JPS5842174B2 - 6,10−ジメチル−6,9−ウンデカジエン−2−オン - Google Patents
6,10−ジメチル−6,9−ウンデカジエン−2−オンInfo
- Publication number
- JPS5842174B2 JPS5842174B2 JP10756779A JP10756779A JPS5842174B2 JP S5842174 B2 JPS5842174 B2 JP S5842174B2 JP 10756779 A JP10756779 A JP 10756779A JP 10756779 A JP10756779 A JP 10756779A JP S5842174 B2 JPS5842174 B2 JP S5842174B2
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- JP
- Japan
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- dimethyl
- reaction
- methyl
- undecadien
- double bond
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は下記式
%式%
で示される6、10−ジメチル−6,9−ウンデカジエ
ン−2−オンに関する。
ン−2−オンに関する。
上記構造式から明らかなように本発明の化合物はテルペ
ン系ケトンであるが、従来の炭素数13のテルペン系ケ
トンとは、6位または9位の二重結合の位置に関して相
違する。
ン系ケトンであるが、従来の炭素数13のテルペン系ケ
トンとは、6位または9位の二重結合の位置に関して相
違する。
詳述すれば、公知の6,10−ジメチル−5,9−ラン
チカシエン−2−オン(スナワちゲラニルアセトン) はγδ−不飽和であるのに対して本発明の化合物はδε
−不飽和であり、また公知の6,10−ジメチル−6,
10−ウンデカジエン−2−オン(J、Am、Chem
、Soc、97.6870(1975))は末端不飽和
であるのに対して本発明の化合物はその隣接位置が不飽
和である。
チカシエン−2−オン(スナワちゲラニルアセトン) はγδ−不飽和であるのに対して本発明の化合物はδε
−不飽和であり、また公知の6,10−ジメチル−6,
10−ウンデカジエン−2−オン(J、Am、Chem
、Soc、97.6870(1975))は末端不飽和
であるのに対して本発明の化合物はその隣接位置が不飽
和である。
これらのC13−テルペンケトンの炭素−炭素二重結合
の位置はそれらの製造方法によってそれぞれ定まるもの
であるから、ある位置の二重結合はそれと隣接する位置
に二重結合を有する化合物を示唆するものでなく、また
単なる原料転換によって二重結合の位置の相違する生成
物が同様の方法によって得られることを示唆するもので
もない。
の位置はそれらの製造方法によってそれぞれ定まるもの
であるから、ある位置の二重結合はそれと隣接する位置
に二重結合を有する化合物を示唆するものでなく、また
単なる原料転換によって二重結合の位置の相違する生成
物が同様の方法によって得られることを示唆するもので
もない。
各種テルペン化合物を製造するための重要な中間体であ
る前記のゲラニルアセトンは、プレニルクロライドとア
セトンとの反応あるいはアセトンのエチニル化および部
分水素添加後のジケテンとの反応により得られるメチル
へブテノンをエチニル化し、次いで部分水素添加し、得
られるリナロールをジケテンと反応させることによって
製造される。
る前記のゲラニルアセトンは、プレニルクロライドとア
セトンとの反応あるいはアセトンのエチニル化および部
分水素添加後のジケテンとの反応により得られるメチル
へブテノンをエチニル化し、次いで部分水素添加し、得
られるリナロールをジケテンと反応させることによって
製造される。
(例えば特公昭32−7764号)この方法は多数工程
を要することに加え、比較的高価なジケテンを鎖伸長剤
に使用することが難点と考えられるにもかかわらず、 代表的製法として古くから 採用されている。
を要することに加え、比較的高価なジケテンを鎖伸長剤
に使用することが難点と考えられるにもかかわらず、 代表的製法として古くから 採用されている。
上記反応において5位の二重結合はリナロールとジケテ
ンとの反応(キャロル転位反応)によって生じるもので
あり、二重結合位置の相違する対応原料の使用による二
重結合位置異性体の製造は不可能である。
ンとの反応(キャロル転位反応)によって生じるもので
あり、二重結合位置の相違する対応原料の使用による二
重結合位置異性体の製造は不可能である。
したがって、二重結合の位置またはその存在が問題とさ
れない場合、たとえばヘキサバイトロブソイトヨノン(
ユ、」7、(o)を経由してインフィトールを製造する
場合においても≠ゲラニルアセトンは重要な中間体とし
て用いられているのである。
れない場合、たとえばヘキサバイトロブソイトヨノン(
ユ、」7、(o)を経由してインフィトールを製造する
場合においても≠ゲラニルアセトンは重要な中間体とし
て用いられているのである。
また6、10−ジメチル−6゜10−ウンデカジエン−
2−オンはイソブチルマグネシウムクロライドとイソプ
レンとをチタン系触媒の存在下で反応させ、得られた2
、6−シメチルー2,6−へブタジェン−1−イルマク
ネシウムクロライドをメチルビニルケトンと反応させる
ことにより調製される。
2−オンはイソブチルマグネシウムクロライドとイソプ
レンとをチタン系触媒の存在下で反応させ、得られた2
、6−シメチルー2,6−へブタジェン−1−イルマク
ネシウムクロライドをメチルビニルケトンと反応させる
ことにより調製される。
上記反応においても、二重結合位置の異なる出発物質の
使用により対応する不飽和ケトンを得ることはできない
。
使用により対応する不飽和ケトンを得ることはできない
。
このように本発明の6,10−ジメチル−6゜9−ウン
デカジエン−2−オンは、従来のC13テルペンケトン
およびその製法から予期されない位置に炭素−炭素二重
結合を有するものであるが、当然ながらその製法も従来
の方法と全く相違する。
デカジエン−2−オンは、従来のC13テルペンケトン
およびその製法から予期されない位置に炭素−炭素二重
結合を有するものであるが、当然ながらその製法も従来
の方法と全く相違する。
詳述すれば本発明の不飽和ケトンはプレニルハライドと
メシチルオキシドとの反応により得られる置換ケトンを
エチニル化し、そして部分水素添加したのち加熱して転
位(オキシ・コープ転位)させることにより製造される
のである。
メシチルオキシドとの反応により得られる置換ケトンを
エチニル化し、そして部分水素添加したのち加熱して転
位(オキシ・コープ転位)させることにより製造される
のである。
反応は次式%式%
本発明の不飽和ケトンはC13−テルペン系ケトンが用
いられるのと同様の用途たとえばインフィトールまたは
スクワランの製造に用いることができる。
いられるのと同様の用途たとえばインフィトールまたは
スクワランの製造に用いることができる。
次に実施例により本発明を具体的に洋間する。
実施例 1゜
水酸化ナトリウム600g−水490.?の溶液中にメ
シチルオキサイド980 g、プレニルクロライド52
0g、トリメチルステアリルアンモニウムクロライド2
1を加え、水浴下撹拌を行い(反応温度は70℃まで上
昇)、2時間後に反応を終了した。
シチルオキサイド980 g、プレニルクロライド52
0g、トリメチルステアリルアンモニウムクロライド2
1を加え、水浴下撹拌を行い(反応温度は70℃まで上
昇)、2時間後に反応を終了した。
反応液を水にあけてエーテル抽出、水洗乾燥する。
溶媒を減圧留去したのち、残分125(lを蒸留して過
剰のメシチルオキサイドを回収し、後沸点物として3−
インプロペニル−6−メチル−5−ヘプテン−2−オン
と3−イソプロピリデン−6−メチル−5−ヘプテン−
2−オンの2.5対1混合物560gを得た(純度96
.4係)。
剰のメシチルオキサイドを回収し、後沸点物として3−
インプロペニル−6−メチル−5−ヘプテン−2−オン
と3−イソプロピリデン−6−メチル−5−ヘプテン−
2−オンの2.5対1混合物560gを得た(純度96
.4係)。
使用したプレニルクロライドの純度が83.71俤であ
ることから、3−イソプロペニル−6−メチル−5−へ
ブテン−2−オンの収率は60%、3−イソプロピリデ
ン−6−メチル−5−へブテン−2−オンの収率は2.
4饅であった。
ることから、3−イソプロペニル−6−メチル−5−へ
ブテン−2−オンの収率は60%、3−イソプロピリデ
ン−6−メチル−5−へブテン−2−オンの収率は2.
4饅であった。
上記混合物を理論段数30段の精密蒸留塔を用いて蒸留
分離すると、bp32〜34°C(0,2mmHg)の
留分からは3−イソプロペニル−6−メチル5−へブテ
ン−2−オンを、bp35〜388C(0,2mmHg
)の留分からは3−イソプロピリデン−6−メチル−
5−ヘプテン−2−オンをそれぞれ得た。
分離すると、bp32〜34°C(0,2mmHg)の
留分からは3−イソプロペニル−6−メチル5−へブテ
ン−2−オンを、bp35〜388C(0,2mmHg
)の留分からは3−イソプロピリデン−6−メチル−
5−ヘプテン−2−オンをそれぞれ得た。
これらの構造確認は以下の方法に依った。
赤外線吸収スペクトル(m’)1714(>C=0)。
1642にC−=Cぐ)1445,1378゜1353
.1153.900 核磁気共鳴スペクトル(in CCl4: ppm)1
.57 、1.58 each 819HCH31,
99s 、 3HCH3−C 1 2,03〜2.40 m 2H−CH2−■ 3.07 t IH−C−
CH++ 1 4.85 、4.89 each St 2H=CH
24,95、IHACH− ん2 赤外線吸収スペクト/l/(CrrL−リ、16s8(
:>c=o)。
.1153.900 核磁気共鳴スペクトル(in CCl4: ppm)1
.57 、1.58 each 819HCH31,
99s 、 3HCH3−C 1 2,03〜2.40 m 2H−CH2−■ 3.07 t IH−C−
CH++ 1 4.85 、4.89 each St 2H=CH
24,95、IHACH− ん2 赤外線吸収スペクト/l/(CrrL−リ、16s8(
:>c=o)。
1615 にC=Cて)1440,1375゜1350
.1278,1202,1170゜975.935.8
50 核磁気共鳴スペクトル(in cc14: ppm)1
.62 、1.70 、1.75 each s
12HCH3−2,05s 3HCH3C− 1 2,88d 2H−CH2− 4,97t IH−CH=C−得られた3−
イソプロピリデン−6−メチル5−へブテン−2−オン
130gは7gのtransl、2−シクロヘキサンジ
カルボン酸とともに理論段数50段の精密蒸留塔の塔底
に入れて減圧度30miHg、還流比30/1で異性化
しつつ蒸留して留出物107gを得た。
.1278,1202,1170゜975.935.8
50 核磁気共鳴スペクトル(in cc14: ppm)1
.62 、1.70 、1.75 each s
12HCH3−2,05s 3HCH3C− 1 2,88d 2H−CH2− 4,97t IH−CH=C−得られた3−
イソプロピリデン−6−メチル5−へブテン−2−オン
130gは7gのtransl、2−シクロヘキサンジ
カルボン酸とともに理論段数50段の精密蒸留塔の塔底
に入れて減圧度30miHg、還流比30/1で異性化
しつつ蒸留して留出物107gを得た。
このものはガスクロマトグラフィー分析の結果、3−イ
ソプロペニル−6−メチル−5−ヘプテン−2−オン(
94%)、3−イソプロピリデン−6−メチル−5−ヘ
プテソー2−オン(6φ)の混合物であった。
ソプロペニル−6−メチル−5−ヘプテン−2−オン(
94%)、3−イソプロピリデン−6−メチル−5−ヘ
プテソー2−オン(6φ)の混合物であった。
前記の3−イソプロペニル−6−メfルー5−へブテン
−2−オン410gと合せて次のエチニル化反応を行っ
た。
−2−オン410gと合せて次のエチニル化反応を行っ
た。
51−3つ目フラスコに液体アンモニア31を入れ、金
属ナトリウム70.9を加えた後、アセチレンガスを吹
込んだ。
属ナトリウム70.9を加えた後、アセチレンガスを吹
込んだ。
反応液が灰色になった時点で、アセチレンガスの吹込み
を中断し、3−インプロペニル−6−メチル−5−へフ
テンー2−.87517gを加え、次いでアセチレンガ
スを吹込んで3時間反応した。
を中断し、3−インプロペニル−6−メチル−5−へフ
テンー2−.87517gを加え、次いでアセチレンガ
スを吹込んで3時間反応した。
アンモニアの除去を行った1後、塩化アンモニウムで中
和し、水にあけてエーテル抽出した。
和し、水にあけてエーテル抽出した。
ボウ硝にて乾燥後、溶媒を減圧除去した。
残分524gは減圧蒸留してbp59〜61°C(0,
5間Hg )の留分519gを得た。
5間Hg )の留分519gを得た。
このものは3−イソプロペニル−6−メチル−5−へブ
テン−2−オン(2%)、3−イソプロピリデン−6−
メチル−5−へブテン−2−オン(8%)、4−イソプ
ロペニル−3,7−ジメーf−ルー6−オクテンー1−
イン−3−オール(90%)の混合物であった。
テン−2−オン(2%)、3−イソプロピリデン−6−
メチル−5−へブテン−2−オン(8%)、4−イソプ
ロペニル−3,7−ジメーf−ルー6−オクテンー1−
イン−3−オール(90%)の混合物であった。
生成物の構造確認は以下の方法に依った。
次に4−4ソプロペニル−3,7−シメチル−6=オク
テン−1−イン−3−オール500gをn−ヘキサン1
,51に溶解し、0.25%リンドラ−触媒25gを用
いて常温、常圧下に吹流し系で水素添加反応を行った。
テン−1−イン−3−オール500gをn−ヘキサン1
,51に溶解し、0.25%リンドラ−触媒25gを用
いて常温、常圧下に吹流し系で水素添加反応を行った。
反応の経時変化をガスクロマトグラフィー(PB020
M、150’C)にて分析し、原料プロパルギル型アル
コールの消失を確認して反応を終了した。
M、150’C)にて分析し、原料プロパルギル型アル
コールの消失を確認して反応を終了した。
触媒を炉別し、ろ液は減圧下に溶媒留去し、残分を真空
蒸留するとbp55〜59°G (0,4mmHg )
の留分として4−インプロペニル−3,7−シメチル−
1,6−オクタゲニン−3−オールを482g得た。
蒸留するとbp55〜59°G (0,4mmHg )
の留分として4−インプロペニル−3,7−シメチル−
1,6−オクタゲニン−3−オールを482g得た。
残分は再度高真空蒸留して、bp77〜82°G (0
,15iiHg)の留分12gを得た。
,15iiHg)の留分12gを得た。
このものは以下の分析により6,10−ジメチル−6,
9−ウンデカジエン−2−オンであることが明らかにな
った。
9−ウンデカジエン−2−オンであることが明らかにな
った。
4−インプロペニル−3,7−シメチルー1゜6−オク
タゲニン−3−オール482gを11の3つ目フラスコ
に入れて不活性ガス(N2またはHe)雰囲気下、内温
170〜iso’cにて3〜4時間加熱異性化反応させ
た。
タゲニン−3−オール482gを11の3つ目フラスコ
に入れて不活性ガス(N2またはHe)雰囲気下、内温
170〜iso’cにて3〜4時間加熱異性化反応させ
た。
反応液はそのまま真空蒸留して、低沸分である分解物2
,6−ジメチルへブタ−2,5−ジエン及び原料中の不
純物である3−イソプロペニル−6−メチル−5−ヘプ
テン−2−オンと3−インプロピリデン−6−メチル−
5−へブテン−2−オンの混合物140gを回収し、高
沸物としてbp75〜77°C(0,5mmHg)の留
分から転位生成物である6、10−ジメチル−6,9−
ウンデカジエン−2−オンを331g(純度98多)得
た。
,6−ジメチルへブタ−2,5−ジエン及び原料中の不
純物である3−イソプロペニル−6−メチル−5−ヘプ
テン−2−オンと3−インプロピリデン−6−メチル−
5−へブテン−2−オンの混合物140gを回収し、高
沸物としてbp75〜77°C(0,5mmHg)の留
分から転位生成物である6、10−ジメチル−6,9−
ウンデカジエン−2−オンを331g(純度98多)得
た。
4−イソプロペニル−3゜7−シメチルー6−オクテン
ー1−イン−3−オール(純度90多)からの縮収率7
4.1%であった。
ー1−イン−3−オール(純度90多)からの縮収率7
4.1%であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 6.10−ジメチル−6 7−2−オン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10756779A JPS5842174B2 (ja) | 1979-08-22 | 1979-08-22 | 6,10−ジメチル−6,9−ウンデカジエン−2−オン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10756779A JPS5842174B2 (ja) | 1979-08-22 | 1979-08-22 | 6,10−ジメチル−6,9−ウンデカジエン−2−オン |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30676A Division JPS5283706A (en) | 1976-01-01 | 1976-01-01 | Novel propargyl alcohol derivatives and preparation thereof |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5555131A JPS5555131A (en) | 1980-04-22 |
| JPS5842174B2 true JPS5842174B2 (ja) | 1983-09-17 |
Family
ID=14462435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10756779A Expired JPS5842174B2 (ja) | 1979-08-22 | 1979-08-22 | 6,10−ジメチル−6,9−ウンデカジエン−2−オン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5842174B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS617591U (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-17 | コスモ株式会社 | 芯入りバイアステ−プ |
-
1979
- 1979-08-22 JP JP10756779A patent/JPS5842174B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS617591U (ja) * | 1984-06-20 | 1986-01-17 | コスモ株式会社 | 芯入りバイアステ−プ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5555131A (en) | 1980-04-22 |
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