JPH0530347Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0530347Y2 JPH0530347Y2 JP1987098526U JP9852687U JPH0530347Y2 JP H0530347 Y2 JPH0530347 Y2 JP H0530347Y2 JP 1987098526 U JP1987098526 U JP 1987098526U JP 9852687 U JP9852687 U JP 9852687U JP H0530347 Y2 JPH0530347 Y2 JP H0530347Y2
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- Japan
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- ray
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- frame
- transparent thin
- thin film
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- Expired - Lifetime
Links
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 22
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 18
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 14
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 6
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 4
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 description 3
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Description
【考案の詳細な説明】
〔考案の目的〕
(産業上の利用分野)
本考案は微細パタンを高精度に転写するX線リ
ソグラフイーに用いるX線露光用マスクに係り、
とりわけ搬送作業を確実に行うことができるX線
露光用マスクに関する。
ソグラフイーに用いるX線露光用マスクに係り、
とりわけ搬送作業を確実に行うことができるX線
露光用マスクに関する。
(従来の技術)
従来、X線リソグラフイーに用いるX線露光用
マスクとして、内部に窓が形成された中空状支持
板と、この支持板の一面側に形成されたX線透過
性薄膜と、支持板の他面側に形成されたエツチン
グ保護膜と、X線透過性薄膜の外面に設けられた
X線吸収パタンとを備えたものが知られている。
マスクとして、内部に窓が形成された中空状支持
板と、この支持板の一面側に形成されたX線透過
性薄膜と、支持板の他面側に形成されたエツチン
グ保護膜と、X線透過性薄膜の外面に設けられた
X線吸収パタンとを備えたものが知られている。
また、X線リソグラフイーにおいては、波長4
Å〜数+Åの軟X線を使用するため、X線透過性
薄板は非常に薄く形成されている。例えばX線透
過性薄膜がSiN膜の場合は1〜3μm,BN膜とポ
リイミド膜の積層の場合では5.5〜6.5μmの厚さと
なつている。さらに中空状支持板はX線透過性薄
膜を支持するものであり、数百μm〜数mmの厚さ
のSiウエハを加工して用いられている。
Å〜数+Åの軟X線を使用するため、X線透過性
薄板は非常に薄く形成されている。例えばX線透
過性薄膜がSiN膜の場合は1〜3μm,BN膜とポ
リイミド膜の積層の場合では5.5〜6.5μmの厚さと
なつている。さらに中空状支持板はX線透過性薄
膜を支持するものであり、数百μm〜数mmの厚さ
のSiウエハを加工して用いられている。
このようにX線露光用マスクは全体としても非
常に薄く構成されているため、機械的強度が弱く
なつている。このためX線露光用マスクの機械的
強度を向上させるために、補強用の枠体を取付け
たX線露光用マスクが考えられている。
常に薄く構成されているため、機械的強度が弱く
なつている。このためX線露光用マスクの機械的
強度を向上させるために、補強用の枠体を取付け
たX線露光用マスクが考えられている。
(考案が解決しようとする問題点)
ところで、X線露光用マスクは、ベルト掛けま
たはローダ等による搬送装置によつて搬送されて
使用される。この場合、上述したような機械的強
度を向上させることを主な目的とする補強用枠体
に、ベルトやローダ等の搬送装置と係合する係合
部を形成しておけば、X線露光用マスクの搬送作
業が容易となり都合がよい。
たはローダ等による搬送装置によつて搬送されて
使用される。この場合、上述したような機械的強
度を向上させることを主な目的とする補強用枠体
に、ベルトやローダ等の搬送装置と係合する係合
部を形成しておけば、X線露光用マスクの搬送作
業が容易となり都合がよい。
本考案は、このような点を考慮してなされたも
のであり、搬送作業を確実にかつ容易に行うこと
ができるX線露光用マスクを提供することを目的
とする。
のであり、搬送作業を確実にかつ容易に行うこと
ができるX線露光用マスクを提供することを目的
とする。
(問題点を解決するための手段)
本考案は、内部に窓が形成された中空状支持板
と、この支持板の一面側に形成されたX線透過性
薄膜と、前記支持板の他面側に形成されたエツチ
ング保護膜と、前記X線透過性薄膜の外面に設け
られたX線吸収パタンとを備え、搬送装置によつ
て搬送されるX線露光用マスクにおいて、前記エ
ツチング保護膜の外面に、前記窓と対応する位置
に空洞が形成された中空状の補強用枠体を取付
け、この枠体の外周に前記搬送装置と係合する係
合部を設けたことを特徴としている。
と、この支持板の一面側に形成されたX線透過性
薄膜と、前記支持板の他面側に形成されたエツチ
ング保護膜と、前記X線透過性薄膜の外面に設け
られたX線吸収パタンとを備え、搬送装置によつ
て搬送されるX線露光用マスクにおいて、前記エ
ツチング保護膜の外面に、前記窓と対応する位置
に空洞が形成された中空状の補強用枠体を取付
け、この枠体の外周に前記搬送装置と係合する係
合部を設けたことを特徴としている。
(作用)
補強用枠体が取付けられているので、X線露光
用マスクの機械的強度を向上させることができ、
また枠体の外周に設けられた係合部を搬送装置と
係合させることによつて、確実な搬送作業を行う
ことができる。
用マスクの機械的強度を向上させることができ、
また枠体の外周に設けられた係合部を搬送装置と
係合させることによつて、確実な搬送作業を行う
ことができる。
(実施例)
以下、図面を参照して本考案の実施例について
説明する。
説明する。
第1図乃至第3図は本考案によるX線露光用マ
スクの一実施例を示す図である。第1図におい
て、内部に窓5が形成された中空状の支持板3の
一面側にX線透過性薄膜2が形成され、支持板3
の他面側および側面にエツチング保護膜4が形成
されている。この支持板3は境面研磨されたSiウ
エハ基板により形成され、またX線透過性薄膜2
およびエツチング保護膜4はSiN膜により形成さ
れている。また、X線透過性薄膜2の外面にはW
膜またはTa膜からなるX線吸収性パタン1が設
けられている。
スクの一実施例を示す図である。第1図におい
て、内部に窓5が形成された中空状の支持板3の
一面側にX線透過性薄膜2が形成され、支持板3
の他面側および側面にエツチング保護膜4が形成
されている。この支持板3は境面研磨されたSiウ
エハ基板により形成され、またX線透過性薄膜2
およびエツチング保護膜4はSiN膜により形成さ
れている。また、X線透過性薄膜2の外面にはW
膜またはTa膜からなるX線吸収性パタン1が設
けられている。
一方、第2a図および第2b図に示すように、
空洞6aが形成された中空ドーナツ状の枠体6の
外周に、連続した溝7が設けられている。枠体6
はホウ珪酸ガラス、石英ガラス等の熱膨張率の小
さいガラスまたはセラミツクにより形成されてお
り、外径80mm、内径40mm、厚さが3mmとなつてい
る。また枠体6の外周に設けられた溝7は幅1
mm、深さが0.5mmとなつている。
空洞6aが形成された中空ドーナツ状の枠体6の
外周に、連続した溝7が設けられている。枠体6
はホウ珪酸ガラス、石英ガラス等の熱膨張率の小
さいガラスまたはセラミツクにより形成されてお
り、外径80mm、内径40mm、厚さが3mmとなつてい
る。また枠体6の外周に設けられた溝7は幅1
mm、深さが0.5mmとなつている。
この枠体6は第3図に示すように、エツチング
保護膜4の外面にエポキシ系接着剤8で貼着され
ている。また枠体の空洞6aは支持板3の窓5と
対応する位置に形成されており、また枠体6の外
径は支持板3の外径より30mm程度大きくなつてい
る。
保護膜4の外面にエポキシ系接着剤8で貼着され
ている。また枠体の空洞6aは支持板3の窓5と
対応する位置に形成されており、また枠体6の外
径は支持板3の外径より30mm程度大きくなつてい
る。
このように構成されたX線露光用マスクは次の
ように作成される。
ように作成される。
まず、厚さ0.3〜4mmの境面研磨されたSiウエ
ハ基板製の支持板3上の両面に、CVD装置によ
つて厚さ3μmのSiN膜を形成する。そして、一面
側をX線透過性薄膜2とし、他面側にフオトレジ
スタパタンをマスクにして不要部をエツチング除
去することによつてエツチング保護膜4を形成す
る。
ハ基板製の支持板3上の両面に、CVD装置によ
つて厚さ3μmのSiN膜を形成する。そして、一面
側をX線透過性薄膜2とし、他面側にフオトレジ
スタパタンをマスクにして不要部をエツチング除
去することによつてエツチング保護膜4を形成す
る。
続いて、X線透過性薄膜2上にW膜またはTa
膜からなる厚さ1μmのX線吸収性パタンの材料層
をスパツタリング法により形成する。そして、X
線吸収性パタンの材料層に例えば通常の電子線描
画法等によりレジストパタンを形成し、それをマ
スクにしてドライエツチングすることにより、X
線吸収性パタン1を形成する。
膜からなる厚さ1μmのX線吸収性パタンの材料層
をスパツタリング法により形成する。そして、X
線吸収性パタンの材料層に例えば通常の電子線描
画法等によりレジストパタンを形成し、それをマ
スクにしてドライエツチングすることにより、X
線吸収性パタン1を形成する。
続いて、30%水酸化カリウム水溶液によつて、
裏面のエツチング保護膜4をマスクとして支持板
3を裏面からエツチングし、窓5を形成する。
裏面のエツチング保護膜4をマスクとして支持板
3を裏面からエツチングし、窓5を形成する。
続いて、あらかじめ内部に空洞6aが形成され
た枠体6の外周に連続した溝7を設ける。この溝
7は機械研削により設けてもよいが、切子により
溝7を切断した後、酸に浸してこの溝7の切断面
を滑らかにしてもよい。
た枠体6の外周に連続した溝7を設ける。この溝
7は機械研削により設けてもよいが、切子により
溝7を切断した後、酸に浸してこの溝7の切断面
を滑らかにしてもよい。
続いてこの枠体6をエポキシ系接着材8を介し
てエツチング保護膜4の外面に取付ける。次にこ
の状態で90℃のオーブン(図示せず)内に収納し
て1時間加熱し、エポキシ系接着材8を硬化させ
て枠体6をエツチング保護膜4の外面に堅固に貼
着させる。
てエツチング保護膜4の外面に取付ける。次にこ
の状態で90℃のオーブン(図示せず)内に収納し
て1時間加熱し、エポキシ系接着材8を硬化させ
て枠体6をエツチング保護膜4の外面に堅固に貼
着させる。
このような手順によりX線露光用マスクが作成
される。
される。
本実施例によれば、補強用の枠体6が取付けら
れているのでX線露光用マスクの機械的強度を向
上させることができる。また、枠体6の外周には
溝7が設けられているので、この溝7を搬送装置
のベルト等に係合させることによつてX線露光用
マスクの搬送作業を確実かつ容易に行うことがで
きる。さらにX線露光用マスクの搬送時に、X線
透過性薄膜2上に搬送装置が接触することはない
ので、X線透過性薄膜2の表面へのゴミの付着や
キズの発生を防止することができる。
れているのでX線露光用マスクの機械的強度を向
上させることができる。また、枠体6の外周には
溝7が設けられているので、この溝7を搬送装置
のベルト等に係合させることによつてX線露光用
マスクの搬送作業を確実かつ容易に行うことがで
きる。さらにX線露光用マスクの搬送時に、X線
透過性薄膜2上に搬送装置が接触することはない
ので、X線透過性薄膜2の表面へのゴミの付着や
キズの発生を防止することができる。
なお、上記実施例において、枠体6の外径を支
持板3の外径より大きくした例を示したが、枠体
6の外径を約10mm程度まで支持板3の外径より小
さくしてもよい。
持板3の外径より大きくした例を示したが、枠体
6の外径を約10mm程度まで支持板3の外径より小
さくしてもよい。
また、枠体6がドーナツ状となつている例を示
したが、これに限らず枠体6を矩形状としてもよ
い。この場合、枠体6の1辺の長さは支持板3の
外径に対して10mm程度小さい長さから30mm程度大
きい長さの範囲内にあることが好ましい。
したが、これに限らず枠体6を矩形状としてもよ
い。この場合、枠体6の1辺の長さは支持板3の
外径に対して10mm程度小さい長さから30mm程度大
きい長さの範囲内にあることが好ましい。
さらに、枠体6の外周に連続的に溝7を設けて
搬送装置と係合する係合部とした例を示したが、
係合部として溝の代わり枠体の外周に連続的に突
出部を設けてもよい。また、この溝または突出部
は1本に限らず2本または3本のものでもよく、
連続的なものに限らず断続的なものでもよい。
搬送装置と係合する係合部とした例を示したが、
係合部として溝の代わり枠体の外周に連続的に突
出部を設けてもよい。また、この溝または突出部
は1本に限らず2本または3本のものでもよく、
連続的なものに限らず断続的なものでもよい。
この溝または突出部の形状は、矩形、丸味のあ
る矩形、半円形、および三角形のものが考えら
れ、また、その寸法は幅が0.2〜5mm、深さが0.2
〜5mm程度のものが好ましい。
る矩形、半円形、および三角形のものが考えら
れ、また、その寸法は幅が0.2〜5mm、深さが0.2
〜5mm程度のものが好ましい。
本考案によれば、X線露光用マスク全体の機械
的強度を向上させることができ、確実な搬送作業
を行うことができる。また、搬送時にX線透過性
薄膜等へのゴミの付着およびキズの発生を防止す
ることができる。
的強度を向上させることができ、確実な搬送作業
を行うことができる。また、搬送時にX線透過性
薄膜等へのゴミの付着およびキズの発生を防止す
ることができる。
第1図は本考案によるX線露光用マスクの一実
施例を示す側断面図であつて枠体を除いた図、第
2a図は枠体の平面図、第2b図は枠体の側断面
図、第3図は枠体を取付けたX線露光用マスクを
示す側断面図である。 1……X線吸収性パタン、2……X線透過性薄
膜、3……支持板、4……エツチング保護膜、5
……窓、6……枠体、7……溝、8……エポキシ
性接着材。
施例を示す側断面図であつて枠体を除いた図、第
2a図は枠体の平面図、第2b図は枠体の側断面
図、第3図は枠体を取付けたX線露光用マスクを
示す側断面図である。 1……X線吸収性パタン、2……X線透過性薄
膜、3……支持板、4……エツチング保護膜、5
……窓、6……枠体、7……溝、8……エポキシ
性接着材。
Claims (1)
- 内部に窓が形成された中空状支持板と、この支
持板の一面側に形成されたX線透過性薄膜と、前
記支持板の他面側に形成されたエツチング保護膜
と、前記X線透過性薄膜の外面に設けられたX線
吸収パタンとを備え、搬送装置によつて搬送され
るX線露光用マスクにおいて、前記エツチング保
護膜の外面に、前記窓と対応する位置に空洞が形
成された中空状の補強用枠体を取付け、この枠体
の外周に前記搬送装置と係合する係合部を設けた
ことを特徴とするX線露光用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987098526U JPH0530347Y2 (ja) | 1987-06-29 | 1987-06-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987098526U JPH0530347Y2 (ja) | 1987-06-29 | 1987-06-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS645434U JPS645434U (ja) | 1989-01-12 |
| JPH0530347Y2 true JPH0530347Y2 (ja) | 1993-08-03 |
Family
ID=31324878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987098526U Expired - Lifetime JPH0530347Y2 (ja) | 1987-06-29 | 1987-06-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0530347Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-06-29 JP JP1987098526U patent/JPH0530347Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS645434U (ja) | 1989-01-12 |
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