JPS5870546A - 物品移換装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体ウニへの頭重物品を１つの治具から他の
治具に移し換えるために用いる物品移換装置に関する。

一般に、たとえば半導体ウニへの如く形状およ大きさの
同様な複数の物品を１つの治具から他の治具に移し換え
て整列させなければならない場合がある。

例えば半導体装置の製造時、ベース拡散逃場等を終えた
り２ハにエミッタ拡散処理な行なおうとする場合、上記
ウェハのエイツタ電極穴あけのエツチング処理、ついで
ウェハの洗浄処理をした後該ウェハを洗浄用油ＡＣ！Ｉ
’）からエイツタ拡散用の石英治具（Ｑ）に移す必要が
ある。

従来、上記洗浄用治具として種々のものが使用されてい
るが、骸洗浄用治具を使用して上記洗浄を終えた後各り
エへを上記石英治具に移す方法としては、これらのクエ
へをピンセット等によす個々に接す方法がとられていた
。

しかしながら、このピンセットを用いる方法においては
、多数のり２ハを個々に移しているためその作業が面倒
であり、又作業時にピンセットによりつエバをいためる
こともあり、更に上紀石英治具上各ウェハを均等に配列
させることが困−である等の欠点を有していた。

又別の・方法としては、上記洗浄用ｆ＆具として、第１
図に示す如く、−治具上２０〜３０秋程度な互いに並列
状に＠置する治具を用いて、この洗浄用治具を上記石英
治具上に位置させそのまま反転させ″Ｃタエハを該石英
治具に移す方法も知られている。

しかし、この方法においても、各ウェハを上記石英治具
上に整列させることは困難であり、これＫより工ｔツタ
拡散処理の条件がウェハ毎に異なってしまう。また、一
方向への移換えしかできないという欠点もあった。また
、治具のウェハ収容溝とつ２ハとの接触によりウェハに
異物が付着したり、割れや欠けが生じるおそれがあった
。さらに、従来は一回の作業で一対の治具間でのみ移換
えを行うに過ぎなかったので、作業能率的にも問題があ
った。

本発明の目的は、前記従来技術の欠点を解消し、物品の
移換えを自動的かつ能率的に行うことがてき、しかも物
品の破損や汚染も低減できる物品移換装置を提供するこ
とにある。

この目的を達成するため、本ｖｈ明による物品移換装置
は、複数対の収容治具間での物品の移換えを自動的に連
続して行うことのできるものである。

以下、本発明を図Ｗｉに示す実施例にしたがって詳細に
説明する。

の正面図、＃！３図はその側面図、第４図はその平面図
である。

本実施例の物品移換装置は、半導体ウェハを収容するカ
ートリッジ式の収容治具を複数対設けて、それらの治具
間でウェハの移換えを行うものである。

すなわち、本実施例では、テフロン（商品名）よりなる
洗浄用治具（Ｔ）１０と石英よりなる熱処理用油Ａ（Ｑ
）１１は４対分、Ｙテーブルすなわち載置テーブル１２
上に載置されている。

また、装置の中央内Ｓ−には、ウェハのオリエンテ　Ｖ
ｍンフラット（０，Ｐ）を合せるためのＱＦ合せＩｉ９
が設けられその後側には受嫂ＩＩ８およびｌ治具分のウ
ェハを一時保管して移換えを行うバッファ部７、ｌ対の
治具から次の１対の治具への切換えを行うためのＸテー
ブル６が設けられている。

したがって、本実施例では、まず第１番目の対の治具１
０．１１（第２図と１ｓ４図の右側）関でウェハの移換
えを行った後、バッファ部７はＸテーブル６の移動によ
り、第２番目の対の治具の位置に移動し、最ｔｉｋＫは
第２図に二点鎖線で示すように［１４番目の対の治具ｔ
ｏ、１１のつエバ移換えを行う位置まで移動できる。

このように、本実施例では、４対の治具１０゜１１間で
ウェハの移換えが自動的に連続し【行われ、移換え終了
後のバッファＷＢ７は自動的に最初の位置（第２５０の
実線位置）Ｋ戻り、次の一連のウェハ移換えの準備が整
えられる。

その結果、本実施例においては、ウェハの移換えをロッ
ト単位で能率良く実行でき、またウニへの割れや欠けお
よびウェハへの異物の付着も低減される。

次に、本実施例の物品移換装置の各部分の構造および作
用の詳細について第５＃Ａ−第１３図を参照しながら説
明する。

この物品移換装置は外観的には嬉５１ｇ１Ｋ示すように
、テフロン（商品名）からなる洗浄用治具（Ｔ）１０お
よび洗浄用治具よりもａだけ背の低い石英からなる熱処
理（拡散）川沿＾（Ｑ）１１を載置する板状の載置テー
ブル（Ｙテーブル）１２を中央上部に有する機台１３と
、この機台１３の一部上面から突出し前記テーブル１２
上にウェハを一時的に挾持するバッファ受け１４を支持
するコラム１５とからなっている。また、前記テーブル
１２は第８図に示すように、１対のガイドレール１６に
単輪１７を介して滑動自在に取り付けられ、モーｊｌｌ
Ｈの正逆転によってグーリ１９，２０およびベル）２１
を介して第１２図に示すように、ステージ１ンＡ、Ｂ、
ｅの３箇所を往復動するようになっている。また、ステ
ージ１ンＡ、Ｂ、（、’におけるテーブル１２の停止動
作音ｌｆ−プルの一端に配置しである光電子スイッチ２
２．２３．２４が光源２５からの光をイラー２６を介し
て受光した場合、モータ１８を停止するようになってい
る。

また、前記テーブル１２には、謳７図で示すように、−
長の２つの貫通孔２７．２８が設けられている。一方の
貫通孔２７は洗浄治具用に設けられるとともに、他方の
貫通孔２８は熱処理治具を載置する矩形の補助板２９を
嵌合するよう罠なっている。また、機台１３上にはテー
ブル１２を挾んで１対の発光器３０と受光器３１とが設
けられ、テーブル１２上に載置される治具内にウェハ３
２が存在するか否かを検出するようＫなっている。

つぎに、移換機構部すなわちバッファ機構１１について
第６図を参照しながら説明する。第６７ｇＫ示すように
、板状のペース３３上にはウェハ３２を林立状態で収容
するウェハ受け３４が配設されている。このウェハ受け
３４の上面は円弧状となるとともに、平行に多数の収容
溝が設けられている。たとえば、洗浄用治具および熱処
理用治具にそれぞれ２５枚のウェハが収容される場合に
は、前記収容溝は２５本設けられ、かつそのピッチ間隔
はそれぞれ洗浄用治具および熱処理用治具と同一である
。このウェハ受け３４はベース３３を貫通し上下動自在
の１対の支軸３５によって支えられている。また、この
支軸３５の上下動は支軸間を連結している連結棒３６に
ビン３７を介して揺動自在に上下動するレバー３８＆Ｃ
よって行なわれる。このレバー３８はカム機構等圧よっ
て制御される。

また、前記ウェハ受け３４を取り囲むように枠状の治具
受け３９が配設されている。この治具受け３９もペース
３３を貫通し上下動自在のｌ対の支軸４０によって支え
うれている。また、この支軸下端を連結する連結片４１
は前記連結棒３６よりも外れて゛いる。そして、この連
結片４１は前記連結棒３６の−＠に設けられた突子４ｇ
Ｋその上面が引っ掛けるようになるとともに、この連結
片４１とペース３３との関には引張コイルばね４３が設
けられ、常に治具受け３９を上昇させるよう罠なってい
る。また、治具受け３９の支軸４０の瘉中にはストッパ
４４が固定され、クエ／Ｓ受け３４の上昇に伴なって引
張コイルばね４３の復元力によって上昇するが、一定の
高さ、すなわち、洗浄用治具よりも背の低い熱処理用治
具１１の上面が洗浄用治”具ｌＯの上面とほぼ一散する
高さに違すると、ストッパ４４がベース３３の下＃ｉＫ
当接して治具受け３９の上昇は停止するようになってい
る。また、治具受け３９の上面には位置決め用突子４５
が設けられている。

一方、ウニ／１受け３４の真上にはノ（ツ７ア受け１４
が配設されている。このバッファ受け１４は第６図およ
び縞９図に示すように、鉛直面に沿う平行な２枚の板４
６と４７、各リンクアーム４８゜４９で開閉可能に組み
合わされたフェノ・支持用の２対の受は棒５０，５１．
お、よび各りンクアーム４８．４９の可動連結部と接触
してカム作用により受は棒５０．５１を開閉する回転可
能なカム５２からなる。

また、図示しないが、バッファ受け１４はウェハを支持
した状態でモータの回転により全体的に反転できるよう
構成されている。

前ｉｉ［４６，４７は単にクエ／喝落下防止用のガイド
の役目を果たすに過ぎな−）ので、画板４６゜４７の内
側面には単にウニＩ・の倒れを防止するためのり状の収
容溝（図示せず）が設けられるだけであり、つｚ”との
接触によるウニＩ・への異物付着のおそれを低減できる
。

また、前記テーブル１２とウェハ受け３４との関係を１
次のようになっている。すなわち、洗浄用治Ａ１０を載
置する位置に設けた貫通孔２７（洗浄用＆具責通孔）を
寡つェハ受け３４だけが通過することができ、治具受け
３９はテーブル１２の下面に轟接して通過できないよう
和なっている。また、熱処理用治具１１を載置する矩形
の補助板２９を上方に着脱自在に嵌合する他方の貫通孔
２８（熱処坤治具用貫通孔）にめっては、治具受け３９
は補助板２９を支えて上昇するよう罠なっている。

また、この際、ウェハ受け３４は補助板２９の枠内の孔
を通過するようになっている。また、治具受け３９の上
面の位置決め用突子４４５が補助板２９の下面の図示し
ない窪みに嵌合し、位置決めを行なうとともに、補助板
２９を持ち上げるようになっている。

また、この装置には、洗浄用治具あるいは熱処理用治具
に収容されるフェノ・の方向性を一定に揃える第１整ダ
１１４１構と第２整列機構とが揃えられている。第１１
１夕４１機構は第１Ｏ図に示すような構造となっている
。丁なわち、この機構はウヱハ受け３４の設けられる隣
りのテーブル１２の下方Ｑこ配設されるものでおる。同
図には六角柱体からなる垂直動伝達ブロック６２が示さ
れている。この垂直動伝達ブロック６２の中央には上下
方向に支軸６３が揺動自在に嵌合している。この支軸６
３の上端は逆り字状のＩＪ　７　）　６４の水平突片部
６５に固定され′〔いる。また、リフト６４の垂直板部
６６には上下方向に＄６７が設けられている。そして、
この＃６７疋は前記垂直動伝達ブーツクロ２の一９４Ｔ
Ｋ植設されたビン６８１Ｃ＊り付けられたロー２６９が
その周面を介して嵌合している。また、このロー２６９
の局面上部にはビン７０を中心に揺動するし／（７１の
先端が接触している。また、このレバー７１の途中には
図示しないカムフォロアが設けられ、このカム７オロア
を介して回転軸７２に固定された第１上下動カム７３に
接触している。また、前記レバー７１とローラ６９とを
常に［触すせるように、ビン７０とリフト６４の上部に
突設さｎた支棒７４との関には引張コイルばね７５が取
り付けられている。

一方、前記垂直動伝達ブロック６２の上端には、水平方
行にはぼコの字形に延びる基４！７６が固定されている
。そして、この基板７６０両端から側板７’ｌ、７Ｂを
立設し、これらの側板７７．７８関にウェハ３２に回転
力を伝えるための１本の修正用回転軸７９を回転自在に
掛は渡している。この修正用回転軸７９は一方の側板７
１１に取り付けたモータ８０と直結されるプーリ８１か
ら回転力を受けることができるようにベルト８２で繋が
れている。また、前記基板７６の真実出端の対面する内
側にはそれぞれ上方に向かって先鋭Ｋ１ｇびるｌ対の横
板８３．８４が設けられている。

このような構造にあって、回転軸７２の回転に伴なって
、＠１上下動力五７３０カムの動きがレバー７１．ロー
ラ６９．ビン６８を介し″ｃｆｌ直動伝達ブロック６２
に伝わる。この結果、垂直動伝達ブロック６２の上昇に
よって、修正用回転輪７９は治具の下方に入り込み停止
する。そこで、モータ８０が一定時間回転するため、修
正用回転軸７９は一方向に回転する。この修正用回転輪
７９の高さは、治具内のウェハ３２の平坦なオリエンテ
ーシ曹ン７ラット（０，Ｆ、面）が下方に位置しだいる
場合は接触せず、下方が円周部であると円周部をわずか
に持ち上げる状態で接触するよう罠なっている。したが
って、修正用回転軸７９の回転によって０．１０面が下
方に位置していないウニノ・は摩擦によって回転を始め
、Ｑ、　Ｆ、面が下方に達すると回転を停止する。この
ため、一定時間修正用回転輪７９を回転させると、すべ
てのウニノ１の０゜２８面は下方に揃うことになる。

しかし、この場合、０．Ｆ。面はすべて水平にはならず
、それぞれわずかに傾斜した状態となって、ウニへの整
列は完全には成されない。そこで、と００．１０面をす
べて水平にするのが、つぎ１！明する第２整列機構であ
る。

第２ＩＩ列機構は第１１図に示すような構造となりてい
る。同図には六角柱体からなる上下動伝達ブロック８５
が示されている。この上下動伝達ブロック８５は中央を
貫く支軸８６に沿って上下動する。また、この上下動は
前記第１整列機構とはぼ同様な４＃１造となり、前記回
転軸７・２に固定された第２上下動カム８７の動きを、
ビン７０＆Ｃ一端を回動自在に支持されたレバー８８の
カムフォロア８９等を介して上下動伝達ブロック８５に
伝達するようになっている。また、上下動伝達ブロック
８５の下部の両端には同一線上に延びるようＫそれぞれ
人軸９０が固定されている。そして、これらの支軸９０
にはそれぞれ２本のレバー９１゜９２が回動自在に取り
付けられている。そして、これらの４本のレバー９１．
９２は上方に延びるとともに、それぞれ平行に延びる２
本の修正板９３．９４の両端部に固定される。また、前
記修正板９３．９４は上面が平坦に形成されている。

また、隣り合うレバー９１．９２関には１対の修正板９
３．９４を互い＆Ｃ［着させるように図示しない引張コ
イルばねが取り付けられている。さらに、隣り合う１対
のレバー９１．９２の側面にはそれぞれローラ９５，９
６が取り付けられている。

そして、このローラ９５，９６間に前記第１整列機構の
横板８３．８４がＩＩｌ整列機構の上昇時に入り込み、
１対の修正板９３．９４を拡開させ、この拡開した間を
＠１１＾機構の修正用回転軸７９が通過するようになっ
ている。また、前記園転軸７２には１ＦｊＡ転停止カム
９７が固定されている。

このような機構にあって、第２上下動カム８７ノ回転に
よっ？Ｌ’バー８８％を介して上下動伝遍ブロック８５
は上昇し、治具の下部Ｋｆｇみ、第１整列機構により？
Ｏ，Ｆ、ＷＪが下方に位置するウェハ３２を２度に亘っ
て突き上げる。この結果、ウェハ３２は０．　Ｆ、面を
平坦な修正板９３．９４で上方に治具が浮かされること
から、その自重によ一クチ、ｏ、　ｌ’、ｒｕ’ｚ修正
板９８　、９４に＠着し、修正板９３１．９４が下方に
降下したＩＩＫは全てのウェハの０．１１面は水平方向
に蔦び、ウニへの整列は完全となる。

つぎに、ｊｌｉ１３図および第７図１！１〜ｔｊ＋に基
づいて、クエへの移換動作について説＠する。まず、＠
７図（ａ）および第５図に示すように、デープル１２上
にウェハ３２を収容した洗浄用治具（Ｔ）ｔ。

ハを収容しない空の熱処理用油Ａ（Ｑ）１１を載置した
後、スタート釦を押す。すると、発光器３゜と受光器３
１とからなる光学式検出機構が作動して、洗浄用治具１
０内にウェハ３２が収容されているか否かを検出し、ウ
ェハ３２が収容されていれば、縞１３図のフローチャー
トで示すように、左側のＴ、Ｑなる作業系な選択し、以
下この作業系Ｋｍって各機構を順次動作させる。なお、
第５図および第７図（ａ）で示すテーブル１２の停止位
置はスｆ　−シ■：／　Ａ　トナっている。

つぎに′、第７図（−１）Ｋ示すように、第１１１＾機
構が動作して、修正用回転軸７９がテーブル１２の洗浄
治具用貫通孔２７を上昇通過して洗浄用油臭ｌＯ内に入
って停止するとともに、一定時間回転シテ、ウェハ３２
を回転させてオリエンテーシ謬ン７ラッ）　（０，Ｆ、
面）９８を下方にさせる。その後、同図（ｂ）で示すよ
うに、修正用回転軸７９はテーブル１２０下方に下降す
るが、今度は第２整列機構が動作して、洗浄用治具１０
内に上面が平坦な修正１ｉｆ９３，９４を下方から突出
させる。そして、洗浄用治具ｌＯ内のウェハ３２を２度
はど持ち上げた後、同図（Ｃ）で示すように、テーブル
１２の下方に下降す“る。この結果、ｏ、１６面９８は
全て平坦な修正板９３．９４に密着するようになること
から、水平となり、洗浄用治具ｌＯ内のウェハ３２は０
．１０面９８を下方にして整列される。

ツキに、同図（ｄ）て示すように、テーブル１２はステ
ージ冒ンＢの位置に前進し、ウェハ受け３４の真上に洗
浄用治具ｌＯを位置させる。また、この状態ではバッフ
ァ受け１４の両受は棒５０，５０およ（Ｆ５１，５１は
互いに離反している。そこで、レノ（−３８が上昇する
ことによってウェハ受け３４は洗浄治具用貫通孔２７内
を上昇し、バッファ受け１４Ｋまで遍する。この際、ウ
ェハ受け３４の各円弧溝内には洗浄用治具ｌＯに収容さ
れ【いるつ１ハ３２の下縁が嵌合して、ウェハ３２は洗
浄用治具ｌＯから上方に抜ける。また、洗浄用油Ｊｌｌ
、１０の収容溝からウェハ３２が完全に抜けないうちに
、ウェハ３２の両　縁は受は捧５０，５Ｇおよび５１．
５１で支持されるようになり、さらにウェハ３２は板４
６．４７収容溝にガイドされて上昇し、板４６゜４７の
中心高さにウェハ３２の中心がはぼ一致スるところで停
止する。そして、この状態で、受は捧５０．５０および
５１．５１はカム５２の回転およびリンクアーム４８，
４９の動作により互いに接近し、ウェハ３２を安定して
支持する。

したがって、この閉動作によりてつ凰ハ３２は受は棒５
０，５１に保持され、脱落しないようになる。また、ウ
ェハ受け３４の上昇に伴ない、突子４２に阻止されてい
た治具受け３９も引張コイルばね４３の復元力によって
上昇する。しかし、この治Ｘ受け３９はテーブル１２の
洗浄治具用貫通孔２７よりも大きいため、この貫通孔な
通過てきすに、テーブル１２の下面で阻止され停止する
。

つぎに、同図（ｅ）で示すように、レバー１８の下降に
よって、ウェハ受け３４および治具受け３９はテーブル
１２の下方に下降する。

つぎに、同図（ｆ）で示すように、テーブル１２はなお
も前進してステーシーンＣの位置に進み、つエバ受け３
４とバッファ受け１４との間に熱処理用治具１１を位置
させて停止する。

つぎに１バッフ丁受け１４はモータ（Ｉ１ｍ示せず）の
回転によって１８０度回転し、ウェハ３２の０゜１０面
９８が上方で水平となるようにする。なお、このウニへ
の１８０度反転は必ずしも必要でなく、必ｌ！に応じて
行なう。その後、同図（ｇ）で示すように、再びウェハ
受け３４は上外し、パ１ファ受け１４に保持されている
複数のウニ・・３２下縁なつエバ受け３４上面の収容溝
内で受けて支える。また、ウェハ受け３４の上昇に伴な
い、治具受け３９も上昇する。そして、今度は、治具受
け３９はテーブル１２の熱処理治具用貫通孔２８内を遍
過可能であることから、熱処理治具用頁通孔２８に載置
状態で＄９付けられている補助板２９を持ち上げて上昇
する。しかし、治具受け３９を支持する支軸４０の一部
にはストッパ４４が固定されていることから、このスト
ッパ４４がペース３３の下面に轟接することによってそ
の上昇運動を停止する。この停止時にＴｏ−）ては、背
の低い熱処理用治具１１のウェハ収容部の高さは洗浄用
治具１Ｇのウェハ収容部の高さと一部するようになって
いる。

つぎに、同図（ｇ）て示すように、バッファ受け１４の
受は棒５０．５０および５１．５Ｈ２Ｊム５２、リンク
アーム４ｇ、４９の一連の動作によって開状態となり、
ウニへ３２の保持を解放する。しかし、この場合であり
ても、ウェハ３２の両緻部は４［４６，４７＆Ｃ設けら
れた収容溝からは脱落しないようになっている。

その後、同図（ｈ）で示すように、ウェハ受け３４は下
降し、バッファ受け１４から熱処瑠用沿Ａ１１にウェハ
３２を移す。この際、ウェハ３２はバッファ受け１４の
板４６．４７の収容溝から完全に抜けないうちに、つ２
ハ下部縁側は熱処理用治具１１の収容＃ＩＫ入る。この
ため、ウェハ３２のバッファ受け１４から島処理用沿Ａ
ｌｌへの移し換えは確実となる。

ついで、同図（ｉ）および（ｊ）で示すように、つ、Ａ
受け３４および治具受け３９が共にテーブル１２の下方
に移動すると、テーブル１２は彎退して所定のステージ
冒ンＡの位置に空の状態の洗浄用治具１０とウェハ３２
を収容した熱処理用治具１１を運搬して、一連のウェハ
移換作業を終了（ストップ）する。

その後、次の一対の治具１０，１１間でウェハ３２の移
換えを行うため、Ｘテーブル６によりバッファｓ７は次
の一対の治ＡＩ０．１１の移換九位置に自動的に移動し
、前記と同様にしてウェハの移換えを行う。このようＫ
して、４対の治具１Ｇ、ＩＩＫついてのり２ハの移換え
はすべて自動的に能率良く行われる。

一方、熱処理用治具（Ｑ）から洗浄用治具（Ｔ）ｋウェ
ハを移し換える場合罠は、テーブル１２上にウェハ３２
を収容した熱処理用治具１１およびこの熱処理用治具１
１よりも鳳だけ背の高い空の洗浄用油ＡＩＯを載置した
後、スタート釦を押すと、機台１３上の発光器３０．受
光器３１によって洗浄用治具ｌＯ内にウェハ３２が存在
しないことを検出し、第１３図で示すように、右側のＱ
→Ｔなる作業系を自動的に選択し、テーブル！２をステ
ージ璽ンＣの位置に前進停止させた後、熱処理用治具１
１を治具受け３９て１だけ持ち上げるとともに、熱処理
用治具１１内のウェハ３２をり２ハ受け３４で支えて上
昇させ、バッファ受け１４内に位置させる。その後、受
は棒５０．５１を閉動作させて、受は棒ｓｏ、ｓｔでつ
ｔハ３２を保持した後、ウェハ受け３４および治具受け
３９をテーブル１２の下方に降下させる。

つぎに、テーブル１２をステージ曹ンＢの位置１＆退さ
せ、一度のウェハ受け３４の上下動くよって、バッファ
受け１４内のウェハ３２を洗浄用治具ｌＯ内に移し換え
、その後、テーブルを後退させてステージ１ンＡの位置
に戻し、丁ぺての動作を停止（ストップ）させる。

勿論、この場合にも、移換えは複数対の治具１０、ｌｌ
についてすべて自動的に連続して行われる。

このような実施例によれば、ウェハは従来のようにビン
セット等によって挾んだりして保持されず、各党は棒上
Ｋｉｔされる状態て保持されることから、チッピング尋
の破損は生じにくぃ。また、ウェハとバッファ受けとの
接触によるつ凰ハの汚染（欠けたクエへの再付着等）も
大幅に低減する。

また、この実施例では、背の低い治具にウェハを移し換
える場合には、背の低い治具を持ち上げてから移換えを
行なう構造となっているため、確実にウェハの移換えが
行なえる。

また、この実施例ては、収容治具内に収容されるウェハ
のＯ，Ｆ０面の位置がアトランダムな状態となっていて
も、簡単に整列することができる。

また、この実施例では、ウニへの方向性を反転させて他
の収容治具に移し換えることもできる。

さらに、この実施例によれば、テーブル上に空の収容治
具とウニノ・を収容した収容治具を載置（自動的にでも
手作業でもよい。）するだけで、移換条件を検出選択し
て自動的にウニノ１の移換作業を行なう。このため極め
て作業性がよい。たとえば、つｚ”移換作業は従来の手
作業の場合に較べて６０僑減にも達する。

た、図示はしなかったが、各部の動きは全て制御装置に
よって制御されるようになっている。また、本発ｇＡＫ
おける徴移換物品はウェハＫａ定されるものではない。

以上のように１本発明の物品移換装置によれば、複数対
の治具間での両方向への物品の移換えを自動的に連続し
て行うので、極めて能率の良い作業を行うことができ、
物品の破損や異物の付着も低減できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来用いられている洗浄用治具の斜視図、第２
図は本発明による物品移換装置の一実施例の正面間、第
３図は七〇側ｍ図、第４図はその平面図、第５図はその
部分斜視図、第６図は同じく機構図、第７図＋り〜（ｊ
）は同じく動作を説明する原理図、第８図は同じくテー
ブルの動作機構を示す斜視図、第９図は同じくバッファ
受けの斜視図、第１０図は同じく第１整列機構を示す斜
視図、第１１図は同じく第２整列機構を示す斜視図、第
１２図は同じくテーブルの位置検出機構を示す説明図、
第１３図は同じく作業順序を示すフローチャートである
。 ６・・・Ｘテーブル、７・・・バッファ部、８・・・受
渡部、９・・・０１合せ部、ｌＯ・・・洗浄用治具、１
１・・・熱逃埋用治具、１２・・・載置テーブル（テー
ブル）、１３・・・機台、１４・・・バッファ受け、１
５・・・コラム、１６・・・ガイドレール、１７・・・
車輪、１８・・・モータ、１９゜２０・・・プーリ、２
１・・・ベルト、２２．２３．２４・・・光電子スイッ
チ、２５・・・光源、２６・・・イラー、２７．２’８
・・・貫通孔、２９・・・補助板、３０・・・１１１党
器、３１・・・受光器、３２・・・ウニｌ、３３・・・
ペース、３４・・・ウニノ１受け、３５・・・支軸、３
６・・・連結棒、３７・・・ビン、３８・・・レバー、
３９・・・治具受け、４０支軸、４１連結片、４ｚ・・
・突子、４３・・・引張コイルばね、４４・・・ストッ
パ、４５・・・位置決め用突子、４６．４７・・・板、
４８．４９・・・りンクアーム、５０゜５１・・・受は
棒、５２・・・カム、６２・・・垂直動伝達ブロック、
６３・・・支軸、６４・・・リフト、６５・・・水平突
片部、６６・・・―直板部、６７・・・溝、６８・・・
ビン、６９・・・ローラ、７０・・・ビン、７１・・・
レバー、７２・・・回転軸、７３・・・第１上下動カム
、７４・・・支棒、７５・・・引張コイルばね、７６・
・・基板、７７．７８・・・側板、７９・・・修正用回
転軸、８０・・・モータ、８１・・・プーリ、８２・・
・ベルト、８３．８４・・・横板、８５・・・上下動伝
達ブロック、８６・・・支軸、８７・・・第２上下動カ
ム、８８・・・レバー、８９・・・＊Ａ７＊０ア、９０
・・・支軸、９１．９２・・・レバー、９３．９４・・
・修正板、９５．９６・・・ローラ、９７・・・一回転
停止カム、９８・・・オリエンテーラ１ン・７ラツト。 第　　１　　図 第　　２　　図 ／７ 第　　４　図 第　　５　　図 第　　８　　図 第　６　図 第　　７　　図 （ａ−ン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　（イン２／ （ｃ）　　　　　　　　　　　”） 第　　７　　図 第　　７　　図 とノ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　（ｊ）第　　９　図 第１．０図 第１１図 第１３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、一方の収容治具内に収容された物品を他方の収容治
   具に移し換える物品移換装置において、複数対の収容治
   具を載置するＹ方向テーブルと、一方の収容治具内の物
   品を一時保管して他方の収容治具に受は渡す水平方向に
   移動可能なバッファ機構と、収容治具の対を切り換える
   Ｘテーブルとを有することを特徴とする物品移換装置。