JPS5848660A - 無電解メツキの前処理方法 - Google Patents
無電解メツキの前処理方法Info
- Publication number
- JPS5848660A JPS5848660A JP13961181A JP13961181A JPS5848660A JP S5848660 A JPS5848660 A JP S5848660A JP 13961181 A JP13961181 A JP 13961181A JP 13961181 A JP13961181 A JP 13961181A JP S5848660 A JPS5848660 A JP S5848660A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- soln
- plated
- palladium
- electroless plating
- Prior art date
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- Pending
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は主として非金二・域物質に電気化学的方法（＝
よらないメッキ（以下無電解メッキと称する）を施す際
に行う前処理工程を改良Ｔることを目的とするものであ
る。
よらないメッキ（以下無電解メッキと称する）を施す際
に行う前処理工程を改良Ｔることを目的とするものであ
る。
無電解メッキは一般的には化学メッキと称するもので、
ガラス、陶磁器、合成樹脂材料等の不良畳体にも適用で
きるメッキ方法として注目され実用化されている方法で
ある。特にニッケルの場合は、メッキ浴中のニッケルイ
オンが次亜リン酸塩（二よって還元析出し基材を被験す
る鍬に、ニッケルだげでなく５ないし１０チのリンを含
むＮＡ−Ｐ合金の被榎膜となり、被榎膜の厚さが均一で
、電着二゛ソケルよりも耐蝕性がよいことが知られてい
る。
ガラス、陶磁器、合成樹脂材料等の不良畳体にも適用で
きるメッキ方法として注目され実用化されている方法で
ある。特にニッケルの場合は、メッキ浴中のニッケルイ
オンが次亜リン酸塩（二よって還元析出し基材を被験す
る鍬に、ニッケルだげでなく５ないし１０チのリンを含
むＮＡ−Ｐ合金の被榎膜となり、被榎膜の厚さが均一で
、電着二゛ソケルよりも耐蝕性がよいことが知られてい
る。
イロしこの還元反応を中性又は敵性溶液中で促進させる
ためには触媒の存在が必要であり、触媒としては一般に
周期律表第８族の遷移元素が使用される。不良導体表面
にこれらの触媒金属をよく付着させるためには、不良導
体表面を触媒金属が付着しや丁い状態にしておく工程が
必要で、更に触媒金属が還元析出されるためには前もっ
て塩化第１錫のような還元性溶液を吸着させておく必要
があり、６以上を要約すると次のとおりにｔ「る。
ためには触媒の存在が必要であり、触媒としては一般に
周期律表第８族の遷移元素が使用される。不良導体表面
にこれらの触媒金属をよく付着させるためには、不良導
体表面を触媒金属が付着しや丁い状態にしておく工程が
必要で、更に触媒金属が還元析出されるためには前もっ
て塩化第１錫のような還元性溶液を吸着させておく必要
があり、６以上を要約すると次のとおりにｔ「る。
（１）表面脱脂又は脱錆
（２）７ツ化水素酸系又は硫酸−クロム酸系浴によるエ
ツチング （３）還元性溶液（二よる感受性化 （４）塩化パラジウム等の触媒金属（二よる活性化上記
の工程中（３）ないしく４）の工程が触媒粒子の付着い
わゆる触媒付けといわれるものである。
ツチング （３）還元性溶液（二よる感受性化 （４）塩化パラジウム等の触媒金属（二よる活性化上記
の工程中（３）ないしく４）の工程が触媒粒子の付着い
わゆる触媒付けといわれるものである。
従来この触媒付けはメッキ丁べき材料を触媒となりうる
イオンあるいは原子を安定化させた溶液中に浸漬するほ
か、また七の前後艦二還孔性俗箪中へ浸漬する等、丁べ
て湿式１程により行われている。そのため、基材の親水
化をはかる整面処理、及び触媒粒子の付着な促丁エツチ
ング、ＴｔＣわち［再記の工程でいえば（１）ないしく
２）の工程を必要とし、更に浸漬、還元後の触媒粒子を
置屋するためのベーキングを心安とする等、メッキに先
だつ前処理二り程は極めて煩雑である。
イオンあるいは原子を安定化させた溶液中に浸漬するほ
か、また七の前後艦二還孔性俗箪中へ浸漬する等、丁べ
て湿式１程により行われている。そのため、基材の親水
化をはかる整面処理、及び触媒粒子の付着な促丁エツチ
ング、ＴｔＣわち［再記の工程でいえば（１）ないしく
２）の工程を必要とし、更に浸漬、還元後の触媒粒子を
置屋するためのベーキングを心安とする等、メッキに先
だつ前処理二り程は極めて煩雑である。
しかもこれらの処理は基材に悪影響を与えることがある
。例えば、整面処理液は強アルカリ性のものが多いので
、表面劣化を生ずることが多々あＺ）。又、基材が多孔
性のものである場合には、処理液が基材に残存して後の
工程で、障害な起工恐れがある。
。例えば、整面処理液は強アルカリ性のものが多いので
、表面劣化を生ずることが多々あＺ）。又、基材が多孔
性のものである場合には、処理液が基材に残存して後の
工程で、障害な起工恐れがある。
本発明はこのような欠点のない前処理工程を提供するこ
とにあり、有機金属化合物の溶液を基材に鰺化塗布した
後に、尚温の還元性気体と接触させて触媒の活性化とベ
ーキングを同時に行なうことにより、湿式による整面処
理、及び工゛ノチングを省き乾式による触媒付けを行な
うことを％徴とＴ小ものである。
とにあり、有機金属化合物の溶液を基材に鰺化塗布した
後に、尚温の還元性気体と接触させて触媒の活性化とベ
ーキングを同時に行なうことにより、湿式による整面処
理、及び工゛ノチングを省き乾式による触媒付けを行な
うことを％徴とＴ小ものである。
本発明の方法において用いられる有機金属化合物として
はパラジウムアセチルアセトンの番主力）ロジウムアセ
チルアセトン等があげられこれらは有機浴媒齢液として
使用さ′ｉ′１小。蕪元性気体としては水素・窒素混合
ガスのばか一酸化炭素、窒素混合ガス等が使用される。
はパラジウムアセチルアセトンの番主力）ロジウムアセ
チルアセトン等があげられこれらは有機浴媒齢液として
使用さ′ｉ′１小。蕪元性気体としては水素・窒素混合
ガスのばか一酸化炭素、窒素混合ガス等が使用される。
以下本発明を実施例Ｃ二従って説明する。
実施例
あらかじめ耐熱性の治共にセットした一ヒラミック素子
の表面をリグロインにより十分に洗浄した後、パラジウ
ムアセチルアセトンを３１ｒｖｓＬ、８％含むアセトニ
）９ル溶ａを試料の表面に噴霧し、次に水蒸気を飽和さ
せた３答積チの水素を含む窒素との混合ガスを１０５℃
で３０分間接触させて４４嶺金属パラジウムの加水分解
ｔ【らび（二金属）ζラジクムへの還元を行なった。遍
元能力の高０気体、例えばヒドラジンな用いて還元速度
をはやめることも可ＩＩＬであるが、区科面からパラジ
ウムが脱離して好ましく ｔ、ｃかった。なお−温ｔｊ
スとの接触は触媒わｔ子の吸着を促すベーキング効果を
与えるが、セラミック素子盛二ハラジウムを吸着さ七る
には９５ないし２５０℃の混成領域で行なうのが有効で
ある。
の表面をリグロインにより十分に洗浄した後、パラジウ
ムアセチルアセトンを３１ｒｖｓＬ、８％含むアセトニ
）９ル溶ａを試料の表面に噴霧し、次に水蒸気を飽和さ
せた３答積チの水素を含む窒素との混合ガスを１０５℃
で３０分間接触させて４４嶺金属パラジウムの加水分解
ｔ【らび（二金属）ζラジクムへの還元を行なった。遍
元能力の高０気体、例えばヒドラジンな用いて還元速度
をはやめることも可ＩＩＬであるが、区科面からパラジ
ウムが脱離して好ましく ｔ、ｃかった。なお−温ｔｊ
スとの接触は触媒わｔ子の吸着を促すベーキング効果を
与えるが、セラミック素子盛二ハラジウムを吸着さ七る
には９５ないし２５０℃の混成領域で行なうのが有効で
ある。
上記の前処理を施した試料を下記の組成のニッケルメッ
キ浴に猷し、９０℃に°Ｃ１５分間のメッキを施した。
キ浴に猷し、９０℃に°Ｃ１５分間のメッキを施した。
メッキ浴組成
編化ニッケル ３０ １９μ次亜リン酸
ナトリウム ｌＯ クエン酸ナトリウム １０ コハク酸ナトリウム ５ ホク酸 ８１ −１ ５Ｂ
〜 ６２比較例 ジグロイン等の有機俗剤により十分に表面を清浄にした
セラミック高子を少意のフッ化水＃酸を宮む５チ塩誠水
浴液感−３０秒間挺漬し、エツチングを行ｔＣつだ。次
にリン酸ナトリウム、界面活性剤等を含む水溶液を６０
ないし７０℃に保ち試料を１５分間浸漬し、流水にて十
分洗浄した後、５Ｓ塩酸水溶液（二て中和し、更に洗浄
した。次に塩化第１錫の５チ水溶液に９０秒間浸漬し引
続き塩化パラジウムの４％塩酸酸性水溶液Ｃ二３５℃で
６０秒間投潰し、試料の表面にパラジウムを分散吸着さ
せた。この吸着な元金にするため、１１０℃で１０分曲
のベーキング処理を行ない、再び塩化第１錫水溶液、塩
化パラジウム水溶液による処理を繰返した。之等の前処
理を行なった後、実施例と同様の手順でニッケルメッキ
を施した。
ナトリウム ｌＯ クエン酸ナトリウム １０ コハク酸ナトリウム ５ ホク酸 ８１ −１ ５Ｂ
〜 ６２比較例 ジグロイン等の有機俗剤により十分に表面を清浄にした
セラミック高子を少意のフッ化水＃酸を宮む５チ塩誠水
浴液感−３０秒間挺漬し、エツチングを行ｔＣつだ。次
にリン酸ナトリウム、界面活性剤等を含む水溶液を６０
ないし７０℃に保ち試料を１５分間浸漬し、流水にて十
分洗浄した後、５Ｓ塩酸水溶液（二て中和し、更に洗浄
した。次に塩化第１錫の５チ水溶液に９０秒間浸漬し引
続き塩化パラジウムの４％塩酸酸性水溶液Ｃ二３５℃で
６０秒間投潰し、試料の表面にパラジウムを分散吸着さ
せた。この吸着な元金にするため、１１０℃で１０分曲
のベーキング処理を行ない、再び塩化第１錫水溶液、塩
化パラジウム水溶液による処理を繰返した。之等の前処
理を行なった後、実施例と同様の手順でニッケルメッキ
を施した。
実施例と比較例シニよりニッケルメッキを施したセラミ
・ツク糸子につきメッキ特性を測定した結果を粛１表に
示す。なお表中のビッカース硬度と密着強度は、３００
℃にて３０分間熱処理しまたものについて画定した。
・ツク糸子につきメッキ特性を測定した結果を粛１表に
示す。なお表中のビッカース硬度と密着強度は、３００
℃にて３０分間熱処理しまたものについて画定した。
第１表
上記の如く従来の混式１程では位めて煩雑な１１１処理
な必資とし、又、各処理液の管理条件も高梢丸が望まれ
る反Ｗｌ、本発明の方法においては比較的緩やかな′Ｕ
理采件のもとで、憔めて開渥な工程により前処理を完了
することができ６゜更に触媒粒子の還元とベーキングを
連続的に進行させることにより触媒粒子が強固に固定し
てメッキの智看性が同上し、第１表Ｃ二みられる如く、
実施例においては比較例に対してメッキの厚み、硬度共
増加し、約１．４倍の密着強度を得るに至った。
な必資とし、又、各処理液の管理条件も高梢丸が望まれ
る反Ｗｌ、本発明の方法においては比較的緩やかな′Ｕ
理采件のもとで、憔めて開渥な工程により前処理を完了
することができ６゜更に触媒粒子の還元とベーキングを
連続的に進行させることにより触媒粒子が強固に固定し
てメッキの智看性が同上し、第１表Ｃ二みられる如く、
実施例においては比較例に対してメッキの厚み、硬度共
増加し、約１．４倍の密着強度を得るに至った。
なお上記の１明は王として不良導体のメッキについて述
べたが、本発明による乾式の前処理方法が一般的金Ｊｇ
４類のメッキにも適用できることは勿ｇＭｊである。
べたが、本発明による乾式の前処理方法が一般的金Ｊｇ
４類のメッキにも適用できることは勿ｇＭｊである。
Claims (1)
- 被メツキ物品上の表面に有機金屑化合物の溶液を塗布し
た後、高温の還元性気体に接触せしむることにより、被
メツキ物品表面の触媒を活性化せしむることを待機とＴ
る無電解メッキの前処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13961181A JPS5848660A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | 無電解メツキの前処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13961181A JPS5848660A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | 無電解メツキの前処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5848660A true JPS5848660A (ja) | 1983-03-22 |
Family
ID=15249315
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13961181A Pending JPS5848660A (ja) | 1981-09-04 | 1981-09-04 | 無電解メツキの前処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5848660A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6077151A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-05-01 | Asahi Glass Co Ltd | 金属被覆ガラス繊維を使用したｆｒｐ製品 |
-
1981
- 1981-09-04 JP JP13961181A patent/JPS5848660A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6077151A (ja) * | 1983-09-30 | 1985-05-01 | Asahi Glass Co Ltd | 金属被覆ガラス繊維を使用したｆｒｐ製品 |
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