JPS587988B2 - 像保持部材 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、静電像および／またはトナー画像を保持する
ための像保持部材に関する。

静電像やトナー画像が形成される像保持部材としては電
子写真感光体とその他の像保持部材とがあります。

電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応じて種々の構成を
とるものである。

電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体および表面に絶縁層を備え
た感光体があり、広く用いられている。

支持体と光導電層から構成される感光体は、最も一般的
な電子写真プロセスによる、即ち、帯電、画像露光およ
び現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用いら
れる。

また、絶縁層を備えた感光体について、この絶縁層は、
光導電層の保護、感光体の機械的強度の改善、暗減衰特
性の改善、または、特定の電子写真プロセスに適用され
るため（更には無公害化の為）、等の目的のために設け
られるものである。

このような絶縁層を有する感光体またけ、絶縁層を有す
る感光体を用いる電子写真プロセスの代表的な例は、例
えば、米国特許第２８６００４８号公報、特公昭４１−
１６４２９号公報、特公昭３８−１５４４６号公報、特
公昭４６−３７１３号公報、特公昭４２−２３９１０号
公報、特公昭４３−２４７４８号公報、特公昭４２−１
９７４７号公報、特公昭３６−４１２１号公報、などに
記載されている。

電子写真感光体には所定の電子写真プロセスに適用され
て、静電像が形成され、この静電像は現像されて可視化
される。

その他の像保持部材の代表的ないくつかは次に説明され
る。

（１）例えば、特公昭３２−７１１５号公報、特公昭３
２−８２０４号公報、特公昭４３−１５５９号公報に記
載されているように、電子写真感光体の繰返し使用性の
改善の目的で電子写真感光体に形成された静電像を他の
像保持部材に転写して現像を行い、次いでトナー画像は
記録体に転される。

（２）また電子写真感光体に形成された静電像に対応さ
せて他の像保持部材に静電像を形成させる他の電子写真
プロセスとして、例えば、特公昭４５−３０３２０号公
報、特公昭４８−５０６３号公報、特開昭５４−３４１
号公報などに記載されているように、多数の微細な開口
を有するスクリーン状の電子写真感光体に所定の電子写
真プロセスによつて静電像を形成し、この静電像を介し
て他の像保持部材にコロナ帯電処理を行うことにより、
コロナのイオン流を変調させて静電像を他の像保持部材
に形成させて、これをトナー現像して記録体に転写させ
て最終画像を形成するプロセスが挙げられる。

（３）また、他の静電像形成プロセスによれば、（多）
針電極に電気信号に印加して像保持部材表面に、電気信
号に応じた静電像を形成できるものであります。

（１）〜（３）のような静電形成プロセスに用いられる
像保持部材は静電保持面が絶縁性であればよく、光導電
層を必要としない。

このように、像保持部材である電子写真感光体または光
導電層を備えていない部材であって、静電像又はトナー
画像を保持するための像保持部材は適用される電子写真
プロセスに応じた電気特性が要求されるが、そればかり
でなく、像保持部材の耐久性およびクリーニング性も重
要な性質である。

耐久性は像保持部材を繰返し使用する場合に要求される
性質であり、クリーニング性は保持部材の表面に付着し
、残留するトナーの除去の容易性を決める性質であり、
鮮明な画像の形成、更には、クリーニング手段の損傷防
止に著しく影響を与えるものである。

このために、像保持部材の耐久性、クリーニング性を改
善するために耐久性およびクリーニング性に優れた絶縁
層が望まれる。

而して本発明は、表面潤滑性に優れ、その結果、耐久性
およびクリーニング性に優れ、且つ塗膜形成された絶縁
層を備えた像保持部材を提供することを主たる目的とす
る。

本発明による像保持部材の絶縁層は、ビスオキシエチレ
ン化ビスフェノールＡジアクリレートを主要重合単位と
する光硬化型エポキシアクリレート樹脂にシリコン系レ
ベリング剤を添加してなる樹脂から形成されているもの
である。

本発明に用いるシリコーン系レベリング剤は潤滑性に優
れた絶縁層を形成する。

シリコーン系レベリング剤は次の一般式で示される構造
を有する。

このようなシリコーン系レベリング剤として代表的なも
のは、ＲがＨのジメチルポリシロキサンで、Ｒを官能基
で変性させたものとして、アルキル変性シリコーン、ア
ルキルアリル変性シリコーン、グライコール変性シリコ
ーン、アルコール変性シリコーン、アミン変性シリコー
ン、等である。

ｎおよびｍは正の整数である。

シリコン系レベリング剤としては、分子量が２００〜１
０万、特には、１０００〜１万のものが好適である。

像保持部材の表面層である、シリコン系レベリング剤を
含む樹脂の絶縁層は、シリコン系レベリング剤を含む樹
脂を絶縁層が形成される面に塗布して形成されてもよい
し、特別な場合には、■シリコン系レベリング剤を含む
樹脂フイルムを絶縁層が形成される面に貼り付けてもよ
い。

また、既成の樹脂フイルム面にシリコン系レベリング剤
を含む樹脂を塗膜形成したものを貼り付けてもよい。

絶縁層中におけるシリコン系レベリング剤の含有量は適
宜設定されるが、通常０．０１〜３０Ｗｔ％、特には、
０．１〜１０Ｗｔ％の範囲が好適である。

絶縁層の形成に用いられる樹脂は、ビスオキシエチレン
化ビスフェノールＡジアクリレートアルキル基｝を主要
重合単位とするような硬化型エポキシアクリレート樹脂
である。

シリコン系レベリング剤を含む絶縁層の形成には、必要
に応じて、２．４トリレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、フエニルイソシアネート、メ
チルイソシアネートなどのインシアネート類、トリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレートなどの多官能アクリ
ルモノマーを添加することも有効である。

像保持部材が電子写真感光体である場合の最も代表的な
構成は、光導電層が支持体と表面層との間にある積層体
である。

支持体は、ステンレス、銅、アルミニウム、錫などの金
属板、紙、シート、樹脂フイルムなど任意の材料から形
成される。

支持体は必要に応じて省略される。

光導電層はＳ，Ｓｅ，ＰｂＯ，及びＳ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ａ
ｓ，Ｓｂ等を有した合金や金属間化合物等の無機光導電
材料を真空蒸着して形成される。

またスパッタリング法による場合、ＺｎＯ，ＣｄＳ，Ｃ
ｄＳｅ，ＴｉＯ２等の高融点の光導電物質を支持体に付
着させて光導電層とすることもできる。

また塗布により光導電層を形層する場合、ホリビニルカ
ルバゾール、アントラセン、フタロシアニン等の有機光
導電材料、及びこれらの色素増感やルイス酸増感をした
もの、さらにこれらの絶縁性バインダーとの混合物を用
い得る。

またＺｎＯ，ＣｄＳ，ＴｉＯ２，ＰｂＯ、等の無機光導
電体の絶縁性バインダーとの混合物も適する。

なお絶縁性のバインダーとしては、各種樹脂が用いられ
る。

光導電層の厚さは、使用する光導電物質の種類や特性に
もよるが一般には、５〜１００μｍ特には１０〜５０μ
ｍ程度が好適である。

また、絶縁層と光導電層との間に、シリコン系レベリン
グ剤を含んでいない他の樹脂層が介在する構成であって
もよい。

また、像保持部材が光導電層を有していない場合の最も
代表的な構成は、支持体上に絶縁層を形成してなるもの
と、支持体上に他の材料からなる絶縁層が形成されてお
り、この絶縁層上にシリコン系レベリング剤を含む絶縁
層を塗膜形成してなるものなどがある。

実施例１ ５ナインＳｅ２００ｇを蒸発皿に計りとり、蒸発源温度
３００℃、基体（Ａｌドラム）温度６７℃、系内真空度
１×１０−５で３５分間蒸着を実施し、６０μ膜厚の光
導電層を２つ形成させた。

得られた２つの光導電層の一方を、次の成分を主成分と
して含む光硬化型エポキシアクリレート樹脂（商品名：
５５０１、大日本インキ製）ビスオキシエチレン化、ビ
スフェノールＡ、ジアクリレート、ジエチレングリコー
ル、ジアクリレート、トリエタノールアミン、ペンゾフ
エノンを粘度が９０ＣＰＳとなるよう、メチルエチルケ
トン溶剤で希釈調製した液に浸し、３０ｍｍ／ｍｉｎの
速度で引き上げた後、４ｋＷ水銀ランプで５分間照射し
て硬化させ１０μの絶縁層を形成させた。

この操作を３回同様にくり返して３０μの絶縁層を光導
電層上に設けた。

この試料を（５）とする。他方の光導電層上には、同じ
光硬化型エポキシアクリレート樹脂とアクリル変性シリ
コン（商品名：ＤＣ３ＰＡ，トーレシリコーン製）の混
合物（９７：３）を粘度が８５ＣＰＳとなる様にメチル
エチルケトンで希釈調製した液に浸し、３０ｍシｍｉｎ
の速度で引き上げた後４ｋＷ水銀ランプで６分間照射し
て硬化させ、１０μの絶縁層を形成させた。

この操作を、３回同様にくり返して３０μの絶縁層とし
た。

この試料を（Ｂ）とする。得られた試料（Ａ），（Ｂ）
に対し、一次■ＤＣ帯電、二次ＡＣ除電、同時露光、全
面照射■トナーによる乾式現像、ウレタンクリーニング
ブレード（硬度７０°、絶縁層面に対する角度３０ミブ
レード荷重２．０ｋｇ）によるクリーニング処理からな
るプロセスで、試料（Ａ），（Ｂ）の感光ドラムの潤滑
性、画像性、耐久性を試験した結果、試料（イ）は、摩
擦係数が１．８５でドラムの２００００回転で、ブレー
ドエッジ部の摩耗かやメあり、さらに現像剤による成膜
性が認められたのに対し、一方試料（Ｂ）に関しては摩
擦係数が１．７５でドラムは円滑に回転し、画像は良好
で、ドラムの５００００回転後でもブレードエッジ部の
摩耗、破損等はほとんど確認出来なかった。

又試料（Ｂ）の表面は斑点状塗布ハジキが全くなく画像
性が良好であり、くり返しコロナ帯電による絶縁破壊は
全認められなかった。

実施例２ ５ナインＳｅ−Ｔｅ（１０Ｗｔ％）合金２００ｇを蒸発
皿に計りとり、蒸発源温度３２０℃、基体（Ａｌドラム
）温度６８℃、系内真空度１×１０−５ｔｏｒｒで４０
分間蒸着を実施し、６５μの膜厚の光導電層を２つ形成
させた。

得られた２つの光導電層の一方を、次の成分を主成分と
して含む光硬化型エポキシアクリレート樹脂 ビスオキシエチレン化、ビスフェノールＡ、ジメタクリ
レート トリメチロールプロパン、トリアクリレートトリエタノ
ールアミン ベンゾインエチルエーテル の粘度が９０ＣＰＳとなる様にメチルエチルケトンで希
釈した液に浸し、３０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引き上げた
後、４ｋＷ水銀ランプで５分間照射して硬化させた。

この操作を３回くり返して３０μの絶縁層を設けた。

この試料を（Ｃ）とする。他方の光導電層上には、（Ｃ
）と同様の操作を２回くり返して２０μのエポキシアク
リレート絶縁層を設けた。

この層上に、Ｃと同様の光硬化型エポキシアクリレート
樹脂とグライコール変性シリコン（商品名ＤＣＩＩＰＡ
，ｌ−−レシリコン製）の混合物を粘度が８ ５ＣＰＳ
となる様にメチルエチルケトンで希釈調製した液を用い
て、ドラム回転させながらスプレイ法で塗布した後４ｋ
Ｗ水銀ランプで６分間照射して硬化させ１０μの絶縁層
を層合させた。

この試料を（Ｄ）とする。

得られた試料（Ｃ），（Ｄ）の感光ドラムに対し実施例
１と同様の試験をした結果、試料（Ｃ）の摩擦係数は１
８３で、ドラムの１５０００回転でブレードエッジ部が
摩耗、破損し、摺動音があり、クリーニング不良の現象
が観察されたが、一方試料（Ｄ）に関しては、摩擦係数
が１．７２で、ドラムは円滑に回転し、画像およびクリ
ーニング性が良好で、ドラムの３００００回転後でもブ
レードエッジ部の摩耗はほとんど確認されなかった。

又（Ｃ）は現像剤の触着現象による成膜が若干観察され
たが、（Ｄ）においてはそれは全く認められなかった。

実施例 ３〜６ ２５μ厚のポリエステルフイルム（商品名：ダイヤフォ
イル、三菱樹脂製）上にロールコ一一ターでエポキシア
クリレート樹脂（商品名：Ｖ５５０１、大日本インキ製
）とグライコールシリコン（商品名：ＳＨ２８ＰＡ，ト
ーレシリコン製）の混合物（９０：１０）を膜厚が５μ
になる様塗布し、１６０Ｗ／ｃｍ水銀ランプを用い、フ
イルム速行速度１５ｍ／ｍｉｎで硬化させた後、エポキ
シ系接着剤を用いて、ＣｄＳ一塩ビ酢ビ共重合体バイン
ダー光導電層上へ接着させた感光体を用いて、実施例１
と同様の試験をした結果実施例１の試料（Ｂ）と同様に
良好な結果が得られた。

エポキシアクリレート樹脂の硬化手段として電子線を用
いた場合でも３０Ｍｒａｄ照射で十分な硬度の絶縁層が
形成された。

なお、次の各４〜６の絶縁層形成材料を用いた場合にも
有効な結果が得られた。

４．エポキシアクリレート樹脂（商品名：ＣＡ１０２、
日本油脂製） アミン変性シリコン（商品名：ＳＨ３５３０、トーレシ
リコーン製） ５．エポキシアクリレート樹脂（商品名：Ｘ−４、東亜
ペイント製） アルコール変性シリコン（商品名：ＳＨ１５７、トーレ
シリコン製） ６．エポキシアクリレート樹脂（商品名：Ｕ−３１５５
、昭和高分子製） アルキルアリル変性シリコン（商品名：ＳＨ２３０トー
レシリコン製）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 静電像および／またはトナー画像を保持する像保持
   部材において、像保持部材の表面に、ビスオキシエチレ
   ン化ビスフェノールＡジアクリレートを主要重合単位と
   する光硬化型エポキシアクリレート樹脂にシリコン系レ
   ベリング剤を添加してなる絶縁層を有することを特徴と
   する像保持部材。 ２ 絶縁層が他の樹脂層上に形成されている特許請求の
   範囲第１項記載の像保持部材。