JPS5869736A - 光フアイバ母材の製造方法 - Google Patents
光フアイバ母材の製造方法Info
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- JPS5869736A JPS5869736A JP56168065A JP16806581A JPS5869736A JP S5869736 A JPS5869736 A JP S5869736A JP 56168065 A JP56168065 A JP 56168065A JP 16806581 A JP16806581 A JP 16806581A JP S5869736 A JPS5869736 A JP S5869736A
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- Japan
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- quartz tube
- glass
- refractive index
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma- or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma- or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、主として偏波面保存光ファイバ用母材の製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
発明の背景と目的
「第１図」と１−第２図」に偏波面保存光ファイバの断
面の例を示す。１０はコア、２０はクラッドである。コ
ア１０内には低屈折率部１２と高屈折率部１４とがある
。通常の光ファイバのようにＬＩｉＩ心ヒか同し性質に
なっていない。低屈折率部１２と高屈折率部１４を希望
する形に形成することは非常に解しい。
面の例を示す。１０はコア、２０はクラッドである。コ
ア１０内には低屈折率部１２と高屈折率部１４とがある
。通常の光ファイバのようにＬＩｉＩ心ヒか同し性質に
なっていない。低屈折率部１２と高屈折率部１４を希望
する形に形成することは非常に解しい。
本発明は、上記の低屈折率部１２や高屈折率部１４の素
になる、母材中の低屈折率部用ガラスや高屈折率部用ガ
ラスを、任意の形に形成することのできる方法の提供を
目的とする。
になる、母材中の低屈折率部用ガラスや高屈折率部用ガ
ラスを、任意の形に形成することのできる方法の提供を
目的とする。
発明の構成（第３、第を図）
１）内付けＯＶＤ法を部用し、
２）出発石英管６０の内部の微小面積部分３２だけ加熱
して、その部分に点状ガラス層４０を生成し、 ３）その点状ガラス層４０を集積して希望する所定形定
のガラス層を形成すること、 を特徴とする。
して、その部分に点状ガラス層４０を生成し、 ３）その点状ガラス層４０を集積して希望する所定形定
のガラス層を形成すること、 を特徴とする。
そのより詳しい説明
（１）微小面積部分３２だけ加熱するには、熱源５０と
して、公知のレーザー、光学系を用いた熱線の集束装置
、マイクロバーナーなどを使用する出発石英管６０内に
ガラス原料用のガスを流しておいて、その内面の微小面
積部分６２を加熱すると、その部分にだけ点状ガラス層
４０が生成される。
して、公知のレーザー、光学系を用いた熱線の集束装置
、マイクロバーナーなどを使用する出発石英管６０内に
ガラス原料用のガスを流しておいて、その内面の微小面
積部分６２を加熱すると、その部分にだけ点状ガラス層
４０が生成される。
（２）点状ガラス層４０を集積するには次のようにする
。
。
すなわち、ｆ−ａｌｌＭＪのように、たとえば出発石英
管３Ｇを固定し、かつ内部に原料ガスを流し、ておいて
、′熱源５０を出発石英管６０と平行に移動させる。す
ると筋状ガラス層４２ができる。
管３Ｇを固定し、かつ内部に原料ガスを流し、ておいて
、′熱源５０を出発石英管６０と平行に移動させる。す
ると筋状ガラス層４２ができる。
次に、たとえば出発石英Ｗ３０をごくわずか（筋状ガラ
ス層４２の幅に相当する分だけ）回転させ、先に調成し
た筋状ガラス層４２の隣に接してもう７本の筋状ガラス
層４２を生成させる。これを繰り返すとガラス層は面状
に広がる。
ス層４２の幅に相当する分だけ）回転させ、先に調成し
た筋状ガラス層４２の隣に接してもう７本の筋状ガラス
層４２を生成させる。これを繰り返すとガラス層は面状
に広がる。
このようにして作った面状のガラス層の上（内面）に、
同様にしてガラス層を生成させる。するとガラス層は立
体的になる。
同様にしてガラス層を生成させる。するとガラス層は立
体的になる。
したがって任意の形状のガラス層の形成ができる。
（３）上記の、出発石英管３０の内部に筋状ガラス層４
０を形成する、という中の「内部に形成する」は、次の
場合を含んでいる。
０を形成する、という中の「内部に形成する」は、次の
場合を含んでいる。
ｌ）出発石英管３０の内面に直接形成する、２）出発石
英管３０の内面にクラッド用ガラス２００を形成し、そ
の内面に形成する、３）上記のように点状ガラス層４０
を集積してガラス層を形成し、その内面に形成する。
英管３０の内面にクラッド用ガラス２００を形成し、そ
の内面に形成する、３）上記のように点状ガラス層４０
を集積してガラス層を形成し、その内面に形成する。
（ｌ出発石英管６０の内部に点状ガラス層４０、コラッ
プスしてつぶす。
プスしてつぶす。
実施例
「第１図」のようなコアを持つ偏波面保存光ファイバの
母材を作る場合である。出発石英管６０は（第３図）、
外径２６酩、内径１５闘、長さ５００闘。その中に５ｉ
Ｏ１４’３０ｃｃ （毎分値１以下同様）１０２６００
ｃｃを流し、通常の内付けＯｖＤ法により、５ｉ０２ガ
ラスからなるクラッド用ガラス２００を、厚さ５継に形
成。
母材を作る場合である。出発石英管６０は（第３図）、
外径２６酩、内径１５闘、長さ５００闘。その中に５ｉ
Ｏ１４’３０ｃｃ （毎分値１以下同様）１０２６００
ｃｃを流し、通常の内付けＯｖＤ法により、５ｉ０２ガ
ラスからなるクラッド用ガラス２００を、厚さ５継に形
成。
次に５１Ｃ１４１ｃｃＸＧｅｍ！１４０．２ＣＣＸ０２
３００ＣＣを流しておき、キセノンランプを用いたアー
クイメージにより、直径約１順の点状ガラス層４０を生
成し、それを集積してコア用ガラス中の低屈折率部用ガ
ラス１２０を形成。その形状は牛月形で、矢りの長さは
１．５鰭。５ｉ０２ ＧｅＯ２ガラスからなり、比屈
折率差は１％。
３００ＣＣを流しておき、キセノンランプを用いたアー
クイメージにより、直径約１順の点状ガラス層４０を生
成し、それを集積してコア用ガラス中の低屈折率部用ガ
ラス１２０を形成。その形状は牛月形で、矢りの長さは
１．５鰭。５ｉ０２ ＧｅＯ２ガラスからなり、比屈
折率差は１％。
更に、内部に５ｉＯ１４１ｃｃＳＧｅＣ１４０＋４ｃｃ
、 ０２３００ｃｃを流しておき、上記同様に本発明の
方法により、高屈折率部用ガラス１４０を生成し、中心
の中空部１６が０．３ｍｍ Ｘ ０．１ｍｍになるまで
続けた。その組成は低屈折率部用ガラス１２０と同じ（
５ｉ０２−Ｇｅ０２であるが、比屈折率差は２％。
、 ０２３００ｃｃを流しておき、上記同様に本発明の
方法により、高屈折率部用ガラス１４０を生成し、中心
の中空部１６が０．３ｍｍ Ｘ ０．１ｍｍになるまで
続けた。その組成は低屈折率部用ガラス１２０と同じ（
５ｉ０２−Ｇｅ０２であるが、比屈折率差は２％。
それからコラップスした。中空部１６が非常に小さいの
で、外径はほとんど変わらない。
で、外径はほとんど変わらない。
その上に石英管をジャケットしてファイバ化した。コア
１０の径は１．５μｍ１ 低屈接率部１２の幅は０．６
μｍ１ クラッド２０の径は４．５μｍ１ 外径は１
２５μｍＯカットオフ波長は０．５５μｍであった。
１０の径は１．５μｍ１ 低屈接率部１２の幅は０．６
μｍ１ クラッド２０の径は４．５μｍ１ 外径は１
２５μｍＯカットオフ波長は０．５５μｍであった。
発明の効果
点状ガラス層４０を集積してガラス層を形成するので、
任意の形状のコア用ガラスおよびクラッド用ガラスの作
製が可能になる。
任意の形状のコア用ガラスおよびクラッド用ガラスの作
製が可能になる。
第１図と第、２図は偏波面保存光ファイバの断面を例示
した説明図、 第３図は本発明の方法により点状ガラス層４０を生成す
る状態の説明図、 第４図は同じく点状ガラス層４Ｄと筋状ガラス層４２と
を生成する状態の説明図、 第Ｓ図は実施例の説明図。 １０：コア １２：低屈折率部 １４：高屈折率部 ２０：クラッド ６０：出発石英管 ５２＝微小面積部分 ４０：点状ガラス層 特許出願人 藤倉電線株式会社 代理人 国手 啓次 第３図 第５図
した説明図、 第３図は本発明の方法により点状ガラス層４０を生成す
る状態の説明図、 第４図は同じく点状ガラス層４Ｄと筋状ガラス層４２と
を生成する状態の説明図、 第Ｓ図は実施例の説明図。 １０：コア １２：低屈折率部 １４：高屈折率部 ２０：クラッド ６０：出発石英管 ５２＝微小面積部分 ４０：点状ガラス層 特許出願人 藤倉電線株式会社 代理人 国手 啓次 第３図 第５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 内付けＯＶＤ法によって、出発石英管の内部に所定のガ
ラス層を形成して光フアイバ母材を製造するに際して、 前記出発石英管内部の微小面積部分だけを加熱して、点
状ガラス層を生成し、 その点状ガラス層を集積して、前記の所定のガラス層を
形成すること、 を特徴とする光フアイバ母材の製造方法０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56168065A JPS5869736A (ja) | 1981-10-21 | 1981-10-21 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56168065A JPS5869736A (ja) | 1981-10-21 | 1981-10-21 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5869736A true JPS5869736A (ja) | 1983-04-26 |
| JPS6350292B2 JPS6350292B2 (ja) | 1988-10-07 |
Family
ID=15861174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56168065A Granted JPS5869736A (ja) | 1981-10-21 | 1981-10-21 | 光フアイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5869736A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0565297U (ja) * | 1992-02-17 | 1993-08-31 | 勝 藤原 | 携帯施尿器 |
-
1981
- 1981-10-21 JP JP56168065A patent/JPS5869736A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6350292B2 (ja) | 1988-10-07 |
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