JPS5855901A - 反射鏡の製造方法 - Google Patents
反射鏡の製造方法Info
- Publication number
- JPS5855901A JPS5855901A JP15408781A JP15408781A JPS5855901A JP S5855901 A JPS5855901 A JP S5855901A JP 15408781 A JP15408781 A JP 15408781A JP 15408781 A JP15408781 A JP 15408781A JP S5855901 A JPS5855901 A JP S5855901A
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- JP
- Japan
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- film
- substrate
- mirror
- coating
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
- G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、複写機、ファクシミリ、レーザプリンタなど
夜使用される反射＠（ミラー）の製造方法に関し、さら
に詳しくは、高反射特性、高耐久性を要求される結像系
に使用されるアル建ミラーの製造方法に関する。
夜使用される反射＠（ミラー）の製造方法に関し、さら
に詳しくは、高反射特性、高耐久性を要求される結像系
に使用されるアル建ミラーの製造方法に関する。
従来、アルミミラー襄遣方法としては、真、空蒸着法に
よるｌバッチ方式と２バッチ方式が知られている。＠者
は、本板上にアルミニウムを所望の厚さに蒸着し、さら
にそのまま同じ装置内で保護膜を蒸着するものであり、
後者は、アルミニウム蒸着後、該基板を一旦装置外へ取
り出し、別の蒸着装置へ移動させて保護膜を蒸着する方
式のもので６る。
よるｌバッチ方式と２バッチ方式が知られている。＠者
は、本板上にアルミニウムを所望の厚さに蒸着し、さら
にそのまま同じ装置内で保護膜を蒸着するものであり、
後者は、アルミニウム蒸着後、該基板を一旦装置外へ取
り出し、別の蒸着装置へ移動させて保護膜を蒸着する方
式のもので６る。
しかしながら、上記の方法で製造された反射鏡は１反射
軍および膜強度が時間の経過につれて低下してゆくとい
う欠点′（ｆ−有している。これは、基板とアルミ膜、
あるいはアルミ膜と保護膜との間で徐々に化学反応が進
行し、各々の接触面の密着性が悪くなシ、膜剥がｎが起
こシ易くなること。
軍および膜強度が時間の経過につれて低下してゆくとい
う欠点′（ｆ−有している。これは、基板とアルミ膜、
あるいはアルミ膜と保護膜との間で徐々に化学反応が進
行し、各々の接触面の密着性が悪くなシ、膜剥がｎが起
こシ易くなること。
さらＫは、アルミ被膜の劣化によ多分光反射率が低下す
ることに起因するものであると考えられている。
ることに起因するものであると考えられている。
本発明の目的は、上述した従来のアルミミラーの欠点を
解決しようとするものであシ、高反射特性を維持し、か
つ耐久性のすぐれたアルくミラーの製造方法を提供する
ことにある。
解決しようとするものであシ、高反射特性を維持し、か
つ耐久性のすぐれたアルくミラーの製造方法を提供する
ことにある。
本発明者らの研究によれば、アルミ被膜を酸化し、酸化
アルミ被膜を形成することにより、基板とアルミ膜、Ｔ
ｏるいはアルミ膜と保、ＦＩ嗅との接着面で進行すると
考えられる化学反応が抑制され、それに半って膜剥がれ
および反射率の低下が防止されうろことが見出された。
アルミ被膜を形成することにより、基板とアルミ膜、Ｔ
ｏるいはアルミ膜と保、ＦＩ嗅との接着面で進行すると
考えられる化学反応が抑制され、それに半って膜剥がれ
および反射率の低下が防止されうろことが見出された。
すなわち１本発明の反射鏡の製造方法は、基板上に反射
用アルミ４１膜を被着し、さらに該アルミ被膜の表面に
保護膜を被着してなる反射鏡ｔ−製造するＫあたり、ｓ
ｔｒ記アシアル膜被着後に、該アルミ被膜を酸素雰囲気
中で酸化することを特徴とするものである。
用アルミ４１膜を被着し、さらに該アルミ被膜の表面に
保護膜を被着してなる反射鏡ｔ−製造するＫあたり、ｓ
ｔｒ記アシアル膜被着後に、該アルミ被膜を酸素雰囲気
中で酸化することを特徴とするものである。
以下、不発明をさらに詳細に説明する。
本発明の反射鏡の製造方法は以下の１株からなる。すな
わち、まず真空蒸着装置の蒸着容器内に基板を設置し、
所定の圧力まで蒸着容器を排気し死後、基板上にアルミ
ニウムを真空蒸着法、スパッタ法などにより蒸着し、ア
ルミ被膜を形成する。
わち、まず真空蒸着装置の蒸着容器内に基板を設置し、
所定の圧力まで蒸着容器を排気し死後、基板上にアルミ
ニウムを真空蒸着法、スパッタ法などにより蒸着し、ア
ルミ被膜を形成する。
次いで真空容器内にＩＮ！素を導入し、上記アルミ被膜
を酸素雰囲気中に一定時間放置して少なくとも一部分酸
化する。この際基板を〜１００ｉ〜４２００４Ｃ程度に
加熱してもよい、−硬に、上記蒸？容器蒸着した後蒸着
容器を大気圧にもどして反射鏡の製造工程を完了させる
。
を酸素雰囲気中に一定時間放置して少なくとも一部分酸
化する。この際基板を〜１００ｉ〜４２００４Ｃ程度に
加熱してもよい、−硬に、上記蒸？容器蒸着した後蒸着
容器を大気圧にもどして反射鏡の製造工程を完了させる
。
上記した方法は従来の１バッチ方式Ｋａ尚するものであ
るが１本発明は２バッチ方式としても実施することがで
きる。すなわち、アルミ被膜形成後、一旦他の蒸着容器
を移動し、該アルミ被膜を酸化することも可能である。
るが１本発明は２バッチ方式としても実施することがで
きる。すなわち、アルミ被膜形成後、一旦他の蒸着容器
を移動し、該アルミ被膜を酸化することも可能である。
以下、実施例１．・比較例によシ本発明をさらに具体的
に説明する６本°発明は、この実施例に限定される奄の
ではない。
に説明する６本°発明は、この実施例に限定される奄の
ではない。
実施例
本実施例においては従来の１パッチ方式を用いた０反射
鏡の基板としては、ガラスを用い、真空蒸着法によシア
ルミニウムおよび保護膜の被着を行なう。
鏡の基板としては、ガラスを用い、真空蒸着法によシア
ルミニウムおよび保護膜の被着を行なう。
まず、真空蒸着装置の蒸着容器内を約１０７５Ｔｏｒｒ
の圧力まで排気し、純度９９．９９％ のアルミニウム
を蒸発させガラス基板表面に約１ｏｏｏｌのアルミ被膜
を形成する。
の圧力まで排気し、純度９９．９９％ のアルミニウム
を蒸発させガラス基板表面に約１ｏｏｏｌのアルミ被膜
を形成する。
次いで、該蒸着容器内に酸素ガスを約１０ Ｔｏｒｒ
の圧力まで導入し、上記アルミ被膜を酸素雰囲気中で６
分間基板を２００Ｃに保って酸化する。セしてさらに、
上記基板を加熱しながら、再び蒸着容器内を１０ Ｔ
Ｏｒｒ程度の圧力まで排気する。この−ように基板を加
熱するのは、アルミ被膜と保ｆａ膜との密着性を良くす
るためと保護膜の屈折率を一定に保つためである。
の圧力まで導入し、上記アルミ被膜を酸素雰囲気中で６
分間基板を２００Ｃに保って酸化する。セしてさらに、
上記基板を加熱しながら、再び蒸着容器内を１０ Ｔ
Ｏｒｒ程度の圧力まで排気する。この−ように基板を加
熱するのは、アルミ被膜と保ｆａ膜との密着性を良くす
るためと保護膜の屈折率を一定に保つためである。
基板＠度が約８００ Ｃになったら低屈折率物質である
二酸化ケイＸ （８１０’、）をＳ酸化されたアルイ被
膜上に８８０ムの厚さに蒸着する１次いでその表面に、
ｉ％ｉ屈′Ｆｒ軍物質でるる二酸化チタン（Ｔ１０□）
を５５０ムの厚さに蒸着？、＆、低屈折軍屈折として＃
１Ｓｉ０２のは力）にＭｇ１Ｆ２．ム１５！０８． Ｏ
ｅν８なども用いることができｌ屈折率物質としては、
テ１０２のほかにＺｒＯ２、Ｃ３＠０２ 、Ｐｒ６Ｏ１
１ｆｉども用いることができる。
二酸化ケイＸ （８１０’、）をＳ酸化されたアルイ被
膜上に８８０ムの厚さに蒸着する１次いでその表面に、
ｉ％ｉ屈′Ｆｒ軍物質でるる二酸化チタン（Ｔ１０□）
を５５０ムの厚さに蒸着？、＆、低屈折軍屈折として＃
１Ｓｉ０２のは力）にＭｇ１Ｆ２．ム１５！０８． Ｏ
ｅν８なども用いることができｌ屈折率物質としては、
テ１０２のほかにＺｒＯ２、Ｃ３＠０２ 、Ｐｒ６Ｏ１
１ｆｉども用いることができる。
上記２ｆｆｉの保護膜が形成された後、該基板温度が約
２００Ｃまで下がった時点で蒸着容器を大気圧にもどし
てアルミミラーの製造工程が終了する。
２００Ｃまで下がった時点で蒸着容器を大気圧にもどし
てアルミミラーの製造工程が終了する。
比較例
上記例の手順を、アルミ被膜の酸化工程を除いて繰り返
した。すなわち、本比較例においては。
した。すなわち、本比較例においては。
上記例と同一の条件にて、まず、ガラス基板上にアルミ
被膜を形成した後、続いて、腹アル建被膜上に保護膜と
してＳｉＯおよびＴｉＯ２を蒸着しアルミ＜２−を得た
。
被膜を形成した後、続いて、腹アル建被膜上に保護膜と
してＳｉＯおよびＴｉＯ２を蒸着しアルミ＜２−を得た
。
かくして得られたアルミミラーについて１反剖率および
膜強度の経時変化を測定する。得られた結果を第２図お
よび第８図に示す、第２図の結果を見れば、不発明によ
るアルミミラー（実施例）′２）従来（７）７／ｌ ｆ
２− （比較例）と比較して・反射率の経時的低下が
少ないことが６かる。ｉ九、第８図に示すように、［強
度についても本発明のアルミミラー（実施例）は、従来
のアルミミラー（比較例）にくらべその低下が普しく少
ない。
膜強度の経時変化を測定する。得られた結果を第２図お
よび第８図に示す、第２図の結果を見れば、不発明によ
るアルミミラー（実施例）′２）従来（７）７／ｌ ｆ
２− （比較例）と比較して・反射率の経時的低下が
少ないことが６かる。ｉ九、第８図に示すように、［強
度についても本発明のアルミミラー（実施例）は、従来
のアルミミラー（比較例）にくらべその低下が普しく少
ない。
以上の笑施例、比較例から明らかなように、本発明によ
るアルミミラーは１反射軍および膜強度の経時的低下が
少なく、高反射特！！：、高耐久性を維持することがで
きる。
るアルミミラーは１反射軍および膜強度の経時的低下が
少なく、高反射特！！：、高耐久性を維持することがで
きる。
第１図（ａ）は、従来の方法によシ製造されたアル＜ミ
ラーの断面図、第１図（ｂ）および（０）は、本発明の
方法により襄遺された断面図である。第２図は反射率の
経時的変化を示すグラフでめシ、第８図は膜強度の経時
的変化を示すグラフである。 １・・・基板、２ａ・・・アルミ膜、２１）・・・酸化
アルミ膜、８・・・低屈折率物質層、４・・・高屈折率
物質層。 出顯人代理人 猪 股 清
ラーの断面図、第１図（ｂ）および（０）は、本発明の
方法により襄遺された断面図である。第２図は反射率の
経時的変化を示すグラフでめシ、第８図は膜強度の経時
的変化を示すグラフである。 １・・・基板、２ａ・・・アルミ膜、２１）・・・酸化
アルミ膜、８・・・低屈折率物質層、４・・・高屈折率
物質層。 出顯人代理人 猪 股 清
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板上に反射用アルミ被＊−を被着し、さらに該アル建
被膜の表面に保護膜を被着してなる反射鏡を製造するＫ
め暫り、前記アルミ被膜被層後Ｋ。 該アル建被膜を酸素雰囲気中で酸化することを特徴とす
る反射鏡の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15408781A JPS5855901A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | 反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15408781A JPS5855901A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | 反射鏡の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5855901A true JPS5855901A (ja) | 1983-04-02 |
Family
ID=15576605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15408781A Pending JPS5855901A (ja) | 1981-09-29 | 1981-09-29 | 反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5855901A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0312036A (ja) * | 1989-06-07 | 1991-01-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光学記録媒体及びその製造方法 |
| JP2009003063A (ja) * | 2007-06-20 | 2009-01-08 | Central Glass Co Ltd | 表面鏡 |
| CN108330449A (zh) * | 2018-01-04 | 2018-07-27 | 苏州市唯嘉光学有限公司 | 磨砂面上的高漫反射铝膜及其制备方法 |
-
1981
- 1981-09-29 JP JP15408781A patent/JPS5855901A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0312036A (ja) * | 1989-06-07 | 1991-01-21 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光学記録媒体及びその製造方法 |
| JP2009003063A (ja) * | 2007-06-20 | 2009-01-08 | Central Glass Co Ltd | 表面鏡 |
| CN108330449A (zh) * | 2018-01-04 | 2018-07-27 | 苏州市唯嘉光学有限公司 | 磨砂面上的高漫反射铝膜及其制备方法 |
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