JPS5847551A - 複合構造管の製造法 - Google Patents
複合構造管の製造法Info
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- JPS5847551A JPS5847551A JP14437681A JP14437681A JPS5847551A JP S5847551 A JPS5847551 A JP S5847551A JP 14437681 A JP14437681 A JP 14437681A JP 14437681 A JP14437681 A JP 14437681A JP S5847551 A JPS5847551 A JP S5847551A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D13/00—Centrifugal casting; Casting by using centrifugal force
- B22D13/02—Centrifugal casting; Casting by using centrifugal force of elongated solid or hollow bodies, e.g. pipes, in moulds rotating around their longitudinal axis
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/02—Compacting only
- B22F3/06—Compacting only by centrifugal forces
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/02—Compacting only
- B22F3/08—Compacting only by explosive forces
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
４ 本発明はテルミット反応を利用して鉄又は鉄会金製
母管の内面にセラーミック層を被、覆形成する複合構造
管の製造方法の改良に俤り、特にそのセラζツク層０＊
？Ｌ率を低下せしめるための方法に関する。
母管の内面にセラーミック層を被、覆形成する複合構造
管の製造方法の改良に俤り、特にそのセラζツク層０＊
？Ｌ率を低下せしめるための方法に関する。
管゛内面にセラミック層を被覆形成せしめてなる複合構
造管は、セラミック層が耐熱性、耐摩耗性、耐食性等に
晦好ｔｋ特性を発揮するため、各種流体の輸送管中工業
用配管部材として広汎な適用用途を有している。
−・ この種彼台構造管の製造手段としては、従来種々の方法
が実施されてきているが、最近ではその好適ｔＳＵ＊手
段として、遠心力とテルミット反応を８′Ｍする゛いわ
ゆる遠心チルミツト法がｉ＠されている・すなわち、仁
の方法を最も代表的なアル・ミ゛ニウムー酸化鉄系のチ
ルζシト反応を利用して鋼管のような鉄又は鉄合金製母
管の内面にアル２すのセラミックコーティングを施す場
合を剥に説明すると、第１図に示すようＫ、鉄系母管（
１）内にアルｆ−ウム（ムｌ）と酸化鉄（ｒ・■Ｏｓ又
はｒ匂０４）の各粉末あるいは粒子による一定比率の混
合物からなるテルミツト剤（！ｌを装填し、これを高速
回転による遠心力場内で着火して、下記式に示す如きチ
ルζシト反応を行なわしめ、この発熱反応により生成さ
れる溶融金属（Ｆ・）と溶融セラミック（ム−５ＯＳ
）とを比重分離し゛て、第２図に示すように母管（１）
の内面に金属層（３）を介して所期の竜ラミック層（４
）を被覆形成するものである。
造管は、セラミック層が耐熱性、耐摩耗性、耐食性等に
晦好ｔｋ特性を発揮するため、各種流体の輸送管中工業
用配管部材として広汎な適用用途を有している。
−・ この種彼台構造管の製造手段としては、従来種々の方法
が実施されてきているが、最近ではその好適ｔＳＵ＊手
段として、遠心力とテルミット反応を８′Ｍする゛いわ
ゆる遠心チルミツト法がｉ＠されている・すなわち、仁
の方法を最も代表的なアル・ミ゛ニウムー酸化鉄系のチ
ルζシト反応を利用して鋼管のような鉄又は鉄合金製母
管の内面にアル２すのセラミックコーティングを施す場
合を剥に説明すると、第１図に示すようＫ、鉄系母管（
１）内にアルｆ−ウム（ムｌ）と酸化鉄（ｒ・■Ｏｓ又
はｒ匂０４）の各粉末あるいは粒子による一定比率の混
合物からなるテルミツト剤（！ｌを装填し、これを高速
回転による遠心力場内で着火して、下記式に示す如きチ
ルζシト反応を行なわしめ、この発熱反応により生成さ
れる溶融金属（Ｆ・）と溶融セラミック（ム−５ＯＳ
）とを比重分離し゛て、第２図に示すように母管（１）
の内面に金属層（３）を介して所期の竜ラミック層（４
）を被覆形成するものである。
１一番＋ ｌムｔ−４ＡＩｓｏ＠ ＋ ２Ｆｍ ＋ １
９９門ｍ１７ＡＩ、Ｏ＠ 争３Ｆ＠１０４＋ ８ムｌ
−＋ ４Ａ／ｓｒｓ ＋ ９Ｆ＊ ＋ １９４Ｋｏ＊ｌ
／Ａｌ、Ｏｓ％ｌｋこの方法によれば、一般には上記の
ムｌ−酸化鉄系のみならず種々のチルミツ、、ト辱応系
を利用することができ、その装填量を調整することＫよ
って任意の金属製母管に対してその内面に所望厚さでが
でき、しか４その七うきツクコーティングは同時に生成
される金属層を介して母管に高い密着状態で結合される
ｆＩＩ＃を有する。
９９門ｍ１７ＡＩ、Ｏ＠ 争３Ｆ＠１０４＋ ８ムｌ
−＋ ４Ａ／ｓｒｓ ＋ ９Ｆ＊ ＋ １９４Ｋｏ＊ｌ
／Ａｌ、Ｏｓ％ｌｋこの方法によれば、一般には上記の
ムｌ−酸化鉄系のみならず種々のチルミツ、、ト辱応系
を利用することができ、その装填量を調整することＫよ
って任意の金属製母管に対してその内面に所望厚さでが
でき、しか４その七うきツクコーティングは同時に生成
される金属層を介して母管に高い密着状態で結合される
ｆＩＩ＃を有する。
ところで、この遠心チルζット法において最−利用性が
大でかつ代表的゛な前述の鉄系母管に対しムｚ−ｒ・酸
化物系のチル２ット反応を適用する場合についそ更に考
察すると、この筒金鉄系母管の内ｗＫ被優形形成れる竜
ラミック層は、前記反応式よ抄明らか壜ように、α−ム
１２０ｓ（５ランダム）を生とするものからなる。しか
して、この場合における遠心テルミツト剤の問題点とし
て、その生成上う電ツク層の気孔率が高−ことが掲げら
れる。
大でかつ代表的゛な前述の鉄系母管に対しムｚ−ｒ・酸
化物系のチル２ット反応を適用する場合についそ更に考
察すると、この筒金鉄系母管の内ｗＫ被優形形成れる竜
ラミック層は、前記反応式よ抄明らか壜ように、α−ム
１２０ｓ（５ランダム）を生とするものからなる。しか
して、この場合における遠心テルミツト剤の問題点とし
て、その生成上う電ツク層の気孔率が高−ことが掲げら
れる。
すなわち、セラミック層の様械的性質特に強度を向上す
る見地からは、遠心チルミツト法全般にりいてその佑威
七う２ツク層の気孔率を低（抑えることが求められる訳
であるが、特に母管強度の大きい複金管を対象とする場
合にあっては、その竜゛う電ツタ層の強度を母管強度と
同レベルＫまで高める要求から、その気孔率の低下が改
善すべき顕著な間ｌ［点とされる。 ６ 本発ｆｌはかかる点に鑑みなされたもので、４ＩＫ強度
の高い鉄系母管ｉ（Ａ＃−Ｆ・酸化物系のチルざシト反
応を′利用して七うきツクコーティングする場合におけ
るその生成セラミック層の気孔率の低下を目的として愈
されたものであり、その特徴とすゐ処は、鉄又は鉄合金
製母管内に、アルミニウムと酸化鉄の混合物から愈るテ
ルミツト剤を装填し。
る見地からは、遠心チルミツト法全般にりいてその佑威
七う２ツク層の気孔率を低（抑えることが求められる訳
であるが、特に母管強度の大きい複金管を対象とする場
合にあっては、その竜゛う電ツタ層の強度を母管強度と
同レベルＫまで高める要求から、その気孔率の低下が改
善すべき顕著な間ｌ［点とされる。 ６ 本発ｆｌはかかる点に鑑みなされたもので、４ＩＫ強度
の高い鉄系母管ｉ（Ａ＃−Ｆ・酸化物系のチルざシト反
応を′利用して七うきツクコーティングする場合におけ
るその生成セラミック層の気孔率の低下を目的として愈
されたものであり、その特徴とすゐ処は、鉄又は鉄合金
製母管内に、アルミニウムと酸化鉄の混合物から愈るテ
ルミツト剤を装填し。
遠心力場内′ｃ＃チル電ット剤に着火しチル・ｉシト反
応を打金わしめで、前記母管内面にチルミツト反応によ
り生成された金属及びセラミック層を被覆形成する方法
において、前記母管内に装填されるテルミツト剤に、添
加剤として更にケイ酸（ｓｔｏｗ）の粉末ある％／−ｈ
は粒子を重量比で６〜．１６嚢添加する点にあり、さら
に好ｔＬ＜は、そのテルミツト剤の母管に対する装填重
量比を０．！５〜０．６６の範囲とする点にある。
応を打金わしめで、前記母管内面にチルミツト反応によ
り生成された金属及びセラミック層を被覆形成する方法
において、前記母管内に装填されるテルミツト剤に、添
加剤として更にケイ酸（ｓｔｏｗ）の粉末ある％／−ｈ
は粒子を重量比で６〜．１６嚢添加する点にあり、さら
に好ｔＬ＜は、そのテルミツト剤の母管に対する装填重
量比を０．！５〜０．６６の範囲とする点にある。
以下本発明について詳述する。本発明の対象としている
ム／−Ｆ・酸化物系のナルミツ奈反応によ抄′生成され
る竜う電ツク層に高い気孔率の現われる理由としては、
アル電すの融点が約ｇｏｓｏ’ｅと高く、チルζシト反
応の激しい反応熱によ、って一旦融解されるものの、竜
う電ツクと溶融金属の層分離や気泡の脱出には充分な溶
融時間が保たれないことに起因するものと考えられる。
ム／−Ｆ・酸化物系のナルミツ奈反応によ抄′生成され
る竜う電ツク層に高い気孔率の現われる理由としては、
アル電すの融点が約ｇｏｓｏ’ｅと高く、チルζシト反
応の激しい反応熱によ、って一旦融解されるものの、竜
う電ツクと溶融金属の層分離や気泡の脱出には充分な溶
融時間が保たれないことに起因するものと考えられる。
上記原因Ｋｆｌｐみ１本発明では生成セラミック層の気
孔率の低下を、チルξツシ剤に第三物質２して適宜添加
剤を加え、それＫよる竜う電ツク性状の改質を通して遺
戒することを基本的な解決手段としている。しかして１
本発明者らはテルミツト剤に加える添加剤について種々
夾験研兜した結果。
孔率の低下を、チルξツシ剤に第三物質２して適宜添加
剤を加え、それＫよる竜う電ツク性状の改質を通して遺
戒することを基本的な解決手段としている。しかして１
本発明者らはテルミツト剤に加える添加剤について種々
夾験研兜した結果。
対象としていゐム／−ｙ・酸化物の反応系Ｋｋ％４で。
添加剤としてケイ酸（８１０ｍ ）の粉末あるいは粒子
を適量添加すると、その生成上う゛ミック層のり孔率低
下に著しく奏効すると七を知見するに至った。
を適量添加すると、その生成上う゛ミック層のり孔率低
下に著しく奏効すると七を知見するに至った。
すなわち、チルζクシ剤にケイ酸を添加したものを使用
すると１反応熱によりケイ酸も溶融されてそれが生成さ
れるアル電すと溶融混合してアル電ナーケイ酸Ｊｌニー
に９ζツク管形威するものであるが。
すると１反応熱によりケイ酸も溶融されてそれが生成さ
れるアル電すと溶融混合してアル電ナーケイ酸Ｊｌニー
に９ζツク管形威するものであるが。
このケイ酸の′溶融混合によｈ＊９ｉツクの融点が融竜
う２ツク層からの気泡の脱出が促進されてその気孔率の
低下が図られるのであり、同時にケイ酸の作用によりガ
ラス化され緻密なセラミック層が形成されるのである。
う２ツク層からの気泡の脱出が促進されてその気孔率の
低下が図られるのであり、同時にケイ酸の作用によりガ
ラス化され緻密なセラミック層が形成されるのである。
本発明では、上記のようにチルオツド剤に添加剤として
ケイ酸を添加したものを使用することを問題解決のため
の基本的手段とするものであるが。
ケイ酸を添加したものを使用することを問題解決のため
の基本的手段とするものであるが。
これと共にテルミツト剤の母管に対する装填重量比を適
正にコントロールすれば、セラミック層の気孔率低下に
一層有効擾４のとなることを知見するに至っ大１０本発
明が対象としでいる被合管にあっては、１００〜８００
φ鱈の管径のものが゛一般的な集用範囲ＫＴｏか、通常
１０〜ｇｏｏ ０８１縦の遠心力場内に製造される。ｔ
た。必要なセラ電ツタ層厚が得られ、かつ製造上有効な
鉄系母管に対するテルミツト剤の装填重量比（テルミツ
ト剤重量／母管重量）はｏ、ｉ〜０．９の範囲にある。
正にコントロールすれば、セラミック層の気孔率低下に
一層有効擾４のとなることを知見するに至っ大１０本発
明が対象としでいる被合管にあっては、１００〜８００
φ鱈の管径のものが゛一般的な集用範囲ＫＴｏか、通常
１０〜ｇｏｏ ０８１縦の遠心力場内に製造される。ｔ
た。必要なセラ電ツタ層厚が得られ、かつ製造上有効な
鉄系母管に対するテルミツト剤の装填重量比（テルミツ
ト剤重量／母管重量）はｏ、ｉ〜０．９の範囲にある。
ところが、本発明者らの研究によると、このテルミツト
剤の母管に対する装填重量比と、その反応後に生成され
関係を有することが判明した。従って１１本発明では以
下に更に詳述するように、セライック層の気孔率を低下
するために、テルミツト剤に添加剤とｔでケイ酸を適量
（６〜１６重量憾）添加したものを使用すると共に、好
ましくけテルミツト剤の鉄系母管に対する装填重量比を
適正擾範＠ （０，５〜０．６５）Ｋ調整して遠心テル
ミット法をｌＩ！施する屯のである。
剤の母管に対する装填重量比と、その反応後に生成され
関係を有することが判明した。従って１１本発明では以
下に更に詳述するように、セライック層の気孔率を低下
するために、テルミツト剤に添加剤とｔでケイ酸を適量
（６〜１６重量憾）添加したものを使用すると共に、好
ましくけテルミツト剤の鉄系母管に対する装填重量比を
適正擾範＠ （０，５〜０．６５）Ｋ調整して遠心テル
ミット法をｌＩ！施する屯のである。
以下本発明による気孔率の低下効果を裏付ける試、験結
果を掲げ、それに基づき更にその適正な製造条件につい
て検討する。第５図、第４図は鉄系母管に遠心チルイツ
ト法によ抄被覆形成されるセラミック層の気孔率とｓｉ
ｏ、添加量及びテルミツト剤装填重量比との関係を示し
たもので、同一試験結果を４とに第ｓＷＪは生としてテ
ルミツト剤重量比の点から、一方第４図は主として１１
１０．添加量のラフ化し九ものである（気孔率の一定は
ＸＸｍ−Ｒ１１１１０Ｂ Ｋ準拠）。この結果について
みれば明らかなように、テルミツト剤（理論配合比のも
の）に添加剤としてケイ酸を添加せしめたものでは。
果を掲げ、それに基づき更にその適正な製造条件につい
て検討する。第５図、第４図は鉄系母管に遠心チルイツ
ト法によ抄被覆形成されるセラミック層の気孔率とｓｉ
ｏ、添加量及びテルミツト剤装填重量比との関係を示し
たもので、同一試験結果を４とに第ｓＷＪは生としてテ
ルミツト剤重量比の点から、一方第４図は主として１１
１０．添加量のラフ化し九ものである（気孔率の一定は
ＸＸｍ−Ｒ１１１１０Ｂ Ｋ準拠）。この結果について
みれば明らかなように、テルミツト剤（理論配合比のも
の）に添加剤としてケイ酸を添加せしめたものでは。
その添加量の増加に伴いセラζツク気孔率の低下に大き
な寄勢を示し、これと同時に気孔率の低下はチル２ツト
剤重量比ｏｐｓ付近をピークに顕著な極小値を有しそい
ることが確鑓できる。なお図示の試験結果はｒ・ｇｏｓ
−Ａ／系のテルミツト剤を使用した場合であるが、
１＠＠′ｏ４− ＡＺ系のテルミツト剤の場合は一層の
ｓｉｏ、添加量に０−９４の比率を乗じて考えればよく
、殆んど差異はない。− そこで、こ、の試験結果に基づいて篭ラミック気孔率の
低い複合管を得るためのケイ酸添加量及び剤鋏填重量比
の適正範！ｔｉＫ らいて検討する。この適正範囲を定めるためにはまず対
象とす為複合管において、どの程度以下の気孔率であれ
ば満足すべき竜うξツク屡の性質が得られるかを判断し
なければならない。第５ｗＪはこの判断基準となるセラ
ζツク気孔率とセラミツ関係を示したもので、対象とし
てい る被合管の種々気孔率を有するものについて、その−餠
りンダを扁平圧壊試験に供して求めたものである。仁の
試験結果によれば、母管強度的２５００Ｖ−以上の鉄系
母管に七う電ツクコーティングする場合では、母管と同
レベルの強度をセラミック層が具備する要求から、この
条件を満足するためＫは七うζツク気孔率がグ嗟以下に
抑えられることが必要とされる。従って、遠心チルイツ
ト法によるこの種複合管の製造にさいし、上記各適正範
囲はこの気孔率’Ｆ参以下の条件を満足するように定め
ればよい。
な寄勢を示し、これと同時に気孔率の低下はチル２ツト
剤重量比ｏｐｓ付近をピークに顕著な極小値を有しそい
ることが確鑓できる。なお図示の試験結果はｒ・ｇｏｓ
−Ａ／系のテルミツト剤を使用した場合であるが、
１＠＠′ｏ４− ＡＺ系のテルミツト剤の場合は一層の
ｓｉｏ、添加量に０−９４の比率を乗じて考えればよく
、殆んど差異はない。− そこで、こ、の試験結果に基づいて篭ラミック気孔率の
低い複合管を得るためのケイ酸添加量及び剤鋏填重量比
の適正範！ｔｉＫ らいて検討する。この適正範囲を定めるためにはまず対
象とす為複合管において、どの程度以下の気孔率であれ
ば満足すべき竜うξツク屡の性質が得られるかを判断し
なければならない。第５ｗＪはこの判断基準となるセラ
ζツク気孔率とセラミツ関係を示したもので、対象とし
てい る被合管の種々気孔率を有するものについて、その−餠
りンダを扁平圧壊試験に供して求めたものである。仁の
試験結果によれば、母管強度的２５００Ｖ−以上の鉄系
母管に七う電ツクコーティングする場合では、母管と同
レベルの強度をセラミック層が具備する要求から、この
条件を満足するためＫは七うζツク気孔率がグ嗟以下に
抑えられることが必要とされる。従って、遠心チルイツ
ト法によるこの種複合管の製造にさいし、上記各適正範
囲はこの気孔率’Ｆ参以下の条件を満足するように定め
ればよい。
このような気孔率１参以下の条件を満足するためには、
第１図、第４図の結果より、チルイツト剤に対するケイ
酸添加量は６憾以上、またこの際好ましくはチル２ツト
剤の母管に対する装填重量比は０．５〜０．６６の範囲
で、あることが判る。ところで、ケイ酸添加量について
はその増加と共ＫＩＩｌ孔率の低下する傾向が看取され
るが、その添加量は別の観点即ちチルしット反応の安定
性の゛見地より実質的にその上限が規制される。第６図
は種々の比率でケイ酸を添加したチル２ツト剤の試料を
各々密閉ルツボ内で反応せしめてその反応熱を一定し、
８１０ｆｉ添加量とテルミット反応の発熱量との関係を
図示するものであって、この結果によれば。
第１図、第４図の結果より、チルイツト剤に対するケイ
酸添加量は６憾以上、またこの際好ましくはチル２ツト
剤の母管に対する装填重量比は０．５〜０．６６の範囲
で、あることが判る。ところで、ケイ酸添加量について
はその増加と共ＫＩＩｌ孔率の低下する傾向が看取され
るが、その添加量は別の観点即ちチルしット反応の安定
性の゛見地より実質的にその上限が規制される。第６図
は種々の比率でケイ酸を添加したチル２ツト剤の試料を
各々密閉ルツボ内で反応せしめてその反応熱を一定し、
８１０ｆｉ添加量とテルミット反応の発熱量との関係を
図示するものであって、この結果によれば。
Ｓｉｎ、 １＄１暢を超えると反応がＨま勤、更にｌｂ
噂を超えると一部未反応部分を一部してｉ用に耐えなく
なる。
噂を超えると一部未反応部分を一部してｉ用に耐えなく
なる。
従って、所期目的とする気孔率の低い緻密なセラミック
層を得るためには、テルミツト剤に対するケイ酸添加量
は６〜１５重量嗟、更に好ましくは１〜１２重量−の範
囲であり、とのさいの更に有効な手段としてはチル２ツ
ト剤の母管に対する装填重量比をｏ、ｓ〜０．６５、更
に好ましくは０．４〜０．６の範囲に調整すればよいこ
とが判る。
層を得るためには、テルミツト剤に対するケイ酸添加量
は６〜１５重量嗟、更に好ましくは１〜１２重量−の範
囲であり、とのさいの更に有効な手段としてはチル２ツ
ト剤の母管に対する装填重量比をｏ、ｓ〜０．６５、更
に好ましくは０．４〜０．６の範囲に調整すればよいこ
とが判る。
なお、比較のためケイ酸無添加の場合についても説明す
ると、この場合ではチル建ット剤装填量を増加すること
°によっである程度気孔率の低下を図ることができるが
、それによ？でも充分な気孔率の低下は望めず、又一方
テルミット剤の装填量を増すことは生成セラ建ツク層厚
の増大にりながり、１１１品の実用上の問題も大であゐ
。口＠ 、１００φ鱈の母管にチルミツト剤装填蓋量比
０．５程度で末法を適用した場合、その生成上ランツク
層の厚さはｓ、ａｓｗ程度である。
ると、この場合ではチル建ット剤装填量を増加すること
°によっである程度気孔率の低下を図ることができるが
、それによ？でも充分な気孔率の低下は望めず、又一方
テルミット剤の装填量を増すことは生成セラ建ツク層厚
の増大にりながり、１１１品の実用上の問題も大であゐ
。口＠ 、１００φ鱈の母管にチルミツト剤装填蓋量比
０．５程度で末法を適用した場合、その生成上ランツク
層の厚さはｓ、ａｓｗ程度である。
次に本発明の実施例を掲げて説明する。
〈実施例〉
各膚１５０℃で２４時間乾燥処理したＦ＠ｌＯＢ粉末１
９０９Ｉとムｌ粉末６４８１とを理論配合比で秤量涙金
し。
９０９Ｉとムｌ粉末６４８１とを理論配合比で秤量涙金
し。
このチルきット剤に更にケイ酸（８１０ｍ ）粉末ｊｌ
！５５．４ｆを添加涙金して、ケイ酸１０重量参添加の
ものを得た。これを遠心機会枠内にセットした外１ｊｌ
１４．！Ｓ鱈、肉厚６１１ｍ＋、管長３００ｍ１１の鋼
管内面に均一に散布しえ（装填重量比０．５３）、この
さい、金枠は庶ｒ、ｐ、ｍの回転数で回転されているた
め、ケイ酸を添加したテルミツト剤は遠心力によって鋼
管内ｗＫ付着充填されている。しかして、その後漸次金
枠の回転数を増加し、テルミツト剤に着火した。すると
１反応け、すぐに終了し、その後しばらくの間赤熱状態
が持続した。
！５５．４ｆを添加涙金して、ケイ酸１０重量参添加の
ものを得た。これを遠心機会枠内にセットした外１ｊｌ
１４．！Ｓ鱈、肉厚６１１ｍ＋、管長３００ｍ１１の鋼
管内面に均一に散布しえ（装填重量比０．５３）、この
さい、金枠は庶ｒ、ｐ、ｍの回転数で回転されているた
め、ケイ酸を添加したテルミツト剤は遠心力によって鋼
管内ｗＫ付着充填されている。しかして、その後漸次金
枠の回転数を増加し、テルミツト剤に着火した。すると
１反応け、すぐに終了し、その後しばらくの間赤熱状態
が持続した。
次にケイ酸無添加のテルミツト剤を用いて上記と同一条
件で遠心チルζブト法を夾施した。
件で遠心チルζブト法を夾施した。
゛上記調造試験結果によると、いずれの場合もその生成
セラミック層及び金属層の厚さは４Ｍ及びｓｗｉの均一
な亀のであった。しかし乍ら、セラ６ミツク気孔率は前
者の例では３憾であるのに対し、俵者の例では１６．５
嘔であった。
セラミック層及び金属層の厚さは４Ｍ及びｓｗｉの均一
な亀のであった。しかし乍ら、セラ６ミツク気孔率は前
者の例では３憾であるのに対し、俵者の例では１６．５
嘔であった。
次に又、ケイ酸添加量６重量憾（Ｆ＠０３．、１Ｇ１０
９ ｆ 。
９ ｆ 。
禽ｔ ６４５ ｆ 、 ８１Ｇ論１２ツグｆ）をテルミ
ツト剤に添加したものを用いて上記と同一条件で遠心テ
ルミット法を奥施し九″、この場合の結果では、セラｔ
ツク気孔率は６暢であった。又、このさいそ９複合管リ
ングの圧壊橢平試験を行った結果、そ゛のセラ２ツク圧
縮強度ｔｉｔに６６０−ズ・あ、りた。さらに、そのセ
ラミック硬度についてもマイクロビッカース硬度で１１
００〜１ｒｓ００が得られた。
ツト剤に添加したものを用いて上記と同一条件で遠心テ
ルミット法を奥施し九″、この場合の結果では、セラｔ
ツク気孔率は６暢であった。又、このさいそ９複合管リ
ングの圧壊橢平試験を行った結果、そ゛のセラ２ツク圧
縮強度ｔｉｔに６６０−ズ・あ、りた。さらに、そのセ
ラミック硬度についてもマイクロビッカース硬度で１１
００〜１ｒｓ００が得られた。
以上述べた如く１本発明はムｌ−Ｆ・酸化物系のフルー
電ット反応を利用して鉄系母管の内面にセラζツク層を
被覆形成せしめる遠心チル、ミツト法において、その技
術的課題であるセラミツフタ孔率の低下をテルミツト剤
にケイ酸を、適量添加せしめることＫよって簡単確実に
満足讐しめることに成功Ｌ１％のであり
ルξット法ノ利用価値を更に高めるものとして顕著外
技術的意義を有するものである。
電ット反応を利用して鉄系母管の内面にセラζツク層を
被覆形成せしめる遠心チル、ミツト法において、その技
術的課題であるセラミツフタ孔率の低下をテルミツト剤
にケイ酸を、適量添加せしめることＫよって簡単確実に
満足讐しめることに成功Ｌ１％のであり
ルξット法ノ利用価値を更に高めるものとして顕著外
技術的意義を有するものである。
館１図と第２ＷＪは遠心テルミとト法の製造プロ竜メを
示す断面図であって、第１図はテ＊ミツト反応前の装填
状態を、第２図は反応後における金属層を介しての竜う
ζツク層ρ被覆状簡を示１てにる。第１図と館４図は共
に鉄系母管に被覆！成される七うミック層ＯｇＫ孔率と
チル尊ット剤に対するケイ酸添加量及び母管に対するチ
ル２ツト剤の装填重量比の関係を示す図である。第５図
はセラｔツク気孔率４と一部ずツク圧縮強度の関係を示
す図である＝第６図輪テルミット剤に対するケイ酸浴加
重゛量比とチルζツシ反応の発熱量のＩｌ俤を示す図で
ある゛、 、 （１） ＝−・鉄系母管、（！ｌ−・・テルミツト剤、
［１１・・・金属！、（４１−”・セラミック層。 特許出願人頂蘭μ石板誠− 第１頁の続き ０発 明 者 土田二朗 枚方市中宮大池１丁目２番１号 久保田鉄工株式会社枚方鋳鋼工 場内 ■出 願 人 久保田鉄工株式会社 大阪市浪速区敷津東−丁目２番 ４７号 手続補正書（自発） 昭和５６年特 許願第１４４３７６シｊ２、発 明の名
称 複合構造管の製造法 ３、補正をする者 事件との関係特許出願人 （１１４）工業技術院長 石 坂 絨 −（ほか１名）
１代理人 次葉 憲２ ７．補正の内容 ｊｌｌ ｌＪＩ細書の第３頁第１５行並びに＄１６行
に「Ａ１、０．４ル」であるを、いずれも「Ａｌ１０ｓ
１モル」と補正する。 ・
と補正する。
示す断面図であって、第１図はテ＊ミツト反応前の装填
状態を、第２図は反応後における金属層を介しての竜う
ζツク層ρ被覆状簡を示１てにる。第１図と館４図は共
に鉄系母管に被覆！成される七うミック層ＯｇＫ孔率と
チル尊ット剤に対するケイ酸添加量及び母管に対するチ
ル２ツト剤の装填重量比の関係を示す図である。第５図
はセラｔツク気孔率４と一部ずツク圧縮強度の関係を示
す図である＝第６図輪テルミット剤に対するケイ酸浴加
重゛量比とチルζツシ反応の発熱量のＩｌ俤を示す図で
ある゛、 、 （１） ＝−・鉄系母管、（！ｌ−・・テルミツト剤、
［１１・・・金属！、（４１−”・セラミック層。 特許出願人頂蘭μ石板誠− 第１頁の続き ０発 明 者 土田二朗 枚方市中宮大池１丁目２番１号 久保田鉄工株式会社枚方鋳鋼工 場内 ■出 願 人 久保田鉄工株式会社 大阪市浪速区敷津東−丁目２番 ４７号 手続補正書（自発） 昭和５６年特 許願第１４４３７６シｊ２、発 明の名
称 複合構造管の製造法 ３、補正をする者 事件との関係特許出願人 （１１４）工業技術院長 石 坂 絨 −（ほか１名）
１代理人 次葉 憲２ ７．補正の内容 ｊｌｌ ｌＪＩ細書の第３頁第１５行並びに＄１６行
に「Ａ１、０．４ル」であるを、いずれも「Ａｌ１０ｓ
１モル」と補正する。 ・
と補正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 鉄又は鉄合金製母管内に、アルミニウムと酸化鉄
の涙合物からなるテルｉツト剤を装填し。 遠心力場内で該テルｉツト剤に着火しテルミット反応を
行なわしめて、前記母管内面にチルきット反応により生
成された金属及びセラミック層を被覆形成する方法にお
いて、前記母管内に装填されるテルｉツト剤に、添加剤
として更にケイ酸（８１０，）の粉末あるいは粒子を重
量比で６〜１５饅添加することを特徴とする一合構造管
の製造法。 ト剤の母管に対する装填重量比（チ ル建ット剤重量／母管重量）が０．３〜０・６５の範囲
にある特許請求の範ｍ第１項記載の製造法・１ チルミ
ツ 酸（ｓｉｏ、 ）の粉末あるいは粒子の添加量は重量比
でマー１８悌である特許請求の範囲第１項又は第３項記
載の製造法、 、 −４チルミツト剤
の母管に対する装填重量比（チルミツト剤重量／母管重
量２）が０．４〜０．６の範１１にある特許請求の範１
ｉ＊１項又は第３項記載−の製造法。−
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56144376A JPS5934470B2 (ja) | 1981-09-12 | 1981-09-12 | 複合構造管の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56144376A JPS5934470B2 (ja) | 1981-09-12 | 1981-09-12 | 複合構造管の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5847551A true JPS5847551A (ja) | 1983-03-19 |
| JPS5934470B2 JPS5934470B2 (ja) | 1984-08-22 |
Family
ID=15360679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56144376A Expired JPS5934470B2 (ja) | 1981-09-12 | 1981-09-12 | 複合構造管の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5934470B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60253679A (ja) * | 1984-05-29 | 1985-12-14 | カルソニックカンセイ株式会社 | ドアロツク操作装置 |
| JPS60195448U (ja) * | 1984-06-05 | 1985-12-26 | カルソニックカンセイ株式会社 | ドアロツク操作装置 |
| JPS6389676A (ja) * | 1986-10-01 | 1988-04-20 | Agency Of Ind Science & Technol | 厚肉セラミツクコ−テイング方法 |
| JPH01287384A (ja) * | 1988-05-12 | 1989-11-20 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | ロック装置のアクチュエータ機構 |
| JPH03212587A (ja) * | 1990-01-17 | 1991-09-18 | Mitsubishi Electric Corp | モータ式アクチュエータ |
| CN1051752C (zh) * | 1996-01-05 | 2000-04-26 | 北京有色金属研究总院 | 离心自蔓燃法制取陶瓷衬管所用原料的配方 |
| CN109822103A (zh) * | 2019-03-01 | 2019-05-31 | 中南大学 | 一种高界面结合强度陶瓷外衬钢管的制备方法 |
| CN110756759A (zh) * | 2018-07-28 | 2020-02-07 | 席文君 | 利用钢渣离心铸造复合钢管的方法和复合钢管 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54111665A (en) * | 1978-02-21 | 1979-09-01 | Nippon Electric Co | Compound positioning system |
| JPS54162177A (en) * | 1978-06-13 | 1979-12-22 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | Working table apparatus for printed board and so on |
| JPS5554644U (ja) * | 1978-10-02 | 1980-04-12 |
-
1981
- 1981-09-12 JP JP56144376A patent/JPS5934470B2/ja not_active Expired
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN1051752C (zh) * | 1996-01-05 | 2000-04-26 | 北京有色金属研究总院 | 离心自蔓燃法制取陶瓷衬管所用原料的配方 |
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| CN109822103A (zh) * | 2019-03-01 | 2019-05-31 | 中南大学 | 一种高界面结合强度陶瓷外衬钢管的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5934470B2 (ja) | 1984-08-22 |
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