JPS585701A - 反射防止膜を設けた光学部品 - Google Patents
反射防止膜を設けた光学部品Info
- Publication number
- JPS585701A JPS585701A JP56102259A JP10225981A JPS585701A JP S585701 A JPS585701 A JP S585701A JP 56102259 A JP56102259 A JP 56102259A JP 10225981 A JP10225981 A JP 10225981A JP S585701 A JPS585701 A JP S585701A
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- JP
- Japan
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- layer
- refractive index
- film
- oxide film
- reflection
- Prior art date
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- Pending
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
- G02B1/115—Multilayers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガラス、プラスチック等の透明基体Kjil
l威するc+6c遣しえアンバー色系の反射色を有する
反射防止膜に関するものである。
l威するc+6c遣しえアンバー色系の反射色を有する
反射防止膜に関するものである。
メjネレンズ、iIメ2レンズ等のレンズl1lT。
るい紘各種カバー透−INOIIな透明物品、特に高透
過率O要求される光学部品においては1表面での入射光
の反射を低下させ、光の透過率【高める丸めKJ[射肪
止膜を設けることが公知である。ガラスからなる光学部
品の反射防止膜としては、真空蒸着法によるMgFg膜
が典型的なものとして知られてお)2又実用されている
が。
過率O要求される光学部品においては1表面での入射光
の反射を低下させ、光の透過率【高める丸めKJ[射肪
止膜を設けることが公知である。ガラスからなる光学部
品の反射防止膜としては、真空蒸着法によるMgFg膜
が典型的なものとして知られてお)2又実用されている
が。
かかるMgν怠層を真空蒸着するI[+&膜の付着性を
高めるえめに! 01c〜400℃に加熱しなければな
らない、従って、耐熱性0弱いプラスチックからなる光
学部品[Mgν倉膜を形成する場合には、充分な加熱が
行なえないため、@〇付着力、硬度が不足して、実用に
供することができない、こ0IIKプラスチツクからな
る光学部品への反射防止性能、プラスチック基体の耐熱
性が弱いこと中屈折率が低いプラスチックが多いことな
どから材質、Il法などの点で制限を費ける0例えば低
屈折率材料0中で酸化ケイ素膜(gto、膜)はプラス
チックと0付着カが喪酸化ケイ素膜の屈折率は、t46
〜t4?と通常のプラスチックレンズ基体の屈折率に近
いので、単層の状態では反射防止膜としての機能を持ち
えず、使用できない。その丸め、酸化ケイ素膜を用いて
反射防止膜を得る場合には、2層。
高めるえめに! 01c〜400℃に加熱しなければな
らない、従って、耐熱性0弱いプラスチックからなる光
学部品[Mgν倉膜を形成する場合には、充分な加熱が
行なえないため、@〇付着力、硬度が不足して、実用に
供することができない、こ0IIKプラスチツクからな
る光学部品への反射防止性能、プラスチック基体の耐熱
性が弱いこと中屈折率が低いプラスチックが多いことな
どから材質、Il法などの点で制限を費ける0例えば低
屈折率材料0中で酸化ケイ素膜(gto、膜)はプラス
チックと0付着カが喪酸化ケイ素膜の屈折率は、t46
〜t4?と通常のプラスチックレンズ基体の屈折率に近
いので、単層の状態では反射防止膜としての機能を持ち
えず、使用できない。その丸め、酸化ケイ素膜を用いて
反射防止膜を得る場合には、2層。
1層あるいはそれ以上の多層コートが必要である。
とOwなプラスチックレンズ用の反射防止膜としては、
ガラスレンズの場合の単層のMgF1反射防止膜と同色
系O赤紫からマぞンダb反射光を有する2層構成の反射
防止膜や、又更に性艷を向上させ九緑色反射光を有する
5層構成の反射防止膜が知られている。例えば、この種
の5層系の反射防止層として、第1図の様にOR−墨!
レンズ10表面に樋λO光学膜厚を有するAhos層2
と、にλO光学膜厚を有するZrO意層意表1更に’A
λの光学膜厚を有する8101層4とを順次形成した反
射防止層が知られている。
ガラスレンズの場合の単層のMgF1反射防止膜と同色
系O赤紫からマぞンダb反射光を有する2層構成の反射
防止膜や、又更に性艷を向上させ九緑色反射光を有する
5層構成の反射防止膜が知られている。例えば、この種
の5層系の反射防止層として、第1図の様にOR−墨!
レンズ10表面に樋λO光学膜厚を有するAhos層2
と、にλO光学膜厚を有するZrO意層意表1更に’A
λの光学膜厚を有する8101層4とを順次形成した反
射防止層が知られている。
冑、ζこにおいて、λは設計波長であ夛、λ−446n
wm〜S 70 nmz が多く採用される。
wm〜S 70 nmz が多く採用される。
しかしながらこの緑色反射光を有する4層構成O反射騎
止膜は2人O目O感度の最も高い緑色光を反射させてい
るので、片aic+反射率を(17−以下にすることが
困難であるという難点を有していた。
止膜は2人O目O感度の最も高い緑色光を反射させてい
るので、片aic+反射率を(17−以下にすることが
困難であるという難点を有していた。
一方、アンバー色系O反射光を有する反射防止膜は、I
!感度の高い緑色系の反射を抑えであるため、緑色系の
反射光を有する反射防止膜に比べ透明性が向上し好まし
いものとして知られており、ガラスメガネレンズにおい
て実用化されているが、プラスチックレンズにおいては
。
!感度の高い緑色系の反射を抑えであるため、緑色系の
反射光を有する反射防止膜に比べ透明性が向上し好まし
いものとして知られており、ガラスメガネレンズにおい
て実用化されているが、プラスチックレンズにおいては
。
反射防止膜をコーティングする場合にプラスチツタ基体
を100℃以上の温度に加熱することができないために
膜材料と屈折率の組み合せに限界がある良め、いまだ好
ましいアンバー色系の反射光を有する反射防止膜が得ら
れていないという状況下にある。
を100℃以上の温度に加熱することができないために
膜材料と屈折率の組み合せに限界がある良め、いまだ好
ましいアンバー色系の反射光を有する反射防止膜が得ら
れていないという状況下にある。
本発明は、上記点に鑑み、アンバー色系の反射色調を有
し、かつ反射防止性能が高くて透明性が高く、更に機械
的強度及び化学的安定性が高いプラスチック光学部品に
適した材質及び膜構成を有する反射防止膜を提供するこ
とを目的として研究O結果発明されたものであシ、その
要旨は、透明基体上に、#透明基体側から順に屈折率−
がL41≦q≦t!SO第1層&屈折率−zttss≦
b≦ttssO第2層、屈折率−#2.01≦q≦lO
!!0#l;i層、屈折重態4がt44≦−≦t4?O
第4?O形成しえことを特徴とする4層よ)&るアンバ
ー白系O夏射色を有する反射防止膜を設は九光学部品に
関する40である。
し、かつ反射防止性能が高くて透明性が高く、更に機械
的強度及び化学的安定性が高いプラスチック光学部品に
適した材質及び膜構成を有する反射防止膜を提供するこ
とを目的として研究O結果発明されたものであシ、その
要旨は、透明基体上に、#透明基体側から順に屈折率−
がL41≦q≦t!SO第1層&屈折率−zttss≦
b≦ttssO第2層、屈折率−#2.01≦q≦lO
!!0#l;i層、屈折重態4がt44≦−≦t4?O
第4?O形成しえことを特徴とする4層よ)&るアンバ
ー白系O夏射色を有する反射防止膜を設は九光学部品に
関する40である。
以下1本発明について1図面を参照しながら更に詳細に
説明する。第2図は1本発明の一具体flK係る反射防
止膜の設けられ九党学部品の横断面図を示しえもOであ
シ、1・は1反射防止層を設ける透明基体、tati該
透明基体1−01111に形成されえ屈折率−がL41
≦−≦twiO膜からなる第1層、sOはこの第1層2
・上に形成され良屈折皐−がttss≦−≦LtIII
O属からなる菖意層、40はこの第2層30上に形成さ
れ九屈折率−が101≦−≦toso第i層、50はと
c+第S層40上に形成された屈折率−がt44≦−≦
t4?f)第4層を示す。
説明する。第2図は1本発明の一具体flK係る反射防
止膜の設けられ九党学部品の横断面図を示しえもOであ
シ、1・は1反射防止層を設ける透明基体、tati該
透明基体1−01111に形成されえ屈折率−がL41
≦−≦twiO膜からなる第1層、sOはこの第1層2
・上に形成され良屈折皐−がttss≦−≦LtIII
O属からなる菖意層、40はこの第2層30上に形成さ
れ九屈折率−が101≦−≦toso第i層、50はと
c+第S層40上に形成された屈折率−がt44≦−≦
t4?f)第4層を示す。
本発明において、透明16基体としては透明性が高く、
耐擦傷性、耐摩耗性、耐化学的安定性、耐−1的安定性
、光学特性勢に優れ、かつメメネ、カメラそO他各種用
途のレンズI@1針器、装置等に使用されるカバー透明
板、各種−材料、あるいはそO他各種光学部材に使用さ
れる特性を有するプラスチック材料、Plえげアリル樹
脂(飼えば裔晶名ox−it(ボツアツルジダ雫=−ル
カーボネート)として知られて−る。)%ポリメチルメ
タタリレート、ポリカー〆ネート、ポリスチレンなどが
使用される。勿論、これらK11il定される仁となく
上1e411性を有するその他各種プラスチック材料も
及びjラス基体も使用することがで自る。中でも1本発
−〇反射騎止膜株屈折率t4t・〜ts@・を持り透明
基体に対し、!KO1−19として知られているポリア
リルジグリコールカーlネートに対し最適である。
耐擦傷性、耐摩耗性、耐化学的安定性、耐−1的安定性
、光学特性勢に優れ、かつメメネ、カメラそO他各種用
途のレンズI@1針器、装置等に使用されるカバー透明
板、各種−材料、あるいはそO他各種光学部材に使用さ
れる特性を有するプラスチック材料、Plえげアリル樹
脂(飼えば裔晶名ox−it(ボツアツルジダ雫=−ル
カーボネート)として知られて−る。)%ポリメチルメ
タタリレート、ポリカー〆ネート、ポリスチレンなどが
使用される。勿論、これらK11il定される仁となく
上1e411性を有するその他各種プラスチック材料も
及びjラス基体も使用することがで自る。中でも1本発
−〇反射騎止膜株屈折率t4t・〜ts@・を持り透明
基体に対し、!KO1−19として知られているポリア
リルジグリコールカーlネートに対し最適である。
本発明における第1層20は1.6 M≦−≦tisO
履折率−を有する光学膜が使用されうるが、中でもその
膜としてはかかる屈折率の範■が得られ、かつ、その屈
折率の制御も容易で。
履折率−を有する光学膜が使用されうるが、中でもその
膜としてはかかる屈折率の範■が得られ、かつ、その屈
折率の制御も容易で。
化学的、物理的耐久性にも優れ、更に膜形成が容易な酸
化アルlx=ウム(ムjtom)又は酸化アル叱ニウム
(ムjsos)を70嘩以上含む酸化ア)hlニウム膜
が最適である。又第1層O膜厚としては、光学膜厚−4
テ(1/4−3/121 )λ・≦−4< (1/4
+ V1!8)λ・の範囲とするのが好壇しn、ココテ
、 111ハt 4 S ≦vq≦t 6505mで#
))1又反射防止の主波長λ拳 は(14? 5 pw
a 〜as Is S pmである。λ・ は以下同じ
である。
化アルlx=ウム(ムjtom)又は酸化アル叱ニウム
(ムjsos)を70嘩以上含む酸化ア)hlニウム膜
が最適である。又第1層O膜厚としては、光学膜厚−4
テ(1/4−3/121 )λ・≦−4< (1/4
+ V1!8)λ・の範囲とするのが好壇しn、ココテ
、 111ハt 4 S ≦vq≦t 6505mで#
))1又反射防止の主波長λ拳 は(14? 5 pw
a 〜as Is S pmである。λ・ は以下同じ
である。
又、第!層SOは、ttss≦−≦t!・SO履折率−
を有する光学膜が使用されうるが、中で4七〇膜として
は、かかる屈折率の@囮が得られ、かつそO屈折率O制
御も容易で、化学的、物理的耐久性にも優れ、更に膜形
成が容易な酸化ジルコニウム(Zr01 )、 又は
酸化ジルコニウム(!ro1)1r701!以上含む低
屈折率酸化ジルコニウム膜が最適である。又第2層O膜
厚としては、光学膜厚−4で55/128λ・≦−〜≦
N 7/1 ! 8λ・O範路とするのが好ましい。
を有する光学膜が使用されうるが、中で4七〇膜として
は、かかる屈折率の@囮が得られ、かつそO屈折率O制
御も容易で、化学的、物理的耐久性にも優れ、更に膜形
成が容易な酸化ジルコニウム(Zr01 )、 又は
酸化ジルコニウム(!ro1)1r701!以上含む低
屈折率酸化ジルコニウム膜が最適である。又第2層O膜
厚としては、光学膜厚−4で55/128λ・≦−〜≦
N 7/1 ! 8λ・O範路とするのが好ましい。
こむでn@Fi、ttss6;ng≦ttss o範
囲である。
囲である。
又館3層40は、2.01≦−≦Lo so屈折率−を
有する光学膜が使用されうるが、中でもその膜としては
、かかる屈折率の範囲が得られ。
有する光学膜が使用されうるが、中でもその膜としては
、かかる屈折率の範囲が得られ。
かつその屈折率の制御4容易で、化学的、物理的耐久性
にも優れ、かつその膜形成も容異な酸化ジルコニウム(
zrow)又は酸化ジルコニウム(ZrO2)を709
1以上含む高屈折率酸化ジルコニウム膜が最適である。
にも優れ、かつその膜形成も容異な酸化ジルコニウム(
zrow)又は酸化ジルコニウム(ZrO2)を709
1以上含む高屈折率酸化ジルコニウム膜が最適である。
又、第1層O膜厚としては、光学膜厚−4で!S/12
@λ・≦−4≦2!/1!・λ・ OIi囲とするのが
好ましい、ζこで−d101≦4≦10sol[囲であ
る。
@λ・≦−4≦2!/1!・λ・ OIi囲とするのが
好ましい、ζこで−d101≦4≦10sol[囲であ
る。
こO様に第2層sOと第1層40とは、低履折率酸化ジ
ルコニウム膜、高屈折率酸化ジルコニウム膜とから構成
するのが最適である。この第宜層と第1層の酸化ジルコ
ニウム膜の屈折率の調整は1例えば真空蒸着時の真空度
と蒸着速度を調整して行う、iFlえば、酸化ジルコニ
ウム膜Ogk肩折率化は m着真申縦を悪くして、即ち
真空中の残留ガスが多い雰囲気でゆり〈〕と蒸着すれば
達成化でき、一方高屈折率化は、高真空下で蒸着源温f
を高めて蒸着すれば可能である。
ルコニウム膜、高屈折率酸化ジルコニウム膜とから構成
するのが最適である。この第宜層と第1層の酸化ジルコ
ニウム膜の屈折率の調整は1例えば真空蒸着時の真空度
と蒸着速度を調整して行う、iFlえば、酸化ジルコニ
ウム膜Ogk肩折率化は m着真申縦を悪くして、即ち
真空中の残留ガスが多い雰囲気でゆり〈〕と蒸着すれば
達成化でき、一方高屈折率化は、高真空下で蒸着源温f
を高めて蒸着すれば可能である。
又、第4層S@は、t46≦−≦t4?の屈折率−を有
する光学膜が使用されうるが、中でもその膜としては、
かかる屈折率O範囲が得られ、かつその屈折率&)11
1114害鳥で、化学的。
する光学膜が使用されうるが、中でもその膜としては、
かかる屈折率O範囲が得られ、かつその屈折率&)11
1114害鳥で、化学的。
物理的耐久性にも優れ、かつその膜形成も容易な酸化ケ
イ素(1ids ) 又は酸化ケイ素(sio、 )
を7・−以上含む酸化ケイ素膜が最適である。
イ素(1ids ) 又は酸化ケイ素(sio、 )
を7・−以上含む酸化ケイ素膜が最適である。
又、第4層O膜厚としては、光学膜厚−と4で(1/4
−1/128 )λ・≦m4a4≦(1/4 + l/
1211)1・の範囲とするのが好ましい、ここで−は
’L44≦a*≦t4to@sである。
−1/128 )λ・≦m4a4≦(1/4 + l/
1211)1・の範囲とするのが好ましい、ここで−は
’L44≦a*≦t4to@sである。
この第4層は1本−明Oアンバー色糸反射紡止l[O叉
射率に影響を与える最も重要な因子であり、第4層OI
I折率が低い嫌ど反射率は低くなるが、屈折率が1.4
4よ)低くなると酸化ケイ素膜が多孔質とな〉、機械的
、化学的耐久性が低下して好ましくなく、又屈折率がt
4?よ〉高くなると反射率が高くなって反射防止膜とし
ての性能が低下して好ましくない。
射率に影響を与える最も重要な因子であり、第4層OI
I折率が低い嫌ど反射率は低くなるが、屈折率が1.4
4よ)低くなると酸化ケイ素膜が多孔質とな〉、機械的
、化学的耐久性が低下して好ましくなく、又屈折率がt
4?よ〉高くなると反射率が高くなって反射防止膜とし
ての性能が低下して好ましくない。
上記した第1層、第4層の屈折率の調整は。
第3゛層、第4層の酸化ジルコニウムの屈折率O調整と
同IIK、蒸着条件を変えるととにより行なわれる。
同IIK、蒸着条件を変えるととにより行なわれる。
上記したIIIK、第1〜4層の各層の屈折率及び膜厚
を特定の範囲に選ぶことKよ〉1可視党域の反射防止効
果が高くなシ、かつ第1〜4層の干渉効果により反射光
がアンバー色系の反射防止膜を提供することができる。
を特定の範囲に選ぶことKよ〉1可視党域の反射防止効
果が高くなシ、かつ第1〜4層の干渉効果により反射光
がアンバー色系の反射防止膜を提供することができる。
なお1本発明によるアンバー色系の反射色を有する反射
防止膜は、各層O屈折率及び膜厚に対する制約が厳しい
もO0第2層、及び館3層O膜厚Ow御を正しく行なう
ことKよ〉、アンバー色系の反射色を有し、かつ反射率
の低い反射防止膜を得ることができる。特に、第宜層O
膜厚領御O精度は(1/128 ) J・、又第易層O
膜厚餠御O精fは(2/128 )λ・ f)IifK
する注意が必要である。
防止膜は、各層O屈折率及び膜厚に対する制約が厳しい
もO0第2層、及び館3層O膜厚Ow御を正しく行なう
ことKよ〉、アンバー色系の反射色を有し、かつ反射率
の低い反射防止膜を得ることができる。特に、第宜層O
膜厚領御O精度は(1/128 ) J・、又第易層O
膜厚餠御O精fは(2/128 )λ・ f)IifK
する注意が必要である。
1に訃、第111に示し良様に1酸化アル2ニウム(ム
ATOs)膜と酸化ジルコニウム膜(grow)膜と酸
化ケイ素(altG、)膜とtI[次プラスチックレン
ズ表面に形成し九グリーン色系O反射色を有する反射防
止膜では、第2層O酸化ジルコ具つム膜がに波長で構成
されているが、グリ−色の補色であるアンバー色系の反
射色を実現する丸め1本発明においてはかかる酸化ジル
コニウム膜を低屈折率部と高屈折率部の!層に分け、し
かも膜厚構成を通常の樋波長からずらしている。
ATOs)膜と酸化ジルコニウム膜(grow)膜と酸
化ケイ素(altG、)膜とtI[次プラスチックレン
ズ表面に形成し九グリーン色系O反射色を有する反射防
止膜では、第2層O酸化ジルコ具つム膜がに波長で構成
されているが、グリ−色の補色であるアンバー色系の反
射色を実現する丸め1本発明においてはかかる酸化ジル
コニウム膜を低屈折率部と高屈折率部の!層に分け、し
かも膜厚構成を通常の樋波長からずらしている。
本発明においては2反射防止膜の主液長のとヤ方が一つ
O特徴となっておシ、アンI(−色はグリーン色の補色
といえるOで、主波長はダシーン色領域(青緑−縁一黄
緑の領域)O約**・pm−1!17mm Kとっで
ある。ヒ011!にするととによ)、第1〜4層04)
光学膜厚を前述し九*t*isとしえ反射防止膜は′−
アンバー色系の反射色にさせることができる。
O特徴となっておシ、アンI(−色はグリーン色の補色
といえるOで、主波長はダシーン色領域(青緑−縁一黄
緑の領域)O約**・pm−1!17mm Kとっで
ある。ヒ011!にするととによ)、第1〜4層04)
光学膜厚を前述し九*t*isとしえ反射防止膜は′−
アンバー色系の反射色にさせることができる。
又1本発@においては、上記しえ4層系の反射防止膜の
プラスチツタ透明基体lI面への付着強変を高め、かつ
プラスチック透明基体OSSの耐擦傷性、耐摩耗性の弱
さを補なう良めに2第S@t)様にプラスチック透明基
体10と第1層!OとfllsllIKアンダープート
46を介在させるとともできる。このアンダーコートと
しては。
プラスチツタ透明基体lI面への付着強変を高め、かつ
プラスチック透明基体OSSの耐擦傷性、耐摩耗性の弱
さを補なう良めに2第S@t)様にプラスチック透明基
体10と第1層!OとfllsllIKアンダープート
46を介在させるとともできる。このアンダーコートと
しては。
付着性O改善、及び耐擦傷性、耐摩耗性の改善に効果的
な有機物質又は無機物質の中から最適な材料が選択され
るが、中でもプラスチック基体及び反射防止膜との付着
性が嵐好でかつ耐擦傷性、耐摩耗性が棗好で、化学的耐
久性411れ。
な有機物質又は無機物質の中から最適な材料が選択され
るが、中でもプラスチック基体及び反射防止膜との付着
性が嵐好でかつ耐擦傷性、耐摩耗性が棗好で、化学的耐
久性411れ。
更にコーティング容易な酸化ケイ素(atom)膜。
もしくは酸化ケイ素(snow) k y o−以上含
む酸化物膜からなるアンダーコートが特に好ましい、か
かるアンダーコートの膜厚紘、LSpwa〜2 pwa
D@@がq#に好オしい、アンダーコートO膜厚が2
声よ〉大となるとこの層中に生ずる応力が大と′&夛、
プラスチック透明基板の強度低下を4えらし、あるいは
又剥S、亀裂等が入〉好ましくない、1plえばon−
stoめがねレンズKl 6 pym以上0810.
膜を形成するとめがねレンズO米l1lO]PDA!
lL格091度試験を満えさ欺くなる。一方、lLsp
m よ)小となるとプラスチツタ透明基体の耐擦傷性
、耐摩耗性を向上させる良めに効果がなくなに、又分光
反射特性におけるリップルの振幅が大きくなル反射肪止
に対し悪影響を与えるOで好ましくない。
む酸化物膜からなるアンダーコートが特に好ましい、か
かるアンダーコートの膜厚紘、LSpwa〜2 pwa
D@@がq#に好オしい、アンダーコートO膜厚が2
声よ〉大となるとこの層中に生ずる応力が大と′&夛、
プラスチック透明基板の強度低下を4えらし、あるいは
又剥S、亀裂等が入〉好ましくない、1plえばon−
stoめがねレンズKl 6 pym以上0810.
膜を形成するとめがねレンズO米l1lO]PDA!
lL格091度試験を満えさ欺くなる。一方、lLsp
m よ)小となるとプラスチツタ透明基体の耐擦傷性
、耐摩耗性を向上させる良めに効果がなくなに、又分光
反射特性におけるリップルの振幅が大きくなル反射肪止
に対し悪影響を与えるOで好ましくない。
又、アンダー;−トの酸化ケイ素(sio、)又はこれ
を主体とするll0II折率社、グラスチック透明基体
の屈折率とO差異が大きくなるとりラグs−0@ @が
増大するえめ1.4 !i −t S 5とするのが好
ましい。
を主体とするll0II折率社、グラスチック透明基体
の屈折率とO差異が大きくなるとりラグs−0@ @が
増大するえめ1.4 !i −t S 5とするのが好
ましい。
歯、プラスチツタ透明基体とアンダーコートとO付着性
を高めるためKそ0間に反射防止性能、色調に影響を与
えない範囲の膜厚2例えば10〜200At)その他O
アンダーコート1形成した)、あるいは又プラスチック
透明基体を化成処理することもできる。
を高めるためKそ0間に反射防止性能、色調に影響を与
えない範囲の膜厚2例えば10〜200At)その他O
アンダーコート1形成した)、あるいは又プラスチック
透明基体を化成処理することもできる。
本発明においては前述した様に、第1〜40各層におい
て耐候性、硬f1付着力等の向上の丸めに、それぞれの
各層の屈折率の範囲内で。
て耐候性、硬f1付着力等の向上の丸めに、それぞれの
各層の屈折率の範囲内で。
かつ所望の特性が得られる範囲内で&SO−よ)少ない
他の成分、例えばMgO、OaO、TLOhテ’101
t ム40g 、 1iio1. 810
、 ZnO、Ga1O1゜S鳳o1&o・0■を添
加し1Lあるいは複合膜とすることもできる。
他の成分、例えばMgO、OaO、TLOhテ’101
t ム40g 、 1iio1. 810
、 ZnO、Ga1O1゜S鳳o1&o・0■を添
加し1Lあるいは複合膜とすることもできる。
以下、本発明cs*m1P1について説明する。
実施IP11
清浄に洗浄しにポリアリルカーlネートレンズ基体(商
品名、0R−19レンズ)k真空蒸着槽内に七ットし、
該蒸着槽内itず1×10″″ITorr まで排気
した0次−でレンズ基体を約1・0℃に加熱しつつ以下
0IIA着を順次行なり良、はじめに、、IN着檜の真
空度i 5 X I D−1〒orr IIC調整しえ
後、レンズ基体表面に酸化アルミニウムを3ム/−・a
の蒸着速度で蒸着し、−161の酸化アルミニウム(ム
hog ) l[からなる第1層を形成した。次いで真
空度を瓜SX10−1〒orr K再調整した俵、上記
酸化アルン真ウム膜上に酸化ジルコニウムfSム/―・
0の蒸着速度で蒸着し、5youO低屈折率酸化ジルコ
ニウム(ZrO禦) 膜からなる第2層を形成し、続い
て再び真空[15X1ft″″’ Torr K再調整
し九後、上記低屈折率酸化ジルコニウム膜上に酸化ジル
コニウムtsX/−・Cの蒸着速度で蒸着し755ムの
高屈折率酸化ジルコニウム(ZrO嘗)illからなる
第5層【形成しえ0次いで蒸着槽の真空fを5×10″
″易〒orr に再調整した後上記高屈折率酸化ジル
コニウム膜上に酸化ケイ素[20ム/−・Oの蒸着速度
で蒸着し、?OOA&)鹸化ケイ素からなる第4層【形
成し良。
品名、0R−19レンズ)k真空蒸着槽内に七ットし、
該蒸着槽内itず1×10″″ITorr まで排気
した0次−でレンズ基体を約1・0℃に加熱しつつ以下
0IIA着を順次行なり良、はじめに、、IN着檜の真
空度i 5 X I D−1〒orr IIC調整しえ
後、レンズ基体表面に酸化アルミニウムを3ム/−・a
の蒸着速度で蒸着し、−161の酸化アルミニウム(ム
hog ) l[からなる第1層を形成した。次いで真
空度を瓜SX10−1〒orr K再調整した俵、上記
酸化アルン真ウム膜上に酸化ジルコニウムfSム/―・
0の蒸着速度で蒸着し、5youO低屈折率酸化ジルコ
ニウム(ZrO禦) 膜からなる第2層を形成し、続い
て再び真空[15X1ft″″’ Torr K再調整
し九後、上記低屈折率酸化ジルコニウム膜上に酸化ジル
コニウムtsX/−・Cの蒸着速度で蒸着し755ムの
高屈折率酸化ジルコニウム(ZrO嘗)illからなる
第5層【形成しえ0次いで蒸着槽の真空fを5×10″
″易〒orr に再調整した後上記高屈折率酸化ジル
コニウム膜上に酸化ケイ素[20ム/−・Oの蒸着速度
で蒸着し、?OOA&)鹸化ケイ素からなる第4層【形
成し良。
このIIにして蒸着された各層についてそれぞれ屈折率
をアペレス法により測定したところ。
をアペレス法により測定したところ。
第1層の酸化アルミニウム膜の屈折率F11.6 ′5
であり、第2層の低屈折率酸化ジルコニウム膜の屈折率
はt955であり、第3層の高屈折率酸化ジル−ニウム
膜の屈折率は2−01であ)。
であり、第2層の低屈折率酸化ジルコニウム膜の屈折率
はt955であり、第3層の高屈折率酸化ジル−ニウム
膜の屈折率は2−01であ)。
第4層の酸化ケイ素膜の屈折率は1.4であつ九。
又この反射防止膜の反射色調は赤色系アンバー色を呈し
、この反射防止膜の反射特性t−測測定た結果は、第4
m5の曲線aに示し九様になつえ。
、この反射防止膜の反射特性t−測測定た結果は、第4
m5の曲線aに示し九様になつえ。
又、この反射防止膜の反射色調を011座標に示すと、
第6図0点ムで示され、アンバー色系の線間を示す斜線
領域Pf)中に位置していることが認められる。
第6図0点ムで示され、アンバー色系の線間を示す斜線
領域Pf)中に位置していることが認められる。
amガ2
清浄に洗浄したポリアリルカーlネートレンズ基体(商
品名、0R−1?レンズ)を真空蒸着槽内に1ツトし、
該蒸着槽内tます1×10″″i!orr まて排気
し丸。次いでレンズ基体を約1・−〇に加熱しつつ以下
の蒸着tl11次行なつ良、はじめに、蒸着槽の真空j
[tsXlm−暴テorr K調整し友後、レンズ基
体表WJK酸化アkiニウムをSム/−・0の蒸着速度
で蒸着し。
品名、0R−1?レンズ)を真空蒸着槽内に1ツトし、
該蒸着槽内tます1×10″″i!orr まて排気
し丸。次いでレンズ基体を約1・−〇に加熱しつつ以下
の蒸着tl11次行なつ良、はじめに、蒸着槽の真空j
[tsXlm−暴テorr K調整し友後、レンズ基
体表WJK酸化アkiニウムをSム/−・0の蒸着速度
で蒸着し。
77・ムO酸化アル<=ラム(ムjsos)膜からなる
第1層を形成しえ1次いで真空lILを表5×10−”
Torr pc再調整した後、上記酸化アル建ニウム
膜上に酸化ジルコニウムをMA’/g・of)蒸着速度
で蒸着し54oiO低屈折率酸化ジルツエウム(!ro
b)膜からなる第2層重形成し。
第1層を形成しえ1次いで真空lILを表5×10−”
Torr pc再調整した後、上記酸化アル建ニウム
膜上に酸化ジルコニウムをMA’/g・of)蒸着速度
で蒸着し54oiO低屈折率酸化ジルツエウム(!ro
b)膜からなる第2層重形成し。
続いて真空度t !! X 1 @−’ Torr I
IC再調整し良後、上記低屈折率酸化ジルコニウム膜上
に酸化ジルコ1ウムisX/s@aの蒸着速度で蒸着し
701IAt)高屈折率酸化ジル;ニウム(!rob)
膜からなる第S層を形成した。次いで蒸着槽0真空[1
1X10″″墨テorr K再調整した後上記高属折本
酸化ジルコニウム膜上に酸化ケイ素を!Oム/−・Oの
蒸着速度で蒸着し、・bo’h。
IC再調整し良後、上記低屈折率酸化ジルコニウム膜上
に酸化ジルコ1ウムisX/s@aの蒸着速度で蒸着し
701IAt)高屈折率酸化ジル;ニウム(!rob)
膜からなる第S層を形成した。次いで蒸着槽0真空[1
1X10″″墨テorr K再調整した後上記高属折本
酸化ジルコニウム膜上に酸化ケイ素を!Oム/−・Oの
蒸着速度で蒸着し、・bo’h。
酸化ケイ素からなる第4層を形成した。
こ041!にして蒸着された各層にりいてそれぞれ屈折
率tアベレス法により一定したところ。
率tアベレス法により一定したところ。
第1層O酸化アル(ニウムlll0[g折本はt44で
あ)、第2層O低屈折率酸化ジルコニウム膜の屈折率は
t!45であ〕、第1層の高屈折率酸化ジルコニウム膜
の屈折率は2.02であシ。
あ)、第2層O低屈折率酸化ジルコニウム膜の屈折率は
t!45であ〕、第1層の高屈折率酸化ジルコニウム膜
の屈折率は2.02であシ。
第4層の酸化ケイ素膜の屈折率はt47であつ九、又ヒ
O反射防止膜の反射色調はアンバー色を呈し、ヒO反射
彷止膜O反射特性を一定しえ結果は、第4図O蘭線b(
示し良様になりえ。
O反射防止膜の反射色調はアンバー色を呈し、ヒO反射
彷止膜O反射特性を一定しえ結果は、第4図O蘭線b(
示し良様になりえ。
又、ζO反射肪止膜の反射色調を0工1座標に示すと、
第49110点1で示され、アンバー色系の範囲を示す
斜線領域rの中に位置していることが認められる。
第49110点1で示され、アンバー色系の範囲を示す
斜線領域rの中に位置していることが認められる。
実施例S
清浄に洗浄したポリアシルカーlネートレンズ基体(商
品名、0R−s9レンズ)を真空蒸着槽内にセットし、
該蒸着槽内を★ずlX1r’テorr 壇で排気した
0次いでレンズ基体を約1111m1:に加熱しつつ以
下の蒸着を順次行なり良、紘じめに、蒸着槽の真空度t
!×1・−STorr pc調整し良後、レンズ基体表
1lKII化7に々ニウムを墨ム/−・・O蒸着速度で
蒸着し。
品名、0R−s9レンズ)を真空蒸着槽内にセットし、
該蒸着槽内を★ずlX1r’テorr 壇で排気した
0次いでレンズ基体を約1111m1:に加熱しつつ以
下の蒸着を順次行なり良、紘じめに、蒸着槽の真空度t
!×1・−STorr pc調整し良後、レンズ基体表
1lKII化7に々ニウムを墨ム/−・・O蒸着速度で
蒸着し。
go@mO酸化アル建ニウム(ム40m)膜からなる第
1層を形成した0次いで真空度を4×1・−・テorr
K再調整した後、上記酸化アルix9^膜上に酸化
ジルコニウム6sS/−・aO薫層着速度蒸着し、sm
o’ho@屈折率酸化ジ屈折率酸化ジム(!rot)I
Iからなる第2層を形成し、続いて同じ真空度の4X1
(1−1〒orr Kおiで、上記低屈折率酸化ジルコ
ニウム膜上に酸化ジルコニウムを817−・of)蒸着
速度で蒸着しyiouo高屈折率酸化ジルコニウム(z
rOl)膜からなる第S層を形成しえ0次いで蒸着槽の
真空度を4X1@″″4テorr K再調正した後上記
高屈折率酸化ジルコニウム膜上に酸化ケイ素を20ム/
−・aOO着速度で蒸着し、・!5Xの酸化ケイ素から
なる第4層を形成した。
1層を形成した0次いで真空度を4×1・−・テorr
K再調整した後、上記酸化アルix9^膜上に酸化
ジルコニウム6sS/−・aO薫層着速度蒸着し、sm
o’ho@屈折率酸化ジ屈折率酸化ジム(!rot)I
Iからなる第2層を形成し、続いて同じ真空度の4X1
(1−1〒orr Kおiで、上記低屈折率酸化ジルコ
ニウム膜上に酸化ジルコニウムを817−・of)蒸着
速度で蒸着しyiouo高屈折率酸化ジルコニウム(z
rOl)膜からなる第S層を形成しえ0次いで蒸着槽の
真空度を4X1@″″4テorr K再調正した後上記
高屈折率酸化ジルコニウム膜上に酸化ケイ素を20ム/
−・aOO着速度で蒸着し、・!5Xの酸化ケイ素から
なる第4層を形成した。
こ0IIIKして蒸着されえ各層についてそれぞれ屈折
率をアペレス法によシ捌定し良ところ。
率をアペレス法によシ捌定し良ところ。
第1層O酸化アル1=ウム膜の屈折率はt4Bであ)、
第2層の低屈折率酸化ジルコニウム膜01lA折率はt
!85であ如、第3層の高屈折率酸化ジルコニウム膜の
屈折率はtaSであ〉。
第2層の低屈折率酸化ジルコニウム膜01lA折率はt
!85であ如、第3層の高屈折率酸化ジルコニウム膜の
屈折率はtaSであ〉。
第4層の酸化ケイ素膜0[折率はt411であった。又
こO反射防止膜O反射色調はアンバー色を呈し、この反
射防止IIO反射特性を測定した結果は、第11101
11!IaK示し先様になつえ。
こO反射防止膜O反射色調はアンバー色を呈し、この反
射防止IIO反射特性を測定した結果は、第11101
11!IaK示し先様になつえ。
又、ζO反射防止膜の反射色調をaxm座欄に示すと第
6図OO点で示され、アンバー色系の範囲を示す斜線領
域Pの中に位置していることが認められる。
6図OO点で示され、アンバー色系の範囲を示す斜線領
域Pの中に位置していることが認められる。
実施fi4
清浄に洗浄したポリアリルカーボネートレンズ基体(商
品名、(3R−59レンズ)を真空蒸着槽内にセットし
、該蒸着槽内ktずI X 10−@〒orr tで
排気し九0次いでレンズ基体を約100℃に加熱しつつ
以下の蒸着を順次行なった。はじめに、蒸着槽の真空&
を2 X 10−1〒err K調整し良後、レンズ
基体表面に酸化アル1=ウムを3ム/a・oOO着速度
で蒸着し。
品名、(3R−59レンズ)を真空蒸着槽内にセットし
、該蒸着槽内ktずI X 10−@〒orr tで
排気し九0次いでレンズ基体を約100℃に加熱しつつ
以下の蒸着を順次行なった。はじめに、蒸着槽の真空&
を2 X 10−1〒err K調整し良後、レンズ
基体表面に酸化アル1=ウムを3ム/a・oOO着速度
で蒸着し。
sOOムの酸化アル電ニウム(ムJmOs)膜からなる
第1層を形成した0次いで真空gf4X10−1テor
r K再調整し友後、上記酸化アルミニウム膜上Ks
!化ジルコニウムをst/−・a(D蒸着速度で蒸着し
、5ioXo低屈折率酸化ジルコニウム(KrO@)膜
からなる第2層を形成し。
第1層を形成した0次いで真空gf4X10−1テor
r K再調整し友後、上記酸化アルミニウム膜上Ks
!化ジルコニウムをst/−・a(D蒸着速度で蒸着し
、5ioXo低屈折率酸化ジルコニウム(KrO@)膜
からなる第2層を形成し。
続いて同じ真空fO4xto−s テ◎rr pcおい
て、上記低側折率酸化ジルコニウム膜上に酸化ジル:I
aウムt8ム/−・alD蒸着速度で蒸着しムO高屈折
率酸化ジルコニウム(Zr01)膜からなる第1層を形
成しえ1次いで蒸着槽の真空度kyx1e−″テorr
K再調整し良後上記高屈折率酸化ジルコニウム膜上に
酸化ケイ素をzoX/−・(10,II着速度で蒸着し
、?10XO酸化ケイ素からなる第4層を形成しえ。
て、上記低側折率酸化ジルコニウム膜上に酸化ジル:I
aウムt8ム/−・alD蒸着速度で蒸着しムO高屈折
率酸化ジルコニウム(Zr01)膜からなる第1層を形
成しえ1次いで蒸着槽の真空度kyx1e−″テorr
K再調整し良後上記高屈折率酸化ジルコニウム膜上に
酸化ケイ素をzoX/−・(10,II着速度で蒸着し
、?10XO酸化ケイ素からなる第4層を形成しえ。
ζ(IIIKして蒸着されえ各層についてそれ(れ屈折
率をアペレス法により測定し九ところ。
率をアペレス法により測定し九ところ。
第1層の酸化アル(=ラム膜O屈折率はt6sであ)、
第2層の低屈折率酸化ジルコニウム膜Oj1折率はtt
ssであ〉、第5層O高屈折率酸化ジルプニウム膜の屈
折率は2.0sでTob。
第2層の低屈折率酸化ジルコニウム膜Oj1折率はtt
ssであ〉、第5層O高屈折率酸化ジルプニウム膜の屈
折率は2.0sでTob。
fs4層の酸化ケイ素膜の屈折率は1.44であつた。
又こO反射防止膜O反射色調はアンバー色を呈し、この
反射防止膜の反射特性t−im定しえ結果は、鎖S図の
1線すに示した様になつ九。
反射防止膜の反射特性t−im定しえ結果は、鎖S図の
1線すに示した様になつ九。
又この反射防止膜の反射色調@OXX座標に示すと、第
6図OD点で示され、アンバー色系の範囲を示す斜線領
域rの中に位置していることが認められる。
6図OD点で示され、アンバー色系の範囲を示す斜線領
域rの中に位置していることが認められる。
以上O実施例での各層0@t)形成には、真空蒸着法を
用い九が、かかる膜の形成にはこれに限定される事なく
、スパッター法、化学蒸着8k、イオンプレーテインダ
法等の各種;−テインダ法も同様に使用できることは勿
論である。
用い九が、かかる膜の形成にはこれに限定される事なく
、スパッター法、化学蒸着8k、イオンプレーテインダ
法等の各種;−テインダ法も同様に使用できることは勿
論である。
以上のIIK、本発明によれば、第1〜4層O屈折率、
光学膜厚を前述した様な所定範囲とすることによ〉、干
渉効果により可視域において高い反射防止効果が得られ
、かつアンバー色系の反射色調が得られることが認めら
れる。これは、特にメガ専用レンズとして適用した場合
反射防止性能及びファツジ璽ン性を兼ね四えておシ最適
である。
光学膜厚を前述した様な所定範囲とすることによ〉、干
渉効果により可視域において高い反射防止効果が得られ
、かつアンバー色系の反射色調が得られることが認めら
れる。これは、特にメガ専用レンズとして適用した場合
反射防止性能及びファツジ璽ン性を兼ね四えておシ最適
である。
しかも1本発明の反射防止膜を構成する材質として酸化
ケイ素(atom) h酸化ジルコニウム(XrO朧)
、酸化アル建ニウム(ムhos )ある−はこれらを主
成分とする膜を用いれば、これらが機械的強度が高く、
又化学的安定性が高く。
ケイ素(atom) h酸化ジルコニウム(XrO朧)
、酸化アル建ニウム(ムhos )ある−はこれらを主
成分とする膜を用いれば、これらが機械的強度が高く、
又化学的安定性が高く。
耐久性にも優れているので、#にプラスチツタレンズO
反射防止膜として最適である。
反射防止膜として最適である。
館1図は従来Oグリーン色系の反射色を有する1層反射
防止膜の形成された光学部品の横断面Ia、第1 Ml
@lは本発明04層反射防止膜O形成されえ光学部品O
横断面図、1第4. lli!は本発明04層反射防止
膜O形形成れ良党学部品の分光反射特性図、第6111
1は本発明044層反射防止膜形成された光学部品O反
射色調を示すC工1座標図である。 1・:透明基体、20:第1層、10:第2層、40:
第2層、zO:第4層、40:7ンf/関 、ぐh 才2TfA Δ6 ″f3関 L浪玉(ス〕 f4 rA
防止膜の形成された光学部品の横断面Ia、第1 Ml
@lは本発明04層反射防止膜O形成されえ光学部品O
横断面図、1第4. lli!は本発明04層反射防止
膜O形形成れ良党学部品の分光反射特性図、第6111
1は本発明044層反射防止膜形成された光学部品O反
射色調を示すC工1座標図である。 1・:透明基体、20:第1層、10:第2層、40:
第2層、zO:第4層、40:7ンf/関 、ぐh 才2TfA Δ6 ″f3関 L浪玉(ス〕 f4 rA
Claims (5)
- (1) 透明基体上に、該透明基体側から屓に屈折率
−がt45≦−≦tist)第1層、m折率wstts
s≦b≦tysso第2層、屈折率−がlO1≦b≦1
O3O第1≦b≦折率−がt44≦−≦t4?tD第4
?tD成したととt特徴とする4層よシなるアンバー色
糸0灰射色を有する反射防止膜を設けた光学部品。 - (2)4層よ)&る反射防止膜を形成する透明基体の屈
折率n がt490≦n、≦ts;asであることに特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のアンバー色糸0灰
射色を有する反射防止膜を設は良党学部品。 - (3)4層よ〉なる反射防止膜の主液長λ・が*49S
pm≦20≦a m S S pm であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のアは喪光学部品。 - (4)4層よ)なる反射防止膜O第1層の光学膜2・≦
−4≦1”2’lλ・ であることを特徴とする特許請
求O範囲第4項記載のア/ノ(−色事0屓射色を有する
反射防止膜を設は九光学部品。 - (5)4層よりなる反射防止膜の第1層がt45≦−≦
t450屈折率−を有する酸化アル之ニウム膜第2層が
t955≦−≦t!易SO屈折率−を有する低屈折率酸
化ジルコニウム膜、第1層が2.01≦−≦*oso屈
折率n。 を有する高屈折率酸化ジルプエウム膜、第4層が144
≦−≦’L4tt)屈折率114を有する酸化ケイ素膜
であることを特徴とする特許請求01!囲第1項記載O
アy ノ<−色糸の反射色を有する反射防止膜を設けた
光学部品。 〜!−pat)酸化ケイ素膜のアンダーコート膜、光学
膜厚−4が(1/4− S/12B )λ・≦−4≦(
1/4 + 5ハ28 ) J、の酸化アルミニウム膜
からなる第1層、光学膜厚−4が557128λ・≦−
〜≦17/1215λ・0低屈折率酸化ジ羨コニウム膜
からなる第!層、光学膜厚−4が25/12−λ@ ≦
k 4a ≦2”F/128λ@ 0 ”a II折率
酸化ジルコニウム膜からなる第5層、光学膜厚n4(1
4が(1/4−3/128 )λ・≦n4a4≦(1/
4 + S/12・)λ・ O酸化ケイ素膜よシなる第
4層を順次形成してなる仁とを特徴とする特許請求OS
g第1第1載記載Oアンバーの反射色を有する反射防止
膜を設けえ光学部品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56102259A JPS585701A (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 反射防止膜を設けた光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56102259A JPS585701A (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 反射防止膜を設けた光学部品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS585701A true JPS585701A (ja) | 1983-01-13 |
Family
ID=14322588
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56102259A Pending JPS585701A (ja) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | 反射防止膜を設けた光学部品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS585701A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2540254A1 (fr) * | 1983-01-28 | 1984-08-03 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Procede pour la production d'elements optiques a couches interferentielles |
| US7453190B2 (en) | 2002-02-22 | 2008-11-18 | Koninklijke Philips Electronics | Electric lamp with absorbing and interference media |
-
1981
- 1981-07-02 JP JP56102259A patent/JPS585701A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2540254A1 (fr) * | 1983-01-28 | 1984-08-03 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Procede pour la production d'elements optiques a couches interferentielles |
| US7453190B2 (en) | 2002-02-22 | 2008-11-18 | Koninklijke Philips Electronics | Electric lamp with absorbing and interference media |
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