JPS5840552A - メタルマスク基板 - Google Patents
メタルマスク基板Info
- Publication number
- JPS5840552A JPS5840552A JP56138927A JP13892781A JPS5840552A JP S5840552 A JPS5840552 A JP S5840552A JP 56138927 A JP56138927 A JP 56138927A JP 13892781 A JP13892781 A JP 13892781A JP S5840552 A JPS5840552 A JP S5840552A
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- JP
- Japan
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- substrate
- mask substrate
- metal
- thin film
- metallic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は半導体装置ｆ、製造する工程においてウェーハ
に施す７オトマスキングの際に使用さｎるフォトマスク
基板に関するものである。
に施す７オトマスキングの際に使用さｎるフォトマスク
基板に関するものである。
フォトマスクの概略を説明すると、メタルプレート基板
上に蒸着あるいはスパッタリング法により金属薄膜を塗
布し、該金属薄膜に所望のパターンを形成させたもので
おる。ここで使用さｎるメタルマスク基板は現在５１０
（１２７ｍｍ口、板厚α０９１）が主［を占めているが
近年のＩｃの微細、為密度化及びメタルマスクの大型化
に伴って６１ｃ′（１５２ｍｍ’）のメタルマスクの使
用が計画、実行さ扛ている。
上に蒸着あるいはスパッタリング法により金属薄膜を塗
布し、該金属薄膜に所望のパターンを形成させたもので
おる。ここで使用さｎるメタルマスク基板は現在５１０
（１２７ｍｍ口、板厚α０９１）が主［を占めているが
近年のＩｃの微細、為密度化及びメタルマスクの大型化
に伴って６１ｃ′（１５２ｍｍ’）のメタルマスクの使
用が計画、実行さ扛ている。
従来メタルマスク及び基板のハンドリング方法は自動的
に行うものも少数有ったが、その殆んどは人間の手（指
）が介在するものであった。今まで最大 １ｏ のメタ
ルマスク基板においてその対辺を片手で押えメタルマス
ク基板の内部は汚さない様にハンドリングを行うことが
可能でめった。
に行うものも少数有ったが、その殆んどは人間の手（指
）が介在するものであった。今まで最大 １ｏ のメタ
ルマスク基板においてその対辺を片手で押えメタルマス
ク基板の内部は汚さない様にハンドリングを行うことが
可能でめった。
しかしながら６′。のメタルマスク基板は１辺の長さが
１５２ｍｍと長くその対辺を片手で押え保持することが
不可能となった。又無塩に片手で保持しようとすると、
メタルマスク基板の金属膜に指紋等の汚ｒＬを付層させ
ると菖う不都合が生じていた。
１５２ｍｍと長くその対辺を片手で押え保持することが
不可能となった。又無塩に片手で保持しようとすると、
メタルマスク基板の金属膜に指紋等の汚ｒＬを付層させ
ると菖う不都合が生じていた。
本発明はこの不都合１解消すべく行なわｎたものでるり
、メタルマスク基板の一部分又は複数部分に金属＃楓を
着しない・・ンドリンク用保持部を設けたことｆ：％徴
とするメタルマスク基板を提供するものである。
、メタルマスク基板の一部分又は複数部分に金属＃楓を
着しない・・ンドリンク用保持部を設けたことｆ：％徴
とするメタルマスク基板を提供するものである。
本発明を実施例を用いて以下に説明する。すなわち第１
図において、ンーダライム系ガラス、低膨張５石英基板
等のメタルプレート基板ｌ上に金属薄膜２を有する領域
と金属薄ｊ１ｇを有しない領域の保持部３から成るメタ
ルマスク基板でおる。
図において、ンーダライム系ガラス、低膨張５石英基板
等のメタルプレート基板ｌ上に金属薄膜２を有する領域
と金属薄ｊ１ｇを有しない領域の保持部３から成るメタ
ルマスク基板でおる。
本実施例を実現するためには、金Ｊ４薄膜２を塗Ｉｔｉ
する除第２図に示すようなホルダー４のごとく該ホルダ
ー４のガイド６の内側にメタルプレート基板ｌを固定し
、蒸着あるいはスパッタリング用旧具として使用するこ
とにより金属薄膜２はホルダー４の憇５の領域にのみし
か塗布さｎず、メタルプレート基板ｌの４隅には、金属
薄膜２ｔ−有しない領域の保持部３が形成さｎる０本実
施例において該保持部３の三角形の面積は４〜８ ｃｍ
”が最適であった。
する除第２図に示すようなホルダー４のごとく該ホルダ
ー４のガイド６の内側にメタルプレート基板ｌを固定し
、蒸着あるいはスパッタリング用旧具として使用するこ
とにより金属薄膜２はホルダー４の憇５の領域にのみし
か塗布さｎず、メタルプレート基板ｌの４隅には、金属
薄膜２ｔ−有しない領域の保持部３が形成さｎる０本実
施例において該保持部３の三角形の面積は４〜８ ｃｍ
”が最適であった。
このようにして製造さｎたメタルマスク基板においては
保持部３の裏表を使用し指で挾み保持することが可能と
なり金属薄膜２ｔ−汚すことなくメタルマスク基板をハ
ンドリングすることが可能となる。
保持部３の裏表を使用し指で挾み保持することが可能と
なり金属薄膜２ｔ−汚すことなくメタルマスク基板をハ
ンドリングすることが可能となる。
以上述べたように本発明によｎばメタルマスク基板が大
型化してもそのハンドリングは容易となり従来の不都合
が解消さｎることは明らかである。
型化してもそのハンドリングは容易となり従来の不都合
が解消さｎることは明らかである。
第１図は本発明の１実施例を示す正面図及び側聞図、第
２図は本実施例を実現させるための蒸着及びスパッタリ
ング用のメタルプレート基板のホルダー正圓図である。 向１図において、ｌ・・・・・・メタルプレート基板。 ２・・・・・・金属薄膜、３・・・・・・保持部、４・
・・・・・ホルダー。 ５・・・・・・窓、６・・・・・・ガイドでめる。
２図は本実施例を実現させるための蒸着及びスパッタリ
ング用のメタルプレート基板のホルダー正圓図である。 向１図において、ｌ・・・・・・メタルプレート基板。 ２・・・・・・金属薄膜、３・・・・・・保持部、４・
・・・・・ホルダー。 ５・・・・・・窓、６・・・・・・ガイドでめる。
Claims (1)
- フォトマスク用メタルマスク基板に於いて、該メタルマ
スク基板の一部分又は複数部分に金属薄膜を有しないハ
ンドリング用保持部を設けたことｔ−％徴とするメタル
マスク基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56138927A JPS5840552A (ja) | 1981-09-03 | 1981-09-03 | メタルマスク基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56138927A JPS5840552A (ja) | 1981-09-03 | 1981-09-03 | メタルマスク基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5840552A true JPS5840552A (ja) | 1983-03-09 |
Family
ID=15233384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56138927A Pending JPS5840552A (ja) | 1981-09-03 | 1981-09-03 | メタルマスク基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5840552A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61124942A (ja) * | 1984-11-22 | 1986-06-12 | Asahi Glass Co Ltd | フオトマスクブランク及びその製造方法 |
| JPH01148843U (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-16 |
-
1981
- 1981-09-03 JP JP56138927A patent/JPS5840552A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61124942A (ja) * | 1984-11-22 | 1986-06-12 | Asahi Glass Co Ltd | フオトマスクブランク及びその製造方法 |
| JPH01148843U (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-16 |
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