JPS5846497B2 - 1 4− ビス − ( 4’− チカンアンソクコウサン )− メチルヒドロキノンエステルノ セイゾウホウ - Google Patents
1 4− ビス − ( 4’− チカンアンソクコウサン )− メチルヒドロキノンエステルノ セイゾウホウInfo
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- JPS5846497B2 JPS5846497B2 JP9274475A JP9274475A JPS5846497B2 JP S5846497 B2 JPS5846497 B2 JP S5846497B2 JP 9274475 A JP9274475 A JP 9274475A JP 9274475 A JP9274475 A JP 9274475A JP S5846497 B2 JPS5846497 B2 JP S5846497B2
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Landscapes
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は融点以上の温度に於て、負の誘電異方性を有す
るネマチック液晶状態を呈する新規な有機化合物の製造
法に関する。
るネマチック液晶状態を呈する新規な有機化合物の製造
法に関する。
負の誘電異方性を有するネマチック液晶は、垂直に配向
した液晶セルに電圧を印加することにより、液晶分子の
配向が乱れ光散乱を起すことを利用した表示装置に利用
される。
した液晶セルに電圧を印加することにより、液晶分子の
配向が乱れ光散乱を起すことを利用した表示装置に利用
される。
液晶表示装置に使用される有機化合物はネマチック状態
になければならないので、特に恒温装置を設けない自然
環境下の温度で液晶表示装置を使用するためには、液晶
物質のネマチック温度範囲が広いことが実用上要求され
る。
になければならないので、特に恒温装置を設けない自然
環境下の温度で液晶表示装置を使用するためには、液晶
物質のネマチック温度範囲が広いことが実用上要求され
る。
しかるに単独の化合物でこの様な要求を満たすものは今
のところなく、従って実用に供し得るものは数種の化合
物よりなる組成物である。
のところなく、従って実用に供し得るものは数種の化合
物よりなる組成物である。
そして広いネマチック温度範囲を有する液晶組成物を構
成する化合物の各々は適当な温度域と、なるべく広いネ
マチック温度範囲を有することが要求される。
成する化合物の各々は適当な温度域と、なるべく広いネ
マチック温度範囲を有することが要求される。
一般に負の誘電異方性を有する単一化合物のネマチック
温度範囲は比較的広いものでも50℃にわたる程度であ
って、100℃にわたるものは例外的ということが出来
よう。
温度範囲は比較的広いものでも50℃にわたる程度であ
って、100℃にわたるものは例外的ということが出来
よう。
この例外的に広いネマチック温度範囲を示すものの例は
下記に示す()−合物又はその類似化合物である。
下記に示す()−合物又はその類似化合物である。
本発明の目的は、単一化合物であって広いネマチック温
度範囲と負の誘電異方性を持つ新規なネマチック液晶化
合物及びその製造方法を提供することである。
度範囲と負の誘電異方性を持つ新規なネマチック液晶化
合物及びその製造方法を提供することである。
→(本発明者らは
前記目的に使用可能な広いネマチック温度範囲を有する
化合物を探索した結果、次式(I)で示される化合物が
より広いネマチック温度範囲を有することを見出し本発
明に到達した。
前記目的に使用可能な広いネマチック温度範囲を有する
化合物を探索した結果、次式(I)で示される化合物が
より広いネマチック温度範囲を有することを見出し本発
明に到達した。
(式中Rは炭素数3〜9の直鎖アルキル基を示す)
即ち、本発明は4−アシルオキシ安息香酸をその酸塩化
物を経てメチルヒドロキノンと縮合させることを特徴と
する(I)式で表わされる1、4−ビス−(4′−アシ
ルオキシ安息香酸)−メチルヒドロキノンエステルの製
造法に関する。
物を経てメチルヒドロキノンと縮合させることを特徴と
する(I)式で表わされる1、4−ビス−(4′−アシ
ルオキシ安息香酸)−メチルヒドロキノンエステルの製
造法に関する。
これ等は新規な化合物であり、ネマチック液晶として非
常に有用なものである。
常に有用なものである。
本発明に使用する4−アシルオキシ安息香酸は公知方法
によって製造されたものを精製して使用する。
によって製造されたものを精製して使用する。
又本発明に使用するメチルヒドロキノンは公知の方法に
よって製造したもの、もしくは市販品を精製して使用す
ることが出来る。
よって製造したもの、もしくは市販品を精製して使用す
ることが出来る。
4−アシルオキシ安息香酸とメチルヒドロキノンとのエ
ステルを得るには、まず4−アシルオキシ安息香酸の酸
塩化物をつくり、それをメチルヒドロキノンと反応させ
る。
ステルを得るには、まず4−アシルオキシ安息香酸の酸
塩化物をつくり、それをメチルヒドロキノンと反応させ
る。
この反応力法について更にくわしく述べるとまず4−ア
シルオキシ安息香酸の一定量に当モル以上、好ましくは
1.2〜1.5モル当量の塩化チオニルを加え、一定時
間還流下に加熱して酸塩化物とし、過剰の塩化チオニル
を減圧下で留去後、適当な不活性溶媒(例えばベンゼン
、トルエン等)を加え、溶解希釈する。
シルオキシ安息香酸の一定量に当モル以上、好ましくは
1.2〜1.5モル当量の塩化チオニルを加え、一定時
間還流下に加熱して酸塩化物とし、過剰の塩化チオニル
を減圧下で留去後、適当な不活性溶媒(例えばベンゼン
、トルエン等)を加え、溶解希釈する。
この酸塩化物の1モル当量のメチルヒドロキノン(精製
品が好ましい)を室温で溶解可能な量の数倍量のピリジ
ンに溶解した冷溶液を用意し、これに先の酸塩化物の不
活性溶液を攪拌下に滴下し、更に1時間程度ゆるやかに
加熱するっベンゼンのような不活性溶媒を用いた場合に
は還流により反応物の温度が一定に保たれるので好都合
である。
品が好ましい)を室温で溶解可能な量の数倍量のピリジ
ンに溶解した冷溶液を用意し、これに先の酸塩化物の不
活性溶液を攪拌下に滴下し、更に1時間程度ゆるやかに
加熱するっベンゼンのような不活性溶媒を用いた場合に
は還流により反応物の温度が一定に保たれるので好都合
である。
反応終了後、反応物は冷水に注ぎ出し、不活性溶媒の適
当量を追加後、水層を分離し、希塩酸、6Nの苛性ソー
ダ水溶液、水の順で洗浄する。
当量を追加後、水層を分離し、希塩酸、6Nの苛性ソー
ダ水溶液、水の順で洗浄する。
次いで不活性溶媒を留去後、適当な再結晶用溶媒(例エ
バトルエン、ベンゼン、エタノール等)ヲ用いて精製す
ると無色の結晶である1、4−ビス(4/−アシルオキ
シ安息香酸)−メチルヒドロキノンエステル、即ち化合
物(I)を得る。
バトルエン、ベンゼン、エタノール等)ヲ用いて精製す
ると無色の結晶である1、4−ビス(4/−アシルオキ
シ安息香酸)−メチルヒドロキノンエステル、即ち化合
物(I)を得る。
化合物(I)の融点は140℃前後で、かつネマチック
温度範囲は広く100℃以上にわたる(前記公知の化合
物のそれはいずれも100℃以下)。
温度範囲は広く100℃以上にわたる(前記公知の化合
物のそれはいずれも100℃以下)。
この様に化合物(I)は広いネマチック温度範囲を有し
ているので、他の負の誘電異方性を有する液晶化合物の
混合物に加えて、そのネマチック温度範囲を広くするこ
とにより動散乱型液晶表示に利用出来るばかりでなく、
正の誘電異方性を有する液晶組成物に加え、その液晶組
成物のネマチック温度範囲を広げることにより電界効果
型液晶表示にも利用出来る。
ているので、他の負の誘電異方性を有する液晶化合物の
混合物に加えて、そのネマチック温度範囲を広くするこ
とにより動散乱型液晶表示に利用出来るばかりでなく、
正の誘電異方性を有する液晶組成物に加え、その液晶組
成物のネマチック温度範囲を広げることにより電界効果
型液晶表示にも利用出来る。
以下実施例及び応用例によって、本発明の実施の態様及
びその効果について更にくわしく述べる。
びその効果について更にくわしく述べる。
実施例 1
1.4−ビス−(4′−ブチリルオキシ安息香酸ニーメ
チルヒドロキノンエステル((■)式に於いてR−C3
H7の場合)の製造。
チルヒドロキノンエステル((■)式に於いてR−C3
H7の場合)の製造。
4−ブチリルオキシ安息香酸20.8 、F (0,1
モル)を3001rLlのナス型フラスコに入れ、塩化
チオニル14.3.F(0,12モル)を加え、マント
ルヒーター上で軽く1〜2時間還流する。
モル)を3001rLlのナス型フラスコに入れ、塩化
チオニル14.3.F(0,12モル)を加え、マント
ルヒーター上で軽く1〜2時間還流する。
終了後減圧にして過剰の塩化チオニルを留去してからベ
ン七゛ンを30縦加える。
ン七゛ンを30縦加える。
一方200m1のフラスコにメチルヒドロキノン6.4
g(0,05モル)をピリジン16m1(0,2モル
)に溶かし、それに上記の酸塩化物の溶液を冷しながら
徐々に加える。
g(0,05モル)をピリジン16m1(0,2モル
)に溶かし、それに上記の酸塩化物の溶液を冷しながら
徐々に加える。
これを約2時間ウオターバスで加温した後に氷水中に注
ぎ込み、更にベンゼンを加え、希塩酸、6N苛性ソーダ
水溶液、水の順で洗浄後ベンゼンを留去し、残った結晶
物をベンゼンで再結晶して無色の結晶17.9&を得た
(収率71.0%)。
ぎ込み、更にベンゼンを加え、希塩酸、6N苛性ソーダ
水溶液、水の順で洗浄後ベンゼンを留去し、残った結晶
物をベンゼンで再結晶して無色の結晶17.9&を得た
(収率71.0%)。
この結晶即ち1,4−ビス−(4′−ブチリルオキシ安
息香酸)−メチルヒドロキノンは133〜250℃の広
い範囲(温度内117°C)でネマチック液晶状態を呈
した。
息香酸)−メチルヒドロキノンは133〜250℃の広
い範囲(温度内117°C)でネマチック液晶状態を呈
した。
又、その元素分析値は次の如くで、その赤外線吸収スペ
クトルは第1図に示す。
クトルは第1図に示す。
実施例 2
1.4−ビス−(4′−オクタノイルオキシ安息香酸)
−メチルヒドロキノンエステル((I)式に於てR=C
7H1,の場合)の製造。
−メチルヒドロキノンエステル((I)式に於てR=C
7H1,の場合)の製造。
上記実施例1に於て4−ブチリルオキシ安息香酸の代り
に4−オクタノイルオキシ安息香酸26.4.9(0,
1モル)を使用する以外は全く同様の方法で無色の結晶
46.4gを得た(収率75.2%)。
に4−オクタノイルオキシ安息香酸26.4.9(0,
1モル)を使用する以外は全く同様の方法で無色の結晶
46.4gを得た(収率75.2%)。
この化合物即ち1,4−ビス−(4′−オクタノイルオ
キシ安息香酸)−メチルヒドロキノンエステルは141
〜243°Cの間(温度内10200)で液晶状態を呈
した。
キシ安息香酸)−メチルヒドロキノンエステルは141
〜243°Cの間(温度内10200)で液晶状態を呈
した。
又、その元素分析値は次の如くであった。
p−メトキシベンジリデン−p′−n−ブチルアニリン
とp−エトキシベンジリデン−p′−n−ブチルアニリ
ンの3=2(モル比)混合物のネマチック温度範囲は一
10〜56℃であるが、この混合物に実施例1で得られ
た1、4−ビス−(4′−ブチリルオキシ安息香酸)−
メチルヒドロキノンエステルを3重量係加えることによ
り、ネマチック温度範囲を一5〜65℃にすることが出
来た。
とp−エトキシベンジリデン−p′−n−ブチルアニリ
ンの3=2(モル比)混合物のネマチック温度範囲は一
10〜56℃であるが、この混合物に実施例1で得られ
た1、4−ビス−(4′−ブチリルオキシ安息香酸)−
メチルヒドロキノンエステルを3重量係加えることによ
り、ネマチック温度範囲を一5〜65℃にすることが出
来た。
この混合液晶を酸化インジュウム透明電極2枚を用いて
組立てた垂直に配向した液晶セルに封入して、動散乱型
液晶装置を作ることが出来た。
組立てた垂直に配向した液晶セルに封入して、動散乱型
液晶装置を作ることが出来た。
応用例 2
pn−ブチル安息香酸−pn−へキシルオキシフェニル
エステルとp−アニス酸−p’−へブチルフェニルエス
テルとの1:1(モル比)混合物は0〜46℃のネマチ
ック温度範囲を持つが、この混合物に実施例1で得られ
た1、4−ビス−(4′−ブチリルオキシ安息香酸)−
メチルヒドロキノンエステルを3重量俤加えることによ
り、−2〜53℃のネマチック温度範囲にすることが出
来、応用例1と同様に動散乱型液晶装置を作ることが出
来た。
エステルとp−アニス酸−p’−へブチルフェニルエス
テルとの1:1(モル比)混合物は0〜46℃のネマチ
ック温度範囲を持つが、この混合物に実施例1で得られ
た1、4−ビス−(4′−ブチリルオキシ安息香酸)−
メチルヒドロキノンエステルを3重量俤加えることによ
り、−2〜53℃のネマチック温度範囲にすることが出
来、応用例1と同様に動散乱型液晶装置を作ることが出
来た。
第1図は実施例1で得られた本発明の化合物((I)式
でR=C3H7のもの)の赤外線吸収スペクトルである
。
でR=C3H7のもの)の赤外線吸収スペクトルである
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 14−アシルオキシ安息香酸をその酸塩化物を経てメチ
ルヒドロキノンと縮合させることを特徴とする一般式 (但し、上式中Rは炭素数3〜9の直鎖のアルキル基を
示す) で表わされる1、4−ビス−(4′−アシルオキシ安息
香酸)−メチルヒドロキノンエステルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9274475A JPS5846497B2 (ja) | 1975-07-30 | 1975-07-30 | 1 4− ビス − ( 4’− チカンアンソクコウサン )− メチルヒドロキノンエステルノ セイゾウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9274475A JPS5846497B2 (ja) | 1975-07-30 | 1975-07-30 | 1 4− ビス − ( 4’− チカンアンソクコウサン )− メチルヒドロキノンエステルノ セイゾウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5217438A JPS5217438A (en) | 1977-02-09 |
| JPS5846497B2 true JPS5846497B2 (ja) | 1983-10-17 |
Family
ID=14062913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9274475A Expired JPS5846497B2 (ja) | 1975-07-30 | 1975-07-30 | 1 4− ビス − ( 4’− チカンアンソクコウサン )− メチルヒドロキノンエステルノ セイゾウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5846497B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60155949A (ja) * | 1984-01-25 | 1985-08-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 加熱試験法 |
-
1975
- 1975-07-30 JP JP9274475A patent/JPS5846497B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5217438A (en) | 1977-02-09 |
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