JPS5866942A - ホトマスクの製造方法 - Google Patents
ホトマスクの製造方法Info
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- JPS5866942A JPS5866942A JP56165328A JP16532881A JPS5866942A JP S5866942 A JPS5866942 A JP S5866942A JP 56165328 A JP56165328 A JP 56165328A JP 16532881 A JP16532881 A JP 16532881A JP S5866942 A JPS5866942 A JP S5866942A
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- JP
- Japan
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- photomask
- photosensitive
- photosensitive agent
- processed
- agent
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- Pending
Links
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はホトマスクの製造方法に関する。
従来、ホトマスクの製造において、一枚の原版から複数
枚のワーΦ／グマスクを作る際に、転写方法として密着
露光方式が用いられているのは周知の通りである。原版
に形成されたパターンをよ）高精度に転写するには、原
版と被加工物を十分−に密着させる事が重要であり、そ
のため露光装置も年々改善されて来た。
枚のワーΦ／グマスクを作る際に、転写方法として密着
露光方式が用いられているのは周知の通りである。原版
に形成されたパターンをよ）高精度に転写するには、原
版と被加工物を十分−に密着させる事が重要であり、そ
のため露光装置も年々改善されて来た。
第１図は従来のホトマスクの製造万ｆｆｉ？説明する几
めの断面図である。
めの断面図である。
ホトマスク原版１はガラス基板３の表面にメタルパター
ン番が形成されたものから成る。被加工ホトマスク材２
はガラス基板３に金属層５が被覆されその上に感光剤６
が塗布されたものから成る。
ン番が形成されたものから成る。被加工ホトマスク材２
はガラス基板３に金属層５が被覆されその上に感光剤６
が塗布されたものから成る。
このように形成されたホトマスク原版ｌおよび被加工ホ
トマスクを図のように重ね合せて、上からｆｔ、７ｔ−
当てて露光さ騒、感光反応を起させた後、現像をする。
トマスクを図のように重ね合せて、上からｆｔ、７ｔ−
当てて露光さ騒、感光反応を起させた後、現像をする。
゛この露光工程において、ホトマスク原板１および被加
工ホトマスク材の表面は共に極めて平滑で６砂、密着時
の接触面積が大であるから、メタルマスクの製造の様に
ホトレジスト等の接層性を有する感光剤を使用する場合
、密着露光後にホトマスク原版１と被加工ホトマスク材
２とが接層し九ｉま離れなくなるという欠点が６つ九。
工ホトマスク材の表面は共に極めて平滑で６砂、密着時
の接触面積が大であるから、メタルマスクの製造の様に
ホトレジスト等の接層性を有する感光剤を使用する場合
、密着露光後にホトマスク原版１と被加工ホトマスク材
２とが接層し九ｉま離れなくなるという欠点が６つ九。
本発明は上記欠点を除き、密層露光後にホトマスク原版
゛と被加工ホトマスク材とを容易に離す事が出来るホト
マスクの製造方＠を提供するものである。
゛と被加工ホトマスク材とを容易に離す事が出来るホト
マスクの製造方＠を提供するものである。
本発明のホトマスクの製造方法は、透明板の上に直接に
または金属層を介して感覚剤が被覆されて成る被加工ホ
トマスク材の上に転写するパターンを有するホトマスク
原板を重ねて露光する工程を含むホトマスクの製造方法
において、感光反応によｐ窒素ガスを放出する特性を有
する第２の感光剤ｔ−＊記ホトマスク原版の被加工ホト
マスク材側老面あるいは前記被加工ホトマスク材の感光
剤の表面の少くとも一万に被覆することにより構成され
る。
または金属層を介して感覚剤が被覆されて成る被加工ホ
トマスク材の上に転写するパターンを有するホトマスク
原板を重ねて露光する工程を含むホトマスクの製造方法
において、感光反応によｐ窒素ガスを放出する特性を有
する第２の感光剤ｔ−＊記ホトマスク原版の被加工ホト
マスク材側老面あるいは前記被加工ホトマスク材の感光
剤の表面の少くとも一万に被覆することにより構成され
る。
本発明の実施例について図面を用いて説明する。
第２図は本発明の一実施ＩＰＩｌｔ−説明するための断
面図である。
面図である。
透明なガラス基板３の上に金属層５を設け、その上に感
覚剤６ｔ−被覆する。この感光剤６の上に更に感光反応
によ〉窒素ガスを放出する特性を有する第２の感光剤８
ｔ−塗布する、感光反応により窒素ガスを放出する特性
を有する感光剤として、例えば米国シブレイ社製のＡＺ
レジストがある。
覚剤６ｔ−被覆する。この感光剤６の上に更に感光反応
によ〉窒素ガスを放出する特性を有する第２の感光剤８
ｔ−塗布する、感光反応により窒素ガスを放出する特性
を有する感光剤として、例えば米国シブレイ社製のＡＺ
レジストがある。
この感光剤は、元を照射すると次の様な反応（０８に１
３Ｒ８０８反応）によシ、窒素ガスを放出する。
３Ｒ８０８反応）によシ、窒素ガスを放出する。
この夕放出される窒素ガスによりホトマスク原版と被加
ホトマスク材とが容易に分離される。
ホトマスク材とが容易に分離される。
露光中に窒素ガスが放出さ、れるが、ホトマスク原版と
被加工ホトマスク材を分離させるための窒素ガスは極め
て少量で良く、使用する第２の感光剤の塗布厚で容易に
調節出来るので、露光時の密層状態を損う事は無い。
被加工ホトマスク材を分離させるための窒素ガスは極め
て少量で良く、使用する第２の感光剤の塗布厚で容易に
調節出来るので、露光時の密層状態を損う事は無い。
上記実施ガでは、窒素ガスを発生させる友めの第２の感
光剤を被加工ホトマスク材の感光剤６の表面に被覆し九
がホトマスク原版の被加工ホトマスク材側の表面に被覆
しても、またホトマスク原版および被加工ホトマスク材
の両方の表面に被覆しても同様の効果が得られる事は明
らかである。
光剤を被加工ホトマスク材の感光剤６の表面に被覆し九
がホトマスク原版の被加工ホトマスク材側の表面に被覆
しても、またホトマスク原版および被加工ホトマスク材
の両方の表面に被覆しても同様の効果が得られる事は明
らかである。
以上詳細に説明した様に、本発明によれば、密層露光に
おけるホトマスク原版と被加工ホトマスク材との＠着に
よる分離困難という欠点を除去し、露光後に両者を容易
に分離できるホトマスクの製造方法が得られるのでその
効果は大きい。
おけるホトマスク原版と被加工ホトマスク材との＠着に
よる分離困難という欠点を除去し、露光後に両者を容易
に分離できるホトマスクの製造方法が得られるのでその
効果は大きい。
Ｊｉ！１図は従来のホトマスクの製造方法を説明する九
めの断面図、第２図は本発明の一実ｍ飼を説明する几め
の断面図である。 ｌ・・・・・・ホトマスク原版、２・・・・・・被加工
ホトマスク材、３・・・・・・ガラス基板、４・・・・
・・メタルパターン、５・・・・・・金属層、６・・・
・・・感覚剤、７・・・・・・元、８・・・・・・第２
の感覚剤。 ）］看・７１５イ］ ￥−２可
めの断面図、第２図は本発明の一実ｍ飼を説明する几め
の断面図である。 ｌ・・・・・・ホトマスク原版、２・・・・・・被加工
ホトマスク材、３・・・・・・ガラス基板、４・・・・
・・メタルパターン、５・・・・・・金属層、６・・・
・・・感覚剤、７・・・・・・元、８・・・・・・第２
の感覚剤。 ）］看・７１５イ］ ￥−２可
Claims (1)
- 透明板の上に直接にまたは金属層を介して感光剤が被覆
されて成る被加工ホトマスク材の上に転写するパターン
を有するホトマスク原板を重ねて露光する工程を含むホ
トマスクの製造方法において、感光反応によ勤窒素ガス
を放出する特性を有する第２の感光剤を前記ホトマスク
原版の被加工ホトマスク材側表面あるいは前記被加工ホ
トマスク材の感光剤の表面の少くとも一万に被覆し九こ
とｔ％微とするホトマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56165328A JPS5866942A (ja) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | ホトマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56165328A JPS5866942A (ja) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | ホトマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5866942A true JPS5866942A (ja) | 1983-04-21 |
Family
ID=15810240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56165328A Pending JPS5866942A (ja) | 1981-10-16 | 1981-10-16 | ホトマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5866942A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009039909A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Toyota Motor Corp | 多層型鋼板補強材 |
-
1981
- 1981-10-16 JP JP56165328A patent/JPS5866942A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009039909A (ja) * | 2007-08-07 | 2009-02-26 | Toyota Motor Corp | 多層型鋼板補強材 |
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