JPS5881988A - 梨地状めつき用添加剤 - Google Patents
梨地状めつき用添加剤Info
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- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 59
- 239000000654 additive Substances 0.000 title claims description 23
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 title claims description 21
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 56
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 28
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 35
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 8
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 4
- LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L nickel sulfate Chemical compound [Ni+2].[O-]S([O-])(=O)=O LGQLOGILCSXPEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 229910000363 nickel(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920002432 poly(vinyl methyl ether) polymer Polymers 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021586 Nickel(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L nickel dichloride Chemical compound Cl[Ni]Cl QMMRZOWCJAIUJA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 3
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000270728 Alligator Species 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000017788 Cydonia oblonga Nutrition 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical class CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N [Co].[Ni] Chemical compound [Co].[Ni] QXZUUHYBWMWJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000006172 buffering agent Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 235000011389 fruit/vegetable juice Nutrition 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N iron nickel Chemical compound [Fe].[Ni] UGKDIUIOSMUOAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- -1 methyl ethyl Chemical group 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K sodium citrate Chemical compound O.O.[Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O NLJMYIDDQXHKNR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M sodium;octane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCS([O-])(=O)=O HRQDCDQDOPSGBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は梨地状めっき用の添加剤に関し、特に電気ニッ
ケルめっき液や電気ニッケル合金めっき液等に添加され
て良好な梨地状電着物を与える添加剤に関する。
ケルめっき液や電気ニッケル合金めっき液等に添加され
て良好な梨地状電着物を与える添加剤に関する。
従来、梨地状ニッケル電着物を得る方法としては、電気
ニッケルめっき液に不溶性の無機非電導性粒子を懸濁さ
せ、ニッケルの電析に際してこの粒子を共析させること
によシ、ニッケル電着物に粗面を形成し、梨地状効果を
与える方法が知られている(特公昭43−405号)。
ニッケルめっき液に不溶性の無機非電導性粒子を懸濁さ
せ、ニッケルの電析に際してこの粒子を共析させること
によシ、ニッケル電着物に粗面を形成し、梨地状効果を
与える方法が知られている(特公昭43−405号)。
しかし、この方法は、めっき液の保守管理が困難であり
、めっき液が汚れた時に活性炭処理を行なう場合、不溶
性粒子をF別してから行なわなければならないなどの面
倒もある上、得られた電着物は指紋がつき異いという問
題もあり、更に被めっき物の低電流密度部分が梨地状に
なル難い等の欠点がある。tた、この方法は/4レルめ
っきが行ない難い。
、めっき液が汚れた時に活性炭処理を行なう場合、不溶
性粒子をF別してから行なわなければならないなどの面
倒もある上、得られた電着物は指紋がつき異いという問
題もあり、更に被めっき物の低電流密度部分が梨地状に
なル難い等の欠点がある。tた、この方法は/4レルめ
っきが行ない難い。
また従来、温度40〜75℃において微細分散状のエマ
ルジョンを生成するエチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイド化合物をめっき液に添加し、めりき時に液温を
上けて液を懸濁させた状態でめっきを行なうことにより
、梨地状ニッケル電着物を得る方法も知られている(4
!公昭46−644号)が、この方法はめっき作業が難
がしく、正常な電着物を得るのに細心の注意が必要であ
り、ま九めっき液の周期的な活性炭処理が要求され、管
理が面倒である。更に、この方法は、めっき液中のエマ
ルジ、ン粒子の凝集が起り易く、凝集した粒子によるビ
ットが生じ易い上、アニオン活性剤勢の有機不純物の混
入に対して敏感でToり、これらが混入した場合に紘良
好な梨地状電着物が得られず、はなはだしい場合はサテ
ン状とならず、光沢電着になる。また更に、この方法は
、めっきの低電流密度部分が黒くなル、低電流密度部分
が梨地状になシ難いという欠点もあり、またこの故にこ
の方法はバレルめりきに不向きである。
ルジョンを生成するエチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイド化合物をめっき液に添加し、めりき時に液温を
上けて液を懸濁させた状態でめっきを行なうことにより
、梨地状ニッケル電着物を得る方法も知られている(4
!公昭46−644号)が、この方法はめっき作業が難
がしく、正常な電着物を得るのに細心の注意が必要であ
り、ま九めっき液の周期的な活性炭処理が要求され、管
理が面倒である。更に、この方法は、めっき液中のエマ
ルジ、ン粒子の凝集が起り易く、凝集した粒子によるビ
ットが生じ易い上、アニオン活性剤勢の有機不純物の混
入に対して敏感でToり、これらが混入した場合に紘良
好な梨地状電着物が得られず、はなはだしい場合はサテ
ン状とならず、光沢電着になる。また更に、この方法は
、めっきの低電流密度部分が黒くなル、低電流密度部分
が梨地状になシ難いという欠点もあり、またこの故にこ
の方法はバレルめりきに不向きである。
本発明者らは、上記事情に鑑み、良好な梨地状電着物を
4える添加剤について鋭意研究を行なっ九結果、下記式
(1) (但し、R及びR′はそれぞれ有機残基な示し、m及び
nはそれぞれ1〜3000の整数を表わす。)で示され
る主鎖を有し、191i水溶液の曇点が20〜80℃の
水溶性有機化合物をニッケルめっき液等に添加すること
によル、高電流密度部分から低電流密度部分に至るまで
良好な梨地状電着物が得られ、・ぐレルめっきが可能で
ある上、上記化合物を添加しためつき液は懸濁粒子の凝
集が起りにくく、また有機不純物に対しても比較的鈍感
でTo17゜めりき作業、めっき液管理も容具であるこ
とを知見し、本発明をなすに至ったものである。
4える添加剤について鋭意研究を行なっ九結果、下記式
(1) (但し、R及びR′はそれぞれ有機残基な示し、m及び
nはそれぞれ1〜3000の整数を表わす。)で示され
る主鎖を有し、191i水溶液の曇点が20〜80℃の
水溶性有機化合物をニッケルめっき液等に添加すること
によル、高電流密度部分から低電流密度部分に至るまで
良好な梨地状電着物が得られ、・ぐレルめっきが可能で
ある上、上記化合物を添加しためつき液は懸濁粒子の凝
集が起りにくく、また有機不純物に対しても比較的鈍感
でTo17゜めりき作業、めっき液管理も容具であるこ
とを知見し、本発明をなすに至ったものである。
以下、本発明につき詳しく説明する。
本発明の梨地状めりき用の添加剤は、下記式(1)(但
し、R及びR′はそれぞれ有機残基を示し、m及びnは
それぞれ1〜3000の整数を示す。)で示される主鎖
を有し、1LII水溶液の曇点が20〜80℃の水溶性
有機イ些金物を主成分としてなるものである。
し、R及びR′はそれぞれ有機残基を示し、m及びnは
それぞれ1〜3000の整数を示す。)で示される主鎖
を有し、1LII水溶液の曇点が20〜80℃の水溶性
有機イ些金物を主成分としてなるものである。
この場合、この水溶性有機化合物としては、上記(1)
式においてR及びR′がそれぞれ一〇H基。
式においてR及びR′がそれぞれ一〇H基。
−OCH,基* −0C2H5基、 −0COCR,基
、又はよシ具体的には、?り酢酸ビニルの部分けん化物
、ポリビニルメチルエーテル、/リピニルピ四リドン及
びこれら化合物の誘導体、これら化合物O共重合体が好
ましく使用し得る。
、又はよシ具体的には、?り酢酸ビニルの部分けん化物
、ポリビニルメチルエーテル、/リピニルピ四リドン及
びこれら化合物の誘導体、これら化合物O共重合体が好
ましく使用し得る。
なお、lり酢酸ビニルの部分けん化物としては、けん化
度65〜90−1重合度1〜2200のものが好適に使
用し得るが、特に重合度1〜5500ものがより好まし
く、重合度1〜550のものを用いることによってよル
良好な梨地状電着物が得られる。なお、低重合度の部分
けん化ぼり酢酸ビニルを得るには、酢酸ビニルの重合度
を低く抑えるような合成法によるか、高重合度の部分け
ん化Iり酢酸ビニルを過マンガン酸カリウム郷で酸化分
解する方法が採用し得る。具体的には、ポリ酢酸ビニル
の部分けん化物として、日本合成化学工業■社製ゴーセ
ノールKH−20,4−セノールKM−17、これらの
過マンガン酸カリウム等による酸化分解物が使用し得る
。また、ぼりビニルメチルエーテルとしては、重合度1
0〜100.分子量600〜6000のものが好適に使
用し得、例えば比較的高分子量のものとしてBABF社
製のLutonal M 40 %東京化成社製のIリ
ビニルメチルエーテル(3〇−水溶液の粘度が25℃で
3400@pのもの)等が用いられ、またビニルメチル
エーテルよ〕有機過酸化物を触媒として合成した比較的
低分子量のものも好ましく用いられ得る・更に、4リビ
ニルピロリドンとしては重合度100−360のもの、
例えばBASF社製0Kollid@n17.25.3
0等が好適に用いられる・なお、本発明添加剤は上述し
良化合物の1種又は2種以上を含有し得る。
度65〜90−1重合度1〜2200のものが好適に使
用し得るが、特に重合度1〜5500ものがより好まし
く、重合度1〜550のものを用いることによってよル
良好な梨地状電着物が得られる。なお、低重合度の部分
けん化ぼり酢酸ビニルを得るには、酢酸ビニルの重合度
を低く抑えるような合成法によるか、高重合度の部分け
ん化Iり酢酸ビニルを過マンガン酸カリウム郷で酸化分
解する方法が採用し得る。具体的には、ポリ酢酸ビニル
の部分けん化物として、日本合成化学工業■社製ゴーセ
ノールKH−20,4−セノールKM−17、これらの
過マンガン酸カリウム等による酸化分解物が使用し得る
。また、ぼりビニルメチルエーテルとしては、重合度1
0〜100.分子量600〜6000のものが好適に使
用し得、例えば比較的高分子量のものとしてBABF社
製のLutonal M 40 %東京化成社製のIリ
ビニルメチルエーテル(3〇−水溶液の粘度が25℃で
3400@pのもの)等が用いられ、またビニルメチル
エーテルよ〕有機過酸化物を触媒として合成した比較的
低分子量のものも好ましく用いられ得る・更に、4リビ
ニルピロリドンとしては重合度100−360のもの、
例えばBASF社製0Kollid@n17.25.3
0等が好適に用いられる・なお、本発明添加剤は上述し
良化合物の1種又は2種以上を含有し得る。
本発明の添加剤は、特に通常pi(2,5〜6の酸性電
気ニッケルめっIIl、ニッケルーコバルト、ニッケル
ー鉄等の二、ケル合金めつき液、更にコノ4ルトめうき
液、コバルト合金めうき液などに添加されて梨地状電着
物を与える。この場合、めっき液としては、ワット浴、
硫酸浴、高塩化浴、スルファミノ酸浴等、公知の浴組成
のものが用いられ得る。
気ニッケルめっIIl、ニッケルーコバルト、ニッケル
ー鉄等の二、ケル合金めつき液、更にコノ4ルトめうき
液、コバルト合金めうき液などに添加されて梨地状電着
物を与える。この場合、めっき液としては、ワット浴、
硫酸浴、高塩化浴、スルファミノ酸浴等、公知の浴組成
のものが用いられ得る。
例えば、特に制限されないが、ワットタイグのニッケル
めっき液として下記組成のものが使用され得る。
めっき液として下記組成のものが使用され得る。
組 成
Nl” 20〜16(IP/1
C02+O〜1001
F・2+0〜1001
NiC/、7・6 H2O0〜200 1H5B0.
20〜60 1−2.5〜69/l めりき条件 陳極電流密度(Dk) 0.01〜20 A/
dm2液 温 20〜75℃攪拌
カソードロッカー又は静止、空気攪
拌も可能 但し、添加剤としてIり酢酸ビニルの部分けん化物を用
いる場合は、硼酸が存在しているとrル化し謳いため、
硼酸を使用しないか、硼酸の代〕に酢酸、クエン酸やこ
れらの塩郷の緩衝剤を使用することが望ましい、
。
20〜60 1−2.5〜69/l めりき条件 陳極電流密度(Dk) 0.01〜20 A/
dm2液 温 20〜75℃攪拌
カソードロッカー又は静止、空気攪
拌も可能 但し、添加剤としてIり酢酸ビニルの部分けん化物を用
いる場合は、硼酸が存在しているとrル化し謳いため、
硼酸を使用しないか、硼酸の代〕に酢酸、クエン酸やこ
れらの塩郷の緩衝剤を使用することが望ましい、
。
本発明添加剤を用いる場合、その添加量は0.01〜1
0ノ/l s特に0.02〜11P/lとすることが好
ましい。
0ノ/l s特に0.02〜11P/lとすることが好
ましい。
また、上述した(1)式の主鎖を有する化合物を主成分
とする本発明添加剤はそれ単独で使用することもできる
が、溶性す、カリンやジベンゼンスル小ンイtド等のス
ルホンイミド類、パラトルエンスルホンアミド等のスル
ホンアミド類、ナフタリンモノ又はジ又はトリスルホン
酸塩、これらの鰐導体等のニッケルめっき、ニッケル合
金めつき弔の光沢剤、特に−次光沢剤の1種又は2種以
上と併用することが好ましく、これら光沢剤の添加によ
ってよシ外観の良好な梨地状電着物を得ることができる
。なお、これらの光沢剤の添加量は0,1〜101/I
Iとすることが好ましい。
とする本発明添加剤はそれ単独で使用することもできる
が、溶性す、カリンやジベンゼンスル小ンイtド等のス
ルホンイミド類、パラトルエンスルホンアミド等のスル
ホンアミド類、ナフタリンモノ又はジ又はトリスルホン
酸塩、これらの鰐導体等のニッケルめっき、ニッケル合
金めつき弔の光沢剤、特に−次光沢剤の1種又は2種以
上と併用することが好ましく、これら光沢剤の添加によ
ってよシ外観の良好な梨地状電着物を得ることができる
。なお、これらの光沢剤の添加量は0,1〜101/I
Iとすることが好ましい。
ま九、本発明添加剤を添加し丸めりき液には、必要によ
りオクチルスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリ
ウム等の湿潤剤或いはピット防止剤を適量添加すること
ができる。
りオクチルスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリ
ウム等の湿潤剤或いはピット防止剤を適量添加すること
ができる。
本発明の添加剤を用いためつき液よシ梨地状電着物を得
る場合、そのめっき条件は通常のめつき条件を採用し得
るが、めりき温度はめりき液に添加された本発明添加剤
の曇点以上で、めりき液を懸濁もしくは乳化状態として
めv’tiを行なう必要がある。tた、攪拌は必ずしも
必要としないが、カソードロッカーを採用することが好
ましい・なお、■極電流密度は制限されないが、通常0
.01〜20A/dm”の範囲が採用でき、本発明添加
剤を用いることによりこのように低電流密度部分圧も良
好な梨地状電着物を与えるので、本発明添加剤はバレル
めりき用としても好適に使用し得る。なおまた、本発明
添加剤を用いためっき液は一特、公昭46−644号公
報に記載されているようなヒートサイクルを行なうこと
ができる。
る場合、そのめっき条件は通常のめつき条件を採用し得
るが、めりき温度はめりき液に添加された本発明添加剤
の曇点以上で、めりき液を懸濁もしくは乳化状態として
めv’tiを行なう必要がある。tた、攪拌は必ずしも
必要としないが、カソードロッカーを採用することが好
ましい・なお、■極電流密度は制限されないが、通常0
.01〜20A/dm”の範囲が採用でき、本発明添加
剤を用いることによりこのように低電流密度部分圧も良
好な梨地状電着物を与えるので、本発明添加剤はバレル
めりき用としても好適に使用し得る。なおまた、本発明
添加剤を用いためっき液は一特、公昭46−644号公
報に記載されているようなヒートサイクルを行なうこと
ができる。
本発明添加剤を用いた梨地状めっきは、従来の賜のと同
様にスチール、真鍮、導電化旭環tjilしたプラスチ
ック勢の所望の素地に直接、或いは光沢銅めっきや光沢
ニッケルめっき等を施した後に行なうことができ、素地
の種類や下地めっきの種類は特に制限されない。
様にスチール、真鍮、導電化旭環tjilしたプラスチ
ック勢の所望の素地に直接、或いは光沢銅めっきや光沢
ニッケルめっき等を施した後に行なうことができ、素地
の種類や下地めっきの種類は特に制限されない。
而して、本発明の添加剤を用いた梨地状めりき方法によ
れば、低電流密度部分は黒くならず、良好な梨地状電着
物を与えるので、複雑な形状の品物に対しても全体に均
一な梨地状外観を有するめっき物を得ることができ、ま
た上述したようにバレル法によっても良好な梨地状外観
を有するめっき物を得ることができる。また、本発明添
加剤を含有するめつき液は、懸濁もしくは乳化状態にあ
る場合において、粒子の凝集が起りに<<、従りて凝集
粒子に基づくビットが生じ難く、この点からも外観、耐
食性の良いめっき物が得られ、まためつき液の安定性も
高いものであると典に、有機不純物、例えばアニオン、
非イオン、カチオン活性剤の混入の影響を受は難く、活
性炭処理をひんばんに行なう必要もな−、更に、金属塩
濃度、液温の影響も受けにくく、例えばNl濃度として
20〜160 it/lの範囲で、また液温として20
〜75℃の範囲で作業し得るので、めっき作業管理、め
りき液管理、保守も容1であシ、またこのように金属塩
濃度中液温の影響を受けにくいので、低濃度浴、低温浴
に対しても本発明添加剤を好適に使用し得る。
れば、低電流密度部分は黒くならず、良好な梨地状電着
物を与えるので、複雑な形状の品物に対しても全体に均
一な梨地状外観を有するめっき物を得ることができ、ま
た上述したようにバレル法によっても良好な梨地状外観
を有するめっき物を得ることができる。また、本発明添
加剤を含有するめつき液は、懸濁もしくは乳化状態にあ
る場合において、粒子の凝集が起りに<<、従りて凝集
粒子に基づくビットが生じ難く、この点からも外観、耐
食性の良いめっき物が得られ、まためつき液の安定性も
高いものであると典に、有機不純物、例えばアニオン、
非イオン、カチオン活性剤の混入の影響を受は難く、活
性炭処理をひんばんに行なう必要もな−、更に、金属塩
濃度、液温の影響も受けにくく、例えばNl濃度として
20〜160 it/lの範囲で、また液温として20
〜75℃の範囲で作業し得るので、めっき作業管理、め
りき液管理、保守も容1であシ、またこのように金属塩
濃度中液温の影響を受けにくいので、低濃度浴、低温浴
に対しても本発明添加剤を好適に使用し得る。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本
発明は下記の実施例に限定されるものではない。
発明は下記の実施例に限定されるものではない。
〔実施例1〕
下記組成の電気ニッケルめっき液を用い1下記条件でめ
っきを行なりた。
っきを行なりた。
組成 硫酸ニッケル 30011/II塩化ニツ
ケル 5011/1 クエン酸ナトリウム 30 I溶性サッカリ
ン 21 部分ケン化4す酢酸ビニル 0.031PH4,2 条件 カソード 真鍮板 アノード 電気ニッケル板液温 5
5℃ 陰極電流密度 4A/dm” 攪 拌 カソードロッカーめりき
時間 10分間 部分ケン化、39 リ酢酸ビニルとしてけ、日本合成化
学工業(株)製のブーセノールKH20を使用した。
ケル 5011/1 クエン酸ナトリウム 30 I溶性サッカリ
ン 21 部分ケン化4す酢酸ビニル 0.031PH4,2 条件 カソード 真鍮板 アノード 電気ニッケル板液温 5
5℃ 陰極電流密度 4A/dm” 攪 拌 カソードロッカーめりき
時間 10分間 部分ケン化、39 リ酢酸ビニルとしてけ、日本合成化
学工業(株)製のブーセノールKH20を使用した。
得られたニッケル電着物は、平均孔径611tsで、平
均深さ0.1μmの凹部を有する完全なつや消しの梨地
状電着物でありた。
均深さ0.1μmの凹部を有する完全なつや消しの梨地
状電着物でありた。
〔実施例2〕
実施例1の組成において、部分ケン化/ リ酢酸ビニル
として、重合度的50でケン化変約76−のぼり酢酸ビ
ニルの部分ケン化物0.05111I を用い、実施例
1と同じ条件でめっきを行なりた・得られ九二、ケル電
着物は、平均孔径8μmで、平均深さ0.2μmの凹部
を有する完全なつや消しの梨地状電着物であった。
として、重合度的50でケン化変約76−のぼり酢酸ビ
ニルの部分ケン化物0.05111I を用い、実施例
1と同じ条件でめっきを行なりた・得られ九二、ケル電
着物は、平均孔径8μmで、平均深さ0.2μmの凹部
を有する完全なつや消しの梨地状電着物であった。
〔実施例3〕
実施例1の組成において、部分ケy化ぼり酢酸ビニルと
して、ゴーセノールKH20’に過マンガン酸カリウム
によシ酸化分解し、重合度的20としたものo、o s
tt71 を用い、実施例1と同じ条件でめっきを行
なった。
して、ゴーセノールKH20’に過マンガン酸カリウム
によシ酸化分解し、重合度的20としたものo、o s
tt71 を用い、実施例1と同じ条件でめっきを行
なった。
得られ&ニッケル電着物は、平均孔径10μmで、平均
深さ0.3μmの凹部を有する完全なつや消しの梨地状
電着物であう良。
深さ0.3μmの凹部を有する完全なつや消しの梨地状
電着物であう良。
〔実施例4〕
下記組成の電気ニッケルめっき液を用い、下記条件でめ
りきを行なりた。
りきを行なりた。
組成 硫酸ニッケル 2801171塩化二、ケ
ル 45 l 硼酸 40I 溶性サッカリン 2g /9t5ニルメブフレエーづ5し 0
.1171pH4,2 条件 カソード 真鍮板 アノード 電気ニッケル板液 温
55℃陰極電流密度 4A/d
m” 攪 拌 カソードロッカーめりき時
間 10分間 ポリビニルメチルエーテルとしては、BASF社製Lu
t@nal M40t−使用した。
ル 45 l 硼酸 40I 溶性サッカリン 2g /9t5ニルメブフレエーづ5し 0
.1171pH4,2 条件 カソード 真鍮板 アノード 電気ニッケル板液 温
55℃陰極電流密度 4A/d
m” 攪 拌 カソードロッカーめりき時
間 10分間 ポリビニルメチルエーテルとしては、BASF社製Lu
t@nal M40t−使用した。
得られたニッケル電着物は、平均孔径8μmで、平均深
さ0.15μmの凹部を有する白色のきめ細かなつや消
しの梨地状電着物であった。
さ0.15μmの凹部を有する白色のきめ細かなつや消
しの梨地状電着物であった。
〔実施例5〕
実施例4記載の組成において、Lut@mml M2O
3に0.517II添加し、下記方法によりバレルニッ
ケルめっきを行なった。
3に0.517II添加し、下記方法によりバレルニッ
ケルめっきを行なった。
容量101のバレルに1個当p12.6iの表面積を有
する鋼球100個を入れ、この鋼球tカソード、電気ニ
ッケル板をアノードとして液温50℃において60人の
直流を通じ、1分間尚シ5回転の・童しル回転速度で6
0分間バレルめり11行なりた。
する鋼球100個を入れ、この鋼球tカソード、電気ニ
ッケル板をアノードとして液温50℃において60人の
直流を通じ、1分間尚シ5回転の・童しル回転速度で6
0分間バレルめり11行なりた。
得られたニッケル電着物は、平均孔径8μmで1平均深
さ0.15趣の凹部を有する乳白色の完全なつや消しの
梨地状電着物でToうた・ 〔実施例6〕 下記組成の電気ニッケルめうき液を用い、下記条件でめ
5きt行なったー 組成 硫酸ニッケル 2801/1塩化ニツケル
45 を 硼酸 40# 溶性サッカリン 2 # フレ(ン1力/ヌ、AJトンイ汁
IIポリビニルメチルエiチル 0
.05 #−4,2 条件 カソード 鏡面研摩真鍮板アノード
電気ニッケル板液温 55℃ 陰極電流密& 4ム/ dm” めっき時間 5分間 がお、ポリビニルメチルエーテルとしては有機過酸化物
を触媒として合成し九比較的低分子量(平均分子量約1
000)を有するものを用込九。
さ0.15趣の凹部を有する乳白色の完全なつや消しの
梨地状電着物でToうた・ 〔実施例6〕 下記組成の電気ニッケルめうき液を用い、下記条件でめ
5きt行なったー 組成 硫酸ニッケル 2801/1塩化ニツケル
45 を 硼酸 40# 溶性サッカリン 2 # フレ(ン1力/ヌ、AJトンイ汁
IIポリビニルメチルエiチル 0
.05 #−4,2 条件 カソード 鏡面研摩真鍮板アノード
電気ニッケル板液温 55℃ 陰極電流密& 4ム/ dm” めっき時間 5分間 がお、ポリビニルメチルエーテルとしては有機過酸化物
を触媒として合成し九比較的低分子量(平均分子量約1
000)を有するものを用込九。
得られ九二yケル電着物は、平均孔径10μmで、平均
深さ0.2βmの凹部を有する乳白色のつや消しの梨地
状電着物であった。
深さ0.2βmの凹部を有する乳白色のつや消しの梨地
状電着物であった。
〔実施例7〕
実施例4の電気ニッケルめっき液の一部を取り出し、こ
れを10℃に冷却し、再び55℃に加温して元のめつき
液に戻すとbうヒートサイクルを行ない、連続的にlケ
ガ間ニッケルめっきを行なったー なお、ヒートサイクルにおけるめりき液の循環速度は1
時間当シ原めっき液量の1/4とした。を九、ポリビニ
ルメチルエーテルの3優水溶液’i 1 KAH尚p約
300d補給した。
れを10℃に冷却し、再び55℃に加温して元のめつき
液に戻すとbうヒートサイクルを行ない、連続的にlケ
ガ間ニッケルめっきを行なったー なお、ヒートサイクルにおけるめりき液の循環速度は1
時間当シ原めっき液量の1/4とした。を九、ポリビニ
ルメチルエーテルの3優水溶液’i 1 KAH尚p約
300d補給した。
上記実験の結果、1ケ月間に亘って一定なつや消しの梨
地状二、ケル電着物が得られ友。
地状二、ケル電着物が得られ友。
〔実施例8〕
下記組成の電気ニッケルめり無液を用い、下記条件でめ
5mを行なりた。
5mを行なりた。
組成 硫酸ニッケル 28011/1塩化ニツケ
ル 45 I 硼酸 40I 溶性サッカリン 21 1.3.6−ナフタレントリスルホン酸ナトリウム 1
11/11リピニルピロリドン 0.51p
l(4,2 条件 カソード 鉄 板 アノード 電気ニッケル板液 温
55℃陰極電流密度 4ム/
dm雪 攪 拌 カソードロッカーめりき時
間 10分間 表お、Iリピニルビロリドンとしては、RASF’社製
Kolj1don 17を使用した。
ル 45 I 硼酸 40I 溶性サッカリン 21 1.3.6−ナフタレントリスルホン酸ナトリウム 1
11/11リピニルピロリドン 0.51p
l(4,2 条件 カソード 鉄 板 アノード 電気ニッケル板液 温
55℃陰極電流密度 4ム/
dm雪 攪 拌 カソードロッカーめりき時
間 10分間 表お、Iリピニルビロリドンとしては、RASF’社製
Kolj1don 17を使用した。
得られたニッケル電着物は、平均孔径10βmで、平均
深さ0.2μmの凹部を有する完全なつや消しの梨地状
電着物であり九。
深さ0.2μmの凹部を有する完全なつや消しの梨地状
電着物であり九。
出願人 上村工業株式金社
代理人 弁理士 小島隆司
l 弁理士 高畑端世
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 下記式(1) (但し、R及びWはそれぞれ有機残基を示し、m及びn
はそれぞれ1〜3000の整数を表わす。)で示される
主鎖を有し、1%水溶液の曇点が20〜80℃の水溶性
有機化合物を主成分としてなることを特徴とする梨地状
めっき用添加剤。 2、水溶性有機化合物が、式(1)においてR及びWが
それぞれ−OH基、−0CH,基、−QC2H5基。 る特許請求の範囲第1項記載の添加剤。 3、水溶性有機化合物が4り酢酸ビニルの部分けん化物
、lリピニルメチルエーテル、?リピニルピロリドン又
はこれらの共重合体である特許請求の範囲第2項記載の
添加剤。 4、酸性の電気ニッケルめっき又は電気ニッケル合金め
つき用に用いられるものである特許請求の範囲第1項乃
至第3項いずれか記載の添加剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17812581A JPS5881988A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 梨地状めつき用添加剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17812581A JPS5881988A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 梨地状めつき用添加剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5881988A true JPS5881988A (ja) | 1983-05-17 |
| JPS648716B2 JPS648716B2 (ja) | 1989-02-15 |
Family
ID=16043083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17812581A Granted JPS5881988A (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 梨地状めつき用添加剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5881988A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7105082B2 (en) * | 2003-02-27 | 2006-09-12 | Novellus Systems, Inc. | Composition and method for electrodeposition of metal on a work piece |
| US8262894B2 (en) | 2009-04-30 | 2012-09-11 | Moses Lake Industries, Inc. | High speed copper plating bath |
| JP2020524746A (ja) * | 2017-06-23 | 2020-08-20 | アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー | 基材上に装飾ニッケルコーティングを堆積させるためのニッケル電気メッキ浴 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5211133A (en) * | 1975-07-17 | 1977-01-27 | Sony Corp | Electroplating bath |
-
1981
- 1981-11-06 JP JP17812581A patent/JPS5881988A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5211133A (en) * | 1975-07-17 | 1977-01-27 | Sony Corp | Electroplating bath |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7105082B2 (en) * | 2003-02-27 | 2006-09-12 | Novellus Systems, Inc. | Composition and method for electrodeposition of metal on a work piece |
| US8262894B2 (en) | 2009-04-30 | 2012-09-11 | Moses Lake Industries, Inc. | High speed copper plating bath |
| JP2020524746A (ja) * | 2017-06-23 | 2020-08-20 | アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー | 基材上に装飾ニッケルコーティングを堆積させるためのニッケル電気メッキ浴 |
| JP2023090747A (ja) * | 2017-06-23 | 2023-06-29 | アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー ウント コ カーゲー | 基材上に装飾ニッケルコーティングを堆積させるためのニッケル電気メッキ浴 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS648716B2 (ja) | 1989-02-15 |
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