JPS5865283A - セフアロスポリン誘導体 - Google Patents
セフアロスポリン誘導体Info
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- JPS5865283A JPS5865283A JP57164160A JP16416082A JPS5865283A JP S5865283 A JPS5865283 A JP S5865283A JP 57164160 A JP57164160 A JP 57164160A JP 16416082 A JP16416082 A JP 16416082A JP S5865283 A JPS5865283 A JP S5865283A
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- compound
- methyl
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なセファロスポリン誘導体、即ち14−
一般式
式中、R1け水素、メチルまたは力刀・ホキシー(低級
アルキル)を表わし、Xけ臂黄、P素またけ基−8〇−
もしくけ−S O2−を表わ15、Yけ基−(JT−1
′/rは”lを表わし、Zは研黄斗たけセレンを衷わし
、R2は随時カルボキシ、ヒドロキシ、容易に加水分解
し得るアシルオキシJfr−けジメ千ルアミノで置換さ
れていてもよい低級アルキルを表わすか、或いけR2け
フェニルを表わ1−1そしてR3けイ氏級アルキル、フ
ェニル−(C2〜4−アルキル)または(R’−フェニ
ル)−(低級アルキル)を表わし、ここにR′は)Sロ
ゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシを表わす、 の化合物の容易に加水分解し得るエステル並びに該エス
テルの酸付加塩及び該エステル壕だは酸付加塩の水和物
に関する。
アルキル)を表わし、Xけ臂黄、P素またけ基−8〇−
もしくけ−S O2−を表わ15、Yけ基−(JT−1
′/rは”lを表わし、Zは研黄斗たけセレンを衷わし
、R2は随時カルボキシ、ヒドロキシ、容易に加水分解
し得るアシルオキシJfr−けジメ千ルアミノで置換さ
れていてもよい低級アルキルを表わすか、或いけR2け
フェニルを表わ1−1そしてR3けイ氏級アルキル、フ
ェニル−(C2〜4−アルキル)または(R’−フェニ
ル)−(低級アルキル)を表わし、ここにR′は)Sロ
ゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシを表わす、 の化合物の容易に加水分解し得るエステル並びに該エス
テルの酸付加塩及び該エステル壕だは酸付加塩の水和物
に関する。
「低級アルキル」女る用語は、単独または組合せにおい
て、炭素原子7個まで、好ましくは4個塘でを含む直鎖
状またけ分枝部状の低級アルキル基(例工ばメチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソ
ブチル、5eC−ブチル、n−ペンチル及びn−ヘプチ
ル)を表わす。
て、炭素原子7個まで、好ましくは4個塘でを含む直鎖
状またけ分枝部状の低級アルキル基(例工ばメチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソ
ブチル、5eC−ブチル、n−ペンチル及びn−ヘプチ
ル)を表わす。
[低級アルコキシ−1なる用語は同様の意味を有する。
置換された低級アルキル基において、置換基はアルキル
基のいずれかの位置にあることができ、例えば1−カル
ボキシエチル、2−カルボキシエチル、1−力ルボキシ
−1−メチル−エチル、2−カルボキシ−1−メチル−
エチル、1−カルボキシ−1−メチル−〇−プロピル及
びカルボキシ−メチルである。1−力ルボキシ−1−メ
チル−エチルが好ましいカルボキシ−(低級アルキル)
基である。容易に加水分解し得るアシルオキシで置換さ
れたアルキルは例えばピバロイルオキシメチル、アセト
キシメチル、1−(ピバロイルオキシ)−エチル、1−
(エトキシカルボニルオキシ)−エチル等である。「ハ
ロゲン−1なる用語は好オしくけ塩素、臭素またはフッ
素を表わす。
基のいずれかの位置にあることができ、例えば1−カル
ボキシエチル、2−カルボキシエチル、1−力ルボキシ
−1−メチル−エチル、2−カルボキシ−1−メチル−
エチル、1−カルボキシ−1−メチル−〇−プロピル及
びカルボキシ−メチルである。1−力ルボキシ−1−メ
チル−エチルが好ましいカルボキシ−(低級アルキル)
基である。容易に加水分解し得るアシルオキシで置換さ
れたアルキルは例えばピバロイルオキシメチル、アセト
キシメチル、1−(ピバロイルオキシ)−エチル、1−
(エトキシカルボニルオキシ)−エチル等である。「ハ
ロゲン−1なる用語は好オしくけ塩素、臭素またはフッ
素を表わす。
式■の化合物の容易に加水分解し得るーTステルとして
、小力くとも1個のカルボキシ#3が容易(に加水分解
し得るエステル共の形で存在する式■の化合物であると
理解すべきである。赤かるエステル(D 例1ri 低
Rアルカノイルオキシアルキルエステル(例えばアセト
キシメチル、ピバロイルオキシ17− メチル、1−アセトキシエチル及び1−ピバロイルオキ
シエチルエステル)、低級アルコキシカルボニルオキシ
アルキルエステル(例えばメトキシカルボニルオキシメ
チル、1−エトキシカルボニルオキシエチル及び1−イ
ンプロポキシカルボニルオキシエチルエステル)、ラク
トニルエステル(例えばフタリジル及びチオアタリ2ル
エステル)、(低級アルコキシ)−(低級アルキル)エ
ステル(例えばメトキシメチルエステル)、随時・10
ゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されて
いてもよいフェニルエステル併びに低級アルカノイルア
ミノメチルエステル(例えばアセトアミドメチルエステ
ル)である。また他のエステル(例えばベンジル及びシ
アノメチルエステル)を用いることができる。該エステ
ルはモノエステル、ジエステルまたはトリエステルであ
ることができる。エステル形成は4−カルボキシ基また
はカル18− ホキシー(低級アルキル)基R”並びにカルボキシ−(
低級アルキル)基R1をもつ化合物において生じる。
、小力くとも1個のカルボキシ#3が容易(に加水分解
し得るエステル共の形で存在する式■の化合物であると
理解すべきである。赤かるエステル(D 例1ri 低
Rアルカノイルオキシアルキルエステル(例えばアセト
キシメチル、ピバロイルオキシ17− メチル、1−アセトキシエチル及び1−ピバロイルオキ
シエチルエステル)、低級アルコキシカルボニルオキシ
アルキルエステル(例えばメトキシカルボニルオキシメ
チル、1−エトキシカルボニルオキシエチル及び1−イ
ンプロポキシカルボニルオキシエチルエステル)、ラク
トニルエステル(例えばフタリジル及びチオアタリ2ル
エステル)、(低級アルコキシ)−(低級アルキル)エ
ステル(例えばメトキシメチルエステル)、随時・10
ゲン、低級アルキルまたは低級アルコキシで置換されて
いてもよいフェニルエステル併びに低級アルカノイルア
ミノメチルエステル(例えばアセトアミドメチルエステ
ル)である。また他のエステル(例えばベンジル及びシ
アノメチルエステル)を用いることができる。該エステ
ルはモノエステル、ジエステルまたはトリエステルであ
ることができる。エステル形成は4−カルボキシ基また
はカル18− ホキシー(低級アルキル)基R”並びにカルボキシ−(
低級アルキル)基R1をもつ化合物において生じる。
式■の化合物の容易に加水分解(〜得るエステルは有機
酸まだは無機酸によって付加塩を生じる。
酸まだは無機酸によって付加塩を生じる。
かかる塩の例はハロゲン化水素酸塩(例えば塩酸塩、臭
化水素酸塩及びヨウ化水素酸廣)並びに他の無機酸塩例
えば硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等、アルキルスルホン酸
塩及びモノアリールスルホン酸塩例t はエタンスルホ
ン酸塩、トルエンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩
等、そして寸だ他の有機酸塩例えば酢酸塩、酒石酸塩、
マレイン酸塩、クエン酸塩、安息香酸塩、サリチル酸塩
、アスコルビン酸塩節である。
化水素酸塩及びヨウ化水素酸廣)並びに他の無機酸塩例
えば硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等、アルキルスルホン酸
塩及びモノアリールスルホン酸塩例t はエタンスルホ
ン酸塩、トルエンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩
等、そして寸だ他の有機酸塩例えば酢酸塩、酒石酸塩、
マレイン酸塩、クエン酸塩、安息香酸塩、サリチル酸塩
、アスコルビン酸塩節である。
式■の化合物の容易に加水分解し得るエステル並びにそ
の酸付加塩を水和させることができる。
の酸付加塩を水和させることができる。
この水利は製造工程中に生じるか、吠いけ最初に無水の
生成物の吸湿性特性の結果として徐々に生じ得る。
生成物の吸湿性特性の結果として徐々に生じ得る。
本発明における生成物はシン−異性体型またはアンチ−
異性体型 或いはこれらの二つの型の混合物として存在することが
できる。シン−異性体型またはシン−異性体型を主体と
する混合物が好ましい。
異性体型 或いはこれらの二つの型の混合物として存在することが
できる。シン−異性体型またはシン−異性体型を主体と
する混合物が好ましい。
上記のセファロスポリン誘導体は本発明に従えば、対応
するジカルボン酸、即ち式Iの化合物または該化合物の
塩を対応するエステル化に付し、必要に応じて、得られ
る生成物をS−酸化1〜、そして必要に応じて、得られ
る生成物を酸付加塩またけ水和物に、或いは該酸付加塩
の水和物に転化することによって製造するととができる
。 。
するジカルボン酸、即ち式Iの化合物または該化合物の
塩を対応するエステル化に付し、必要に応じて、得られ
る生成物をS−酸化1〜、そして必要に応じて、得られ
る生成物を酸付加塩またけ水和物に、或いは該酸付加塩
の水和物に転化することによって製造するととができる
。 。
−上記の方法に用いる式Iのカルボン酸は例えば(a)
’R’が水素またはメチルを表わし、そしてYが基
−CH=を表わす式■の化合物を製造するために、一般
式 式中、R1、R11及びXは上記の意味を有L、R1+
は水素またはメチルを表わ11、Halは・・ロゲン原
子を表わし、そしてカルボキシ基は保護された状態で存
在するこ21− とができる、 の化合物または該化合物の塩をチオ尿素またはセレノウ
レア(selenourea)と反応させ、そして必要
に応じて、存在し得るカルボキシ保護基を開裂させるか
、 出)一般式 式中、R1,R2、R3、X、Y及びzは上記の意味を
有し、Rは開裂し得る保護基を表わし、そ(−でカルボ
キシ基は保護された状態で存在するととができる、 の化合物または該化合物の塩から保護1μR及び必要に
応じて、存在し得るカルボキシ保護基を開裂させるか、 22− (c) 一般式 すV 式中、R’ % XX”及びZけ上記の意味を有し、Q
は1ifF脱性基(”leaving grnup)を
表わし、そしてカルボキシ基は無機塩基寸たけ第三級有
機m基との塩形成によって保護されていることができる
、 の化合物または該化合物の塩を水の存在下において一般
式 式中、R1及びR3は上記の意味を有する、のチオール
と反応させ、そして必要に応じて、存在し得るカルボキ
シ保護基を開裂させるか、(d) 一般式 式中、XXR2及びR3は上記の意味を有し、そしてカ
ルボキシ基及び/またはアミン基は保護された状態で存
在し得る、 の化合物を式 式中、R1、Y及びZけトLFの意味を有する、 の活性化されたチオエステルと反応させ、そして必要に
応じて、存在し得るカルボキシ保護基を開裂させるか、
或いは (e、) Xが基−8o−または−80,−を表わす
式Iの化合物を製造するために、Xが儲黄もしくは基−
8O−を表わす式■の化合物または該化合物の塩を酸化
する、 ことによって製造することができる。
’R’が水素またはメチルを表わし、そしてYが基
−CH=を表わす式■の化合物を製造するために、一般
式 式中、R1、R11及びXは上記の意味を有L、R1+
は水素またはメチルを表わ11、Halは・・ロゲン原
子を表わし、そしてカルボキシ基は保護された状態で存
在するこ21− とができる、 の化合物または該化合物の塩をチオ尿素またはセレノウ
レア(selenourea)と反応させ、そして必要
に応じて、存在し得るカルボキシ保護基を開裂させるか
、 出)一般式 式中、R1,R2、R3、X、Y及びzは上記の意味を
有し、Rは開裂し得る保護基を表わし、そ(−でカルボ
キシ基は保護された状態で存在するととができる、 の化合物または該化合物の塩から保護1μR及び必要に
応じて、存在し得るカルボキシ保護基を開裂させるか、 22− (c) 一般式 すV 式中、R’ % XX”及びZけ上記の意味を有し、Q
は1ifF脱性基(”leaving grnup)を
表わし、そしてカルボキシ基は無機塩基寸たけ第三級有
機m基との塩形成によって保護されていることができる
、 の化合物または該化合物の塩を水の存在下において一般
式 式中、R1及びR3は上記の意味を有する、のチオール
と反応させ、そして必要に応じて、存在し得るカルボキ
シ保護基を開裂させるか、(d) 一般式 式中、XXR2及びR3は上記の意味を有し、そしてカ
ルボキシ基及び/またはアミン基は保護された状態で存
在し得る、 の化合物を式 式中、R1、Y及びZけトLFの意味を有する、 の活性化されたチオエステルと反応させ、そして必要に
応じて、存在し得るカルボキシ保護基を開裂させるか、
或いは (e、) Xが基−8o−または−80,−を表わす
式Iの化合物を製造するために、Xが儲黄もしくは基−
8O−を表わす式■の化合物または該化合物の塩を酸化
する、 ことによって製造することができる。
必要に応じて、式■及び■の出発物質の3−位置に存在
するカルボキシ基を、例えばエステル化して容易に開裂
し得るエステル例えばシリルエステル(例えばトリメチ
ルシ11ルエステル)を生成させることによって保瞬す
ることができる。寸た、このカルボキシ基は無機塩基ま
たは第三級有機m基例えげトリエチルアミンとの塩生成
によって保護+乙とともできる。
するカルボキシ基を、例えばエステル化して容易に開裂
し得るエステル例えばシリルエステル(例えばトリメチ
ルシ11ルエステル)を生成させることによって保瞬す
ることができる。寸た、このカルボキシ基は無機塩基ま
たは第三級有機m基例えげトリエチルアミンとの塩生成
によって保護+乙とともできる。
上記の方法(a)に用いる式■のハライドは、R11が
メチルを表わす場合、例えば式)/′Iの化合物を一2
5一 般式 %式% 式中、Yはハロゲン原子を表わす、 の・・ロゲン化されたカルボン酸または核酸の反応性誘
導体と反応させることにより製造することができる。式
X■の・・ロゲン化されたカルボン酸は縮合剤(例えば
N、N’−二置換されたカルボジイミド、例えばN、N
’−ジシクロへキシルカルボジイミドまたはアゾリド化
合物、例えばN 、 N’−カルボニルジイミダゾール
もしくはN、N’−チオニルジイミダゾール)の存在下
において遊離型、酸塩化物本しくけ酸臭化物の如き酸・
・ライドの型、酸無水物例えば炭酸モノエステル(例え
ば炭酸モノメチルもしくは炭酸モノイソプロピル)によ
る酸無水物の型、或いは活性化されたエステ26− ル例えばp−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニト
ロフェニルエステル、N−ヒドロキシコハク酸イミドエ
ステルもしくはN−ヒドロキシフタルイミドエステルの
型のいずれかで用いられる。
メチルを表わす場合、例えば式)/′Iの化合物を一2
5一 般式 %式% 式中、Yはハロゲン原子を表わす、 の・・ロゲン化されたカルボン酸または核酸の反応性誘
導体と反応させることにより製造することができる。式
X■の・・ロゲン化されたカルボン酸は縮合剤(例えば
N、N’−二置換されたカルボジイミド、例えばN、N
’−ジシクロへキシルカルボジイミドまたはアゾリド化
合物、例えばN 、 N’−カルボニルジイミダゾール
もしくはN、N’−チオニルジイミダゾール)の存在下
において遊離型、酸塩化物本しくけ酸臭化物の如き酸・
・ライドの型、酸無水物例えば炭酸モノエステル(例え
ば炭酸モノメチルもしくは炭酸モノイソプロピル)によ
る酸無水物の型、或いは活性化されたエステ26− ル例えばp−ニトロフェニルエステル、2.4−ジニト
ロフェニルエステル、N−ヒドロキシコハク酸イミドエ
ステルもしくはN−ヒドロキシフタルイミドエステルの
型のいずれかで用いられる。
この反応は一般に不活性有機溶媒例えば・・ロゲン化さ
れた炭化水素(例えばクロロホルム、ジクロロメタンま
たは四塩化炭素)、エーテル(例えばテトラヒドロフラ
ンまだはジオキサン)、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、水或いはこれらの混合物中で行われる
。反応温度は主に約−50℃乃至」−40℃、好寸しく
け約−10℃乃至+】0℃の範囲である。
れた炭化水素(例えばクロロホルム、ジクロロメタンま
たは四塩化炭素)、エーテル(例えばテトラヒドロフラ
ンまだはジオキサン)、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、水或いはこれらの混合物中で行われる
。反応温度は主に約−50℃乃至」−40℃、好寸しく
け約−10℃乃至+】0℃の範囲である。
R”が水素を表わす式1■の・・ライドシ1、式■の化
合物をジケテン及び対応する・・ロゲン(臭棄マたは塩
素)によって対応する一般式 )( 式中、X、R” 、R’及びHalは上記の意味を有す
る、 の4−)・ロアセトアセトアミド誘導体に転化し、そし
てこの生成物をニトロ化剤で処理して製造することがで
きる。
合物をジケテン及び対応する・・ロゲン(臭棄マたは塩
素)によって対応する一般式 )( 式中、X、R” 、R’及びHalは上記の意味を有す
る、 の4−)・ロアセトアセトアミド誘導体に転化し、そし
てこの生成物をニトロ化剤で処理して製造することがで
きる。
上記の方法(a)による式■の・・ライドまだけその塩
とチオ尿素またはセレノウレアとの反応は好ましくは不
活性溶媒例えば低級アルカノール(例えばエタノール)
、低級ケトン(例えばアセトン)、エーテル(例えばテ
トラヒドロフランまたはジオキサン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、水或いはとれらの混合
物中で行われる。
とチオ尿素またはセレノウレアとの反応は好ましくは不
活性溶媒例えば低級アルカノール(例えばエタノール)
、低級ケトン(例えばアセトン)、エーテル(例えばテ
トラヒドロフランまたはジオキサン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、水或いはとれらの混合
物中で行われる。
反応温度は一般に約θ℃〜60℃、好ましくは室温の範
囲である。式■のハライドとして、クロライド、ブロマ
イド、フルオライドまたはアイオダイドを用いることが
でき、好ましくはクロライドまたはブロマイドを用いる
。式■の遊離酸または必要に応じてその塩を用いるとと
ができ、これによって上記式■の化合物の塩と同一の塩
が考えられる。
囲である。式■のハライドとして、クロライド、ブロマ
イド、フルオライドまたはアイオダイドを用いることが
でき、好ましくはクロライドまたはブロマイドを用いる
。式■の遊離酸または必要に応じてその塩を用いるとと
ができ、これによって上記式■の化合物の塩と同一の塩
が考えられる。
方法(a)を行った後、反応生成物に存在し得るカルボ
キシ基を必要に応じて開裂させることができる。保護基
がシリル基(シリルエステル)でアル場合、この基は、
反応生成物を水で処理するととによって、特に容易に開
裂させることができる。
キシ基を必要に応じて開裂させることができる。保護基
がシリル基(シリルエステル)でアル場合、この基は、
反応生成物を水で処理するととによって、特に容易に開
裂させることができる。
カルボキシル基が塩生成(例えばト11エチルアミン)
によって保護されている場合、仁の保護基の開裂は酸で
処理して行うことができる。この目的29− に使用し得る酸は例えば塩化水素酸、硫酸、リン酸また
はクエン酸であることができる。
によって保護されている場合、仁の保護基の開裂は酸で
処理して行うことができる。この目的29− に使用し得る酸は例えば塩化水素酸、硫酸、リン酸また
はクエン酸であることができる。
上記の方法缶)に用いる式■の出発物質における保護基
Rは例えば酸加水分解によって開裂し得る保護基(例え
ばt−ブトキシカルボニルオたはト11チル)或いは塩
基性加水分解によって開裂し得る保Ll(例えばトリフ
ルオロアセチル)でアル。
Rは例えば酸加水分解によって開裂し得る保護基(例え
ばt−ブトキシカルボニルオたはト11チル)或いは塩
基性加水分解によって開裂し得る保Ll(例えばトリフ
ルオロアセチル)でアル。
好ましいR−保護基はクロロアセチル、ブロモアセチル
及びヨードアセチル、特にクロロアセチルである。後者
の保護基はチオ尿素で処理して開裂させることができる
。
及びヨードアセチル、特にクロロアセチルである。後者
の保護基はチオ尿素で処理して開裂させることができる
。
式■の出発物質は例えば対応する7−アミノ化合物をN
−アシル化して、即も上記式■の化合物を一般式 式中、RXR’ 、Y及びZは上記の意味を有する、 の酸まだは核酸の反応性官能誘導体と反応させ、そして
必要に応じて、存在]−得るカルボキシ保護基を開裂さ
せて製造することができる。
−アシル化して、即も上記式■の化合物を一般式 式中、RXR’ 、Y及びZは上記の意味を有する、 の酸まだは核酸の反応性官能誘導体と反応させ、そして
必要に応じて、存在]−得るカルボキシ保護基を開裂さ
せて製造することができる。
必要に応じて、式■の7−アミノ化合物に存在するカル
ボキシ基は、製造すべき式■及び■の出発物質に対して
上に述べた方法で保時することができる。式1■の化合
物のアミン基は例えばトリメチルシリルの如きシ11ル
保W@貫によって保ボ4することができる。
ボキシ基は、製造すべき式■及び■の出発物質に対して
上に述べた方法で保時することができる。式1■の化合
物のアミン基は例えばトリメチルシリルの如きシ11ル
保W@貫によって保ボ4することができる。
式■の酸の反応性官能性誘導体とi、て例えばハライド
(即ちクロライド、ブロマイド及びフルオライド)、ア
ジド、無水物、特に強酸との混合無水物、反応性エステ
ル(例えばN−ヒドロキシコ・・り酸イミドエステル)
及びアミド(例えばイミダゾリド)が考えられる。
(即ちクロライド、ブロマイド及びフルオライド)、ア
ジド、無水物、特に強酸との混合無水物、反応性エステ
ル(例えばN−ヒドロキシコ・・り酸イミドエステル)
及びアミド(例えばイミダゾリド)が考えられる。
式■の7−アミノ化合物と式■の酸オだはその反応性官
能誘導体との反応はそれ自体公知の方法において行うこ
とができる。かくして例えば、式■■の遊離酸を不活性
溶媒例えば酢酸エチル、アセトニトリル、ジオキサン、
クロロホルム、塩化メチレン、ベンゼンまたけジメチル
ホルムアミド中にて、ジシクロへキシルカルボジイミド
の如きカルボジイミドによって式■に対応する上記エス
テルの一つと縮合させ、続いてエステル基を開裂させる
ことができる。また、縮合剤と1.てカルボジイミドの
代りにオギサゾリウム塩(例えばN−エチル−5−フェ
ニル−インキサゾリウム−37−スルホネート)を用い
ることもできる。
能誘導体との反応はそれ自体公知の方法において行うこ
とができる。かくして例えば、式■■の遊離酸を不活性
溶媒例えば酢酸エチル、アセトニトリル、ジオキサン、
クロロホルム、塩化メチレン、ベンゼンまたけジメチル
ホルムアミド中にて、ジシクロへキシルカルボジイミド
の如きカルボジイミドによって式■に対応する上記エス
テルの一つと縮合させ、続いてエステル基を開裂させる
ことができる。また、縮合剤と1.てカルボジイミドの
代りにオギサゾリウム塩(例えばN−エチル−5−フェ
ニル−インキサゾリウム−37−スルホネート)を用い
ることもできる。
他の具体化例によれば、式■の酸の塩(例えばトリエチ
ルアンモニウム塩の如きトリアルキルアンモニウム塩)
を不活性溶媒(例えば上記溶媒の一つ)中にて上記の如
き式■の酸の反応性官能誘導体と反応させる。
ルアンモニウム塩の如きトリアルキルアンモニウム塩)
を不活性溶媒(例えば上記溶媒の一つ)中にて上記の如
き式■の酸の反応性官能誘導体と反応させる。
更に他の具体化例によれば、式■の酸の酸ハライド、好
寸しくけクロライドを式■のアミンと反応させる。との
反応は好神しくけ酸結合剤の存在下において、例えば水
性アルカリ、好ましくは水酸化す) 11ウムの存在下
において、捷だけアルカリ金属炭酸塩例えば炭酸カリウ
ムの存在下において、或いはトリエチルアミンの如き低
級アルキル化されたアミンの存在下において行われる。
寸しくけクロライドを式■のアミンと反応させる。との
反応は好神しくけ酸結合剤の存在下において、例えば水
性アルカリ、好ましくは水酸化す) 11ウムの存在下
において、捷だけアルカリ金属炭酸塩例えば炭酸カリウ
ムの存在下において、或いはトリエチルアミンの如き低
級アルキル化されたアミンの存在下において行われる。
溶媒として、好ましくは随時テトラヒドロフランまだは
ジオキサンの如き不活性有機溶媒との混合物と(7て水
が用いられる。オだ、との反応は非プロトン性有機溶媒
例えげジメチルホルム−rミド、ジメチルスルホキシド
またはへキサメチルリン酸トリアミド中で行うこともで
きる。式■のシ11ル化された出発物質を用いる場合、
この反応は無水媒質中で行われる。
ジオキサンの如き不活性有機溶媒との混合物と(7て水
が用いられる。オだ、との反応は非プロトン性有機溶媒
例えげジメチルホルム−rミド、ジメチルスルホキシド
またはへキサメチルリン酸トリアミド中で行うこともで
きる。式■のシ11ル化された出発物質を用いる場合、
この反応は無水媒質中で行われる。
33一
式■の7−アミノ化合物と式■の酸またはその反応性官
能誘導体との反応は約−40℃乃至室温間、例えば約0
〜10℃の温度で有利に行うことができる。
能誘導体との反応は約−40℃乃至室温間、例えば約0
〜10℃の温度で有利に行うことができる。
Rがモノハロゲン化(例えばブロモアセチル、クロロア
セチルまたはヨードアセチル)されていない式■の出発
物質はチオール化によって、即ち一般式 ( 式中、R’ 、X、Y及びZは上記の意味を有i、R’
けRと同様であるが、但しモノ・・ロゲン化されること
はできない、Qけ離脱性丼を表わし、そしてカルボキシ
基は無34− 機塩基または第三級有機塩基との塩生成によって保護す
ることができる、 の化合物を水の存在下において式Vのチオールと反応さ
せ、そして必要に応じて、存在するカルボキシ保護基を
開裂させてjIIJ造することができる。
セチルまたはヨードアセチル)されていない式■の出発
物質はチオール化によって、即ち一般式 ( 式中、R’ 、X、Y及びZは上記の意味を有i、R’
けRと同様であるが、但しモノ・・ロゲン化されること
はできない、Qけ離脱性丼を表わし、そしてカルボキシ
基は無34− 機塩基または第三級有機塩基との塩生成によって保護す
ることができる、 の化合物を水の存在下において式Vのチオールと反応さ
せ、そして必要に応じて、存在するカルボキシ保護基を
開裂させてjIIJ造することができる。
離脱性基Qとして、例えばハロゲン(例えば塩素、臭素
またはヨウ素)、アシルオキシ基(例えばアセトキシの
如き低級アルカノイルオキシ基)、低級アルキルスルホ
ニルオキシもしくけアリールスルホニルオキシ基例えば
メシルオキシもしくけトシルオキシ、またはアジド基が
考えられる。
またはヨウ素)、アシルオキシ基(例えばアセトキシの
如き低級アルカノイルオキシ基)、低級アルキルスルホ
ニルオキシもしくけアリールスルホニルオキシ基例えば
メシルオキシもしくけトシルオキシ、またはアジド基が
考えられる。
式■の化合物と式■のチオールとの反応はそれ自体公知
の方法において、例えば水寸たけp I−T値約6〜7
、好ま[、<は6.5をもつ緩衝剤溶液中にて約40℃
乃至80℃間、有利には約60℃の温度で行うととがで
きる。生じる式■の化合物におけるカルボキシ基は必要
に応じて(例えば塩生成またはエステル化によって)保
護することができる。
の方法において、例えば水寸たけp I−T値約6〜7
、好ま[、<は6.5をもつ緩衝剤溶液中にて約40℃
乃至80℃間、有利には約60℃の温度で行うととがで
きる。生じる式■の化合物におけるカルボキシ基は必要
に応じて(例えば塩生成またはエステル化によって)保
護することができる。
式■の7−アミン化合物は式
式中、Xは上記の意味を有し、Qは離脱性基を表わし、
そしてカルボキシ基は無機塩基まだは第三級有機塩基と
の塩形成によって保霞することができる、 の化合物から出発して、水の存在下において式■のチオ
ールとの反応によって製造することができる。この反応
は、式■の化合物と式■のチオールとの反応に対してす
でに述べた条件と同−争件下で行うことができる。また
、式■の化合物は、式■及び■の化合物の反応に対して
すでに述べ九条件と同一条件下で、弐Mの化合物及び式
vl!lの酸またけその反応性官能誘導体から出発して
製造することができる。
そしてカルボキシ基は無機塩基まだは第三級有機塩基と
の塩形成によって保霞することができる、 の化合物から出発して、水の存在下において式■のチオ
ールとの反応によって製造することができる。この反応
は、式■の化合物と式■のチオールとの反応に対してす
でに述べた条件と同−争件下で行うことができる。また
、式■の化合物は、式■及び■の化合物の反応に対して
すでに述べ九条件と同一条件下で、弐Mの化合物及び式
vl!lの酸またけその反応性官能誘導体から出発して
製造することができる。
生じる式■の化合物のカルボキシ基及び/またはアミノ
基を必要に応じて、例えばカルボキシ基のエステル化も
しくは塩形成またはシリル化によって保護することがで
きる。
基を必要に応じて、例えばカルボキシ基のエステル化も
しくは塩形成またはシリル化によって保護することがで
きる。
Y−1)i基−CH=を表わし、そ【7てZがセレンを
表わす式■め酸は、式TIの出発物質とセレノウレアと
の上記の反応と同様の方法で、一般式%式% 式中、R1及びHalけ上記の意味を有12、そしてR
6は低級アルキル、特にメチルまたけエチルを表わす、 37− の化合物をセレノウレアと反応させて製造することがで
きる。かくして得られる式 式中、R1及びR6は上記の意味を有する、の化合物を
続いてアミノ基に、好ましくは弐R−Halの対応する
ハライドとの反応によって保護することができ、そして
生じる式 式中、RXR’ 及びR6は上記の意味を有する、 の化合物を、エステル基R6を開裂させるために、酸ま
たはアルカリによってケン化する。−!’l=<t、て
得られる式■の酸の反応性誘導体はそれ自体公知38− の方法において製造される。
表わす式■め酸は、式TIの出発物質とセレノウレアと
の上記の反応と同様の方法で、一般式%式% 式中、R1及びHalけ上記の意味を有12、そしてR
6は低級アルキル、特にメチルまたけエチルを表わす、 37− の化合物をセレノウレアと反応させて製造することがで
きる。かくして得られる式 式中、R1及びR6は上記の意味を有する、の化合物を
続いてアミノ基に、好ましくは弐R−Halの対応する
ハライドとの反応によって保護することができ、そして
生じる式 式中、RXR’ 及びR6は上記の意味を有する、 の化合物を、エステル基R6を開裂させるために、酸ま
たはアルカリによってケン化する。−!’l=<t、て
得られる式■の酸の反応性誘導体はそれ自体公知38− の方法において製造される。
Yが9索を表わす式V+++の酸はヨーロッパ/トlr
許第27、599号に従って或いは(Z;セレンの場合
)該特許と同様にして製造するととができる。
許第27、599号に従って或いは(Z;セレンの場合
)該特許と同様にして製造するととができる。
式■のチオ−・ルは対応するチオンとの互変異性平衝に
あり、そしてそれ自体公知の方法において、例えば2−
R2−チオセミカルバジドから、借級アルカノール(例
えばメタノール)及びシュウ酸ジーR3エステル中にて
アルカリ金M 低1ptアルコレート(例えばナト11
ウムメチレート)と共に沸騰させることによって製造す
るととができる。必要に応じて、2−Rl−チオ1・ミ
カルパジドをアセ)= ト’lルの如き不活性溶媒中に
て酸結合剤の存在下において対応するシュウ酸モノーR
3エステル酸・・ライド(例えばP廖化物)と共に加熱
17、次いで縮合生成物を上記の如くf田級アルカノー
ル中のアルカリ金属低級アルコレートによって環化する
。必要に応じて、得られる4、5−ジヒドロ−1−R2
−5−チオキソ−IH−1,2,4−トリアゾール−3
−カルボン酸Rs−エステルをケン化(2、そして再エ
ステル化することができる。
あり、そしてそれ自体公知の方法において、例えば2−
R2−チオセミカルバジドから、借級アルカノール(例
えばメタノール)及びシュウ酸ジーR3エステル中にて
アルカリ金M 低1ptアルコレート(例えばナト11
ウムメチレート)と共に沸騰させることによって製造す
るととができる。必要に応じて、2−Rl−チオ1・ミ
カルパジドをアセ)= ト’lルの如き不活性溶媒中に
て酸結合剤の存在下において対応するシュウ酸モノーR
3エステル酸・・ライド(例えばP廖化物)と共に加熱
17、次いで縮合生成物を上記の如くf田級アルカノー
ル中のアルカリ金属低級アルコレートによって環化する
。必要に応じて、得られる4、5−ジヒドロ−1−R2
−5−チオキソ−IH−1,2,4−トリアゾール−3
−カルボン酸Rs−エステルをケン化(2、そして再エ
ステル化することができる。
−上記の方法rb)に従えば、弐■の出発物質における
アミノ保護Rを開裂させる。酸加水分解によって開裂し
得る保護基を好ましくは・・ロゲン化し得る低級アルカ
ンカルボン酸によって除去する。殊に、ギ酸またはトリ
プルオロ酢酸を用いる。この開裂は一般に室温で行われ
るガ、しかし・やや高温またはやや低温(例えば約O℃
〜+40℃の温度範囲)で行うととができる。アルカリ
性条件下で開裂し得る保n共を一般に希釈水性苛性アル
カリによって0℃〜30℃で加水分解する。クロロアセ
チル、ブロモアセチル及びヨードアセチル保護基は約0
〜30℃でP性、中性またはアルカリ性媒質中のチオ尿
素によって開裂させることができる。水素添加分解的開
裂(例えばベンジル開裂)は望ましくなく、その理由は
、オキシム官能基が水素添加分解中にアミノ基に還元さ
れるためである。
アミノ保護Rを開裂させる。酸加水分解によって開裂し
得る保護基を好ましくは・・ロゲン化し得る低級アルカ
ンカルボン酸によって除去する。殊に、ギ酸またはトリ
プルオロ酢酸を用いる。この開裂は一般に室温で行われ
るガ、しかし・やや高温またはやや低温(例えば約O℃
〜+40℃の温度範囲)で行うととができる。アルカリ
性条件下で開裂し得る保n共を一般に希釈水性苛性アル
カリによって0℃〜30℃で加水分解する。クロロアセ
チル、ブロモアセチル及びヨードアセチル保護基は約0
〜30℃でP性、中性またはアルカリ性媒質中のチオ尿
素によって開裂させることができる。水素添加分解的開
裂(例えばベンジル開裂)は望ましくなく、その理由は
、オキシム官能基が水素添加分解中にアミノ基に還元さ
れるためである。
存在し得るカルボキシ保護基は方法(a)に関して上に
述べた如き方法で開裂させるととができる。
述べた如き方法で開裂させるととができる。
とのカルボキシ保護基は保護基Rの開裂に対I−ですで
に述べた方法と同様にして開裂させることができる。
に述べた方法と同様にして開裂させることができる。
−F記の方法(c)に用いる式■の出発物質は上記式■
の化合物からアミノ保護基R0を開裂させて得ることが
できる。この開裂け、式■の出発物質からアミノ保謀基
Rの上記開裂と同様の方法で行うことができる。
の化合物からアミノ保護基R0を開裂させて得ることが
できる。この開裂け、式■の出発物質からアミノ保謀基
Rの上記開裂と同様の方法で行うことができる。
式■の化合物における〆を脱性薔Qとして、例えばハロ
ゲン(例えば塩素、臭紫またitヨウ素)、アシルオキ
シ基(例えばアセトキシの如き低級ア−/11− ルカノイルオキシ基)、低級アルキルスルホニルオキシ
もしくはアリールスルホニルオキシ基例工ばメシルオキ
シもしくはトシルオキシ、またはアジド基が考えられる
。
ゲン(例えば塩素、臭紫またitヨウ素)、アシルオキ
シ基(例えばアセトキシの如き低級ア−/11− ルカノイルオキシ基)、低級アルキルスルホニルオキシ
もしくはアリールスルホニルオキシ基例工ばメシルオキ
シもしくはトシルオキシ、またはアジド基が考えられる
。
式■の化合物と式■のチオールとの反応はそれ自体公知
の方法において、例えば水またけpH値約6〜7、好ま
しくは6.5の緩衝剤溶液中にて約40℃乃至80℃間
、有利には約60℃の温度で行うことができる。存在し
得るカルボキシ保護基は方法(a)に関]−で上に述べ
た如き同様な方法で開裂させることができる。
の方法において、例えば水またけpH値約6〜7、好ま
しくは6.5の緩衝剤溶液中にて約40℃乃至80℃間
、有利には約60℃の温度で行うことができる。存在し
得るカルボキシ保護基は方法(a)に関]−で上に述べ
た如き同様な方法で開裂させることができる。
上記の方法(d)に用いる式■の活性化されたエステル
は式1彌のカルボンPc上i5の如く保護されていても
よい)から、トリフェニルホスフィンまたは亜リン酸ト
リ(低級アルキル)の存在下において、不活性有機溶媒
例えばアセトニ) +1ルまたは塩化メチレン中にて室
温で2,2′−ジチオビス42− ベンゾチアゾールとの反応によって製造するととができ
る。続いての式■及び■の化合物の反応は好ましくけ不
活性溶媒または水との混合物中において(例えば塩化メ
チレン寸たは酢酸エチル中)、好ましくはトリエチルア
ミンの如き塩基の存在下においてほぼ室温で行われる。
は式1彌のカルボンPc上i5の如く保護されていても
よい)から、トリフェニルホスフィンまたは亜リン酸ト
リ(低級アルキル)の存在下において、不活性有機溶媒
例えばアセトニ) +1ルまたは塩化メチレン中にて室
温で2,2′−ジチオビス42− ベンゾチアゾールとの反応によって製造するととができ
る。続いての式■及び■の化合物の反応は好ましくけ不
活性溶媒または水との混合物中において(例えば塩化メ
チレン寸たは酢酸エチル中)、好ましくはトリエチルア
ミンの如き塩基の存在下においてほぼ室温で行われる。
次いで未だ存在するカルボキシ保護基は方法(a)に関
して上に述べた如くして開裂させるととができる。
して上に述べた如くして開裂させるととができる。
上記の方法(e)、Xが硫黄′+たけJ(ニーSo−を
表わす式Iの化合物まだはその塩の酸化は有機寸たけ無
機酸化剤で処理して行われる。酸化剤として容易に酸t
を付与する種々な化合物、例えば有機過酸化物例えば−
置換された有機過酸化物、例えばC,〜C4アルキルま
たはアルカノイルヒドロパーオキシド(例えばt−ブチ
ルヒドロパーオキシド、過ギ酸及び過酢P)並びにこれ
らヒドロパーオキシドのフェニル−置換された誘導体例
えばりとができる。必要に応じて、フェニル置換基は更
に低級基(例えばC1〜C4アルキルまたはアルコキシ
)、・・ロゲンまたはカルボキシ基(例えば4−メチル
過安息香酸、4−メトキシ過安息香酸、3−クロロ過安
息香酸及びモノ過フタル酸)をもつことができる。また
酸化剤として、種々な無機酸化剤、例えば過酸化水素、
オゾン、過マンガン酸塩例えば過マンガン酸カリウムも
しくけナトリウム、次亜塩素酸塩例えば次亜塩素酸す)
IIウム、力l]〜ムモL < Hアンモニウム、パ
ーオキシモノ硫酸及びパーオキシジ硫酸を用いることも
できる。
表わす式Iの化合物まだはその塩の酸化は有機寸たけ無
機酸化剤で処理して行われる。酸化剤として容易に酸t
を付与する種々な化合物、例えば有機過酸化物例えば−
置換された有機過酸化物、例えばC,〜C4アルキルま
たはアルカノイルヒドロパーオキシド(例えばt−ブチ
ルヒドロパーオキシド、過ギ酸及び過酢P)並びにこれ
らヒドロパーオキシドのフェニル−置換された誘導体例
えばりとができる。必要に応じて、フェニル置換基は更
に低級基(例えばC1〜C4アルキルまたはアルコキシ
)、・・ロゲンまたはカルボキシ基(例えば4−メチル
過安息香酸、4−メトキシ過安息香酸、3−クロロ過安
息香酸及びモノ過フタル酸)をもつことができる。また
酸化剤として、種々な無機酸化剤、例えば過酸化水素、
オゾン、過マンガン酸塩例えば過マンガン酸カリウムも
しくけナトリウム、次亜塩素酸塩例えば次亜塩素酸す)
IIウム、力l]〜ムモL < Hアンモニウム、パ
ーオキシモノ硫酸及びパーオキシジ硫酸を用いることも
できる。
3−クロロ過安息香酸を用いることが好ま1.い。
この酸化は不活性溶媒、例えば非プロトン性不活性溶餅
例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン
、クロロホルム、酢酸エチルモL <はアセトン、プロ
トン性溶媒例えば水、低級アルカノール(例えばメタノ
ールもしくハエタノール)または・・ロゲフ化し得る低
級アルカンカルボン酸(例えばギ酸、酢酸もしくはト1
1フルオロ酢酸)中で有利に行われる。この酸化は好ま
しくけ一20℃乃至+50℃の温度範囲で行われる。
例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン
、クロロホルム、酢酸エチルモL <はアセトン、プロ
トン性溶媒例えば水、低級アルカノール(例えばメタノ
ールもしくハエタノール)または・・ロゲフ化し得る低
級アルカンカルボン酸(例えばギ酸、酢酸もしくはト1
1フルオロ酢酸)中で有利に行われる。この酸化は好ま
しくけ一20℃乃至+50℃の温度範囲で行われる。
Xが値苛を表わす式■の出発物質またはその塩に関連し
2て酸化剤の等モル量またけその−やや過剰号を用いる
場合、Xが基−8O−を表わす式■の対応するスルホキ
シドが主としてイ1すられる。酸化剤の量が化学量論的
比の2倍寸に、けそれ」り上に増加+、、、−Pc、m
合、Xが基−8Ot−を表Jつ寸式■の対応するスルホ
ンを生じる。同様に、竺トル暇寸たけ多邪°の酸化剤で
処理することにより、対応するスルホキシドから式■の
フルホンを得ることが可能である。製造条件は木質的に
スルホキシドの製造と同一である。
2て酸化剤の等モル量またけその−やや過剰号を用いる
場合、Xが基−8O−を表わす式■の対応するスルホキ
シドが主としてイ1すられる。酸化剤の量が化学量論的
比の2倍寸に、けそれ」り上に増加+、、、−Pc、m
合、Xが基−8Ot−を表Jつ寸式■の対応するスルホ
ンを生じる。同様に、竺トル暇寸たけ多邪°の酸化剤で
処理することにより、対応するスルホキシドから式■の
フルホンを得ることが可能である。製造条件は木質的に
スルホキシドの製造と同一である。
45−
得られる式■のカルボン酸を続いて塩に、例えば前記の
如き酸付加塩または塩基による塩に転化することができ
る。塩基による塩の例はアルカリ金属塩例えげナトリウ
ム及びカリウム塩、アンモニウム塩、アルカリ土金屈塩
例えばカルシウム塩、有機塩基による塩例えばアぞンに
よる塩(例えばN−エチルービペ1)ジン、フロカイン
、ジベンジルアミン、N、N’−ジペソジルエチレンジ
アミン、アルキルアミンまたはジアルキルアミンによる
塩)並びにアミノ酸による塩例えばアルギニンまたはリ
ジンによる塩に転化することができる。
如き酸付加塩または塩基による塩に転化することができ
る。塩基による塩の例はアルカリ金属塩例えげナトリウ
ム及びカリウム塩、アンモニウム塩、アルカリ土金屈塩
例えばカルシウム塩、有機塩基による塩例えばアぞンに
よる塩(例えばN−エチルービペ1)ジン、フロカイン
、ジベンジルアミン、N、N’−ジペソジルエチレンジ
アミン、アルキルアミンまたはジアルキルアミンによる
塩)並びにアミノ酸による塩例えばアルギニンまたはリ
ジンによる塩に転化することができる。
この塩はモノ−、ジーまたはトリー塩であることガでき
る。この堵はそれ自体公知の方法)71−いて、例えば
式■のナルボン酸を有利(では液媒例えば水或いu有m
溶媒例えばエタノール、メタノール、アセトン等中1(
で当量の所望の酸または塩基と反応させて製造される。
る。この堵はそれ自体公知の方法)71−いて、例えば
式■のナルボン酸を有利(では液媒例えば水或いu有m
溶媒例えばエタノール、メタノール、アセトン等中1(
で当量の所望の酸または塩基と反応させて製造される。
塩生廣を行う温度は臨界的46−
ではない。一般に温IWは室温でネ)るが、1.かし1
だ室温よりもやや高温″+たけ低温(例えば0℃乃至+
50℃範囲)であることができろ。
だ室温よりもやや高温″+たけ低温(例えば0℃乃至+
50℃範囲)であることができろ。
本発明に従い、式■のカルボン酸の容易に加水分1!i
l[ルエステル(モノエステル、ジエステル″+たはト
リエステル)を製造するために、カルボン酸寸たけその
塩の一つを1凍しくけエステル基を含む対応する・・ラ
イド、1捷1くけアイオダイドと反応させる。この反応
は塩井、例えばアルカリ金属水酸化物イ、 L、 <け
炭酸塩捷ヲ【けト11工千ルアミンの如き有機塩基によ
って促]/巴へせ乙ζ入ができる。使甲するエステル化
剤の+1に応1−て、モノエステル、ジ丁ステル捷たu
) II jステルInられる。式■の酸の完全なエ
ステル化のために、1甘(、くけ過剰量の対応する・・
ライドな[Bい7、。
l[ルエステル(モノエステル、ジエステル″+たはト
リエステル)を製造するために、カルボン酸寸たけその
塩の一つを1凍しくけエステル基を含む対応する・・ラ
イド、1捷1くけアイオダイドと反応させる。この反応
は塩井、例えばアルカリ金属水酸化物イ、 L、 <け
炭酸塩捷ヲ【けト11工千ルアミンの如き有機塩基によ
って促]/巴へせ乙ζ入ができる。使甲するエステル化
剤の+1に応1−て、モノエステル、ジ丁ステル捷たu
) II jステルInられる。式■の酸の完全なエ
ステル化のために、1甘(、くけ過剰量の対応する・・
ライドな[Bい7、。
コノエステル化は好it、<け不活件有楼溶妙゛中IF
て、場合によっては水との混合物中で・行われ、かかる
不活性有機溶媒の例はジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルリン酸ト11アミド、ジメチルスルホキシドまたは
好ましくはジメチルホルムアミドである。温度は姓甘し
くけ約O〜40℃の範囲である。
て、場合によっては水との混合物中で・行われ、かかる
不活性有機溶媒の例はジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルリン酸ト11アミド、ジメチルスルホキシドまたは
好ましくはジメチルホルムアミドである。温度は姓甘し
くけ約O〜40℃の範囲である。
得られるエステルを必要に応じてS−酸化するととがで
き、Xによって表わされる硫黄原子を基−8O−または
一8O2−に換え乙。この酸化は上記の方法で行うこと
ができる。
き、Xによって表わされる硫黄原子を基−8O−または
一8O2−に換え乙。この酸化は上記の方法で行うこと
ができる。
式■の化合物のエステルの酸付加塩及び水和物または核
酸付加塩の水利物はそれ自体公知の方法において製造す
ることができる;酸付加塩は例えば式■のナルボン酸の
エステルを有利には溶媒例えば水または有機溶媒(例え
ばエタノール、メタノール、アセトン等)中にて所望の
酸の当量と反応させるこふにより製造する。塩刑成を行
う温度は臨界的ではない。温度は一般に室温であるが、
しかしまたやや室温以上捷たけ以下(例えば0℃乃至+
50℃の範囲)であるととができる。
酸付加塩の水利物はそれ自体公知の方法において製造す
ることができる;酸付加塩は例えば式■のナルボン酸の
エステルを有利には溶媒例えば水または有機溶媒(例え
ばエタノール、メタノール、アセトン等)中にて所望の
酸の当量と反応させるこふにより製造する。塩刑成を行
う温度は臨界的ではない。温度は一般に室温であるが、
しかしまたやや室温以上捷たけ以下(例えば0℃乃至+
50℃の範囲)であるととができる。
水和物の製造は通常製造過程中に自動的に起こるか、或
いは最初に無水の生成物の吸湿特性の結果として起こる
。水和物を調節!lI!I令するために、完全または一
部無水の生成物を浸った雰囲気下に(例えば約+10℃
乃至+40℃で)さらすことができる。
いは最初に無水の生成物の吸湿特性の結果として起こる
。水和物を調節!lI!I令するために、完全または一
部無水の生成物を浸った雰囲気下に(例えば約+10℃
乃至+40℃で)さらすことができる。
得られるシン/アンチ混合物を普通の方法において、例
えば再結晶才たit適当外溶Uもしくは溶渥混合物を用
いるクロマトグラフ法によって対応するシン及びアンチ
型に分割1トるととができる。
えば再結晶才たit適当外溶Uもしくは溶渥混合物を用
いるクロマトグラフ法によって対応するシン及びアンチ
型に分割1トるととができる。
しφ1しなガら、本発明によるエステルは、シン−剤に
おける式■の出発物質を用いて、シソ−型で得ることが
1噂しい。
おける式■の出発物質を用いて、シソ−型で得ることが
1噂しい。
本発明によって:IP供される式Iの一1フルポン酸の
エステル並びに該ナルポン酸自体及び計化合物の49一 対応する塩または水和物は抗生物活性、特に殺バクテ1
1ア活性を有する。とれらの化合物はグラム陽性バクテ
リア〔例えば連鎖球菌属(Strepto−cocc
i )に対して、そしてβ−ラクタマーゼー生成ダラム
陰性病原菌例えば大腸菌(EscherichiacO
di)、霊菌(Serratia marcescen
s)及び肺炎桿菌(Klebsiella pneum
oniae)を含めて、ダラム陰性バクテリアに対して
広いスペクトルの活性を有する。
エステル並びに該ナルポン酸自体及び計化合物の49一 対応する塩または水和物は抗生物活性、特に殺バクテ1
1ア活性を有する。とれらの化合物はグラム陽性バクテ
リア〔例えば連鎖球菌属(Strepto−cocc
i )に対して、そしてβ−ラクタマーゼー生成ダラム
陰性病原菌例えば大腸菌(EscherichiacO
di)、霊菌(Serratia marcescen
s)及び肺炎桿菌(Klebsiella pneum
oniae)を含めて、ダラム陰性バクテリアに対して
広いスペクトルの活性を有する。
本発明によって#8供される式■のカルボン酸のエステ
ル並びに該ナルポン酸自体及び該化合物の対応する塩オ
たは水利物は伝染病の処置及び予防に用いることができ
る。成人に対しては、約0.1g〜約4g、特に約0.
25.9〜約2gの1日当りの投薬量が考えられる。経
腸′+たは非経腸役目が可能〒ある:式■の化合物の容
易に加水分解し得るエステル並びに対応する酸付加塩及
び水和物は、50− このものが経腸(例えば経口)役付に適していると云う
利点を有している。
ル並びに該ナルポン酸自体及び該化合物の対応する塩オ
たは水利物は伝染病の処置及び予防に用いることができ
る。成人に対しては、約0.1g〜約4g、特に約0.
25.9〜約2gの1日当りの投薬量が考えられる。経
腸′+たは非経腸役目が可能〒ある:式■の化合物の容
易に加水分解し得るエステル並びに対応する酸付加塩及
び水和物は、50− このものが経腸(例えば経口)役付に適していると云う
利点を有している。
上記生成物の経口的殺菌剤活性をマウスについて生体内
試験に基づいて立証するととができる。
試験に基づいて立証するととができる。
以後、治療投薬i3y (CT)、。、p、01、ツク
/1(り)−:試験マウスの5[)%が生存する経口投
pi’l−セ1を表→つす。
/1(り)−:試験マウスの5[)%が生存する経口投
pi’l−セ1を表→つす。
試験化合物
生成物A:メチレン(6R,7’R,)−7−r(Z)
−2−(2−アミノ−4−チアゾ1)ル)−2−Cメト
キシイミノ)アートトアミ)”]−3−r r r 5
−(メl−A= シ゛/7 A/ボニル)−2−ノ千ル
ー211−1.す。
−2−(2−アミノ−4−チアゾ1)ル)−2−Cメト
キシイミノ)アートトアミ)”]−3−r r r 5
−(メl−A= シ゛/7 A/ボニル)−2−ノ千ル
ー211−1.す。
4−トリアシー4・−゛トーイル]千フ(−〕メメチル
ー−8−オ・ソー5−チア−1−アリ8ビシクロr 4
’、 2.0 ]−]タクト−9−エンー2−′!?ル
ボギシ〕トピバI/−ト。
ー−8−オ・ソー5−チア−1−アリ8ビシクロr 4
’、 2.0 ]−]タクト−9−エンー2−′!?ル
ボギシ〕トピバI/−ト。
生成物B:メチレン(6R、7R)−7−[(Z)−2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイ
ミノ)アセトアミ ド)−3−[[[5−(エトキシカル ボニル)−2−メチル−2)T−1,2゜4−トリアゾ
ール−3−イル〕チオ〕 メチル〕−8−オキソ−5−4アー1 −アザビシクロ[4,2,0]ナクトー2−エン−2−
カルボキシレートビバレ ート。
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイ
ミノ)アセトアミ ド)−3−[[[5−(エトキシカル ボニル)−2−メチル−2)T−1,2゜4−トリアゾ
ール−3−イル〕チオ〕 メチル〕−8−オキソ−5−4アー1 −アザビシクロ[4,2,0]ナクトー2−エン−2−
カルボキシレートビバレ ート。
生成物C: メ千しy(6R,7R,)−7−r(7,
)−1,−(2−アミノ−・1−壬アゾ1)ル)2
(>1トキシイミノ)アセトアミド:1−?、−([[
2−エチル−5=(メトキシカルボニルl−?、T(−
1゜214−)リアゾール−3−イル〕チ オ〕メチル〕−8−オセソー5−千7 −1−アザビシクロ〔4,2,0:1オクト−2−エン
−2−カルボキシレートビ バレート。
)−1,−(2−アミノ−・1−壬アゾ1)ル)2
(>1トキシイミノ)アセトアミド:1−?、−([[
2−エチル−5=(メトキシカルボニルl−?、T(−
1゜214−)リアゾール−3−イル〕チ オ〕メチル〕−8−オセソー5−千7 −1−アザビシクロ〔4,2,0:1オクト−2−エン
−2−カルボキシレートビ バレート。
生成物D:メチレン(6R,7R1−7−((Z)−2
−(2−アミノ−4−チアゾ11ル)−2−(メトキシ
イミノ)アセトアミ ド:]−3−〔Cr: 5−(メトキシカルボニル)−
2−((((ピバロイルオ キシ)メトキシ〕カルボニル〕メチル〕−2H−1、2
、4−1−リアゾール−3−イル〕峯オ〕メチル〕−8
−すA;ソー5−チア−1−アザビシクロ〔4゜2、0
1−4−クトー2−ゴーンー2−リノルゼヤーシレート
ビバ1ノート。
−(2−アミノ−4−チアゾ11ル)−2−(メトキシ
イミノ)アセトアミ ド:]−3−〔Cr: 5−(メトキシカルボニル)−
2−((((ピバロイルオ キシ)メトキシ〕カルボニル〕メチル〕−2H−1、2
、4−1−リアゾール−3−イル〕峯オ〕メチル〕−8
−すA;ソー5−チア−1−アザビシクロ〔4゜2、0
1−4−クトー2−ゴーンー2−リノルゼヤーシレート
ビバ1ノート。
生成物E:ノチレン(6R,7R1−7−r’(Z)Q
(Q−ブタノ−4−ブーアゾ11ル)2(メトキシ
イぐ))ア−1,)アミ 53− ド]−3−[((5−(メトキシカル ボニル)−2−(n−プロピル)−2 FT−1、2、4−)リアゾール−3−イル〕チオ〕メ
チル〕−8−オキソ− 5−チア−1−アザビシクロ(4,2,0)オクト−2
−エン−2−カルボキシレ ートピバレート。
(Q−ブタノ−4−ブーアゾ11ル)2(メトキシ
イぐ))ア−1,)アミ 53− ド]−3−[((5−(メトキシカル ボニル)−2−(n−プロピル)−2 FT−1、2、4−)リアゾール−3−イル〕チオ〕メ
チル〕−8−オキソ− 5−チア−1−アザビシクロ(4,2,0)オクト−2
−エン−2−カルボキシレ ートピバレート。
生成物F:メキレン(fiR、7T?、)−7−r(Z
)2−(2−アミノ−4−チアゾリル) −2−(メ)ギシイタノ)アセ) 7 ミド’l−3−
CC[: 5−(メトキシカルボニル)−2−フエ=、
、n/−2H−1+2.4−)リアゾール−3−イセ〕
チ オ〕メチル〕−8−オキソ−5−テア −1−アザビシクロ(4,2,n:1オクト−2−エン
ーQ−六II/−1′キシレートビバレート。
)2−(2−アミノ−4−チアゾリル) −2−(メ)ギシイタノ)アセ) 7 ミド’l−3−
CC[: 5−(メトキシカルボニル)−2−フエ=、
、n/−2H−1+2.4−)リアゾール−3−イセ〕
チ オ〕メチル〕−8−オキソ−5−テア −1−アザビシクロ(4,2,n:1オクト−2−エン
ーQ−六II/−1′キシレートビバレート。
54−
生成物A、 B、 nXEy+びFは少なくともセフ
ァレキシンと同様に無毒性である(24時間後、マウス
におけるLD、。p、 n、 :生成’liA、 B、
D。
ァレキシンと同様に無毒性である(24時間後、マウス
におけるLD、。p、 n、 :生成’liA、 B、
D。
E及びFに対してけ>5000wi/KqHセファレキ
シンに対しては1600〜4500■/Kp)。
シンに対しては1600〜4500■/Kp)。
本発明によって提供される生成物は薬剤として、例えば
経腸′!fたは非軒腸投りに適する薬剤用の有機または
無機の不活性担体物質例えば水、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ラクトース、殿粉、ステアリン酸マグネシウム、タ
ルク、植物油、ポリアルキレングリコール、aセリン等
との混合物として該生成物を含んでなる薬剤調製物の形
態で甲いることができる。薬剤調製物は固体の形態(例
えば佇剤、糖衣丸、少薬呼たけカプセル剤)$、いけ液
体の形PC例j−ば溶液、懸濁液すたは乳液)にするこ
とができる。必要に応じて、該調製物を無菌にすること
ができそしてまたは補助剤例えば保存剤、56− 55− 安定剤、湿潤剤もしくは乳化剤、浸透圧を変えるだめの
塩、麻酔剤オたは緩衝剤を含1せることかできる。寸た
調製物には更に他の治療的に価値ある物質を含ませると
とができる。
経腸′!fたは非軒腸投りに適する薬剤用の有機または
無機の不活性担体物質例えば水、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ラクトース、殿粉、ステアリン酸マグネシウム、タ
ルク、植物油、ポリアルキレングリコール、aセリン等
との混合物として該生成物を含んでなる薬剤調製物の形
態で甲いることができる。薬剤調製物は固体の形態(例
えば佇剤、糖衣丸、少薬呼たけカプセル剤)$、いけ液
体の形PC例j−ば溶液、懸濁液すたは乳液)にするこ
とができる。必要に応じて、該調製物を無菌にすること
ができそしてまたは補助剤例えば保存剤、56− 55− 安定剤、湿潤剤もしくは乳化剤、浸透圧を変えるだめの
塩、麻酔剤オたは緩衝剤を含1せることかできる。寸た
調製物には更に他の治療的に価値ある物質を含ませると
とができる。
以下の実施例は本発明を六らに説1明するものである:
実施例1
メチレン(RR,,7R)−7−r (Z)−7−(2
−アミノ−4−チアゾリル’)−2−(メトキシイミノ
)アセトアミド’:]−3−[[: C5−メトキシカ
ルボニル)−2−メキルー2H−1,2゜4−トリアゾ
ル−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オギソー5−チア
−1−アザビシクロ[4,2,0)オクト−2−エン−
2−−+1ルポキシレートビパレートの製造: (6R、7R)−7−1:(7,)−7−(2−アミノ
−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)57− アセトアミド)−3−([(5−メトキシカルボニル)
−2−メチル−2)T−1、2、4−)リアゾル−3−
イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−ア
ザビシクロ[4,2,0:]]オクトー2−エンー2−
カルボンのナトリウム塩5.9 j;1をジメチルホル
ムアミドlOQ*tに溶解し、この溶液を0〜5℃にて
ピパロイルオセシメチルアイオダイド4.48.pで処
理した。この混合物を9素通気しなから0〜5℃で30
分間攪拌した。次に混合物を*500+R/に注入゛、
酢酸工千ル各300dで2回抽出した。合液した有機相
をI11次水2o0−で2回、5幅炭酸水素ナトリ♂ツ
ム水溶液250dで2回そして水259 meで洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下にて40℃で濃縮!
、た。低沸点石油エーテルで処理j7た後、沈殿した物
質を吸引炉別17、低沸点石油エーテルで洗浄12、真
空下にて一夜20℃で@燥し斧。ベージュ色の粗製の生
成物が得られ、このものを精製するだめに、溶離剤とし
て酢酸エチルを用いて、シリカゲルカラム」−でクロマ
トグラフィーにかけた。〔α:]%1l−−1.fi6
.4°(C=1.507、アセトン中)をもつ白色の表
題物質が得られた。微■分析及び核磁気共鳴吸収スペク
トルは示した構造式と一致した。
−アミノ−4−チアゾリル’)−2−(メトキシイミノ
)アセトアミド’:]−3−[[: C5−メトキシカ
ルボニル)−2−メキルー2H−1,2゜4−トリアゾ
ル−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オギソー5−チア
−1−アザビシクロ[4,2,0)オクト−2−エン−
2−−+1ルポキシレートビパレートの製造: (6R、7R)−7−1:(7,)−7−(2−アミノ
−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)57− アセトアミド)−3−([(5−メトキシカルボニル)
−2−メチル−2)T−1、2、4−)リアゾル−3−
イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−ア
ザビシクロ[4,2,0:]]オクトー2−エンー2−
カルボンのナトリウム塩5.9 j;1をジメチルホル
ムアミドlOQ*tに溶解し、この溶液を0〜5℃にて
ピパロイルオセシメチルアイオダイド4.48.pで処
理した。この混合物を9素通気しなから0〜5℃で30
分間攪拌した。次に混合物を*500+R/に注入゛、
酢酸工千ル各300dで2回抽出した。合液した有機相
をI11次水2o0−で2回、5幅炭酸水素ナトリ♂ツ
ム水溶液250dで2回そして水259 meで洗浄し
、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下にて40℃で濃縮!
、た。低沸点石油エーテルで処理j7た後、沈殿した物
質を吸引炉別17、低沸点石油エーテルで洗浄12、真
空下にて一夜20℃で@燥し斧。ベージュ色の粗製の生
成物が得られ、このものを精製するだめに、溶離剤とし
て酢酸エチルを用いて、シリカゲルカラム」−でクロマ
トグラフィーにかけた。〔α:]%1l−−1.fi6
.4°(C=1.507、アセトン中)をもつ白色の表
題物質が得られた。微■分析及び核磁気共鳴吸収スペク
トルは示した構造式と一致した。
出臂1物質として用いた(6T?、、7R)−7−[(
Z)−2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メ
トキシイミノ)アセトアミド’]−3−[((5−(メ
トキシリアルボニル)−2−ノチルー2T(−1、2、
4−1−リアゾル−;う−イノ1/〕チオ〕メチル〕−
8−十キソー5−イーアー1−アザビシクロ[4,2,
3]−’−クトー2−エンー2−′ノlルボン酔のナト
リウム1xは次の如(して1111造−トるととができ
た: (a)、メチル4,5−ジヒドロ−チオメチル−5−千
オキソーIT(−1、? 、4−)リアシー!レー3−
カルボキシレートの製造: 1−メトキシオキザリル−2−メチル−チオセミカルバ
ジド12.99をメタノール200mJ中のす) IJ
ウム1.6gの溶液に加えた。との混合物を還流で4時
間沸騰さ辻た。0.5時間後に沈殿した物質を分離した
。母液を真空下にて40℃で蒸発させた。残渣を水10
0m/に溶解し、濃塩酸で酸性1(シタ。これによって
分離した結晶から、水により再結晶後、融点188〜1
90℃(分解)の無色の純メチル4,5−ジヒドロー1
−メチル−5−チオキソ−I FT−1,、2、4−)
リアゾール−3−カルボキシレートを得た。
Z)−2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メ
トキシイミノ)アセトアミド’]−3−[((5−(メ
トキシリアルボニル)−2−ノチルー2T(−1、2、
4−1−リアゾル−;う−イノ1/〕チオ〕メチル〕−
8−十キソー5−イーアー1−アザビシクロ[4,2,
3]−’−クトー2−エンー2−′ノlルボン酔のナト
リウム1xは次の如(して1111造−トるととができ
た: (a)、メチル4,5−ジヒドロ−チオメチル−5−千
オキソーIT(−1、? 、4−)リアシー!レー3−
カルボキシレートの製造: 1−メトキシオキザリル−2−メチル−チオセミカルバ
ジド12.99をメタノール200mJ中のす) IJ
ウム1.6gの溶液に加えた。との混合物を還流で4時
間沸騰さ辻た。0.5時間後に沈殿した物質を分離した
。母液を真空下にて40℃で蒸発させた。残渣を水10
0m/に溶解し、濃塩酸で酸性1(シタ。これによって
分離した結晶から、水により再結晶後、融点188〜1
90℃(分解)の無色の純メチル4,5−ジヒドロー1
−メチル−5−チオキソ−I FT−1,、2、4−)
リアゾール−3−カルボキシレートを得た。
rh) (1’iR,,7R)−7−アミノ−3−(
([5−(メトキシカルボニル)−2−メチル−2H−
1,2,4−)リアソ―ルー3−イル〕チオ〕メチル〕
−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[:4.2
.0]オクト−2−エン−2−カルボン酸60− の製造ニ アーアミノセファロスポラン酸2’1.2gをメチル4
.5−1ヒドロ−1−メチル−5−チオキソ−IH−1
、2、4−)リアゾール−3−カルボキシレート18.
2gと共にアセトニトリル250m1に懸濁させた。と
の懸濁液に三フッ化ホウ素ニーテラー)42.6gを加
えた。との混合物を窒素通気しながら50〜55℃で3
0分間攪拌した。
([5−(メトキシカルボニル)−2−メチル−2H−
1,2,4−)リアソ―ルー3−イル〕チオ〕メチル〕
−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[:4.2
.0]オクト−2−エン−2−カルボン酸60− の製造ニ アーアミノセファロスポラン酸2’1.2gをメチル4
.5−1ヒドロ−1−メチル−5−チオキソ−IH−1
、2、4−)リアゾール−3−カルボキシレート18.
2gと共にアセトニトリル250m1に懸濁させた。と
の懸濁液に三フッ化ホウ素ニーテラー)42.6gを加
えた。との混合物を窒素通気しながら50〜55℃で3
0分間攪拌した。
次に混合物を20℃に冷却し、水550−で処理し、p
H値を流アンモニア水で3.5に調節した。
H値を流アンモニア水で3.5に調節した。
この混合物を0〜5℃で30分間攪拌した。沈殿し7た
物質を吸引炉別し、順次水500jIIX ′Iタノー
ル3QQ*/、アセトン30(’IMI及び低tjh点
石油エーテル3 fl Q mlで洗浄し、真空下にて
一夜45℃で乾燥1ツた。核磁気共鳴吸収スペクトルに
よれば示した構造式をもつベージュ舎の純表題物質が得
られた。
物質を吸引炉別し、順次水500jIIX ′Iタノー
ル3QQ*/、アセトン30(’IMI及び低tjh点
石油エーテル3 fl Q mlで洗浄し、真空下にて
一夜45℃で乾燥1ツた。核磁気共鳴吸収スペクトルに
よれば示した構造式をもつベージュ舎の純表題物質が得
られた。
=61−
(c) (6R,7R)−7−アミノ−3−[: [(
5−(メトキシカルボニル)−2−メチル−2H−1,
2,4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8
−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]
オクト−2−エン−2−カルボン酸のトリメチルシリル
エステルの製造:(6R,7R)−7−アミノ−3−4
:[[: 5−(メトキシカルボニル)−2−メチル−
2ET−1。
5−(メトキシカルボニル)−2−メチル−2H−1,
2,4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8
−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]
オクト−2−エン−2−カルボン酸のトリメチルシリル
エステルの製造:(6R,7R)−7−アミノ−3−4
:[[: 5−(メトキシカルボニル)−2−メチル−
2ET−1。
2.4−)リアゾール−3−イル〕チオ〕ゾチル〕−8
−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ〔4゜2.0〕
す〃トー2−エンー2−カルボンP23.12gを酢酸
エチIし480mzfC+腎濁させ、N、O−ビス−(
トリメチルシリル)−アセトアミド60mで処理した。
−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ〔4゜2.0〕
す〃トー2−エンー2−カルボンP23.12gを酢酸
エチIし480mzfC+腎濁させ、N、O−ビス−(
トリメチルシリル)−アセトアミド60mで処理した。
直ヤ、に橙色溶液を生じた。ζ、の溶液を一10℃に冷
却し、アシル化に必要になる寸で室温で貯RL、、た。
却し、アシル化に必要になる寸で室温で貯RL、、た。
(d)4−ブロモ−2−(Z)−メトキシイミノ−3−
オキソ−ブチリルクロライドの製造=4−ブロモ−2−
(Z)−メトキシイミノ−3−オキソ−酪酸13.44
gを塩化メチレン180m1に溶解し、この溶液を0〜
5℃にて五塩化リン12.48.!i’で処理した。こ
の混合物を0〜5℃で15分間そして冷却せずに45分
間柳、拌した。
オキソ−ブチリルクロライドの製造=4−ブロモ−2−
(Z)−メトキシイミノ−3−オキソ−酪酸13.44
gを塩化メチレン180m1に溶解し、この溶液を0〜
5℃にて五塩化リン12.48.!i’で処理した。こ
の混合物を0〜5℃で15分間そして冷却せずに45分
間柳、拌した。
(e) (6R、7R) −7−(4−プo モー
2−(Z)−メトキシイミノ−3−オキソ−ブチ!レア
ミド:]−3−C(C5−(メトキシカルボニル)−2
−メチル−2H−Ll 、 2.4−)リアゾール−3
−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−
アザビシクロ〔4,2,0)オクト−2−エン−2−カ
ルボン酸の製造: 節rcl)で製造した酸塩化物溶液を一10℃〜0℃で
約15分間にわたり節(c)でツ(造しだシリルエステ
ル溶液に滴下した。との混合物を0〜5℃で1時間そし
て20℃で1時間攪拌した。次に混合物を攪拌しながら
酢酸エチル500 d及び水250m1で処理した。水
相を分離し、黄色有機相を水苔500 Illで3回洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下にて40℃で十
分に濃縮した。エーテルで処理した後、沈殿した物質を
吸引戸別し、エーテル及び低沸点石油エーテルで洗浄し
、真空下にて20℃で乾燥した。との物質を酢酸エチル
/エーテルから1回再沈殿させた。〔α〕^=−129
,6゜(C=1、アセトン中)をもつ白色無定形の表題
の純物質が得らハ、だ。核磁気共鳴吸収スペクトルは示
した構造式と一致した。
2−(Z)−メトキシイミノ−3−オキソ−ブチ!レア
ミド:]−3−C(C5−(メトキシカルボニル)−2
−メチル−2H−Ll 、 2.4−)リアゾール−3
−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−
アザビシクロ〔4,2,0)オクト−2−エン−2−カ
ルボン酸の製造: 節rcl)で製造した酸塩化物溶液を一10℃〜0℃で
約15分間にわたり節(c)でツ(造しだシリルエステ
ル溶液に滴下した。との混合物を0〜5℃で1時間そし
て20℃で1時間攪拌した。次に混合物を攪拌しながら
酢酸エチル500 d及び水250m1で処理した。水
相を分離し、黄色有機相を水苔500 Illで3回洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、真空下にて40℃で十
分に濃縮した。エーテルで処理した後、沈殿した物質を
吸引戸別し、エーテル及び低沸点石油エーテルで洗浄し
、真空下にて20℃で乾燥した。との物質を酢酸エチル
/エーテルから1回再沈殿させた。〔α〕^=−129
,6゜(C=1、アセトン中)をもつ白色無定形の表題
の純物質が得らハ、だ。核磁気共鳴吸収スペクトルは示
した構造式と一致した。
(r) (6R,7R)−7−(’(Z) −2−(
2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ
)アセトアミド)−3−[[[5−(メトキシイミノ、
== n/) −’l−メチルー2T(−1、2、4−
トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ
−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]64− オクトー2−エン−2−カルボン酸のナトリウム塩の製
造: (6R,7R) −7−(4−ブロモー2− (Z)−
メトキシイミノー3−オキシーブチリルアミド〕−3−
[: (C5−(メトキシカルボニル)−2−メチル−
21(−1、2、4−)リアゾール−3イル〕チオ〕メ
チル〕−8−オ^−ソー5−チアー1−アザビシクロ[
4,2,0]オクト−2−エン−2−カルボン酸12.
429をエタノール17Qml及びメタノール17(1
*/の混合物に溶1曹し、チオウレ゛ア3.15gで処
理した。との混合物を20℃で45分間攪拌し、メタノ
ール8 (1’Omlで希釈し、酢酸エチル中の2−エ
チルカプロン酸ナトリウムの2N溶液3 Q mlで処
理した。この混合物に活性炭5gを加え、20℃で30
分間攪拌した。次に混合物を、炭素を分離するだめに、
たてみそのある濾紙を通して濾過しだ。淡黄色のろ液を
エタノ65− −ル200−で処理し、真空下にて40℃で十分に濃縮
した。これによって沈殿した物質を吸引戸別し、エタノ
ール及び低沸点石油エーテルで洗浄し、高真空下にて一
夜45℃で乾燥した。〔α〕25=−35,9°(c−
1、水中)をもつ表題の純粋な物質が得られた。微量分
析及び核磁気共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一致
した。
2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ
)アセトアミド)−3−[[[5−(メトキシイミノ、
== n/) −’l−メチルー2T(−1、2、4−
トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ
−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]64− オクトー2−エン−2−カルボン酸のナトリウム塩の製
造: (6R,7R) −7−(4−ブロモー2− (Z)−
メトキシイミノー3−オキシーブチリルアミド〕−3−
[: (C5−(メトキシカルボニル)−2−メチル−
21(−1、2、4−)リアゾール−3イル〕チオ〕メ
チル〕−8−オ^−ソー5−チアー1−アザビシクロ[
4,2,0]オクト−2−エン−2−カルボン酸12.
429をエタノール17Qml及びメタノール17(1
*/の混合物に溶1曹し、チオウレ゛ア3.15gで処
理した。との混合物を20℃で45分間攪拌し、メタノ
ール8 (1’Omlで希釈し、酢酸エチル中の2−エ
チルカプロン酸ナトリウムの2N溶液3 Q mlで処
理した。この混合物に活性炭5gを加え、20℃で30
分間攪拌した。次に混合物を、炭素を分離するだめに、
たてみそのある濾紙を通して濾過しだ。淡黄色のろ液を
エタノ65− −ル200−で処理し、真空下にて40℃で十分に濃縮
した。これによって沈殿した物質を吸引戸別し、エタノ
ール及び低沸点石油エーテルで洗浄し、高真空下にて一
夜45℃で乾燥した。〔α〕25=−35,9°(c−
1、水中)をもつ表題の純粋な物質が得られた。微量分
析及び核磁気共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一致
した。
実施例2
メチレン(6R、7R)−7−C(Z ’) −2−(
2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ
)アセトアミド)−3−1: (C5−(エトキシカル
ボニル)−2−メチル−2H−1,2,。
2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ
)アセトアミド)−3−1: (C5−(エトキシカル
ボニル)−2−メチル−2H−1,2,。
4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オ
キソ−5−チア−1−アザビシクロ(4,2゜0〕オク
ト−2−エン−2−カルボキシレートピバレートの製造
: (6R、7R) −7−C(Z ) −2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセト
アミド)−3−C((5−(エトキシカルボニル)−2
−メチル−2H−1、2、4−)リアゾール−3−イル
〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビ
シクロ(4,2,0)オクト−2−エン−2−カルボン
酸のナトリウム塩5gをジメチルホルムアミド89m1
に溶解し、この溶液を0〜5℃でビバロイルオキシ、メ
チルアイオダイド3.7gを処理した。との混合物を0
〜5℃で1時間攪拌し、次いで水50Qm/に注へ゛、
酢酸エチル259m/で2回抽出した。合液した有機相
を順次水250s+/、5’l炭酸水紫ナトリ・クム水
溶液259 綱lで2回そして水250 *tで洗浄シ
フ、硫酸ナトリウム塩ヒで乾燥し、真空下にて十分に濃
縮した。低沸点石油エーテルの添加後、粗製の無定形の
沈殿した物質を吸引戸別し、低沸点石油エーテルで洗浄
し、真空下にて一夜20℃で乾燥した。
キソ−5−チア−1−アザビシクロ(4,2゜0〕オク
ト−2−エン−2−カルボキシレートピバレートの製造
: (6R、7R) −7−C(Z ) −2−(2−アミ
ノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセト
アミド)−3−C((5−(エトキシカルボニル)−2
−メチル−2H−1、2、4−)リアゾール−3−イル
〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビ
シクロ(4,2,0)オクト−2−エン−2−カルボン
酸のナトリウム塩5gをジメチルホルムアミド89m1
に溶解し、この溶液を0〜5℃でビバロイルオキシ、メ
チルアイオダイド3.7gを処理した。との混合物を0
〜5℃で1時間攪拌し、次いで水50Qm/に注へ゛、
酢酸エチル259m/で2回抽出した。合液した有機相
を順次水250s+/、5’l炭酸水紫ナトリ・クム水
溶液259 綱lで2回そして水250 *tで洗浄シ
フ、硫酸ナトリウム塩ヒで乾燥し、真空下にて十分に濃
縮した。低沸点石油エーテルの添加後、粗製の無定形の
沈殿した物質を吸引戸別し、低沸点石油エーテルで洗浄
し、真空下にて一夜20℃で乾燥した。
ベージュ色の粗製の生成物が得られ、このものを精製す
るために、シリカゲルカラム(0,04−0−0631
1111% 300 g、ベッド高さ:30crn1
ベッド直径:6m)上で、溶離剤として酢酸エチルを用
いて0,2気圧の圧力下で並びに約1時間の滞留時間で
フラッシュクロマトグラフィーにかけた。
るために、シリカゲルカラム(0,04−0−0631
1111% 300 g、ベッド高さ:30crn1
ベッド直径:6m)上で、溶離剤として酢酸エチルを用
いて0,2気圧の圧力下で並びに約1時間の滞留時間で
フラッシュクロマトグラフィーにかけた。
各20〜39*/の60フラクシヨンを捕集した。
純生成物を含むフラクション21〜30より、蒸発及び
酢酸エチル/石油エーテルから再結晶後、[α]”=−
133,5°(c=1.07、アセトン中)をもつ白色
無定形の表題の純粋々物質を得た。
酢酸エチル/石油エーテルから再結晶後、[α]”=−
133,5°(c=1.07、アセトン中)をもつ白色
無定形の表題の純粋々物質を得た。
微量分析及び核磁気共鳴吸収スペクトルは示した構造式
と一致した。
と一致した。
出発物質として用いた(6R,7R) −7−((Z)
−2−(2−ブタノ−4−チアゾリル)−2−(メトキ
シイミノ)アセトアミド)−3−(((5−(エトキシ
カルボニル)−2−メチル68− 一2H−1、2、4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕
メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[
4,2,0]オクト−2−エン−2−カルボン酸のナト
リウム塩は次の如くして製造することができだ: (6R,7R)−7−[4−プロモー2−(Z)−メト
キシイミノ−3−オキソ−ブチルアミド〕−3−([(
5−(エトキシカルボニル)−2−メチル−2H−1、
2、4−)リアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8
−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ(4,2,0’
:lオクト−2−エン−2−カルボン酸(実施例1と同
様にして製造しだもの9.089をエタノール200肩
tに溶解E7、との溶液をチオ尿素2.259で処理し
た。仁の混合物を20℃で1時間攪拌し、メタノール3
nOW/及び活性炭2,5Iを加えた。この混合物を2
0℃で更に30分間攪拌した。炭素を分離するために、
69− との混合物をたてみそのある濾紙を通して濾過しだ。酒
液をエタノール500 mlで処理し、真空下にて40
℃で十分に濃縮した。これによって沈殿した物質を吸引
炉別し、順次エタノール、エーテル及び低沸点石油エー
テルで洗浄し、高真空下にて一夜45℃で乾燥した。〔
°α)2B= 31°(c=1、水中)をもつベージュ
色の表題の純粋な物質が得られた。微量分析及び核磁気
共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一致した。
−2−(2−ブタノ−4−チアゾリル)−2−(メトキ
シイミノ)アセトアミド)−3−(((5−(エトキシ
カルボニル)−2−メチル68− 一2H−1、2、4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕
メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[
4,2,0]オクト−2−エン−2−カルボン酸のナト
リウム塩は次の如くして製造することができだ: (6R,7R)−7−[4−プロモー2−(Z)−メト
キシイミノ−3−オキソ−ブチルアミド〕−3−([(
5−(エトキシカルボニル)−2−メチル−2H−1、
2、4−)リアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8
−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ(4,2,0’
:lオクト−2−エン−2−カルボン酸(実施例1と同
様にして製造しだもの9.089をエタノール200肩
tに溶解E7、との溶液をチオ尿素2.259で処理し
た。仁の混合物を20℃で1時間攪拌し、メタノール3
nOW/及び活性炭2,5Iを加えた。この混合物を2
0℃で更に30分間攪拌した。炭素を分離するために、
69− との混合物をたてみそのある濾紙を通して濾過しだ。酒
液をエタノール500 mlで処理し、真空下にて40
℃で十分に濃縮した。これによって沈殿した物質を吸引
炉別し、順次エタノール、エーテル及び低沸点石油エー
テルで洗浄し、高真空下にて一夜45℃で乾燥した。〔
°α)2B= 31°(c=1、水中)をもつベージュ
色の表題の純粋な物質が得られた。微量分析及び核磁気
共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一致した。
実施例3
メチレン(fiR、7R)−7−〔(Z )−2−(2
−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)
アセトアミド〕−3−C([2−エチル−5−(メトキ
シカルボニル) −2H−]、Q、。
−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)
アセトアミド〕−3−C([2−エチル−5−(メトキ
シカルボニル) −2H−]、Q、。
4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オ
キソ−5−チア−1−アザビシクロ(4,2゜0)オク
ト−2−エン−2−カルボキシレートピバレートの製造
: (6R,7R)−7−((Z)−2−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド
−3−CC[: 2−エチル−5−(メトキシカルボニ
ル) −2)T−1、2、4−1リアゾール−3−イル
〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビ
シクロ[4,2,0’:lオクト−2−エン−2−カル
ボン酸のナトリウム塩6.04.!i’をジメチルホル
ムアミド1001/に溶解し、との溶液を0〜5℃でビ
パロイルオへ・ジメチルアイオダイド4.48gで処理
した。との混合物を窒素通気しなから0〜5℃で1時I
旧!IF拌し、次に水50 Q ynlに注ぎ、酢酸エ
チル各300Mtで2回洗浄した。合液した有機相を順
次水250 Titで2回、5係炭酔水素ナトリfrム
溶液?5 Q weで2回そして水で洗浄し、硫酸ナト
リ・シム上で乾燥し、真空下にて40℃で十分に濃縮し
た。低沸点石油エーテルを加えた後、粗製の生成物が沈
殿した。
キソ−5−チア−1−アザビシクロ(4,2゜0)オク
ト−2−エン−2−カルボキシレートピバレートの製造
: (6R,7R)−7−((Z)−2−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド
−3−CC[: 2−エチル−5−(メトキシカルボニ
ル) −2)T−1、2、4−1リアゾール−3−イル
〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビ
シクロ[4,2,0’:lオクト−2−エン−2−カル
ボン酸のナトリウム塩6.04.!i’をジメチルホル
ムアミド1001/に溶解し、との溶液を0〜5℃でビ
パロイルオへ・ジメチルアイオダイド4.48gで処理
した。との混合物を窒素通気しなから0〜5℃で1時I
旧!IF拌し、次に水50 Q ynlに注ぎ、酢酸エ
チル各300Mtで2回洗浄した。合液した有機相を順
次水250 Titで2回、5係炭酔水素ナトリfrム
溶液?5 Q weで2回そして水で洗浄し、硫酸ナト
リ・シム上で乾燥し、真空下にて40℃で十分に濃縮し
た。低沸点石油エーテルを加えた後、粗製の生成物が沈
殿した。
ベージュ色の無定形物質が得られ、とのものを精製する
ために、シリカゲルカラム(0,04〜0.063回w
s 300g、ベッド高さ:30m、ベッド直径:
6 cm )上で、溶離剤として酢酸エチルを用いて0
.1〜0.2気圧下で約1時間フラッシュクロマトグラ
フィーにかけた。純生成物を含むフラクションより、蒸
発及び酢酸エチル/低沸点石油エーテルから再結晶後、
〔α)”=−131゜(cm0.92、アセトン中)を
もつ白色の無定形の表題物質を得た。微量分析及び核磁
気共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一致した。
ために、シリカゲルカラム(0,04〜0.063回w
s 300g、ベッド高さ:30m、ベッド直径:
6 cm )上で、溶離剤として酢酸エチルを用いて0
.1〜0.2気圧下で約1時間フラッシュクロマトグラ
フィーにかけた。純生成物を含むフラクションより、蒸
発及び酢酸エチル/低沸点石油エーテルから再結晶後、
〔α)”=−131゜(cm0.92、アセトン中)を
もつ白色の無定形の表題物質を得た。微量分析及び核磁
気共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一致した。
出発物質として用いた(6R,7R)−7−[(Z)−
2−(2−ア・ミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキ
シイミノ、)アセトアミド)−3−([[: 2=:r
−fルー5−(メトキシカルボニル)−2H−1、2、
4−)リアゾール−3−イル〕チア 2− オ〕メチル〕−8−オキソー5−チア−1−アザビシク
ロ〔4,2,0)オクト−2−エン−2−カルボン酸の
ナトリウム塩は次の如くして製造することができた: (a) (6R,7R)−7−アミノ−3−〔([2
−エチル−5−(メトキシカルボニル)−2)T−1,
2,4−)リアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8
−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[:4.2.0
]オクト−2−エン−2−カルボン酸の製造ニ アーアミノセファロスポラン酸13.69を、仝素通気
しながら、且つ水分を排除17ながら、メチル1−エチ
ル−4,5−ジヒドロ−5−チオキソ−I H−1、2
、4−)リアゾール−3−ヲ1ルポキシレート(実施例
1と同様にして製造したもの)10.3g及び三フッ化
ホウ素工−テレート21.3gと共にアセトニトリル1
25m/中にて50〜73− 55℃で1時間攪拌した。この混合物を20℃に冷却し
、これに水250dを加え、濃アンモニアによってI)
H値を3.5に調節した。。0〜5℃で0.5時間攪拌
した後、沈殿した物質を吸引炉別し、水250 ml、
メタノール25081.アセトン250m1及び低沸点
石油エーテル25 Q ynlで洗浄し、高真空下にて
一夜45℃で乾燥した。表題の純粋ガ物質が得られ、と
のものの核磁気共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一
致した。
2−(2−ア・ミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキ
シイミノ、)アセトアミド)−3−([[: 2=:r
−fルー5−(メトキシカルボニル)−2H−1、2、
4−)リアゾール−3−イル〕チア 2− オ〕メチル〕−8−オキソー5−チア−1−アザビシク
ロ〔4,2,0)オクト−2−エン−2−カルボン酸の
ナトリウム塩は次の如くして製造することができた: (a) (6R,7R)−7−アミノ−3−〔([2
−エチル−5−(メトキシカルボニル)−2)T−1,
2,4−)リアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8
−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[:4.2.0
]オクト−2−エン−2−カルボン酸の製造ニ アーアミノセファロスポラン酸13.69を、仝素通気
しながら、且つ水分を排除17ながら、メチル1−エチ
ル−4,5−ジヒドロ−5−チオキソ−I H−1、2
、4−)リアゾール−3−ヲ1ルポキシレート(実施例
1と同様にして製造したもの)10.3g及び三フッ化
ホウ素工−テレート21.3gと共にアセトニトリル1
25m/中にて50〜73− 55℃で1時間攪拌した。この混合物を20℃に冷却し
、これに水250dを加え、濃アンモニアによってI)
H値を3.5に調節した。。0〜5℃で0.5時間攪拌
した後、沈殿した物質を吸引炉別し、水250 ml、
メタノール25081.アセトン250m1及び低沸点
石油エーテル25 Q ynlで洗浄し、高真空下にて
一夜45℃で乾燥した。表題の純粋ガ物質が得られ、と
のものの核磁気共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一
致した。
(b) 2−ペンズチアゾリルチオ2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノ
−アセテートの製造: 2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(Z)−メ
トキシイミノ酢酸(無水物、メタノーク約5係含有)6
4.8g及び?、′、2−ジチオービスーベンゾチアゾ
ール112.5.9をアセトニトリル1.8tに懸濁さ
せ、との懸濁液を攪拌しながらN−メチルモルホリン4
0.4 mで処理した。得られた懸濁液を30℃に加温
し、亜リン酸トリエチル64.8N/で60分以内に処
理した。次に懸濁液を30℃で60分間そして0℃で6
0分間攪拌した。生成物を吸引戸別し、アセトニトリル
、次にエーテルで洗浄し、真空下にて35℃で乾燥した
。
チアゾール−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノ
−アセテートの製造: 2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(Z)−メ
トキシイミノ酢酸(無水物、メタノーク約5係含有)6
4.8g及び?、′、2−ジチオービスーベンゾチアゾ
ール112.5.9をアセトニトリル1.8tに懸濁さ
せ、との懸濁液を攪拌しながらN−メチルモルホリン4
0.4 mで処理した。得られた懸濁液を30℃に加温
し、亜リン酸トリエチル64.8N/で60分以内に処
理した。次に懸濁液を30℃で60分間そして0℃で6
0分間攪拌した。生成物を吸引戸別し、アセトニトリル
、次にエーテルで洗浄し、真空下にて35℃で乾燥した
。
融点140℃の表題の物質が得られた。
(c) (6R,7R,)−7=((Z) 2
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミ
ノ)アセトアミド)−3−[:C[2−エチル−5−(
メト昇ジカルボニル) −2TI−1、2、4−トリア
ゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ[4,2,0]]オクトー2−
エンー2−カルボンのナトリウム塩の製造: (fiR,7R)−7−アミノ−3−[[[2−エチル
−5−(メトキシカルボニル)−21T−1゜2.4−
)リアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ
−5−チア−1−アザビシクロ〔4゜2.0〕オクト−
2−エン−2−カルボン酸8.99Jilジクロロメタ
ン225 mlに懸濁させ、この懸濁液をトリエチルア
ミン3.15mで処理し、直ちに溶液を生じた。この溶
液に2−ペンズチアゾリルチオ2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノ−アセ
テート11.8gを加えた。この混合物を20℃で3時
間攪拌した。暗色の溶液をたてみぞのある濾紙を通して
濾過し、少量の不溶性物質を除去した。P液をメタンス
レホン酸1.43mで処理し、とれによってセファロス
ポラン酸は沈殿しなかった。酢酸エチル中の2−エチル
カプロン酸ナトリウムの2 N溶液30mの添加後、ナ
トリウム塩としてセファロスポリンが沈殿したが、吸引
済遇することはできなかった。とれにメタノール6oo
st及びエタノ−76− ル600m1を加え、溶液を生じた。活性炭5gを加え
た後、との混合物を20℃で30分間攪拌した。たてみ
そのある濾紙で濾過した後、ろ液を真空下にて40℃で
十分に濃縮した。エタノールと共にくり返し蒸発させた
後、沈殿した物質を吸引炉別し、エタノール及び低沸点
石油エーテルで洗浄し、真空下にて一夜40℃で乾燥し
た。表題の物質に加えて、2−(2−アミノ−4−チア
ゾリール)−2−(Z)−メトギシイミノー酢酸ナトリ
ウムを含む粗製の生成物が11Lられた。精製するため
に、この粗製の生成物をメタノール200 wagに溶
解した。この溶液をエタノール800 mlで希釈l〜
、真空下にて40℃で十分に濃縮した。これによって沈
殿した物質を吸引戸別し、エタノール、エーテル及び低
沸点石油エーテルで洗浄17、高真空下にて一夜45℃
で乾燥した。〔α〕^=−31,9゜(c=1.0.水
中)をもつ表題の純粋刃物質が得77− られ、このものは微量分析及び核磁気共鳴吸収スペクト
ルによれば、メタンスルホン酸ナトリウム塩1モル及び
エタノール0,25モルを含有していた。
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミ
ノ)アセトアミド)−3−[:C[2−エチル−5−(
メト昇ジカルボニル) −2TI−1、2、4−トリア
ゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ[4,2,0]]オクトー2−
エンー2−カルボンのナトリウム塩の製造: (fiR,7R)−7−アミノ−3−[[[2−エチル
−5−(メトキシカルボニル)−21T−1゜2.4−
)リアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ
−5−チア−1−アザビシクロ〔4゜2.0〕オクト−
2−エン−2−カルボン酸8.99Jilジクロロメタ
ン225 mlに懸濁させ、この懸濁液をトリエチルア
ミン3.15mで処理し、直ちに溶液を生じた。この溶
液に2−ペンズチアゾリルチオ2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノ−アセ
テート11.8gを加えた。この混合物を20℃で3時
間攪拌した。暗色の溶液をたてみぞのある濾紙を通して
濾過し、少量の不溶性物質を除去した。P液をメタンス
レホン酸1.43mで処理し、とれによってセファロス
ポラン酸は沈殿しなかった。酢酸エチル中の2−エチル
カプロン酸ナトリウムの2 N溶液30mの添加後、ナ
トリウム塩としてセファロスポリンが沈殿したが、吸引
済遇することはできなかった。とれにメタノール6oo
st及びエタノ−76− ル600m1を加え、溶液を生じた。活性炭5gを加え
た後、との混合物を20℃で30分間攪拌した。たてみ
そのある濾紙で濾過した後、ろ液を真空下にて40℃で
十分に濃縮した。エタノールと共にくり返し蒸発させた
後、沈殿した物質を吸引炉別し、エタノール及び低沸点
石油エーテルで洗浄し、真空下にて一夜40℃で乾燥し
た。表題の物質に加えて、2−(2−アミノ−4−チア
ゾリール)−2−(Z)−メトギシイミノー酢酸ナトリ
ウムを含む粗製の生成物が11Lられた。精製するため
に、この粗製の生成物をメタノール200 wagに溶
解した。この溶液をエタノール800 mlで希釈l〜
、真空下にて40℃で十分に濃縮した。これによって沈
殿した物質を吸引戸別し、エタノール、エーテル及び低
沸点石油エーテルで洗浄17、高真空下にて一夜45℃
で乾燥した。〔α〕^=−31,9゜(c=1.0.水
中)をもつ表題の純粋刃物質が得77− られ、このものは微量分析及び核磁気共鳴吸収スペクト
ルによれば、メタンスルホン酸ナトリウム塩1モル及び
エタノール0,25モルを含有していた。
実施例4
メチレン(6R,7R)−7−((Z)−2−(2−ア
ミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセ
トアミド〕−3−((C5−メトキシカルボニル)−2
−ブチル−2H−1,2゜4−トリアゾール−3−イル
〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビ
シクロ[4,2゜0)オクト−2−エン−2−カルボキ
シレートピバレートの製造: (6R,7R)−7−[(Z)−2−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド
:]−3−([: (5−(メトキシカルボニル)−2
−ブチル−2H−1,2,4−トリアゾール−3−イル
〕チオ〕メチル〕−8−オキンー5−チア−1−アザビ
シクロ[4,2,0]オクト−2−エン−2−カルボン
酸のすトリウム塩6.329をジメチルホルムアミド]
OQmlに溶解し、この溶液な0〜5℃にてピパロイル
オキシメチルアイオダイド4.489で処理した。この
混合物を窒素通気しなから0〜5℃で1時間攪拌1〜、
水5001ntに注へ゛、酢酸エチル各300肩lで2
回抽出した。合液した酢酸エチル抽出液を順次水苔25
0 m/で2回、5係炭酸水素ナトリ^ム水溶液各2回
及び水250 ml!で洗浄し、硫酸→−トリウム上で
乾燥し、真空下にて40℃で十分に濃縮した。
ミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセ
トアミド〕−3−((C5−メトキシカルボニル)−2
−ブチル−2H−1,2゜4−トリアゾール−3−イル
〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビ
シクロ[4,2゜0)オクト−2−エン−2−カルボキ
シレートピバレートの製造: (6R,7R)−7−[(Z)−2−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド
:]−3−([: (5−(メトキシカルボニル)−2
−ブチル−2H−1,2,4−トリアゾール−3−イル
〕チオ〕メチル〕−8−オキンー5−チア−1−アザビ
シクロ[4,2,0]オクト−2−エン−2−カルボン
酸のすトリウム塩6.329をジメチルホルムアミド]
OQmlに溶解し、この溶液な0〜5℃にてピパロイル
オキシメチルアイオダイド4.489で処理した。この
混合物を窒素通気しなから0〜5℃で1時間攪拌1〜、
水5001ntに注へ゛、酢酸エチル各300肩lで2
回抽出した。合液した酢酸エチル抽出液を順次水苔25
0 m/で2回、5係炭酸水素ナトリ^ム水溶液各2回
及び水250 ml!で洗浄し、硫酸→−トリウム上で
乾燥し、真空下にて40℃で十分に濃縮した。
低沸点石油エーテルの添加後、沈殿しゾこ生成物を吸引
炉別し、低沸点石油ニーデルで洗浄し、真空下にて一夜
95℃で乾燥した。粗製の生成物が得られ、とのものを
溶離剤とL2て酢酸エチルを用いてシリカゲル上でフラ
ッシュカラムクロマトグラフィーによって精製した。酢
酸エチルと低沸点石油エーテルから沈殿させた後、〔α
〕” =−123,8゜(c=0.935アセトン中)
をもつ白色無定形の表題の純粋な物質が得られた。核磁
気共鳴吸収スペクトル及び微量分析は示した構造式と一
致した。
炉別し、低沸点石油ニーデルで洗浄し、真空下にて一夜
95℃で乾燥した。粗製の生成物が得られ、とのものを
溶離剤とL2て酢酸エチルを用いてシリカゲル上でフラ
ッシュカラムクロマトグラフィーによって精製した。酢
酸エチルと低沸点石油エーテルから沈殿させた後、〔α
〕” =−123,8゜(c=0.935アセトン中)
をもつ白色無定形の表題の純粋な物質が得られた。核磁
気共鳴吸収スペクトル及び微量分析は示した構造式と一
致した。
出発物質として用いた( 6R,7R)−7−[:(Z
)−2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メト
キシイミノ)アセトアミド〕−3−C([5−(メトキ
シカルボニル)−2−ブチル−2H−1、2、4−)リ
アゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オギソー5
−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−
エン−2−カルボン酸寧ナトリウム塩は次の如くして製
造することができたニ ブチルヒドラジンシュウ酸塩26.79を水500dに
溶解し、ロダン化カリウム14.55.9及び3N水酸
化ナトリウム50m1で処理し、混合物の80− pH値は約5に上昇した。約30fH&、との透明な溶
液を真空下にて45℃で蒸発させ、トルエン2501及
びエタノール250窮/の混合物と共に1回蒸発させた
。残渣をエタノール1001jに採り入れ、固体分を吸
引炉別し、エタノールで洗浄し、そしてすてた。ろ液及
びエタノール洗液を真空下にて50℃で蒸発乾固させた
。生じたシロップを還流条件及び水−分離下にてトルエ
ン100m1中で45分間加熱した。20℃に冷却後、
沈殿した物質を吸引炉別し、次に水150m1から再結
晶し、真空下にて50℃で乾燥した。融点90〜92℃
の白色結晶として2−ブチルチオセミカルバジドが得ら
れた。微量分析及び核磁気共鳴吸収スペクトルは示1〜
だ構造式と一倖した1、(6R,7R)−7−アミノ−
3−〔〔〔5−(メトキシカルボニル)−27’チル−
28−1゜2.4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メ
チル〕81− −8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ〔4゜2.
0〕オクト−2−エン−2−カルボン酸17.11をメ
タノール20 [1wrlに懸濁させ、この懸濁液をト
リエチルアミン5.57mで処理した。生じた溶液に2
−ペンズチアゾリルチオ2−(2−アミノ−チアゾール
−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノ−アセテー
ト15.36.!i’を加え、この混合物を20℃で2
時間攪拌した。30分後にすでに溶液と々っていた。こ
れに活性炭5g及び酢酸エチル中の2−エチルカプロン
酸ナトリウムの2N溶液5Qmlを加えた。次にとの混
合物を20℃で15分間攪拌し、たてみそのある濾紙を
通[7て濾過し′rr、。未だ着色しているP液をエタ
ノールで1500mlに希釈し、たてみそのある濾紙を
用いて少量の無定形沈殿物質を炉別)7た。P液を真空
下にてAO℃で容量約400Hに濃縮!、た。沈殿した
物質を吸引炉別し、エタノール及び低沸点石油エーテル
で洗浄し、高真空下にて一夜45℃で乾燥した。〔α)
”=−39,7°(c=1、水中)をもつ(6R,7R
)−7−C(Z)−2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド) −’(−
[CC5−(メトキシカルボニル)−2−ブチル−2H
−1,2,4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチル
〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[:4.
2.0]オクト−2−エン−2−カルボン酸のナトリウ
ム塩が得られ、とのものの核磁気共鳴吸収スペクトルは
示した構造式上一致した。
)−2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メト
キシイミノ)アセトアミド〕−3−C([5−(メトキ
シカルボニル)−2−ブチル−2H−1、2、4−)リ
アゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オギソー5
−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−
エン−2−カルボン酸寧ナトリウム塩は次の如くして製
造することができたニ ブチルヒドラジンシュウ酸塩26.79を水500dに
溶解し、ロダン化カリウム14.55.9及び3N水酸
化ナトリウム50m1で処理し、混合物の80− pH値は約5に上昇した。約30fH&、との透明な溶
液を真空下にて45℃で蒸発させ、トルエン2501及
びエタノール250窮/の混合物と共に1回蒸発させた
。残渣をエタノール1001jに採り入れ、固体分を吸
引炉別し、エタノールで洗浄し、そしてすてた。ろ液及
びエタノール洗液を真空下にて50℃で蒸発乾固させた
。生じたシロップを還流条件及び水−分離下にてトルエ
ン100m1中で45分間加熱した。20℃に冷却後、
沈殿した物質を吸引炉別し、次に水150m1から再結
晶し、真空下にて50℃で乾燥した。融点90〜92℃
の白色結晶として2−ブチルチオセミカルバジドが得ら
れた。微量分析及び核磁気共鳴吸収スペクトルは示1〜
だ構造式と一倖した1、(6R,7R)−7−アミノ−
3−〔〔〔5−(メトキシカルボニル)−27’チル−
28−1゜2.4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メ
チル〕81− −8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ〔4゜2.
0〕オクト−2−エン−2−カルボン酸17.11をメ
タノール20 [1wrlに懸濁させ、この懸濁液をト
リエチルアミン5.57mで処理した。生じた溶液に2
−ペンズチアゾリルチオ2−(2−アミノ−チアゾール
−4−イル)−2−(Z)−メトキシイミノ−アセテー
ト15.36.!i’を加え、この混合物を20℃で2
時間攪拌した。30分後にすでに溶液と々っていた。こ
れに活性炭5g及び酢酸エチル中の2−エチルカプロン
酸ナトリウムの2N溶液5Qmlを加えた。次にとの混
合物を20℃で15分間攪拌し、たてみそのある濾紙を
通[7て濾過し′rr、。未だ着色しているP液をエタ
ノールで1500mlに希釈し、たてみそのある濾紙を
用いて少量の無定形沈殿物質を炉別)7た。P液を真空
下にてAO℃で容量約400Hに濃縮!、た。沈殿した
物質を吸引炉別し、エタノール及び低沸点石油エーテル
で洗浄し、高真空下にて一夜45℃で乾燥した。〔α)
”=−39,7°(c=1、水中)をもつ(6R,7R
)−7−C(Z)−2−(2−アミノ−4−チアゾリル
)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド) −’(−
[CC5−(メトキシカルボニル)−2−ブチル−2H
−1,2,4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチル
〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[:4.
2.0]オクト−2−エン−2−カルボン酸のナトリウ
ム塩が得られ、とのものの核磁気共鳴吸収スペクトルは
示した構造式上一致した。
2−ブチルチオセミカルバジド37gをアセトニ) I
Jル5QOa/に溶解し、炭酸水紫す) IJウム42
.3.9で処理した。アセトニトリル501中のモノメ
チルオギザリルクロライド26.25m1の溶液を50
〜55℃で39分間にわたり滴下した。
Jル5QOa/に溶解し、炭酸水紫す) IJウム42
.3.9で処理した。アセトニトリル501中のモノメ
チルオギザリルクロライド26.25m1の溶液を50
〜55℃で39分間にわたり滴下した。
この混合物を51−55℃で更に30分間攪拌し、20
℃に冷却し、塩を炉別した。橙色のろ液を真空下にて4
0℃で蒸発させ、十分に排出させた。
℃に冷却し、塩を炉別した。橙色のろ液を真空下にて4
0℃で蒸発させ、十分に排出させた。
橙色の樹脂としてメチルN−(2−ブチル−3−チオセ
ミ力ルパジド)オキザメートが得られ、このものの核磁
気共鳴吸収スペクトル及び赤外線吸収スペクトルは示し
た構造式と一致した。濃式化するために、メタノール3
00−中の該化合物60gの溶液をメタノール300−
中のナトリウム5.78.9の溶液で処理した。次に混
合物を還流下で30分間沸騰させ、20℃に冷却し、真
空下にて40℃で約200 mtの容量に濃縮した。く
れによって晶出した物質を吸引濾過によって分離した。
ミ力ルパジド)オキザメートが得られ、このものの核磁
気共鳴吸収スペクトル及び赤外線吸収スペクトルは示し
た構造式と一致した。濃式化するために、メタノール3
00−中の該化合物60gの溶液をメタノール300−
中のナトリウム5.78.9の溶液で処理した。次に混
合物を還流下で30分間沸騰させ、20℃に冷却し、真
空下にて40℃で約200 mtの容量に濃縮した。く
れによって晶出した物質を吸引濾過によって分離した。
母液を真空下にて45℃で蒸発乾固させ“た。
残渣を水250111に溶解1〜、との溶液を25係塩
酸39m/で処理した。この混合物を20℃で10分間
攪拌した。とれによって分離した橙色の結晶を吸引炉別
し、少量の水で洗浄し、真空下にて84− 40℃で乾燥した。橙色の粗製の生成物が得られ、この
ものを精製するために、溶離剤としてジクロロメタンを
用いてシリカゲルカラム」二でクロマトグラフィーにか
けた。主生成物を含むフラクションを留め、真空下にて
40℃で約1001jK濃縮した。低沸点石油エーテル
の添加後、物質が晶出した。この物質を吸引炉別し、低
沸点石油で洗浄し、真空下にて一夜45℃で乾燥した。
酸39m/で処理した。この混合物を20℃で10分間
攪拌した。とれによって分離した橙色の結晶を吸引炉別
し、少量の水で洗浄し、真空下にて84− 40℃で乾燥した。橙色の粗製の生成物が得られ、この
ものを精製するために、溶離剤としてジクロロメタンを
用いてシリカゲルカラム」二でクロマトグラフィーにか
けた。主生成物を含むフラクションを留め、真空下にて
40℃で約1001jK濃縮した。低沸点石油エーテル
の添加後、物質が晶出した。この物質を吸引炉別し、低
沸点石油で洗浄し、真空下にて一夜45℃で乾燥した。
融点106〜b
ヒドロ−5−チオキソ−1,H−1、2、4−)リアゾ
ール−3−カルボキシレートが得られた。
ール−3−カルボキシレートが得られた。
7−アミン+7アロスボラン酸30&をメチル1−ブチ
ル−4,5−ジヒドロ−5−チオキン−IH−1、2、
4−トリアゾール−3−カルボキシレート2fi、9g
と共にアセトニトリル2001に懸濁させ、との懸濁液
を三フッ化ホウ素−アセトニトリル錯体(BFM約19
係)120.51 で処85− 理した。との混合物を窒素通気し且つ水分を排除し々か
ら、50〜55℃で1時間攪拌し、10℃に冷却し、水
1301で処理し、濃アンモニアでpH値1.7に調節
し、実質的に純粋な物質が沈殿した。これに水370m
を更に加え、混合物のpH値を濃アンモニアで3,5に
調節し、物質が沈殿した。10℃で15分間攪拌した後
、沈殿物を吸引炉別し、水5oomt、 メタノール5
oo*z。
ル−4,5−ジヒドロ−5−チオキン−IH−1、2、
4−トリアゾール−3−カルボキシレート2fi、9g
と共にアセトニトリル2001に懸濁させ、との懸濁液
を三フッ化ホウ素−アセトニトリル錯体(BFM約19
係)120.51 で処85− 理した。との混合物を窒素通気し且つ水分を排除し々か
ら、50〜55℃で1時間攪拌し、10℃に冷却し、水
1301で処理し、濃アンモニアでpH値1.7に調節
し、実質的に純粋な物質が沈殿した。これに水370m
を更に加え、混合物のpH値を濃アンモニアで3,5に
調節し、物質が沈殿した。10℃で15分間攪拌した後
、沈殿物を吸引炉別し、水5oomt、 メタノール5
oo*z。
アセトンF100 N/及び低沸点石油ニー子ル5[1
0m1で洗浄し、真空下にて一夜40℃で乾燥した。
0m1で洗浄し、真空下にて一夜40℃で乾燥した。
純粋々(6R,,7T?、)−7−アミノ−3−([:
[5−(メトキシカルボニル)−2−プ千ルー2H−
1,2,4−)リアゾル−3−イル〕チオ〕メチル〕−
8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[:4.2.
(1)オクト−2−エン−2−カルボン酸が得られ、と
のものの核磁気共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一
致した。
[5−(メトキシカルボニル)−2−プ千ルー2H−
1,2,4−)リアゾル−3−イル〕チオ〕メチル〕−
8−オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[:4.2.
(1)オクト−2−エン−2−カルボン酸が得られ、と
のものの核磁気共鳴吸収スペクトルは示した構造式と一
致した。
実施例5
実施例1と同様にして次のものが得られた:メチレン(
6R,7R) −7−C(Z)−2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド)−3
−4:(C5−(メトキシカルボニル)−2−[: [
: C(ヒバロイルオキシ)メトキシ〕カルボニル〕メ
チル)−2H−1,2゜4−トリアゾール−3−イル〕
チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビシ
クロ[4,2゜0〕オクト−2−エン−2−カルボキシ
レートビバレート、白色無定形粉末、〔α:) 2G
== (16,4゜(c=0.932、アセトン中)
。
6R,7R) −7−C(Z)−2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド)−3
−4:(C5−(メトキシカルボニル)−2−[: [
: C(ヒバロイルオキシ)メトキシ〕カルボニル〕メ
チル)−2H−1,2゜4−トリアゾール−3−イル〕
チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−アザビシ
クロ[4,2゜0〕オクト−2−エン−2−カルボキシ
レートビバレート、白色無定形粉末、〔α:) 2G
== (16,4゜(c=0.932、アセトン中)
。
メチレン(6R、7R)−7−[(Z )−2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミド)−3−((C5−(メトキシ9フルボニル
)−2−(n−プロピル)−2H−1、2、4−トリア
ゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ(4,2,0)オクト−2−エ
ン−2−カルボキシレートピバレート、白色無定形粉末
、〔α〕20=−120°(c==1.アセトン中)。
アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミド)−3−((C5−(メトキシ9フルボニル
)−2−(n−プロピル)−2H−1、2、4−トリア
ゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ(4,2,0)オクト−2−エ
ン−2−カルボキシレートピバレート、白色無定形粉末
、〔α〕20=−120°(c==1.アセトン中)。
メ−tv7(6R,7R)−7−C(Z)−2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミド)−3−CCC5−(メトキシカルボニル)
−2−フェニル−2H−1゜2.4−)リアゾール−3
−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−
アザビシクロ〔4゜2.0〕オクト−2−エン−2−カ
ルボキシレートビバレート、白色無定形粉末、〔α)
%O=−83゜(c=1.043、アセトン中)。
アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミド)−3−CCC5−(メトキシカルボニル)
−2−フェニル−2H−1゜2.4−)リアゾール−3
−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チア−1−
アザビシクロ〔4゜2.0〕オクト−2−エン−2−カ
ルボキシレートビバレート、白色無定形粉末、〔α)
%O=−83゜(c=1.043、アセトン中)。
上2化合物の核磁気共鳴吸収スペクトル及び微量分析は
示した構造式と一致した。
示した構造式と一致した。
実施例6
次の成分を含む抱合せゼラチンカプセル剤ヲ88−
普通の方法で製造した:
メチレン(6R,7R)−7−
((Z )−2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−(メト
キシイミノ)アセトアミド〕−
3−[((5−(メトキシカル
ボニル)−2−メチル−2H−
1,2,4−)リアゾール−3
一イル〕チオ〕メチル〕−8−
オキソ−5−チア−1−アザビ
シクロ〔4,2,0)オクト−2−
エン−2−カルホキシレートビ
バレート 5(10#ル
ビスコール(Luvisko+) (水溶性ポリビニルピロIJ)”ン’) 20
m1+マンニトール 20
11qタルク
15■ステアリン酸マグネシウム 2■
57Tng 89− 実施例7 次の組成の錠剤を普通の方法で製造しfC=メチレン(
6R,7R)−7− [(Z)−2−(2−アミノ− 4−チアゾリル)−2−(メト キシイミノ)アセトアミド〕− 3−[CC3−(メトキシカル ボニル)−2−メチル−2H− 1,2,4−トリアゾール−3 一イル〕チオ〕メチル〕−8− オキソ−5−チア−1−アザビ シクロ[4,2,0]オクト−2− エン−2−カルポギシレートビ バレート 2501n
gラクトース 701
Niトウモロコシ殿粉 65■
ポリビニルピロリドン 10■ステ
アリン酔マグネシウム 5mg400
■ 活性物質、ラクトース、ポリビニルピロリドン及びトウ
モロコシ殿粉40重量部によって普通の方法で顆粒を製
造した。との顆粒を残りのトウモロコシ殿粉25重量部
及びステアリン酸マグネシウム5重量部と混合し、この
混合物を圧縮17て錠剤にした。
ビスコール(Luvisko+) (水溶性ポリビニルピロIJ)”ン’) 20
m1+マンニトール 20
11qタルク
15■ステアリン酸マグネシウム 2■
57Tng 89− 実施例7 次の組成の錠剤を普通の方法で製造しfC=メチレン(
6R,7R)−7− [(Z)−2−(2−アミノ− 4−チアゾリル)−2−(メト キシイミノ)アセトアミド〕− 3−[CC3−(メトキシカル ボニル)−2−メチル−2H− 1,2,4−トリアゾール−3 一イル〕チオ〕メチル〕−8− オキソ−5−チア−1−アザビ シクロ[4,2,0]オクト−2− エン−2−カルポギシレートビ バレート 2501n
gラクトース 701
Niトウモロコシ殿粉 65■
ポリビニルピロリドン 10■ステ
アリン酔マグネシウム 5mg400
■ 活性物質、ラクトース、ポリビニルピロリドン及びトウ
モロコシ殿粉40重量部によって普通の方法で顆粒を製
造した。との顆粒を残りのトウモロコシ殿粉25重量部
及びステアリン酸マグネシウム5重量部と混合し、この
混合物を圧縮17て錠剤にした。
特許用M、K 人 エフゆホフマン・う・ロシュ・ラ
ント・コンパニー・アクチェ
ント・コンパニー・アクチェ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 式中、R1は水素、メチルまたはカルボキシ−(低級ア
ルキル)を表わし、Xは硫黄、酸素または基−8o−も
しくは一8O2−を表わり、 Yけ基−CH=または窒
素を表わ]−1Zけ硫黄またけセレンを表わし、R2け
随時カルボキシ、ヒドロキシ、容易に加水分解し得るア
シルオキシまたはジメチルアミノで置換されていてもよ
い低級アルキルを表わすか、或いはR2はフェニルを表
わし、そしてR3け低級アルキル、フェニル−(C,〜
4−アルキル)’!*は(R4−フェニル)−(低級ア
ルキル)を表わし、ここにR′はハロゲン、低級アルキ
ルまたは低級アルコキシを表わす、 のセファロスポリン誘導体の容易に加水分解し得るエス
テル並びに該エステルの酸付加塩及び該エステルまたは
酸付加塩の水和物。 2、R2が随時カルボキシ、ヒドロキシ、容易に加水分
解し得るアシルオキシまたはジノチルアミノで置換され
ていてもよいイ氏級アルキルを表わす特許請求の範囲第
1111記載のエステル。 載のエステル。 4、 R”がn−ブチル、ヒドロキシメチル、ジメチ
ルアミノメチルまたはピバロイルオキシメチルを表わす
特許請求の範囲第2または3項記載のエステル。 5、 Xが硫黄を表わす特許請求の範囲第2〜4項の
いずれかに記載のエステル。 6、 Xが基−8O−を表わす特許請求の範囲第2〜
4項のいずれかに記載のエステル。 7、 Yが基−CH−を表わす特許請求の範囲第2〜
6項のいずれかに記載のエステル。 8、 Yが9素を表わす特許請求の範囲第2〜6項の
いずれかに記載のエステル。 9、 Zが硫黄を表わす111′?許請求の範囲第2
〜8項のいずれかに記載のエステル。 10、R’ が水少を表わす特許請求の範囲第2〜9項
のいずれ≠)に記載のエステル。 T1.R’がメチルを表わす特F?’l−請求の範囲第
2〜9項のいずれかに記載のエステル。 1.2.R’がカルボキシメチルを表わす特許請求の範
囲第2〜9項のいずれかに記載のエステル。 13、R”が1−力ルポキシ−1−メチル−エチルを表
わす特許請求の範囲第2〜9項のいずれかに記載のエス
テル。 14、R3がメチルを表わす特許請求の範囲第2〜13
項のいずれかに記載のエステル。 15、R”がエチルを表わす特許請求の範囲第2〜13
項のいずれか1て記載のエステル。 16、R”がメチルを表わす特許請求の範囲第2〜15
項のいずれかに記載のエステル。 17、R1がエチルを表わす牡許請求の範囲第2〜15
項のいずれかに記載のエステル。 18、R”がn−プロピルを表わす特許請求の範囲第2
〜15項のいずれかに記載のエステル。 19、R2がカルボキシ−メチルを表わす特許請求の範
囲第2〜15項のいずれかに記載のエステル。 2、特許請求の範囲第2〜19項のいずれかに記載のピ
バロイルオキシメチルエステル。 21、 メチレン(6R、7R)−7−C(Z)−2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイ
ミノ)アセトアミド]−3−C[[5−(メトキシカル
ボニル)−2−メチル−2H−1,2,4−チアゾール
−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−チアー
I−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2−エン−2
−カルボキシレートピバレート並びに該化合物の酸付加
塩及び該化合物または酸付加塩の水和物である特許請求
の範囲第1項記載のエステル。 22、 メチ1/ン(6R、7Tt ”)−7−4(
’1)−2−(2−アミノ−4−千アゾリル)−2−(
メトキシイミノ)アセトアミド:]−3−Cr[5− 5−(エトキシカルボニル)−2−メチル−2H−1,
2,4−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチルー8−
オキソ−5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オ
クト−2−エン−2−カルボキシレートピバレート並び
に該化合物の酸付加塩及び該化合物または酸付加塩の水
和物である特許請求の範囲第1項記載のエステル。 23、 メチレン(6R,7R)−7−r(Z)−2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイ
ミノ)アセトアミド:]−3−r:[C2−エチル−5
−(メトキシカルボニル)−2H−1,2,4−トリア
ゾール−3−イル〕千オ〕メチル〕−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ[4,2,0)オクト−2−エ
ン−2−カルボキシレートピバレート並びに該化合物の
酸付加塩及び該化合物または酸付加塩の水和物である特
許請求の範囲第1項記載のエステル。 6− 24、 メチレン(6R,7R)−7−[(Z)−2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイ
ミノ)アセトアミド)−3−CCC5−(メトキシカル
ボニル)−2−[[(L”〕ぐロイルオキシ)メトキシ
〕カルボニル〕メチル〕−21(−1、2、4−) +
1アゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキンー
5−チア−1−アザビシクロ[4,2,0]オクト−2
−エン−2−カルボキシレートピバレート並びに該化合
物の酸付加塩及び該化合物機たけ酸付加塩の水和物であ
る特許請求の範囲第1:rlg;を已載のエステル。 25、 メチレン(6R,,7R)−7−r(Z)−
2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシ
イミノ)アセトアミドl−3−rrr5−(メトキシカ
ルボニル)−2−(n−プロピル)−2H−1、2、4
−トリアゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オギ
ソー5−チアー1−アザビシクロ[:4.2.f)]]
オクトー2−エンー2−カルボキシレートピバレートび
に該化合物の酸付加塩及び該化合物または酸付加塩の水
和物である特許請求の範囲第1項記載のエステル。 26、 メfし7(6R,7R)−7−[Z)−2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−(メトキシイミ
ノ)アセトアミド)−3−[CC3−(メトキシカルボ
ニル)−2−フェニル−21(−1,、2、4−)リア
ゾール−3−イル〕チオ〕メチル〕−8−オキソ−5−
チア−1−アザビシクロ[’:4.2.0]オクトー2
−エン−2−カルボキシレートビバレート並びに該化合
物の酸付加塩及び該化合物または酸付加塩の水和物であ
る特許請求の範囲第1項記載のエステル。 27、一般式 式中、R’ 、 R1、R” 、R’ 、XXY及びZ
は特許請求の範囲第1項記載の意味を有する、 のカルボン酸並びに該化合物の塩及び該化合物寸たは塩
の水和物。 28、一般式 式中、R,” 、R3及びXけ特許請求の範囲第1項記
載の意味を有し、RlIは水素棟たけメチルを表わし、
1(alは)10ゲ/原子を表わし、そしてカルボキシ
基は保護された状態で存在することができる、 の化合物並びに該化合物の塩。 29、一般式 式中、R’ 、 R” 、R’ 、XXY及びZけ特許
請求の範囲第1項記載の意味を有17、Rけ開裂し、得
る保護基を表わ11、そ1−てカルボキシ其は保護され
た状押で存在するととができる、 10− の化合物並びに該化合物の塩。 30. 互変異性体式 式中、R2及びR3は特許請求の範囲第1項記載の意味
を有する、 の化合物。 31、一般式 式中、X、R”及びR3は特許請求の範囲第1項記載の
意味を有17、そしてカルボキシ共及び7寸たけアミノ
基は保護された状態で存在するととができる、 の化合物。 32、一般式 式中、X1R2及びR3は特許請求の範囲第1項記載の
意味を有し、そしてHalけ・・ロゲン原子を表わす、 の化合物。 33、薬剤的に活性物質としての特許請求の範囲第1〜
27項のいずれかに記載の化合物。 34、感染性疾患の経腸(例えば経口)処理及び予防に
際して薬剤的に活性物質としての特許請求の範囲第1〜
26項のいずれかに記載の化合物。 35、!rf許請求の範囲第1〜27項のいずれかに記
載の化合物を含んでなる薬剤調製物。 36、特許請求の範囲第1〜26項のいずれかに記載の
化合物を含んでガる感染性疾患の経腸(例えば経口)処
置及び予防に対する薬剤調製物。 37、対応するジカルボン酸、即ち式■の化合物または
該化合物の塩を対応するエステル化に付し、必要に応じ
て、得られる生成物をS−酸化し、そして必要に応じて
、得られる生成物を酸付加塩捷たけ水和物に、或いは該
酸付加塩の水利物に転作することを特徴とする特許請求
の範囲第1〜26項のいずれかに記載の化合物のキリ造
方法。 38、エステル化剤としてピバロイルオキシメチル・・
ライドを用いる特許請求の範囲第37項記載の方法。 13− 39、該ハライドがアイオダイドである特許請求の範囲
第38項記載の方法。 40、病気の処置または予防において特許請求の範囲第
1〜27項のいずれかに記載の化合物の使用。 41、感染性疾患の処置または予防において特許請求の
範囲第1〜27項のいずれかに記載の化合物の使用。 42、感染性疾、轡の経腸(例えば経口)処置または予
防において特許請求の範囲第1〜26項のいずれかに記
載の化合物の使用。 43、@許請求の範囲第37〜39項のいずれかに記載
の方法または明らかにその化学的に同等の方法で製造し
た特許請求の範囲第1〜26項のいずれかに記載の化合
物。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH6138/815 | 1981-09-23 | ||
| CH613881 | 1981-09-23 | ||
| CH4598/823 | 1982-07-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5865283A true JPS5865283A (ja) | 1983-04-18 |
Family
ID=4304875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57164160A Pending JPS5865283A (ja) | 1981-09-23 | 1982-09-22 | セフアロスポリン誘導体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5865283A (ja) |
| ZA (1) | ZA826815B (ja) |
-
1982
- 1982-09-16 ZA ZA826815A patent/ZA826815B/xx unknown
- 1982-09-22 JP JP57164160A patent/JPS5865283A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ZA826815B (en) | 1983-07-27 |
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