシリｙ）酢酸のベンズ
ヒドリルエステ／Ｌ／（シン異性体）　Ｃ２，２ｔ）　
ｔ−ＩＩ′ｆｉ−０ＩＲ（フィルム）　：　１７４０．
１６００　ａｍＮＭＲ（ＤＭ８０−ｄａ、δ）　：　１
．４３　（９Ｈ，Ｅｌ）、４６８（２Ｈ，８）。

フ−ａｓ　　（１１（＊　ｓ　）　＋　　１．１５−１
．６０　　（ＩＯＨ，ｍ）、　　８．０３（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝２Ｈｚ）、　９．１５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）
（３）２−第三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−
２−（４−テアシリ／Ｉ／）酢酸のベンズヒドリルエス
テ／Ｉ／（シン異性体）　（２ＪＬｆ）およびアニソ−
〜（２，２ｍ）の塩化メチレフ（２２ｄ）溶液にトリフ
ルオロ酢酸（４ｄ）を室温で加え、混合物を同じ温度で
２５分間攪拌した。反応混合物に酢酸メチＡ／を加え、
この溶液全水洗し友。分離した有機層に水を加え、混合
物を脚酸ナトリクム２０９６水溶液でｐＨ７，５１ｃ胸
整した。分離した水層を１０％塩酸でｐＨ２，Ｑにｌ＃
整し、この酸性溶液に塩化ナトリウムを飽和させて、酢
酸エチルで抽出し友。

酢酸エチル層を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶Ｖ＆を留去し、残渣をジイソプロピ！エーテ
ルおよびｎ−へキサン中で粉砕して、２−第三級ブトキ
シカルボニルメトキシイミノ−２−（４−テアシリ／Ｌ
／）酢酸（シン異性体）（１０ツｔ）を得た。融点１３
６〜１３９℃ Ｉｎ　（ヌジョー／Ｖ　）　：　１７３０　ｃｉｎ実施
例１ ビルスマイヤー試薬をオキシ塩化リン（０，ｙａｆ　）
およびＮ、Ｎ−ジメチμホ〜ムアミド（０，３６Ｆ）か
ら酢酸エテ〜（１，４４ｍ　）中で常法により＃整した
。

２−第三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（
４−チアシリｌｖ）酢酸（シン異性体）　（１，２ｆ）
をビルスマイヤー試薬の酢酸エチル（２０＋＋＋ｊ）懸
濁液に氷冷しながら加え、混合物を同じ温度で２０分間
攪拌して活性酸溶液を製造した。トリメチμシリμアセ
トアミド＜３．ｓｆ）　５ｒ　７−アミノ−３−セ７エ
ム−４−力〜ボン酸（０，１６１）のテトラヒドロフラ
ン（１５１Ｌｔ）ＦＩ＆濁液に加え、混合物を３５〜４
０℃で２０分間攪拌した。この溶液に前記活性酸溶液を
一１Ｏ℃で加え、混合物を同じｍ度で３０分間攪拌した
。反応混合物に水を加え、分離した有槙層を水に加え次
。この混合物を抜酸カリウム飽和水溶液でｐＨ７，５に
調整し友。分離し次水層を１０％塩酸でｐＨ２，０に＃
整し、酢酸エチルで抽出し友。抽出層を塩化ナトリウム
飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を留去して７−〔２−第三級プトキシ力ルポニμメトキ
シイ建）−２−（４−テアシリｌｖ）アセトアミドクー
３−セフェム一番−力μボン酸（シン真性体）（１，４
ｔ　）を得た。

ＩＲ（Ｘ　ジ：！−Ａ／）　　：　　３２４０．　１’
７’１５．　１？１５゜１６７０．１６３０゜ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ藝、　　　Ｉ）　　　：　　１．
４４　　　（９Ｈ，＃）、　　　３．６０　　　（２Ｈ
，ｍ）、４．６１　　（２Ｈ，ｓ）、５．１０　　（Ｉ
Ｈ，ｌ、Ｊ５．０Ｈｚ）、　５．８６　（ＬＨ，ｄｄ、
Ｊ＝５．０Ｈｚ、８．０Ｈｚ）。

６．４３　　（ＬＨ，ｔ、Ｊ＝４．０Ｈｚ）、　　７．
８８　　（１ｍ１１．ｄ、、Ｔ＝２．０Ｈｚ）、　９．
１０　（１）！、ｄ、Ｊ＝　２．０Ｈｚ）、　９．４９
　（ＩＨ、ａ　、　Ｊ＝　８．０ＨＺ） 、＊施例２ ビスマイヤーＳｔＣ＊をオキシ塩化リン（１，３ｍＦ）
およびＨ，Ｈ−ジメチμホルムアミド（０，６Ｆ）がら
酢酸エテル（２，４ｄ　）中で常法によシ調整し次。２
−第三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４
−テアシリ／Ｉ／）酢酸（シン真性体）　（２，０？）
をビスマイヤー試薬の酢酸エチ／％／（２０ａ（）空騒
濁液に水冷下加え、混合物を同じ温度で２０分間攪拌し
て活性酸溶液′に製造した。

トリメチμシリμアセトアミド（５，８ｆ）　ｋ　７−
γミノー３−メチ〜−３−セフェム−４−力〜ボン酸（
ｘ、ａｒ）　Ｏテトラヒトｏ７ラン（２ｓｗＬｔ）中Ｍ
Ｕ液に加え、混合物ヲ３８〜４２℃で２０分間攪拌した
。この溶液に前記活性酸溶液を一１０℃で加え、混合物
を同じ温度で３０分間攪拌した。反応混合物に水全顎え
、分離し九有槙層を水に加え、混合物ｔ−ｉ酸カジカリ
ウム飽和水溶液Ｈ７，５に調整した。

分離した水層を１０９６塩酸でｐＨ２，０に調整し、酢
酸エチルで抽出した。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶
液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し
て、　、７−　Ｃ２−第三級ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−２−（４−デアゾリルノアセトアミド〕−３
−メチル−３−セフェム−４−カルボン＃（シン異性体
）　（２，２５ｆ）を得た。

工Ｒ（ヌジョー／Ｉ／）　：　１７５０　（ブロード）
、ｌ’７１０゜１６８０国 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ＠、　Ｊ）　：　１．４６　（９
Ｈ，ｓ）、　２．０２　（２Ｈ。

ｓ）、　３．４５　（２Ｈ，ｑ、、Ｔ＝　１８．０ＦＩ
ｚ）、　４．６１　（２Ｈ。

ａ）、　５．１０　（ｌＨ，ｄ、！＝５−ＯＨｚ）、　
５．’７３　（ＬＨ，ｄｄ。

Ｊ＝＝　５．０Ｈｚ、　　８．０Ｈｚ）、　　７．８９
　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝　２．０１（ｚ）。

９．１０　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝＝２．０Ｈｚ）、９．４
７　（ＬＨ，ｄ、、Ｔ＝８．０Ｈｚ） 実施例３ ビスマイヤーＸｇ′にオキシ塩化リン（２，２１）およ
びＮ、Ｍ−ジメテμホ〜ムアミド（１，Ｏｒ）がら酢酸
エテＡ／（４１Ｉ７）中で常法によシ調整した。２−（
ベンズヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノ）−２
−（４−テアシリＡ／）酢酸（シン異性体）（４，８ｆ
）　ｌ　ヒμスマイヤー試薬の酢酸エチル（４ｏＷＬｔ
）懸濁液に水冷下に加え％混合物を同じ温度で３０分間
攪拌して活性酸溶液を製造し次。

トリメチμシリｙアセトアミド（ｌＱ、：Ｌｆ）を７−
ア建ノー３−セフェム−４−力μボン酸＜２．２ｔ）の
テトラＬドロ７ツン（３０ｍ）社藏故に加え、弗ｐ物１
に３５〜４０℃で３０分間攪拌し良。このｌ！ｇ液に前
記活性酸溶液を一１０℃で加え、混合物を同じ温度で３
０分間攪拌した。反応混合物に水を加え、分離した有機
層を水に加え、混合物１に鹸酸カリウム２０９６水溶液
でｐＨ’７．５に調整した。分離した水層を１０９６塩
酸でｐＨ２，０に＃ＩＥＬ、酢酸エテルで抽出した。抽
出層ｔ−ｍ化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、溶媒を餉去して、？−（２−ベンズ
ヒドリルオキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４−
チアシリ／Ｌ／）アセトアミドシー３−セフェム−４−
カルボン酸（シン異性体）　（６，２ｆ）を得た。

工Ｒ（ヌジョー／１／）　：　１７７５．１１０．　１
６７５゜１６３０　（！Ｉ！ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ＠、　ＩＩ）　：　３．５６　（
２Ｈ，ｍ）、　４．９３　（２Ｈ，ｅ）、　５．１３　
（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　５．９２　（ＩＨ，
ｄｄ、　Ｊ＝＋５．０Ｈｌ、　８．０Ｈｚ）、　６．４
８　（ＩＨ，ｍ）。

６．９０　　（ＬＨ，ｓ）、　　７．１１−７．６１５
（１０Ｈ，Ｂ）、　　’７．９０（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝２．
０Ｈｚ）、　９．１６　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ）
。

９．６８　　（ＩＨ、ｄ　、　Ｊ＝：　８Ｈｚ　）実施
例４ 実施例１〜３の方法に準じて、下記の化合物を得九。

（１）　？　−（：　２−カルボキシメトキシイミノ−
２−（４−テアシリ／Ｌ／）アｔドアミド〕−３−メチ
ルー３−セフェム一番−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー／Ｌ’　）　：　１７６５．１７１５．
１６７０　ｃＩＲ（２）　？　−（ｊｉ！−第三級プト
キシカルボニルメトキシイ建ノー２−（４−チアシリμ
）アセトアミド〕−２−メチＡ／−３−セフェム−４−
カルボ／＃（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー／Ｉ／）　：　１７８０．　　ｌ’ｉ／
ａｏ、　　１６７０゜１６３０国 ＮＭＲ（ＤＭ８０−（１＠、　　ｌ）　　：　　１．２
８−１．６７　（１２Ｈ，ｍ）。

３．１６　　（１１１，ｍ）、　　４．６２　　（２Ｈ
，ａ）、　　５．１３　　（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　５．９２　（ＩＪ　ｄｄ、
　Ｊ＝５．０Ｈｚ）。

８．０Ｈｚ）、　６．５３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈ
ｚ）、　７．９０　（ＬＨ。

（１，Ｉ＝ＬＯＨｚ）、　９．１４　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ
−２Ｊ）Ｈｚ）。

９．５３　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）（３）　？　
−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−テアシ
リ／Ｌ／）アセトアミドシー２−メナルー３−セフエム
−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー／Ｌ’）　：　１７７０．１７２０．１
６７ｔ）。

１６３０　ａｍ （４）　７−　Ｃ２−第三級ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−２−（４−チアシリ／Ｉ／）アセトＩミドＪ
−３−メトキシ−３−セフェム一番−カルボン酸０４−
二トロペンジｐエステル（シンＭ性体）。

ＩＲ（ヌジ：ｊ−Ａ／）　：　３２３０．　１？’７０
．１７１０゜１６７５、　１６００　ｃｍ ＮＭＲ（ＤＭ８０−ｄ＠、δ）　：　１．４３　（９Ｈ
，、ａ）、　３．６９（２Ｈ，ｓ）、　３．８０　（３
Ｈ，ｓ）、　４．６２　（２Ｈ，ｓ）。

５．１９　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．０Ｈｚ）、５．３２
　　（２Ｈ，ａ）、５．６５（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝４．０
Ｈｚ、８．０Ｈｚ）、　ツ、６０　　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝　９．０Ｈｚ）　、　７．９４　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝
　２゜０Ｈｚ）　、　８．１８（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９．０
Ｈｚ）、　９．１１　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝　２．０Ｈｚ）
。

９．４９　（ＬＨ、ｄ　、　Ｊ＝　８．０Ｈｉ　）（５
）　？　−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４
−チアシリ／％−′）アセトアミドクー３−メトキシ−
３−セフェム一番−カルボン酸（シン真性体）。

ｉＲ（ヌジョーＡ／　）　：　３１８０．　１７６０．
　１６６５　ＣＩ＋（ａ）　ｒ　−［２−第三級ブトキ
シカルボニ／Ｌ’メトキシイミノ−２−（４−チアゾリ
ル）アセトアミドクー３−メトキシ−３−セフェム−４
−力μボン酸（シン真性体）。

ＩＲ（ヌジョーＡ／　）　：　１７７０．　１６９０　
（ブロード）σ（７）　？　−（２−第三級ブトキシカ
ルボニルメトキシイミノ−２−（４−チアシリ／＆／）
アセトアミド〕セファロスポラン酸（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョー／ｋ）　：　３２００．　１７８０．１
７２０゜１６７０　（Ｉｌｌ ＮＭＲ（ｐｍｓｏ−ａｓ、　Ｊ）　：　１．４２　（９
Ｈ，ｓ）、　２．０１　（３Ｈ，ｓ）、　３．５４　（
２Ｈ，Ｉ！Ｉ）、　４．６２　（２Ｈ，ｓ）、　４．８
３（８Ｈ，ｑ、Ｊ＝１３．０Ｈｚ）、　１５．１６　（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝Ｉ５．０Ｈｚ）。

５．８３　　（ＩＩＩ、ｄｄ、Ｊ＝５．ＯＨｓ　、Ｂ、
ＯＨｚ　）＋　　フ、８９　　（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ＝　ＬＯＨｚ）、　９．１１　（ＬＨ，ｄ、Ｊ
＝　２．０■ｚ）ｔ９．５３　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝　８．
０Ｈ２１）（ａ）　？　−（ａ−カμボキシメトキシイ
ず）−２−（４−テアシリμ）アセトアミド〕セファロ
スポラン酸（シｙＪ４性体）。

工Ｒ（ヌジョー／Ｌ／）　：　３２００．　１７８０．
　１？２３゜１６７５　ｏｎ （９）　７−　［２−第三級ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−２−（４−チアシリ〜）アセトアミドクー３
−メチｐチオメチＡ／−３−セフェム一番−カルボン酸
のベンズヒドリルエステル（シフ真性体）。

ＩＲ（ヌジョール）　：　３Ｓ’ｉ’０．　１７７０．
　１？２ｏ。

１６６０α ＮＭＲ（ＤＭ８０−ｄ６．　Ｊ）　：　１．４２　（９
Ｈ，８）、　１．７８　（３Ｈ，ｓ）、　３．４２−３
．’７３　（４Ｈ，ｍ）、　４．６１　（２Ｈ，ｓ）。

５．２６　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝　＆（）ｋｌｚ）、５．
８７　（ＬＨ，ｄｄ。

Ｊ＝４．０Ｈｚ、　８．０Ｈｚ）、　６．８８　（ＬＨ
，ｓ）、　’２．１３−７．６０　　（ＩＯＨ，ｍ）、
　　７．９１　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ）。

９．１１　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ）、９．５６
　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ二８．０Ｈｚ） （１０）７−　（２−カルボキシメトキシイミノ−２−
（４−チアゾリル）アセトアミドシー３−メチルｆオ）
ｆ＃−５−セフェム−４−力ｔｖボ４１＆Ｃ／ン興性俸
）０ ＩＲ（ヌジョー／Ｉ／）　：　３１８０．　１７７５．
　１７２０゜１６７５　ｃｍ （１１）？　−Ｃ２−第三級プトキシカ〜ボニ〜メトキ
シイミノ−２−（４−チアゾリル）アセトアミドツー３
−メトキシメチＡ／−３−セフェム−４−力〜ボン酸の
ベンズヒドリルエステＡ／（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョーＡ／）　：　３２５０．　１７８０．　
１７２０゜１６５５　ｃｍ ＮＭＲ（ＤＭ８０−ｄ・ｅ　’）　”　１．４３　Ｃ９
Ｍ４）＋　３．０６　（３Ｈ＊　ｅ　）　＊　”Ｊ　６
　（２Ｈ，ｍ　）　ｒ　’−０８（２Ｈｅ　ｓ　）　ｒ
４．６３　（２Ｈ，ｓ）、　５．２３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝５．０Ｈｚ）。

５．９１　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５．０Ｈｚ、　８．０Ｈ
ｚ）、　６．９２ＤＬ”）＋　　７．１７−１．６２　
　（ＩＯＨ，ｉｓ）、　　７．９１　　（ＬＨ。

ｄ、、Ｔ：ｊａ、０Ｈｚ）、　９．１２　（ＬＨ，ｄ、
　：Ｊ−２，０Ｈｚ）。

９．５８　（ＩＨ、ｄ　、　Ｊ＝＝　８．０）１　ｚ　
）（１Ｋ）７−　（２−カルボキシメトキシイミノ−２
−（４−テアシリＡ／）アセトアミド〕−３−メトキク
メチＡ／−３−セフェム一番−カルボン酸（シン異性体
）。

工Ｒ（Ｘジｖ　−ｙｖ　）　：　３２００．　１７７５
．　１７２０゜（１３）？　−（２−第三級ブトキシカ
〜ボニμメトキシイ書ノー２−（４−チアゾリル）アセ
トアミド〕−３−クロロー３−セフェム−４−カルボン
酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー／％／　）　：　１７８０．　１７Ｋ）
、　　１１０　ｃｘｒ（１４）７−　（２−第三級ブト
キシカルボニμメトキシイミノ−２−（４−チアゾリル
）アセトアミド〕−３−クロロー３−セフェム−４−カ
ルボン酸の４−ニトロベンジルエステｌｖ（シ／ＪＲ性
体）。

ＩＲ（ヌジョー／Ｌ／）　：　１７Ｂ０．　１７２０．
　１６７０゜１６００　（ｍ ＮＭＲ（ＤＭ８０−ｄ・、　Ｉ）　：　１．４３　（９
Ｈ，ｓ）、　３．８８　（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝　１８．０Ｈ
ｚ）、　４．６３　（２Ｈ，８）　、　５．３３（ＩＨ
，ｄ、、Ｔ＝５．０）Ｉｚ）、　５．４！Ｓ　（２Ｈ，
ｓ）、　５．９４　（ＬＨ，ｄｄ　、Ｊ＝　５．０Ｈｚ
　、　　８．０Ｈｚ）、　　フ、６フ　（２Ｈ，ｄ。

Ｊ＝８．０Ｈｚ）、　’７．９１　（１１１，ｄ、Ｊ＝
２．０Ｈｚ）、　８．２３（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８．０Ｈ
ｓ）、　９．１４　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２．０Ｈｚ）、
　９．６’７　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝８．０Ｈｚ）（１５
）？　−（２−力μボキシメトキシイミノー２−（４−
チアゾリル）アセトアミド〕−３−クロロー３−七７エ
ム−４−力μボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）　：　３２００．１７７５．　１７
２０゜１６７０　ａｌｌ （１６）？　−（２−第三級プトキシカルボニμメトキ
シインノー２−（４−チアシリ／ｖ）アセトアミド〕−
３−ビニＡ／−３−セフェム−４−カルボン酸のベンズ
ヒドリルエステｌｖ（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー／Ｌ／）　：　３２ｔ５０．　１７７０
．　１７２０゜１’７１０．　１６５５国 ＮＭＲ（ＤＭ８０ａｉ＠、　Ｊ）　：　ｘ、４＋　（９
Ｈ，ｓ）、　３．７５（２Ｈ，ｗｒ）、　４．６４　（
２Ｊ＠）、　５．２８　（ＩＨ，ｄ、、Ｔ＝１１−ＯＨ
ｚ）、　５．２９　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝　５．０Ｈｚ）、
　５．６２　（１１１、（１，Ｊ＝１１．０Ｈｚ）、　
５．９３　（ｌｉｔ、ｄｄ、Ｊ＝５．０Ｈｚ。

ｓ、□Ｈ＝）、　　６．グ〒　（ＩＨ，！ｄ、Ｊ＝　　
１１．０Ｈｓｓ、　　１）、０Ｈｚ）。

６．９３　　（ＩＨｓｌ）＋　　グ、３５　（１０Ｍ、
１）、　　１．９３（ｌヨ。

ｔｌ　＋　Ｊ”Ｌｏｌｌ　）　＊　ｓｔ、１４　（ＩＨ
、ｄ　ａ　Ｊ−２，０Ｈｚ　）　。

９．６２　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）（１７）？　
−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−テアシ
リＡ／）アセトアミド〕−３−とニルｍ３−セフェム−
４−カルボン１１（７ンＪ４性体）。

ＩＲ（ヌジョーＡ／　）　：　１７６５．　１７１０．
　１６６５　＞（１Ｂ）７−　［２−カルボキシメトキ
シイミノ−２−（４−テアシリ／Ｌ／）アセトアミドク
ー３−セフェム一番−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）　：　３２８０．　１７５０．　１
７２５゜１６５５、　１６２０　Ｃ１１ （１９）７−（２−ベンズヒドリρオキシカルボニルメ
トキシイミノ−２−（４−テアシリ／Ｌ／）アセトアミ
ド〕−３−セフェム−４−力μボン酸の１−グロビオニ
ルオキシエチルエステル（シン真性体）。

ＩＲ（ヌジョー／Ｌ／）　：　１７７５．　１？３５．
　１６８０　ｔｓ（２０）？　−（２−ペンズヒドリル
オキシカルボニμメトキシイミノ−２−（４−テアシリ
Ｕ）アセトアミドツー３−セフェム一番−力μボン酸の
１−エトキシカ〜ボニμオキ７エテ〜エステル（クン異
性体）。

ＩＲ（ヌジョーμ）　：　１７８０．　１７５０．　１
６８（Ｊ　ｏｎ（２１）？　−（ａ−ベンズヒドリμオ
中シカルポニルメトキシイき）−２−（４−チアゾリル
）アセトアンド〕−３−セフェムー４−カルボン酸のピ
バロイルオキシメチルエステ／＆／（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー〜）：１７８０．　１７４０．１６８０
　ｃｍ（２２）７−（２−ベンズヒドリμオキシカルボ
ニμメトキシイミノ−２−（４−テアシリμ）アセトア
ンド〕−３−セフェム−４−力μボン酸の（６−メテ１
ｖ−２−オキソ−１，３−ジオキ７−／Ｌ／−４−イＡ
／）メチルエステ／Ｉ／（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョーμ）　：　１８１０．　１？７０．　１
７３０゜１６７０国 （Ｘ）？−［２−カルボキシメトキシイ建）−２−（４
−チアシリｆｉ／）アセトアンドツー３−セフェム−４
−力ｙボン酸の１−プロピオニ〃オキシェテμエステμ
（シンＪ［体）。

ＩＲ（ヌジョーμ）　：　３２５０．　１７８０．　１
７５０゜１６８０　（ＩＩ （２４）？−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（
４−テアシリ〜）アセドアイドツー３−セフェＡ−４−
力〃ボン酸の１−エトキシカルボニルオキシエテ〜エス
テル（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョール）　：　１７５０　（ブロード）　＋
　１７’／−’（２５）７−［２−力μボキシメトキシ
イミノー２−（４−チアゾリル）アセトアミドクー３−
セフェム−４−カルボン酸のピバロイルオキシメチルエ
ステ／Ｌ／（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー）ｖ　）　：　１７４０　（ブロード）
。

１６８０　ｃａ （２６）？　−（２−力μボキシメトキシイミノーに−
（４−チアゾリル）アセトアミドクー３−セフェム−４
−カルボン酸のく５−メチ１ｖ−２−オｄｔ’）−１，
３−ジオキソ−！一番−イＪｖ）メチルエステ１４／（
シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー〜）　：　１８１０．　１７７０．　１
７３０゜１６７０　＞ 実施例５ トリフ１ｖオ四酢酸（５，２Ｍ　）を７−〔２−第三級
ブトキシカ〃ボニμメトキシイミノ−２−（４−テアシ
リ／Ｉ／）アセトアミドクー３−セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）　（１，３ｆ）の塩化メチレｙ（ｓ
ｌｍ）およびアニソ−μ（１，３ｗＪ　）中動濁液に室
温で加え、混合物を同じ温度で１．５時間攪拌した。

この溶液にジイソプロピｐエーテ／％／（４０１ＬＪ）
とｎ−ヘキサン（３０１１ｊ）とを攪拌下に加えた。沈
殿をＰ取し、ジイソプロピｙエーテμとｎ−ヘキサンと
の混合筒［（１！ｌ）で洗浄した。この沈ＦＩｋ１に酢
酸エチルと水との混合物に加え、訳酸カリクム飽和水溶
液でｐＨ’２．５　Ｋｉｔ整し友。分離した水層を１０
％塩酸でｐＨ４−ＯＫｍｌ整し、この溶液を酢酸エテ〃
で洗浄した。この溶液を水冷下１０％塩酸でｐＨ１，８
Ｋｉ１整し友。沈殿をＦ取して冷水で洗浄し、五酸化リ
ンで減圧礼燥して、７−〔２−力ｐボΦジメトキシイン
ノー２−（４−テアシリ／Ｉ／）アセドア建ド〕−３−
セフェム−４−力μボン酸（シン異性体）　（１，Ｏｆ
）　ｔ−得た。

工Ｒ（ヌジ＊−ＩＷ）　：　３２８ｏ、　１７５ｏ、　
１７２５゜１６１５５、　１６ｔｏ　ｔｘ ＮＭＲ（ＤＭ８０−（１＠、　Ｊ）　：　３．５８　（
花、ｉｎ）＠　４−６７（ｇ４−６７（、５，１ｍ　（
１ａ、ａ、　Ｊ＝４Ｊ）Ｈｚ）、　ａ、８ａ（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝４．０Ｈｚ、８．０１１ｇ）、６．４５　　（Ｌ
Ｈ，ｍ）。

１．９３　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝２．０Ｈｚ）、　９．０
Ｓｉ　（ｌｉｉ、ｄ。

Ｊ＝２．０Ｈｚ）、９．５ｊａ　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８
．０Ｈｚ）実施例６ トリ７／Ｌ／オロ酢酸（８，４ｙｄ　）を７−〔２−第
三級プトキシカμボニμメトキシイミノ−２−（４−テ
アシリ／Ｌ／）アセトアミド〕−３・−メチＡ／−３−
セフェムー４−力μボン酸（シン異性体）　（２，１ｒ
）の塩化メチレン（４，２ｉｄ）およびアニソ−／Ｉ／
（２，１−）中動濁液に室温で加え、混合物を同じ温度
で１．５時間攪拌した。この溶液にジイソプロピルエー
テｓｔ　（５０ｓｕ　）とｎ−ヘキサン（３０ｍ）とを
加えて攪拌した。沈殿をＰ取してジイソプロピルエーテ
ルとｎ−ヘキサンとの混合溶媒（１：１）で洗浄した。

沈ｙＩ！ｋｔ−酢酸エチルと水との混合物に加え、混合
物を縦酸カリウム飽和水溶液でｐＨ’７．０に調整した
。分離した水層を１０％塩酸でｐＨ４に＃！整し、酢酸
メチ〃で洗浄した。水層ｔ−１０％塩酸でｐＨ１８にｌ
＃整して塩化ナトリウムを飽和させた。この酸性溶液を
酢酸エテμとテトラζドロ７ランとの混合筒Ｋ（１：ｌ
）で抽出した。抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗
浄し、ａ酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して
、７−〔２−カルボキシメトキシインノ−２−（４−テ
アシリ／Ｌ／）アセドア建ド〕−３−メチＡ／−３−セ
フェム−４−力〜ボン酸（シン真性体）　（１−Ｏｒ）
　ｔ−得た。

ＩＲ（ヌジＭ−ＩＶ）　：　１７６５．　１７１５．１
６？０ｃｂＮＭＲ（ＤＭＢＯｄｓ＊す：　２．Ｑ３　（
３Ｈ，８）、　３．４７（２Ｈ，ｍ）、　４．６７　（
２Ｈ，ａ）、　５．１３　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝　　５．
０Ｈｚハ　５．）８　　（ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝５．０
Ｈｓ、　　８．０Ｈｚ）７．９６　（１Ｍ、ｄ、　Ｊ＝
　２．０Ｈｚ）、　９．１５（ＩＨ，ｄ、　、Ｔ＝ＬＯ
Ｈｚ）、　９．５２　（１１（、ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）
実施例７ トリフルオロ酢酸（１，４ｙｄ　）を７−〔２−ベンズ
ヒドリルオキ７カμボニμメトキシイオノ−２−（４−
テアシリｌ＆／）アセトアミドクー３−七７！Ａ　−４
−力ｙホン酸の１−プロピオニルオキシエテルエステル
（シン真性体）　（１・２１’）の塩化メチレン（ｌｏ
ｍ）およびアニソ−Ａ／（Ｏ旧−）中動濁液に′Ｍ温で
加え、混合物を同じ温度で２時間攪拌した。この溶液に
ジイングロビμエーテ〜（５０１１４）ｔ−加えて攪拌
した。沈ＷｋｋＰ取し、ジイソプロピルエーテｙで洗浄
した。沈殿を酢酸エチルと水との混合物に加え、この混
合物ｔ−ｉ酸カジカリウム２０９６水溶液Ｈ７，５にＩ
Ｈ整した。分離した水層を１０９６塩酸でｐＨ２，０４
Ｃ胸整して酢酸エチルで抽出した。抽出層を塩化ナトリ
ウム°飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し
几後、溶媒ｔ−留去した。残渣をジイソプロピルエーテ
ルで洗浄し、Ｐ取して、？−（２−力ｙボキシメトキシ
イミノ−２−（４−テアシリＡ／）アセトアミド〕−３
−セフェム一番−力μボン酸の１−プロピオニμオキシ
エチμエステｌｖ（シン異性体）　（０，４”／ｌ）　
ｔ−得た。

ＩＲ（ヌジョー／Ｉ／）　：　３２５０．　１７Ｂ０．
　１７５０゜１６８０国 ＮＭＲ（ＤＭＢＯ−ｄ・、δ）　：　１．０５　（３１
１，ｔ、　Ｊ＝マ、０Ｈｘ）、　１．４９　（３Ｈ，ｄ
、　Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　２．３６（２Ｈｔ　ｑ＊　　
ｌ−７−ＯＨ２）ｓ　　３−６３　　（Ｓ！Ｈ１！Ｅｌ
）　、　４．６６（２Ｈ，ａ）、　５．１６　（１１１
，ｄ、　Ｊ：４−０Ｈｚ）、　５．９３（ＩＨ，ｄｄ、
　Ｊ一番、ＯＨｚ、　８．０Ｈｚ’）、　６．５９　（
ＩＨ。

ｔ、　Ｊ＝４．０Ｈｚ）、　６．８９．（ＩＨ，ｑ、　
Ｊ＝５．０Ｈｚ）。

７．９３　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝２．０Ｈｚ）、　　
９．１３　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝２．０Ｈｚ）、　９
．５４　（ＩＨ，ｄ、　Ｘ＝８．０Ｈｚ）実施例８ トリノ／Ｌ／オロ酢酸（１１，２１Ｉｌｊ）を７−〔２
−第三級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−２−（４
−テアシリＩＡ／）アセトアミド〕−３−ビニＡ／−３
−七７エムー４−力μボン酸のベンズヒドリルエＸ　ｆ
　ｌｖ（シン異性体）　（２−８？）の塩化メチレン（
５，６ｉｕ）およびアニソ−／Ｉ／（２−８ｍｌ　）中
動濁液に室温で加え％混合物！同じ温度で１．５時間攪
拌した。

この溶液にジイソプロピルエーテＡ／　（４０ｍｌ　）
およびｎ−ヘキサノ（３０ｄ）ｔ−加えて攪拌した。

ｍ＊ｔＦ取してジイソプロピμエーテ〜とｎ−へ中テン
との混合溝［（１：、１）で洗浄した。この沈殿を酢酸
エテ〜と水との混合物に加えて酢酸カリウム飽和水溶液
でｐＨ’／、ＯＫ−ＮＩＥ　した。分離した水Ｊｌｔｌ
ｏ％塩酸でｐＨ４，０に絢整して酢酸エチルで洗浄した
。水層ｔ−１０％塩酸でｐＨ１，８に１１！１し、塩化
ナトリウムを飽和させた。この酸性溶液を酢酸エチルと
テトラヒト０７ランの混＆溶ｇ（１：ｌ）で抽出した。

抽出液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し九Ｌ　ｓｉｔ留去して、　７−（−ｍ
−カルボキシメトキシインノー２−（４−チアシリｌｖ
）アセトアミド〕−３−ビニＡ／　−３−セフｍＡ’−
４−カルボン酸（シン真性体）　（１，２２ｒ）　ｔ−
得九。

ＩＲ（ヌジ’ｉｉ　−ＩＶ　）　：　１７６５．　１７
１０．　１６６ｅ＋　ｒｘｒＮＭＲ（ＤＭＢＯ−ｄ＠、
δ）　：　３．７１　（２Ｈ，Ｅｌｌ）、　４−’１２
　（２Ｈ，ａ）、５．２６　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５−Ｏ
Ｈｚ）、５．３７　（ｌＨｌｄ、　　Ｊ＝　　ｕ、０Ｈ
ｚ）、　　５．６１　　（ＩＨ，ｄ　、　　Ｊ＝　　ｌ
）、０Ｈｚ）。

５．９１　（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５．０Ｈｚ、　８．０
Ｈｚ）、　６．９８　（ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝　　１１
．０Ｈｚ、　　　ｌ）、０Ｈｚ）、　　８．０２　　（
ＬＨ。

ｄ、　Ｊ＝２．０Ｈｚ）、　９．２１　（ＬＨ，ｄ、　
Ｊ＝２．０Ｈｚ）。

９．６４　（ＩＪｄ、　、Ｔ＝８．０Ｈｚ）さらに、？
−（２−カルボキシメトキシインノ−ｇ−（４−デアシ
リ／Ｌ／）アセトアミド〕−３−ビニＡ／−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン真性体）ｔ−ｆｆ酸水素ナト
リウムと慣用の方法で反応させることによｆｉ、？−（
２−、ｔ＃ボキシラートメトキシインノー２−（４−テ
アシリ／Ｌ／）アセトアミドツー３−ビニＡ／−３−セ
フェム一番−カルボン酸のジナトリウム塩（シン異性体
）ｔ−得た。

実施例９ 実施例５〜８の方法に準じて、下記の化合物を得た。

（］）　７−　［２−力〜ボキシメトキシイミノー２−
（４−チアシリｌｖ）アセトアミド］−２−メチルー３
−セフェム−４−力μボン酸（シンｊｎ体）。

ＩＲ（ＪＣＣ１０Ａ／）　：　１７７０．　１７２０．
　１６７０゜１６３０国 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ａｓ、δ）　：　１．４３　（３Ｈ
，ｄ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）。

３．１２０Ｈｔ”）＋　４．６１（２Ｈ，ａ）、　１５
．１３　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝４．０Ｈｚ）、　５．９３　（１１，ｄｄ、　！−
４，０Ｈｚ、　８．０Ｈｚ）、　６．５５　（ＩＨ，ｄ
、　Ｊ＝６．０Ｈｚ）、　’１−９２　（ＬＨ。

ｄ、　Ｊ＝２．０Ｈｚ）、　９．１２　（ＩＨ，ｄ、　
Ｊ＝２．０Ｈｚ）。

９．５３　（ＩＨ，４，Ｊ＝８．０Ｈｚ）（２）　？　
−［２−力μボキシメトキシイミノー２−（４−テアシ
リＪ４／）アセドアｉド］−３−メトキシ−５−セフェ
ム−４−力μボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョーＩＶ　）　：　３１Ｂ０．１７６０．　
１６６５　ｃｒｎＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、　　δ）　
　：　３．６０　（２Ｈ，ブロード　８）。

３、’ｌ　　（３Ｈ，ｅ）、４．６８　　（２Ｈ，ｓ）
、５．１８　　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝５．０Ｈｚ）、５．６２　　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５
．０Ｈｚ、８．０Ｈｚ）、８．０２　　（１１（、ｄ、
Ｊ＝２．０Ｈｚ）、９．１５　　（ＩＪｄ、Ｊ＝２．０
Ｈｚ）、９．５２　　（ＩＨ；ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）（
３）　７−　（２−力μボキシメトキシイミノー２−（
４−チアシリＡ／　）アセトアミド〕セファロスポラン
酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョーｌＬ／）　：　３２００．　　ｌ’／８
０．　１７２３゜１６７５　ａｍ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ＠、　Ｊ）　：　２．０１　（３
Ｈ，ｓ）、　３．５６（２Ｈ，ｍ）、４．６７　（２Ｈ
，ｓ）、４−８３　　（２Ｈ，ｑ。

Ｊ＝　１４．０Ｈｚ）、　５．１７　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ
＝　４．０Ｈｚ）　。

５．８５　（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ＝４．０Ｈｚ、　８．０
Ｈｚ）、　７．９２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ）、　
９．：１２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２．０８名）、　９．５
４　（ＩＨ，ｄ、　Ｉ＝８．０Ｈｚ）（４）　？　−［
２−カルボキシメトキシイミノ−２−（番−チアシリｙ
）アセトアミド］−３−メチルチオメチ〜−３−セフェ
ム−４−力μボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョーＡ／　）　：　３１８ｔ）、　　１７７
５．　１７２０゜１６７５　＞ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ・、　δ）　　：　１．９６　　
（３Ｈ＋ｓ）＋　　”’ツー３．７６　　（４Ｈ，！Ｅ
ｌ）、　　４．６’７　　（２Ｈ，８）、　　５．２０
　　（ＩＨ。

ｄ、、Ｔ＝番、０Ｈｚ）、　　５．グ９　　（ＩＨ，ｄ
ｄ、Ｊ＝　４．０Ｈｚ。

８．０Ｈｚ）、７．９３　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ）、　　９．１２　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ）
、９．５４　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８．０Ｈｚ）（５）　
？　−（２−力μボキクメトキシイミノー２−（４−テ
アシリｆｉ／）アセトアミド〕−３−メトキシメチＡ／
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョーり　：　３２００．　１７７５．　１７
２０゜１６７５国 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ＠、　Ｊ）　：　３．２ツ（３Ｈ
，ｓ）、　３．５２（２Ｈ，ｍ）、　４．１６　（２１
１，ｓ）、　４．６６　（２Ｈ，ｅ）。

５．１６　（ｌｉｌ、ｄ、　Ｊ＝４．０Ｈｚ）、　５．
８１　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ＝　４．０Ｈｚ、　８．０Ｈｚ）、　７．９１　（Ｌ
Ｈ，ｄ、　Ｉ＝２．０Ｈｚ）、　９．１１　（１１１，
ｄ、　Ｊ＝２．０Ｈｚ）、　９−５２　（ＩＨ，ｄ、　
Ｊ−８，０Ｈｚ） （６）　？−（２−力μボキシメトキシイミノー２−（
４−テアシリＡ／）アセトアミドクー３−クロロ−３−
セフェム−４−力μボンｔａ＜シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョーｔｖ）　：　３２００．　１？７５．　
　ｌ’／２ｕ。

１６７０　（２ＩＩ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、　　δ）：　　３．８１　　
（２Ｈ，Ｑ、Ｊ二ｌｂ、ｔ’＋Ｈｚ）、　４．６５　（
２Ｈ，ａ）、　５．２５　（１）１．ｄ、　Ｊ　−５，
０Ｈｚ）、５Ｊ３ツ　（ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝５．０Ｈ
ｚ、　　８．０Ｈｚ）。

７．７２　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝２．０Ｈｚ）、　９．１
０　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝　２．０Ｈｚ）、　９．６３　
（ＬＨ，ｄ、　Ｊ＝　８．０Ｈｚ）（７）　？　−（２
−力μボキシメトキシイミノー２−（４−チアゾリル〕
アセトアミド〕−３−セフェム−４−カルボン酸の１−
エトキシカルボニルオキシエチルエステル（シン異性体
）。

工Ｒ（ヌジョーＡ／　）　：　１７５０（ブロード）。

１７７０　ｔｘ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、、す：　１．０９　ａｎｄ　１
．２２　（全体３Ｈ，それぞれｔ、　Ｊ＝７．ＱＨ工）
、　１．５０　（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　３．６３　（２Ｈ，ｍ）、　４．
１６　（２Ｈ，ｑ。

Ｊ＝７．０Ｈｚ）、　４−６６　（２Ｈ，ｓ）、　５．
１６　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝＝４．０Ｈｚ）、　５．９３　（ＩＨ，ｍ）、　６
．６２　（ＩＨ，ｔ。

Ｊ一番、０Ｈｔ）、　　６．７７　　（ＩＪＱ、　　Ｊ
＝６．０Ｈｚ）、　　’７．９４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．
０Ｈｚ）、ｊ、１４　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ）、　　９．５６　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ二８．０Ｈｚ）
（８）　？　−［２−力〜ボキシメトキシインノ−２−
（４−チアゾリル）アセトアミドクー３−セフェム−４
−カルボン酸のビバロイ〃オキシメチ〜エステル（シン
異性体）。

ＩＲ（ヌジョー／％／　）　：　１７４ｆノ（ブロード
ハ１６８０　ｔｘｔ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ＠、　　Ｉ）　　：　　１．１４
　　（９Ｈ，ロン、　　３．６０（２Ｈ，ｑ、　Ｊ＝１
８．０Ｈｚ）、　４．６３　（２Ｍ、８）。

５．１３　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４．０Ｈｚ）、　５Ｊ５
２−６．０３（３Ｈ。

ａ＋）、　６．５５　（ＬＨ，ｔ、　Ｊ−−Ｈｚ）、　
７．８１（１■。

ｄ、　Ｊ−２，０１１ｇ）、　９．０６　（ＬＨ，ｄ、
　Ｊ＝２．０Ｈｚ）。

９．４８　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８．０Ｈｚ）（９）　？
　−（２−力〜ボキシメトキシイミノー２−（４−テア
シリＩ４／）ア竜ドアミド〕−３−セフェム−４−力〜
ボン酸の（５−メチＡ／−２−オキンー１．３−ジオキ
ン−μｍ４−イＩ′ｖ）メチルエステ〜（シン異性体）
。

工Ｒ（ヌジ１ｉ−Ａ／）　：　１Ｂ１０．　１７７０．
　　ｌ’／ｊＱ。

１６７０国 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ・＋　　’）　　”　２−１８　
（３Ｈ，ａ）、　３−６２　（２Ｈ，ｖｎ）、　　４．
６７　　（２Ｈ，ａン、５．１５　　（２Ｈ，ｓ）＋５
−１６　　（ＩＨ，ｄ、、Ｔ５．０Ｈｓ）、５．９３　
（１もｄｄ。

Ｊ＝５．０Ｈｚ、８．０Ｈｚ）、６．６０　　（ＬＨ，
ｔ、　　Ｊ＝４．０Ｈｚ）。

７．９５　　（ＬＨ，ｄ、　　Ｊ−２−ＯＨｚ）、　　
９．１５　　（ＩＨ，ｄ、　　Ｊ二ＬＯＨｚ）、９．５
６　（ＬＨ，ｄ、Ｊ−８，０Ｈｚ）実施例１０ ７−〔２−第三級ブトキクカルボニルメトキシイミノ−
２−（４−チアシリ〃）アセトアミド〕−３−メトキシ
−３−セフェム−４−カルボン酸の４−二トロベンジｐ
エステ／ｌ／（シンＸ性体）　（２，９ｒ）　ｔ−メタ
ノ−／Ｌ／（５０１１７）、テトラヒドロフラン（３０
ｍｇ）および氷酢酸（０，５ｗＪ　）の混合溶媒に溶解
し次。この溶液にｌＯ％パ２ジウムー脚素（１，５ｒ）
を加えて混合物を室温で大気圧下に接触還元に付した。

触媒をｐ別し、Ｐ液を減圧濃縮した。

残渣に水と酢酸エテμとを加え、混合物′ｉｋ抜酸カリ
ウム飽和水溶液でｐＨ７，５に調整した。分離した水層
を１０％塩酸でｐＨ２，０ＶＣ調整し、酢酸エテμで抽
出した。抽出液を塩化ナトリウム飽和水ｆｇｆ＆で洗浄
し、硫酸マダネシクムで乾燥しＡ後、溶媒を留去して、
７−〔２−第三級ブトキクカルボニルメトキシイミノ−
２−（４−テアシリ〜）アセドアきド〕−３−メトキシ
ー３−セフェム一番−力μボン酸（シン異性体）（１，
）１ｆ）を得た。

工Ｒ（ヌジョーＡ／　）　：　１７７０．　１６９０　
（ブロード）１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ４．　Ｊ）　：　Ｌ４４　（９Ｊ
ｓ）、　３．６０（＄’Ｌ８）ｔ　’グ５　（３Ｈ，ａ
）、　４．６３　（２ＨｅＢ）＋５．１６　（ｌＪｄ、
　Ｊ＝４−．０Ｈｓ）、　５．６１　（ＩＨ，ｄｄ。

Ｊ４．ＯＨｓ、　　ｓ、ｏａｘ）ｓ　　フ、９６　　（
ＩＨ，ｄ、　　！＝２．０Ｆ１ｚ）。

９．１３　（ＩＪｄ、　Ｊ−２，０Ｈｚ）、　９−５０
　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ−Ｂ、ＱＨ，） 実施例１１ 実施例１０の方法に準じて下記の化合物會得た。

（１）”７−（１１−１１三級プトキシカ〜ボ３ｆｉ／
メトキシイイノ−２−（４−テアシリμ）アセドアｔド
〕−３−メチＡ／−３−セフェム−４−カルボン酸（シ
ン異性体）。

ＩＲ（ヌジョーｌｖ）　：　１７５０　（ブロード）　
、　１７１０゜１６８０　ｔｓ （２）　？　−（ｇ−カルボキシメトキシイミノ−２−
（４−テアシリ／Ｉ／）アセトアミド〕−３−メチ〜−
３−セフェム−４−力μボン酸（シン異４１）。

ＩＲ（ヌジョーＡ／　）　：　１７６５．　１７１５．
　１６７０　ｃＩｎ（３）　？　−（２１−第三級ブト
キクカルボニルメトキシイミノ−２−（４−テアシリ〜
）アセトアミドツー２−メチＡ／−３−セフェム−４−
力〜ボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジｉ−／Ｉ’）　：　１７８０．　１７２０．
　１６７０゜１６３０　（１１１１ （４）　？　−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−
（４−チアシリＡ／）アセドア建ド〕−２−メチμ−３
−セフェム−４−力μボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー／％’）　：　１７７０．　１７２０．
　１６７０゜１６３０　ｔｓ （５）　？　−（２−カ〜ボキシメトキシイミノー２−
（４−チアシリりアセトアミドクー３−メトキシ−３−
セフェム一番−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジＨ−Ａ／　）　：　３１Ｂ０．　１７６０．
　１６６５　ｃａ”（６）　７−　（２−第三級プトキ
シヵｙボニμメ）−＋ジイミノー２−（４−テアシリ／
Ｉ／）アセトアミド〕セファロスボ２ン酸（シン異性体
）。

ＩＲ（ＸジＥｌ−、Ａ／）　：　３２００．　１７８０
．　１７２０゜１６７０ｍ” （７）　？　−（２−＃〜ボキシメトキシイ１）−２−
（４−チアゾリル）アセドア建ド〕セ７アロスポツン酸
（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジＷ−／Ｌ／）　：　３２００．　１７８０．
　１７２３゜１６７５ｃｍ’ （８）　？　−（ｊｉｌ−力μボキシメトキシイ建ノー
２−（４−チアシリ！〕アセトアンド〕−３−メテルデ
オメテＡ／−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性
体）。

工Ｒ（Ｘジ！−７Ｍ）　：　３１８０．　１７７５．　
１７２０゜１６７５ＱＩｌ’ （９）　？　−Ｃ２−カルボキシメトキシイミノ−２−
（４−チアシリμ）アセトアミドクー３−メトキシメチ
Ａ／−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

工Ｒ（Ｘジ：１−／Ｌ／）　：：ｌＯｏ、　　１７７５
．　１？２０゜１６７５　ｃｍ （１０）７−　Ｃ２−第三級ブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−２−（４−チアシリ／ｖ）アセトアミドＪ−
３−クロロー３−セフェム−４−カルボン酸くシン異性
体）。

ＩＲ（ヌジＥｉ　−ＩＶ　）　：　１７８０．　１７２
０．　１６８０　ｃＭＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．　Ｊ）
　：　１．４３　（９Ｈ，ｓ）、　３．８１（２Ｈ，Ｑ
、　Ｊ＝１８．０Ｈｚ）、　４．６１　（２Ｈ，ａ）、
　５．２６（１１１１，ｄ、　Ｊ＝５，０Ｈｚ）、　５
．８６　（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５．０Ｆｉｚ、　８．０
Ｈ２）、　７．９９　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−２，０Ｈｚ）
、　９．１２！（ＬＨ，ｄ、　Ｊ−２，０Ｈｚ）、　９
．５４　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８Ｈｚ）（１１）？　−［
２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−チアゾリル
）アセトアミドツー３−クロロ−３−セフェム−４−力
μボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョー、＆）　：　３２００．１？？５．１７
２０゜１６７０　（Ｍｌ （１２）７−　（：　ａ−カルボキシメトキシイミノ−
２−（４−テアシリ／Ｌ／）アセトアミド〕−３−ビニ
ルー３−セフェム−４−力ｐボン酸（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョー＃　）　：　１７６１５．１７１０．１
６６５　ＣＩ！（１３）？　−［２−第三級ブトキシカ
ルボニ〃メトキシイ（〕−２−（４−チアシリＡ／）ア
セトアミドクー３−セフェム−４−力μボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ（ヌジョーＡ／）　：　３２４０．　１７７５．　
１７１６゜１６７０、　１６３０国 （１４）？　−（２−力μボキシメトキシイミノー２−
（４−チアシリＡ／）アセドア建ド）−３−セフェム−
４−力！ボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジ璽−／Ｉ／）　：　３２８０．　　ｉ？５０
．　１７２５゜１６５５、　１６２０　ａｓ （ＩＪ５）？　−（２−ベンズヒドリμオキシカルボニ
μメトキシイ建）−２−（４−テアシリ／＆／）アセド
ア建ド〕−３−セフェム一番−力μボン酸（シン異性体
）。

ＩＲ（ヌジ璽−Ａ／）　：　１７７５．　１７２０．　
１６７５゜１６３０　ａｍ 実施例１２ グロピオン酸の１−クロロエｆ／’Ｌ’エステＡ／（０
，６ｆ）ｔ−ジメテ〃スμホキシト（ｘ３ｍ）中の７−
〔２−ベンズヒドリｙオキ７カμボニμメトキシイミノ
−２−（４−テアシリｌｖ）アセトアミド〕−３−七フ
二五一番−力ｙポン酸（シン異性体）（に、Ｏｖ）およ
び訳酸カリワム（０，３ｆ）の混合物に加え、混合物を
４０℃で２時間攪拌した。反応混合物を氷水と酢酸エテ
μとの混合物に加え、２０９自訳酸カリウム水溶液でｐ
Ｈ’７．５に１整した。分離した有機層を水洗し、硫酸
ｉクネシウムで乾燥した後、溶Ｖ＆を留去して？−〔３
−ベンズヒドリｙオキシカμボニμメトキシイミノ−２
−（４−テアシリ／Ｌ／）アセトアミド〕−３−セフェ
ム−４−カルボン酸の１−７’ロビオニ〜オキシエチル
エステ／％／（シン異性体）　（１，３ｒ）を得た。

ＩＲ（ヌジョー／ｌ／　）　：　１７７５．　１７３５
．　１６８０σＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ４．　Ｊ）　：　
１．０４　（３Ｈ，ｔ、　Ｊ４．０Ｈｚ）。

１．５１（３Ｊｄ、　Ｊ＝５．０Ｈｓ）、　２．３８　
（２Ｈ１ｑｌ　Ｊ＝７、Ｏｋｌｍ）、　　３．６０　　
（２Ｈ，ｍ）、　　４．９４　　（２Ｈ，ａ）、　　５
．１８（ＩＨ，ｄ、Ｊ−４，０Ｈｚ）、５．９６　　（
ＩＨ，ｄｄ、Ｊ”４．０Ｈｚ、８．０Ｈｚ）、６．６３
　　（ＩＨ，ｔ、Ｊ４．０Ｈｚ）、６．９１（ＬＨ，ａ
）、６．９３　　（ＩＨ，ｑ、Ｊ＝５．０Ｈｚ）、７．
２０−７．５９　　（ＩＯＨ，ｍ）、’ｉ’、９２　　
（ＩＪｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ）。

９．１８　（ｌＪｄ、Ｊ：Ｓ２．０Ｈｚ）、９．６８　
　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８．０Ｈ２） 実施例１３ ４−ブロモメゾμｍ５−メチＡ／　−１，３−ジオキソ
−ｆｉ／−２−オン（０，５９）をジメデ〜スルホキシ
ド（ツー）中の７−［２−ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルメトキシイミノ−２−（４−テアシリ〃）アセドア
イド］−３−セフェム−４−力μボン酸（シン異性体）
　（１，Ｏｆ）および脚酸カリウム（０，１ツｔ）の混
合物に加え、混合物上室温で２時間攪拌し喪。反応混合
物を氷水と酢酸エチルとの混合物に加え、混合物１に脚
酸カリウム２０９６水溶液でｐＨ７，ａＫＩＩ！ｌた。

分離した有機ｍｔ水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した
。溶Ｖ＆を留去して得た粗生成物をシリカゲμカラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン（
３：２）により溶出して精製した。溶出液倉黒発１ｒＬ
固し−Ｃ１？−（２−ベンズヒドリルオキシカルボニル
メトキシイミノ−２−（４−チアシリ〜）アセトアミド
クー３−セフェム−４−カルボン酸の（ｂ−メチル−２
−オキソ−１，３−ジオキソ−／Ｉ／　−４−イ／Ｌ／
）メゾＡ／エステＡ／（シン異性体）Ｏ（０，；５）ｙ
）ｋ得た。

ＩＲ（ヌジョー／Ｌ／）　：　１Ｂ１０．　１７７０．
　１？３０゜１６７０　（２ ＮＭＲ（ＤＭ８０−ｄ、、δ）　：　２．１４　（３Ｈ
，ａ）、　３．５３　（２Ｈ，ｍ）、　４．８６　（２
Ｈ，ａ）、　５．０９　（２Ｈ，ｓ）、　５．１０（Ｌ
Ｈ，ｄ、　’Ｊ−５，０Ｈｚ）、　５．８８　（ＩＨ，
ｄｄ、　Ｊ−５，ＯＨｓ、　８．０Ｈｚ）、　６．５１
　（ＬＨ，ｔ、　Ｊ−４，０Ｈｚ）、　６．８１（ＬＨ
，ａ）、　　７．０９−１．５０　　（ＩＯＨ，ａ）、
　　’１８０　　（ＩＨ。

ｄ、　Ｊ−２，０Ｈｚ）、　９．０６　（ＩＨ，ｄ、　
Ｊ−２，０Ｈｚ）。

９．５’７　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝８．０Ｈｚ）実施例１
４ 実施例１２および１３の方法に準じて、下記の化合物を
得た。

（１）　？　−（２−第三級プトキシカ〜ボニμメトキ
シイイノ−２−（４−テアシリＡ／）アセトアミド〕−
３−メトキシ−３−セフェム一番−カルボン酸の４−ニ
トロベンジルエステＡ／（シン異性体）。

工Ｒ（Ｊｔジｙ　−１ｖ　）　：　３２３０．　１７？
ｏ、　　１７１０゜１６７５、　１６００国 （２）？−（２−第三級ブトキシヵμボニμメトキシイ
１ノー２−（４−テアシリＡ／）アセトアミド〕−３−
メチルデオメチＡ／−３−セフェム−４−力μボン酸の
ベンズヒドリルエステ／ｌ／（シン異性体〕。

ＩＲ（Ｘジ］−１ｖ）　：　３２７０．　１７７０．１
７１゜１６６０　。

（３）７−（ｇ−第三級ブトキシカμボニＡ’メトキシ
インノー２−（４−チアゾリル）アセドアイドクー３−
メトキシメチＡ／　−５−セフェム−４−力〜ホン酸の
ベンズヒドリルエステ／ｖ（シンＪｉ［体）。

ＩＲ（ヌジョーＡ／）　：’３２５０．　１７８０．　
１７２０゜１６５５国 （４）　７−　（２−第三級ブトキシカμボニμメトキ
シインノー２−（４−テアシリ〜）アセトアミド〕−３
−りμロー３−セフェムー４−力ρボン酸ノ４−ニトロ
ベンジルエステＡ／（シン異性り。

ＩＲ（ヌジョーｔｖ　）　：　１７８０．　１７２０．
　　Ｈｊ７ｏ。

−凰 １６００　ｃＩｎ （５）　？　−（２−第三級ブトキシカｙボニμメトキ
シイミノ−２−（４−チアシリ／Ｌ／）アセトアミド１
−３−ビニ／％／−３−セフェムー４−カルボン酸のベ
ンズヒドリルエステ／ｌ／（シン＾ａ体）。

工Ｒ（ヌジョー／％／　）　：　３２５０．　１？７０
．　　ｌ’／２０゜１７１０、　１６５５　　Ｇ （ａ）　？　−（２−ベンズヒドリルオキシカルボニル
メトキシイミノ−２−（４−テアシリ、Ａ／）アセトア
ミドクー３−セフェム−４−力μボン酸の１−エトキシ
カ〜ボニμオキシエテｙエステＡ／（シン異性体）。

工Ｒ（ヌジョーＡ／）　：　１７８０．　１７５０．　
１６８０閑ＮＭＲ（ＤＭ８０−ｄｓ＋　δ）　：　ＬＯ
９（３Ｊｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ）。

１．５２　（３Ｈ，ｄ、　Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　３．６
３　（２Ｈ，ｍ）。

番、１ツ　（２Ｈ，ｑ、　　Ｊ−７，０Ｈｚ）、　　４
．９３　　（２Ｈ，ｓン。

５、ｌツ　（ＬＨ，ｄ、　　Ｊ＝５．０Ｈｚ）、　　５
．９７　（ｌＨ，ｄｄ。

Ｊ＝６．０Ｈｚ、　８．０Ｈ２１）、　６．６５　（Ｌ
Ｈ，ｔ、　Ｊ−ＥＬ、０Ｈ２）。

６．８１　　（ＬＨ，ｑ、Ｊ−５，０Ｈ２）、６．９２
　（ＩＨ，ｓ）。

７．２０−’７．６０　（１０Ｊｍ）、　”、９２　（
ＩＨ劃、　Ｊ＝２．０Ｈｚ）、９．６８　　（ＬＨ，ｄ
、Ｊ−８，０Ｈｚ）、９．１９（ＩＨ，ｄ、！＝２．０
Ｈｚ） （７）　？　−ＣＢ−ベンズヒドリルオキシカルボニル
メトキシイミノ−２−（４−テアシリμ）アセトアミド
〕−３−セフェム−４−カルボン酸のピバロイ〜オキシ
メチμエステＩＶ（シン真性体）。

工Ｒ（Ｘジ”Ｉ　−Ａ／　）　：　１７８ｏ、　　１７
４０．　１６８０　ｃｍ＋ＮＭＲ（１Ｍ８０−ｄ＠、　
Ｉ）　：　１．１６　（９Ｈ，ｓ）、　３．６１（２Ｈ
，ｍ）、　４．９１　（２Ｈ，ａ）、　５．１６　（Ｌ
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝４．０Ｈｚ）、　５．６９−６．０４　
（３Ｈ，ａ＋）、　６−５９（ＬＨ，Ｅｌｌ）。

６．８９　　（ＬＨ，ａ）、　　７．１６−７．６０　
　（ＩＯＨ，５１１）、　　７．８９（ＬＭ、（１，Ｊ
域、０Ｈｚ）、　９．１６　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ城、０Ｈ
ｚ）。

９．６８　（ＬＨ，ｄ、　Ｊ−７，０Ｈｚ）（８）　７
−　（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−テア
シリ〜）アセドア建ド〕−３−セフェム−４−カルボン
酸の１−プロピオニルオキシニブルエステ〜（シン異性
体）。

ＩＲ（ヌジョー１％／）　：　３２５０．　１７８０．
１７５０゜１６８０　ｔｓ＋　’ （９）７−（２−力７ｕボキシメトキシイミノー２−（
４−デアゾリル）アセトアミド〕−３−セフェム−４−
カルボン酸の１−エトキシヵ〜ポニルオキシエテｙエス
テル（シン異性Ｋ　）　ｕＩＲ（スジ：１−ル）　：　
１７５０　（）ｌＪ−）”）。

１７７０α】１ （１０）？　−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−
（４−チアシリ／Ｌ／）アセトアミドクー３−センエム
一番−カルボン酸のピバロイルオキシメチルエステＡ／
（シン異性体）。

ＩＲ（ヌジョ−Ａ／　）　：　１７４０　（ブロード）
。

１６８０　ｏｎ （ｕ）７−　（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（
４−テアシリｙ）アセドアｉド〕−３−セフェム一番−
力ｙボン酸の（５−メチＡ／　−２−オキソ−１，３−
ジオキソ−ルー４−イ、Ａ／）メチルエステル（シン異
性体）。

ＩＲ（ヌジ３−／Ｉ／）　：　１Ｂ１０．　１７７０．
　　ｌ’／３０゜ｘａ７ｏｃＩｎ’

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １一般式： 〔式中、Ｒはカルボキシ（低級）アルキルまたは保護さ
   れたカルｌキシ（低級）アルキル、Ｒ２はカルボ＊Ｖｔ
   えは保護され九カルボ中シ、Ｒｓ　は水素または低級ア
   ルキル、 Ｒ４は低級アルキル、低級アルコキシ、アシルオキシメ
   チル、低級アル中ルテオメチル、低級アル：１中ジメチ
   ル、ハロゲン、低級アルケニルｔえは水素をそれぞれ意
   味する〕で示される新規セフェム化合物およびその塩類
   。 ２　Ｒがカルｌキシ（低級）アルキルまた社エステル化
   され大カルボ命シ（低級）アルキルであｊ、Ｒ２がカル
   ボキシまたはエステル化されたカルボキシであり、Ｒ４
   が低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルカノイルオ
   中７メチル、低級アルキルチオメチル、低級アルコキシ
   メチル、ハロゲン、低級アルケニルまたは水素である特
   許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３　特許請求の範囲第２項記載の化合物のシン異性体。 ４、Ｒ１がカルボキシ（低級）アルキルまたは低級アル
   コキシカルボニル（低級）アルキルであり　ｓ　Ｒ２が
   カルボキシであり、Ｒｓ　が水素であり、Ｒ４が水素で
   ある特許請求の範１８第５項記載の化合物。 ｓ、７−（２−カルボキシメＹキシイミノ−２−（４−
   チアゾリル）ア竜ドアミド〕−３−セフェム−４−カル
   ボン酸（タン異性体）である特許請求の範囲第４項記載
   の化合−０ ６、Ｒ１がカルボキシ（低級）アルキルまたはアル（低
   級）アルコキシカルボニル（低級）アルキルでＴｏＤ％
   Ｒ２が低級アルカノイルオキシ（低級）アルコキシカル
   ボニル、低級アルコキシカルボニルオキシ（低級）アル
   コキシカルボニルまたは（５−低級アルキルー２−オキ
   ソ−１，５−ジオ平ソールー４−イル）（低級）アルコ
   キシカルボニルであり　Ｒ５が水素であシ、Ｒ４が水素
   である特許請求の範１１ｉｌ第Ｓ項紀献の化合物。 ７．７−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−
   チアゾリル）アセトアミドシー５−セフェム−４−カル
   メン酸の１−フロピオニルオキシエチルエステル（クン
   異性体）、 ７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４−チア
   ゾリル）アセトアミドシー５−セフェム−４−カルボン
   酸の１−エトキシカルｌニルオキシエチルエステル（シ
   ン異性体）、７−〔２−カルボキシメトキシイミノ−２
   −（４−チアゾリル）アセトアミドシー５−セフェム−
   ４−カルボン酸のビバロイルオ中ジメチルエステル（シ
   ン異性体）、および ７−〔２−カルボキシメトキクインノー２−（４−チア
   シリ−）アセトアンドツー６−セフェム−４−カルボ／
   酸の（５−メチル−２−オキソ−１，５ｕキソ〜ルー４
   −イル）メチルエステル（シン異性体）よりなる群から
   選ばれた特許請求の範囲第６項記載の化合物。 ８　Ｒがカルボキシ（低級）アルキルまたは低級アルコ
   キシカルボニル（低級）アルキルであり、Ｒ２がカルボ
   キシであや、Ｒ５が水素であり　Ｒ４が低級アルキルで
   ある特許請求の範囲８１５項記載の化合物。 ９．７＝［２−カルボキシメトキシイ（〕−２−（４−
   チアゾリル）アセトアミドシー５−メチル−５−セフェ
   ム−４−カルボ／酸（り／異性体）である特許請求の範
   囲第８項記載の化合物。 １０　　Ｒがカルボキシ（低級）アルキルまたは低級ア
   ルコキシカルボニル（低級）アルキルでる’ｐ、Ｒ２が
   カルボキシであ〉、Ｒ５が低級アルキルで６リ　Ｒ４が
   水嵩である特許請求の範囲第５項記載の化合物。 １１７−（２−カルボキシメトキクインノー２−（４−
   チアゾリル）アセトアミド）−２−メチル−５−セフェ
   ム−４−カルボ７酸（シン異性体）である特許請求の範
   囲第１０項に載の化合物。 １２、Ｒがカルｌキシ（低！りアルキルまたは低級アル
   コキシカルボニル（低級）アルキルでＴｏ曳Ｒがカルｌ
   キシまたはニトロ基を有するアル（低級）アルコキシカ
   ルボニルで６）、Ｒ５が水軍でめ９、Ｒ４が低級アルコ
   キシである特許請求の範囲第３現記＠０化合物。 １ｉＳ、７−［２−カルボキシメトキシインノー２−（
   ４−チアゾリル）ア竜トアンド］−３−メトキシ−３−
   セフェム−４−カルボン酸（シン異性体である特許請求
   の範囲第１２ｇ記載の化合物。 １４、Ｒがカルボキシ（低級）アルキルまたは低級アル
   コキシカルボニル（低ａ）アル牛ルテあＬＲ２がカルｌ
   キシであシ　Ｒ３が水素であり　Ｒ４が低級アルヵノイ
   ルオ中ジメチルである特許請求の範囲第３項記載の化合
   物。 １５．７−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４
   −デアゾリル）アセトアミド〕セファロスポラン酸（シ
   ン異性体）でおる特許請求の範囲＠１４項紀畝の化合物
   。 １６．１１　　がカルボキシ（低級）アルキルまたは低
   級アルコキシカルボニル（低級）アルキルであり　Ｒ２
   がカルボキシまたはアル（低Ｍ）アルコキシカルボニル
   で６！ｌｌ１％Ｒ５が水軍であり、Ｒ４が低級アルキル
   チオメチルである％＃！Ｆ趙求の範囲第３項記載の化合
   物。 １７．７−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４
   −チアゾリル）アセトアミドシー５−メチルチオメチル
   −３−セフェム−４−カルボン１ｍ２（シン異性体）で
   ある特許蹟求Ｏ梶囲＠１６項記載の化合物。 １８１Ｒ’　　がカルボキシ（低級）アルキルまたは低
   級アルコキシカルｌニル（低Ｍ）アルキルでありｂ”　
   がカルボキシまたはアル（低級）アルコキシカルボニル
   でありｓＲ’　が水軍であり、４ Ｒが低級アルコキシメチルである特許請求の範囲ｊＩＳ
   項記載の化合物。 １９．７−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４
   −チアゾリル）アセトアンドツー６−メドキクメチルー
   ５−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）でるる特
   許請求の範囲５１１８項記載の化合物。 ２０、Ｒがカルボ千シ（低級）アル中ルまたは低級アル
   コｄ？７カルボニル（低級）アル中ルで６７％Ｒ２がカ
   ルボキクまたはニトロ基を有するアル（低級）アルコ中
   ジカルボニルでめり、Ｒ５が水素で多シ　Ｒ４が−ログ
   ンである特許請求の範ｌｌｉ嬉３項と絨の化合物。 ２１．７−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４
   −チアゾリル）アセトアミドゴー３−クロロ−３−セフ
   ェム−４−カルボン酸（シン異性体）である特許請求の
   範囲第２０項記載の化合物。 ２２、ＲがカルホキＶ（低級）アル呼ルまたは低級アル
   コ中ジカルボニル（低Ｍ）アルキルでルコキシカルポニ
   ルで６９　ｓ　”　が水素でおり、Ｒ４が低級アルケニ
   ルである特許請求の範囲第３項記幀の化合物。 ２５．７−（２−カルボキシメトキシイミノ−２−（４
   −チアゾリル）アセトアミドシー６−ピニルー３−セフ
   エム−４−カルボン酸（シン異性体）である特許請求の
   範囲第２２項１載の化合物。 ２４、　（１）　　一般式： 〔式中　Ｒ２はカルボキシまたＬ保−されたカルボキシ
   、Ｒ５は水素また昧低級アルキル、Ｒ４ｕ低級アル午ル
   、低級アルコキシ、アンルオキシメテル、低級アルキル
   チオメチル、低級アルコキシメチル、ハロゲン、低級ア
   ルケニルまたは水Ｘ’にそれぞれ意味する〕で示される
   化合物もしくはそのアミノ基における反応性−導体また
   はそれらの塩類に一般式； 〔式中、　Ｒ’　ａカルボキシ（低級）アルキルまたＬ
   保護されたカルボキシ（低級）アルキルを意味する〕で
   示される化合物もしくはそのカルボキシ基における灰石
   性誘導体またはそれらの塩類を反応させて、一般式； 〔式中、Ｒ１，Ｒ２，Ｒ５，ｐ４はそれぞれ前と同じ意
   味〕で示される化合物またはその塩類を得るか、まえは （２）　　一般式： 〔式中　Ｒ２，ｘｓシよびＲ４はそれぞれ前と同じ意味
   であり　Ｒ１は保護されたカルボキシ（低級）アルキル
   を意味する〕で示される化合物また杜その塩類をくにお
   けるカルボキシ保臘基の脱離反応に付して、一般式； 〔式中、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はそれぞれ前と−１じ意味で
   ＆す、　ｌ（４ｉｆカカルキシ（低級）アルキルを意味
   する〕で示される化合物を九はその塩類金得るか、また
   は　（５）　　一般式； Ｃ式中、Ｒ１，Ｒ５，，４はそれぞれ前と岡じ意味でＴ
   ｏｃ、ｎ：は保護されたカルボキシを意味する〕で示さ
   れる化食物またはその塩類をくにおけるカルボ中シ保繰
   基の脱離反応に付して、一般式： 〔式中　Ｒ１，Ｒ５，Ｒ４はそれぞれ前と同じ意味〕で
   示される化合物またはその塩類を得るか、または　（リ
   　一般式： 〔式中　ｕ　１．　Ｒ５，Ｒ４はそれぞれ前と同じ意味
   〕で示される化合物またはその塩類をエステル化反応に
   付して、一般式： 〔式中　ｕｌ、Ｒ５，Ｒ４はそれぞれ前と同じ意味でこ
   とを特徴とする、一般式： 〔式中、Ｎ　Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４はそれぞれ前と同じ意味
   〕で示される化合物またはその塩類の製造法。 ２５一般式： 〔式中、Ｒはカルボキシ（低級）アルキルまたは保−さ
   れたカルボキシ（低級）アルキル　Ｒ６はカルボキシま
   たは保護され九カルボキシをそれぞれ意味する〕で示さ
   れる化合物およびその塩類。 ２６　（ｔ）　　一般式： で示される化合物を九はその塩類に、一般式：Ｒ−０−
   Ｎｌ２ 〔式中、ｎ　　ｉｉカカルキシ（低級）アルキルまたは
   保−されたカルボキシ（低級）アルキルを意味する〕で
   示される化合物またはその塩類を反応させて、一般式： 〔式中、Ｒ１は前と同じ意味〕で示される化合物または
   その塩類を得るか、または （２）一般式： 〔式中、Ｒは前と同じ意味であり、Ｒ’　Ｇよりルポキ
   Ｖまたは保護されたカルボキシを意味する〕で示される
   化合物またはその塩類を脱アミノ反応に付して、一般式
   ： 〔式中、Ｂｌ　　、ＨＡ　はそれぞれ前と同じ意味〕で
   示される化合物またはその塩類を得る力・、または、 （５）一般式： 〔式中、Ｒ１は前と同じ意味であり、Ｒ’　ｔよ保護さ
   れたカルボキシを意味する〕で示さオする化合物または
   その塩類をＲ７における力〜ボキシ保護基の脱離反応に
   付して、一般式： 〔式中、Ｒ１眸前と同じ意味〕で示されるイし金物また
   はその塩類を得ることを特徴とする、一般式： 〔式中、Ｒ１、Ｒ６はそれぞれ前と同じ意味〕で示され
   る化合物またはその塩類の製造法。 ２７、一般式 〔式中　Ｒ１はカルボキシ（低級）アルキルまたは保護
   された力〃ホキＶ（低級）アルキル、Ｒ２は力〜ボキシ
   または保護された力μポキシ、Ｒ３は水素または低級ア
   ルキル、Ｒ４は低級アルキル、低級アルコキシ、アシル
   オキシメチル、低級アル中ルチオメチル、低級アルコキ
   シメチル、ハロゲン、低級アルケニルまたは水素をそれ
   ぞれ意味する〕で示される化合物またはその塩類を有効
   成分とする細菌感染症予防・治−粋