JPS5877876A - 2−ヘキシル−5−メチルフランの製造法 - Google Patents
2−ヘキシル−5−メチルフランの製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は2−へキシル−5−メチルフランの製ルフラン
の製造法に関するものである。
の製造法に関するものである。
2−へキシル−5−メチルプランは医薬あるいは農薬の
原料または工業薬品の合成中間体として重要なものであ
り、また、ジャスモノイド香料の重要な一員であるジヒ
ドロジャスモンの中間にと1でも有用なものである。
原料または工業薬品の合成中間体として重要なものであ
り、また、ジャスモノイド香料の重要な一員であるジヒ
ドロジャスモンの中間にと1でも有用なものである。
従来、2−へキシル−5−メチルフランの製造法として
■flu tt S旧cckcrの方法; Rcr 、
75 、447(1942):■特公昭45−258
84号:および■Huehiらの方法; J、Org、
Chem’、 81 、977(1966)などの方法
がある。
■flu tt S旧cckcrの方法; Rcr 、
75 、447(1942):■特公昭45−258
84号:および■Huehiらの方法; J、Org、
Chem’、 81 、977(1966)などの方法
がある。
■の方法は5−メチルフルフラールをメチルプロピルケ
トンと縮合させて得られる5−メチルフルフリリデンメ
チルプロピルケトンを白金またはパラジウJVl媒の存
在下で水素で還元して5−メチル−2−(8−ケトヘキ
シル)フランとし、さらにケトンをヒドラジンで還元し
て5−メチル−2−ヘキシルフランを得る方法であるが
、原料の5−メチルフルフラールは高価であり、また収
率も良くない。
トンと縮合させて得られる5−メチルフルフリリデンメ
チルプロピルケトンを白金またはパラジウJVl媒の存
在下で水素で還元して5−メチル−2−(8−ケトヘキ
シル)フランとし、さらにケトンをヒドラジンで還元し
て5−メチル−2−ヘキシルフランを得る方法であるが
、原料の5−メチルフルフラールは高価であり、また収
率も良くない。
■の方法は8−(5−メチル−2−フリル)プロパナー
ルを出発原料としてアセトンを縮合させて1−(5−メ
チル−2−フリル)−8−ヘキセン−5−オンとし、次
に二重結合を接触水添、更にケトンをヒドラジン還元を
行って2−メチル−5−ヘキシルフランを得る方法であ
る。原料の3−(5−メチル−2−フリル)プロパナー
ルハ高価であり、またヒドラジン還元によるカルボニル
ノ還元は工業的に有利ではない。
ルを出発原料としてアセトンを縮合させて1−(5−メ
チル−2−フリル)−8−ヘキセン−5−オンとし、次
に二重結合を接触水添、更にケトンをヒドラジン還元を
行って2−メチル−5−ヘキシルフランを得る方法であ
る。原料の3−(5−メチル−2−フリル)プロパナー
ルハ高価であり、またヒドラジン還元によるカルボニル
ノ還元は工業的に有利ではない。
■の方法は2−メチルフランをブチルリチウムを用いて
リチウム化したのち、臭化ヘキシルと反応させて、2−
メチル−5−ヘキシルフランに導く方法であるが、極め
て高価なリチウム化合物を使用することは工業的には不
利である。
リチウム化したのち、臭化ヘキシルと反応させて、2−
メチル−5−ヘキシルフランに導く方法であるが、極め
て高価なリチウム化合物を使用することは工業的には不
利である。
本発明者らはこ、れらの欠点がなく簡単に安価に2−メ
チル−5−ヘキシルフランを製造する方法を見出すべく
検討した結果本発明に到達した。
チル−5−ヘキシルフランを製造する方法を見出すべく
検討した結果本発明に到達した。
すなわち本発明は一般式
(式中、R1、R2はC1〜4のアルキル基であり、R
1とR2は場合により酸素原子または窒素原子を介して
相互に連結され7Nとともに5〜7員環を形成していて
もよい。R3は01〜4のアルキル基である。Xは対ア
ニオンである。) で示される第四アンモニウム化合物を水素化分解するこ
とを特徴とする2−へキシル−5−メチルフランの製造
法(第一発明)および ■ 一般式 で示されるフラン置換体と一般式 R3X (3)で示さ
れる化合物とを反応させて一般式(式中、R1,R2は
C1〜4のアルキル基であり、R1と犯は、場合により
酸素原子または窒素原子を介して、相互に連結され?N
とともに5〜7員環を形成していてもよい。R3は01
〜4のアルキル基、Xは対アニオンである。) で示される第四アンモニウム化合物を得、(9)次い゛
でこれを水素化分解することを特徴とする2−へキシル
−5−メチルフランの製造法(第二発明)である。
1とR2は場合により酸素原子または窒素原子を介して
相互に連結され7Nとともに5〜7員環を形成していて
もよい。R3は01〜4のアルキル基である。Xは対ア
ニオンである。) で示される第四アンモニウム化合物を水素化分解するこ
とを特徴とする2−へキシル−5−メチルフランの製造
法(第一発明)および ■ 一般式 で示されるフラン置換体と一般式 R3X (3)で示さ
れる化合物とを反応させて一般式(式中、R1,R2は
C1〜4のアルキル基であり、R1と犯は、場合により
酸素原子または窒素原子を介して、相互に連結され?N
とともに5〜7員環を形成していてもよい。R3は01
〜4のアルキル基、Xは対アニオンである。) で示される第四アンモニウム化合物を得、(9)次い゛
でこれを水素化分解することを特徴とする2−へキシル
−5−メチルフランの製造法(第二発明)である。
一般式(1)において、R1、R2のC1〜4のアルキ
ル基としてはメチル基、エチル基、n−またはi−プロ
ピル基、n−または1−ブチル基があげらflる。R1
とR2は、場合により酸素原子または窒素原子を介して
相互(こ連結されて7炭素数4〜6の二価\ の有機基たとえば−(CH2)。−(nは4〜6)、−
CH20H20CH2CH2−1−CH2CH2NHC
H2CH2−を形成してNとともに5〜7員環を形成し
ていてもよく、この環状基としてはピペリジノ基、モル
ホリノ基およびピペラジノ基があげられる。R1、R2
は同一の基であっても異なる基であってもよい。R3の
01〜4のアルキル基としてはR1、R2と同様の基が
あげられ、メチル基が好ましい。Xの対アニオーとして
はハロゲンイオン、アルキルサルフェートアニオンまた
はアリールスルホネートアニオンがあげられる。″″/
10/10ゲンイオンC1−・Br−・■−があげられ
る。アルキルサルフェートアニオンとしてはR40SO
,、(R4は01〜.のアルキル基たとえばメチル基、
エチル基)たとえばCiI、080.−があげられる。
ル基としてはメチル基、エチル基、n−またはi−プロ
ピル基、n−または1−ブチル基があげらflる。R1
とR2は、場合により酸素原子または窒素原子を介して
相互(こ連結されて7炭素数4〜6の二価\ の有機基たとえば−(CH2)。−(nは4〜6)、−
CH20H20CH2CH2−1−CH2CH2NHC
H2CH2−を形成してNとともに5〜7員環を形成し
ていてもよく、この環状基としてはピペリジノ基、モル
ホリノ基およびピペラジノ基があげられる。R1、R2
は同一の基であっても異なる基であってもよい。R3の
01〜4のアルキル基としてはR1、R2と同様の基が
あげられ、メチル基が好ましい。Xの対アニオーとして
はハロゲンイオン、アルキルサルフェートアニオンまた
はアリールスルホネートアニオンがあげられる。″″/
10/10ゲンイオンC1−・Br−・■−があげられ
る。アルキルサルフェートアニオンとしてはR40SO
,、(R4は01〜.のアルキル基たとえばメチル基、
エチル基)たとえばCiI、080.−があげられる。
アリールスルホネートアニオンとし−C′はA r 8
0. (’Arは)え基などのアリール基、P−トリル
基などのアルキルアリール基)たとえばCH()−8O
−、およびケsO,があげられる。
0. (’Arは)え基などのアリール基、P−トリル
基などのアルキルアリール基)たとえばCH()−8O
−、およびケsO,があげられる。
2−へキシル−5−メチルフランは一般式(+) (D
化合物を水素化分解するこ、とにより製造することがで
きる。水素化分解は水素化分解触媒の存在下水素と反応
させ、炭素と窒素の結合を切断することにより行われる
。
化合物を水素化分解するこ、とにより製造することがで
きる。水素化分解は水素化分解触媒の存在下水素と反応
させ、炭素と窒素の結合を切断することにより行われる
。
水素化分解触媒は一般の水素添加に用いられる触媒と同
様な触媒でよく、たとえば第)l族元素(Ni、Fe、
Co、Ru、Rh、Pd、Ptなど)、銅、クロムまた
は亜鉛触媒があげられ、金属のほかそれらの酸化物、硫
化物などの化合物あるいはそれらの混合物も使用できる
。触媒は金属または化合物そのま5、または溶液にした
ものでもよく、これらの金属またはその化合物を各種担
体たとえば活性炭、シリカアルミナ、硫酸バリウム、炭
酸カルシウム、ケイソウ土およびセオライト等に吸着処
理したものでもよい。これらの触媒のうち好ましいもの
はPdまたはPtを活性炭あるいはアルミナなどの担体
に吸着処理した゛ものである。
様な触媒でよく、たとえば第)l族元素(Ni、Fe、
Co、Ru、Rh、Pd、Ptなど)、銅、クロムまた
は亜鉛触媒があげられ、金属のほかそれらの酸化物、硫
化物などの化合物あるいはそれらの混合物も使用できる
。触媒は金属または化合物そのま5、または溶液にした
ものでもよく、これらの金属またはその化合物を各種担
体たとえば活性炭、シリカアルミナ、硫酸バリウム、炭
酸カルシウム、ケイソウ土およびセオライト等に吸着処
理したものでもよい。これらの触媒のうち好ましいもの
はPdまたはPtを活性炭あるいはアルミナなどの担体
に吸着処理した゛ものである。
水素化触媒の使用量は一般式(1)の化合物に対して重
量で通常0.01〜10%であり、好ましくは01〜5
%である。0.01%未満では水素化分解時の反応速度
が低下し、水素化分解に長時間必要とし、また10%を
越えると水素化分解にはとくに問題ないが高価な触媒を
必要以上に使用することになる。
量で通常0.01〜10%であり、好ましくは01〜5
%である。0.01%未満では水素化分解時の反応速度
が低下し、水素化分解に長時間必要とし、また10%を
越えると水素化分解にはとくに問題ないが高価な触媒を
必要以上に使用することになる。
水素化分解は一般式(1)の化合物に水素化分解触媒の
存在下、水性溶媒中で水素と反応させるこ上帆 により行われる。この水嚢溶媒としては水、アルコール
(メタノール、エタノールナト)、エーテル類(テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなど)およびこれらの混合物
があげられメタノール、エタノールなどのアルコールが
好ましい、水性溶媒の温度は常温たとえば20〜40′
Cでよく、圧力4!常圧、高圧、とく(こ限定されない
が通常、常圧でよい。
存在下、水性溶媒中で水素と反応させるこ上帆 により行われる。この水嚢溶媒としては水、アルコール
(メタノール、エタノールナト)、エーテル類(テトラ
ヒドロフラン、ジオキサンなど)およびこれらの混合物
があげられメタノール、エタノールなどのアルコールが
好ましい、水性溶媒の温度は常温たとえば20〜40′
Cでよく、圧力4!常圧、高圧、とく(こ限定されない
が通常、常圧でよい。
水素化分解は反応生成物が水素を吸収しなくなるまで行
われるが、水素化分解に要する時間は触媒の使用量、攪
拌の効率の良否などによって変化するが、通常1〜5時
間である。
われるが、水素化分解に要する時間は触媒の使用量、攪
拌の効率の良否などによって変化するが、通常1〜5時
間である。
このようにして得られた粗反応物は後述するような操作
を経て2−へキノルー5−メチルフラノを分離、精製す
ることができる。
を経て2−へキノルー5−メチルフラノを分離、精製す
ることができる。
本発明1こおいて、一般式(2)で示されるフラノ置換
体と一般式(3)で示される化合物とを反応させて一般
式(1)で示される第四アンモニウム化合物を得、次い
てこれを水素化分解して2−へキンルー5−メチルフラ
ノを製造することができる(第二発明)。
体と一般式(3)で示される化合物とを反応させて一般
式(1)で示される第四アンモニウム化合物を得、次い
てこれを水素化分解して2−へキンルー5−メチルフラ
ノを製造することができる(第二発明)。
一般式(2)で示されるフラノ置換体としては2−へキ
シル−5−)メチルアεツメチルフラノ、2−へキシル
−5−ジエチルアミノメチルフラノ、2−へキンルー5
−モルホリノメチルフラノ、2−へキシル−5−ピペリ
ジノメチルフラン、2−へキシル−5−ピペラジノメチ
ルフラノなトカあげられる。
シル−5−)メチルアεツメチルフラノ、2−へキシル
−5−ジエチルアミノメチルフラノ、2−へキンルー5
−モルホリノメチルフラノ、2−へキシル−5−ピペリ
ジノメチルフラン、2−へキシル−5−ピペラジノメチ
ルフラノなトカあげられる。
一般式(2)で示されるフラン置換体は2−ヘキノルフ
ラノと一般式 〔式中、R1、R2は一般式(1)のR1、R,2と同
様の基である。〕 で示される第二アミンとホルムアルデヒドとを反応させ
ることにより合成できる。その詳細に−)いている。
ラノと一般式 〔式中、R1、R2は一般式(1)のR1、R,2と同
様の基である。〕 で示される第二アミンとホルムアルデヒドとを反応させ
ることにより合成できる。その詳細に−)いている。
一般式(3)で示される化合物としては110ゲノ化低
級(C1〜4)アルキル(塩化メチル、臭化メチIし、
沃化メチルなど)、ジ低級アルキル硫酸(ジメチル硫酸
など)および芳香族スルホン酸低級アlレキルエステル
(P−)ルエンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸
メチルなど)があげられる。
級(C1〜4)アルキル(塩化メチル、臭化メチIし、
沃化メチルなど)、ジ低級アルキル硫酸(ジメチル硫酸
など)および芳香族スルホン酸低級アlレキルエステル
(P−)ルエンスルホン酸メチル、ベンゼンスルホン酸
メチルなど)があげられる。
一般式(2)のフラン置換体と一般式(3)の化合物と
を反応させる場合、そのモル比は通常1:1〜1.5好
ましくはl:lである。
を反応させる場合、そのモル比は通常1:1〜1.5好
ましくはl:lである。
反応は無溶媒で行うことができるが次工程の水素化分解
を連続的に行うためには水性溶媒中で行うのが好ましく
、この水性溶媒としては水、アIL、コール(メタノー
ル、エタノールなど)おヨO’ コ11らの混合物があ
げられる。水性溶媒の使用量は全反応系の重量に基づい
て通常10〜90%、好ましくは40〜80%である。
を連続的に行うためには水性溶媒中で行うのが好ましく
、この水性溶媒としては水、アIL、コール(メタノー
ル、エタノールなど)おヨO’ コ11らの混合物があ
げられる。水性溶媒の使用量は全反応系の重量に基づい
て通常10〜90%、好ましくは40〜80%である。
反応温度は通常10〜80°C1好ましくは20〜60
℃である。反応時間は通常05〜5時間、好ましくは1
〜3時間である。溶媒の種類と使用量および反応温度に
まって反応時間を上記することができる。
℃である。反応時間は通常05〜5時間、好ましくは1
〜3時間である。溶媒の種類と使用量および反応温度に
まって反応時間を上記することができる。
反応終了後、溶媒を留去しくあるいは留去せず)一般式
(1)の化合物あるいはその溶液を得ることができる。
(1)の化合物あるいはその溶液を得ることができる。
得られた一般式(1)の化合物はさらに前記と同様の方
法で水素化分解を行い2−へキシル−5−メチルフラン
が得られる。
法で水素化分解を行い2−へキシル−5−メチルフラン
が得られる。
第一発明および第二発明で得られ〒粗反応物はエーテル
、トルエンなどの溶媒で抽出、水洗後、芒硝などで乾燥
後、溶媒留去し2−へキシル−5−メチルフラン精製品
とすることができる。
、トルエンなどの溶媒で抽出、水洗後、芒硝などで乾燥
後、溶媒留去し2−へキシル−5−メチルフラン精製品
とすることができる。
本発明の方法を反応式で示すと次のとおりである。
得うれた2−へキシル−5−メチルフランはカスクロマ
トグラフおよび赤外線吸収スペクトルクコよって化合物
を確認することができる。
トグラフおよび赤外線吸収スペクトルクコよって化合物
を確認することができる。
本発明は従来の方法にくらべて極めて簡便1こ2−へキ
シル−5−メチルフランを製造することができるもので
あり、収率もよく、工業的に極めて有意義である。
シル−5−メチルフランを製造することができるもので
あり、収率もよく、工業的に極めて有意義である。
得うれた2−へキシル−5−メチルフランは医薬、農薬
i料のほか、香料ジヒドロジャスモンの中間体として有
用である。2−へキシル−5−メチルフランからジヒド
ロジャスモンは下記の様に好収率で合成することができ
る。(H,11unsd1at:ktr :Ber 、
7j、 447 (1942) )ジヒドロジャスモ
ン 以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。
i料のほか、香料ジヒドロジャスモンの中間体として有
用である。2−へキシル−5−メチルフランからジヒド
ロジャスモンは下記の様に好収率で合成することができ
る。(H,11unsd1at:ktr :Ber 、
7j、 447 (1942) )ジヒドロジャスモ
ン 以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。
実施例1
(11N −(2−n−へキンルー5−フルフリル)−
トリメチルアンモニウムクロリド N −(2−n−へキシル−5−フルフリル)−ジメチ
ルアミン2G、9fl (,0,10モル)とメタノー
ル40m1とを密閉容器に入れ、室温にて塩化メチル5
6ノ(1,10モル)を導入後、同温度で8時間反応さ
せる。
トリメチルアンモニウムクロリド N −(2−n−へキシル−5−フルフリル)−ジメチ
ルアミン2G、9fl (,0,10モル)とメタノー
ル40m1とを密閉容器に入れ、室温にて塩化メチル5
6ノ(1,10モル)を導入後、同温度で8時間反応さ
せる。
反応液のアミン価ゼロとなる。メタノールを留去すると
N −(2−n−へキシル−5−フルフリル)−トリメ
チルアンモニウムクロリドの無色結晶26.。9(収率
定量的)を得る。mp142−148°C(2)2−n
−へキンルー5−メチルフランN −(2−n−へキシ
ル−5−フルフリル)−トリメチルアンモニウムクロリ
ド260g(0,10モル)にメタノール200m/お
よび5%パラジウム−炭素触媒2gを加え室温にて攪拌
下に水素カスを導入する。約1時間で当モル量の水素を
吸収し反応はほぼ停止する。触媒を本則し、メタノール
を留去すると2− n−へキシル−5−メチルフラノと
トリメチルアミン塩酸塩との混合物を得る。エーテルで
抽出し、抽出液を水洗後、芒硝で乾燥する。エーテルな
留去後μ圧蒸溜すると2−11−ヘキシル−5−メチル
フラノ13FI(収率78.3%)を得る。
N −(2−n−へキシル−5−フルフリル)−トリメ
チルアンモニウムクロリドの無色結晶26.。9(収率
定量的)を得る。mp142−148°C(2)2−n
−へキンルー5−メチルフランN −(2−n−へキシ
ル−5−フルフリル)−トリメチルアンモニウムクロリ
ド260g(0,10モル)にメタノール200m/お
よび5%パラジウム−炭素触媒2gを加え室温にて攪拌
下に水素カスを導入する。約1時間で当モル量の水素を
吸収し反応はほぼ停止する。触媒を本則し、メタノール
を留去すると2− n−へキシル−5−メチルフラノと
トリメチルアミン塩酸塩との混合物を得る。エーテルで
抽出し、抽出液を水洗後、芒硝で乾燥する。エーテルな
留去後μ圧蒸溜すると2−11−ヘキシル−5−メチル
フラノ13FI(収率78.3%)を得る。
、 O
沸点 Zoo ヘ101’C/25tgHf実施例2
(1)N−(2−n−へキシル−5−フルフリル)トリ
メチルアンモニウムトシレート N −(2−n−ヘキシル−5−フルフリル)ジメチル
アミン5.’g(0,02モル)とパラトルエンスルホ
ノ酸メチル4.9f (0,026モル)を室温1こて
混合する1、直ちlこ発熱し反応液は50〜60”Cに
なる。60′Clこで1時間攪拌後、放冷すると反応液
全体が固化する。
メチルアンモニウムトシレート N −(2−n−ヘキシル−5−フルフリル)ジメチル
アミン5.’g(0,02モル)とパラトルエンスルホ
ノ酸メチル4.9f (0,026モル)を室温1こて
混合する1、直ちlこ発熱し反応液は50〜60”Cに
なる。60′Clこで1時間攪拌後、放冷すると反応液
全体が固化する。
防湿下に粉砕し、エーテルか洗滌するとm956〜59
℃のN−(2−n−へキノルー5−フルフリル)トリメ
チルアンモニウムドル−ト9.5y(収率、定量的)が
得られる。
℃のN−(2−n−へキノルー5−フルフリル)トリメ
チルアンモニウムドル−ト9.5y(収率、定量的)が
得られる。
(212−n−へキノルー5−メチルフラ7N −(2
−n−へキノルー5−フルフリル)トリメチルアンモニ
ウムドル−ト2.9 (0,005モル)をエタノール
10g/にとかじ、5%パラジウム−JJiO,2fを
加え室温にて水素ガスを導入する。約1時間で当量モル
の水素カスを吸収した後は吸収は停止する。次いで実施
例1の(2)と同様に処理し、2−n−へキシル−5−
メチルフラン0.7g(収率843−74;
−n−へキノルー5−フルフリル)トリメチルアンモニ
ウムドル−ト2.9 (0,005モル)をエタノール
10g/にとかじ、5%パラジウム−JJiO,2fを
加え室温にて水素ガスを導入する。約1時間で当量モル
の水素カスを吸収した後は吸収は停止する。次いで実施
例1の(2)と同様に処理し、2−n−へキシル−5−
メチルフラン0.7g(収率843−74;
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 (式中 R1、R2はC1〜4のアルキル基であり、R
1とR2は、場合により酸素原子または窒素原子を介し
て相互に連結され7Nとともに5〜7員環を形成してい
てもよい。R3は08〜4のアルキル基である。Xは対
アニオンである。) で示される第四アンモニウム化合物を水素化分解するこ
とを特徴とする2−へキシル−5−メチルたは亜鉛触媒
の存在下水素と反応させることかによって行う特許請求
の範囲第1項記載の製造法。 8、水素化分解を水性溶媒中で行う特許請求の範囲第1
項または第2項記載の製造法。 で示されるフラン置換体と一般式 %式%(3) で示される化合物とを反応させて一般式(式中 R1、
R2はC1〜4のアルキル基であり、R1とR2は場合
により酸素原子または窒素原子を介して相互に連結され
7Nとともに5〜7員環を形成していてもよい。R3は
C1〜4のアルキル基、Xは対アニオンである二 ) で示される第四アンモニウム化合物を得、l 次いでこ
れを水素化分解することを特徴とする2−へキシル−5
−メチルフランの製造法。 5、〔0の反応を水性溶媒中で行う特許請求の範囲第4
項記載の製造法。 6、 (10の水素化分解を第■族元素、銅、クロム
または亜鉛触媒の存在下、水素と反応させることによっ
て行う特許請求の範囲第4項または第5項記載の製造法
。 7、 叩の水素化分解を水性溶媒中で行う特許請求の範
囲第4項〜第6項のいずれかに記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17767981A JPS5877876A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 2−ヘキシル−5−メチルフランの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17767981A JPS5877876A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 2−ヘキシル−5−メチルフランの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5877876A true JPS5877876A (ja) | 1983-05-11 |
Family
ID=16035204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17767981A Pending JPS5877876A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 2−ヘキシル−5−メチルフランの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5877876A (ja) |
-
1981
- 1981-11-04 JP JP17767981A patent/JPS5877876A/ja active Pending
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