JPS5881988A - 梨地状めつき用添加剤 - Google Patents

梨地状めつき用添加剤

Info

Publication number
JPS5881988A
JPS5881988A JP17812581A JP17812581A JPS5881988A JP S5881988 A JPS5881988 A JP S5881988A JP 17812581 A JP17812581 A JP 17812581A JP 17812581 A JP17812581 A JP 17812581A JP S5881988 A JPS5881988 A JP S5881988A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating
satin
additive
nickel
electrodeposit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP17812581A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS648716B2 (ja
Inventor
Tetsuo Otaka
大高 徹雄
Hiroshi Uotani
魚谷 鴻
Toru Murakami
透 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
Original Assignee
Uemera Kogyo Co Ltd
C Uyemura and Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Uemera Kogyo Co Ltd, C Uyemura and Co Ltd filed Critical Uemera Kogyo Co Ltd
Priority to JP17812581A priority Critical patent/JPS5881988A/ja
Publication of JPS5881988A publication Critical patent/JPS5881988A/ja
Publication of JPS648716B2 publication Critical patent/JPS648716B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は梨地状めっき用の添加剤に関し、特に電気ニッ
ケルめっき液や電気ニッケル合金めっき液等に添加され
て良好な梨地状電着物を与える添加剤に関する。
従来、梨地状ニッケル電着物を得る方法としては、電気
ニッケルめっき液に不溶性の無機非電導性粒子を懸濁さ
せ、ニッケルの電析に際してこの粒子を共析させること
によシ、ニッケル電着物に粗面を形成し、梨地状効果を
与える方法が知られている(特公昭43−405号)。
しかし、この方法は、めっき液の保守管理が困難であり
、めっき液が汚れた時に活性炭処理を行なう場合、不溶
性粒子をF別してから行なわなければならないなどの面
倒もある上、得られた電着物は指紋がつき異いという問
題もあり、更に被めっき物の低電流密度部分が梨地状に
なル難い等の欠点がある。tた、この方法は/4レルめ
っきが行ない難い。
また従来、温度40〜75℃において微細分散状のエマ
ルジョンを生成するエチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイド化合物をめっき液に添加し、めりき時に液温を
上けて液を懸濁させた状態でめっきを行なうことにより
、梨地状ニッケル電着物を得る方法も知られている(4
!公昭46−644号)が、この方法はめっき作業が難
がしく、正常な電着物を得るのに細心の注意が必要であ
り、ま九めっき液の周期的な活性炭処理が要求され、管
理が面倒である。更に、この方法は、めっき液中のエマ
ルジ、ン粒子の凝集が起り易く、凝集した粒子によるビ
ットが生じ易い上、アニオン活性剤勢の有機不純物の混
入に対して敏感でToり、これらが混入した場合に紘良
好な梨地状電着物が得られず、はなはだしい場合はサテ
ン状とならず、光沢電着になる。また更に、この方法は
、めっきの低電流密度部分が黒くなル、低電流密度部分
が梨地状になシ難いという欠点もあり、またこの故にこ
の方法はバレルめりきに不向きである。
本発明者らは、上記事情に鑑み、良好な梨地状電着物を
4える添加剤について鋭意研究を行なっ九結果、下記式
(1) (但し、R及びR′はそれぞれ有機残基な示し、m及び
nはそれぞれ1〜3000の整数を表わす。)で示され
る主鎖を有し、191i水溶液の曇点が20〜80℃の
水溶性有機化合物をニッケルめっき液等に添加すること
によル、高電流密度部分から低電流密度部分に至るまで
良好な梨地状電着物が得られ、・ぐレルめっきが可能で
ある上、上記化合物を添加しためつき液は懸濁粒子の凝
集が起りにくく、また有機不純物に対しても比較的鈍感
でTo17゜めりき作業、めっき液管理も容具であるこ
とを知見し、本発明をなすに至ったものである。
以下、本発明につき詳しく説明する。
本発明の梨地状めりき用の添加剤は、下記式(1)(但
し、R及びR′はそれぞれ有機残基を示し、m及びnは
それぞれ1〜3000の整数を示す。)で示される主鎖
を有し、1LII水溶液の曇点が20〜80℃の水溶性
有機イ些金物を主成分としてなるものである。
この場合、この水溶性有機化合物としては、上記(1)
式においてR及びR′がそれぞれ一〇H基。
−OCH,基* −0C2H5基、 −0COCR,基
、又はよシ具体的には、?り酢酸ビニルの部分けん化物
、ポリビニルメチルエーテル、/リピニルピ四リドン及
びこれら化合物の誘導体、これら化合物O共重合体が好
ましく使用し得る。
なお、lり酢酸ビニルの部分けん化物としては、けん化
度65〜90−1重合度1〜2200のものが好適に使
用し得るが、特に重合度1〜5500ものがより好まし
く、重合度1〜550のものを用いることによってよル
良好な梨地状電着物が得られる。なお、低重合度の部分
けん化ぼり酢酸ビニルを得るには、酢酸ビニルの重合度
を低く抑えるような合成法によるか、高重合度の部分け
ん化Iり酢酸ビニルを過マンガン酸カリウム郷で酸化分
解する方法が採用し得る。具体的には、ポリ酢酸ビニル
の部分けん化物として、日本合成化学工業■社製ゴーセ
ノールKH−20,4−セノールKM−17、これらの
過マンガン酸カリウム等による酸化分解物が使用し得る
。また、ぼりビニルメチルエーテルとしては、重合度1
0〜100.分子量600〜6000のものが好適に使
用し得、例えば比較的高分子量のものとしてBABF社
製のLutonal M 40 %東京化成社製のIリ
ビニルメチルエーテル(3〇−水溶液の粘度が25℃で
3400@pのもの)等が用いられ、またビニルメチル
エーテルよ〕有機過酸化物を触媒として合成した比較的
低分子量のものも好ましく用いられ得る・更に、4リビ
ニルピロリドンとしては重合度100−360のもの、
例えばBASF社製0Kollid@n17.25.3
0等が好適に用いられる・なお、本発明添加剤は上述し
良化合物の1種又は2種以上を含有し得る。
本発明の添加剤は、特に通常pi(2,5〜6の酸性電
気ニッケルめっIIl、ニッケルーコバルト、ニッケル
ー鉄等の二、ケル合金めつき液、更にコノ4ルトめうき
液、コバルト合金めうき液などに添加されて梨地状電着
物を与える。この場合、めっき液としては、ワット浴、
硫酸浴、高塩化浴、スルファミノ酸浴等、公知の浴組成
のものが用いられ得る。
例えば、特に制限されないが、ワットタイグのニッケル
めっき液として下記組成のものが使用され得る。
組   成 Nl”   20〜16(IP/1 C02+O〜1001 F・2+0〜1001 NiC/、7・6 H2O0〜200 1H5B0. 
       20〜60 1−2.5〜69/l めりき条件 陳極電流密度(Dk)     0.01〜20 A/
dm2液   温         20〜75℃攪拌
         カソードロッカー又は静止、空気攪
拌も可能 但し、添加剤としてIり酢酸ビニルの部分けん化物を用
いる場合は、硼酸が存在しているとrル化し謳いため、
硼酸を使用しないか、硼酸の代〕に酢酸、クエン酸やこ
れらの塩郷の緩衝剤を使用することが望ましい、   
本発明添加剤を用いる場合、その添加量は0.01〜1
0ノ/l s特に0.02〜11P/lとすることが好
ましい。
また、上述した(1)式の主鎖を有する化合物を主成分
とする本発明添加剤はそれ単独で使用することもできる
が、溶性す、カリンやジベンゼンスル小ンイtド等のス
ルホンイミド類、パラトルエンスルホンアミド等のスル
ホンアミド類、ナフタリンモノ又はジ又はトリスルホン
酸塩、これらの鰐導体等のニッケルめっき、ニッケル合
金めつき弔の光沢剤、特に−次光沢剤の1種又は2種以
上と併用することが好ましく、これら光沢剤の添加によ
ってよシ外観の良好な梨地状電着物を得ることができる
。なお、これらの光沢剤の添加量は0,1〜101/I
Iとすることが好ましい。
ま九、本発明添加剤を添加し丸めりき液には、必要によ
りオクチルスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリ
ウム等の湿潤剤或いはピット防止剤を適量添加すること
ができる。
本発明の添加剤を用いためつき液よシ梨地状電着物を得
る場合、そのめっき条件は通常のめつき条件を採用し得
るが、めりき温度はめりき液に添加された本発明添加剤
の曇点以上で、めりき液を懸濁もしくは乳化状態として
めv’tiを行なう必要がある。tた、攪拌は必ずしも
必要としないが、カソードロッカーを採用することが好
ましい・なお、■極電流密度は制限されないが、通常0
.01〜20A/dm”の範囲が採用でき、本発明添加
剤を用いることによりこのように低電流密度部分圧も良
好な梨地状電着物を与えるので、本発明添加剤はバレル
めりき用としても好適に使用し得る。なおまた、本発明
添加剤を用いためっき液は一特、公昭46−644号公
報に記載されているようなヒートサイクルを行なうこと
ができる。
本発明添加剤を用いた梨地状めっきは、従来の賜のと同
様にスチール、真鍮、導電化旭環tjilしたプラスチ
ック勢の所望の素地に直接、或いは光沢銅めっきや光沢
ニッケルめっき等を施した後に行なうことができ、素地
の種類や下地めっきの種類は特に制限されない。
而して、本発明の添加剤を用いた梨地状めりき方法によ
れば、低電流密度部分は黒くならず、良好な梨地状電着
物を与えるので、複雑な形状の品物に対しても全体に均
一な梨地状外観を有するめっき物を得ることができ、ま
た上述したようにバレル法によっても良好な梨地状外観
を有するめっき物を得ることができる。また、本発明添
加剤を含有するめつき液は、懸濁もしくは乳化状態にあ
る場合において、粒子の凝集が起りに<<、従りて凝集
粒子に基づくビットが生じ難く、この点からも外観、耐
食性の良いめっき物が得られ、まためつき液の安定性も
高いものであると典に、有機不純物、例えばアニオン、
非イオン、カチオン活性剤の混入の影響を受は難く、活
性炭処理をひんばんに行なう必要もな−、更に、金属塩
濃度、液温の影響も受けにくく、例えばNl濃度として
20〜160 it/lの範囲で、また液温として20
〜75℃の範囲で作業し得るので、めっき作業管理、め
りき液管理、保守も容1であシ、またこのように金属塩
濃度中液温の影響を受けにくいので、低濃度浴、低温浴
に対しても本発明添加剤を好適に使用し得る。
以下、実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本
発明は下記の実施例に限定されるものではない。
〔実施例1〕 下記組成の電気ニッケルめっき液を用い1下記条件でめ
っきを行なりた。
組成 硫酸ニッケル    30011/II塩化ニツ
ケル     5011/1 クエン酸ナトリウム      30 I溶性サッカリ
ン      21 部分ケン化4す酢酸ビニル   0.031PH4,2 条件 カソード      真鍮板 アノード        電気ニッケル板液温   5
5℃ 陰極電流密度    4A/dm” 攪 拌           カソードロッカーめりき
時間      10分間 部分ケン化、39 リ酢酸ビニルとしてけ、日本合成化
学工業(株)製のブーセノールKH20を使用した。
得られたニッケル電着物は、平均孔径611tsで、平
均深さ0.1μmの凹部を有する完全なつや消しの梨地
状電着物でありた。
〔実施例2〕 実施例1の組成において、部分ケン化/ リ酢酸ビニル
として、重合度的50でケン化変約76−のぼり酢酸ビ
ニルの部分ケン化物0.05111I を用い、実施例
1と同じ条件でめっきを行なりた・得られ九二、ケル電
着物は、平均孔径8μmで、平均深さ0.2μmの凹部
を有する完全なつや消しの梨地状電着物であった。
〔実施例3〕 実施例1の組成において、部分ケy化ぼり酢酸ビニルと
して、ゴーセノールKH20’に過マンガン酸カリウム
によシ酸化分解し、重合度的20としたものo、o s
 tt71 を用い、実施例1と同じ条件でめっきを行
なった。
得られ&ニッケル電着物は、平均孔径10μmで、平均
深さ0.3μmの凹部を有する完全なつや消しの梨地状
電着物であう良。
〔実施例4〕 下記組成の電気ニッケルめっき液を用い、下記条件でめ
りきを行なりた。
組成 硫酸ニッケル    2801171塩化二、ケ
ル     45 l 硼酸   40I 溶性サッカリン      2g /9t5ニルメブフレエーづ5し         0
.1171pH4,2 条件 カソード      真鍮板 アノード       電気ニッケル板液  温   
        55℃陰極電流密度    4A/d
m” 攪 拌          カソードロッカーめりき時
間     10分間 ポリビニルメチルエーテルとしては、BASF社製Lu
t@nal M40t−使用した。
得られたニッケル電着物は、平均孔径8μmで、平均深
さ0.15μmの凹部を有する白色のきめ細かなつや消
しの梨地状電着物であった。
〔実施例5〕 実施例4記載の組成において、Lut@mml M2O
3に0.517II添加し、下記方法によりバレルニッ
ケルめっきを行なった。
容量101のバレルに1個当p12.6iの表面積を有
する鋼球100個を入れ、この鋼球tカソード、電気ニ
ッケル板をアノードとして液温50℃において60人の
直流を通じ、1分間尚シ5回転の・童しル回転速度で6
0分間バレルめり11行なりた。
得られたニッケル電着物は、平均孔径8μmで1平均深
さ0.15趣の凹部を有する乳白色の完全なつや消しの
梨地状電着物でToうた・ 〔実施例6〕 下記組成の電気ニッケルめうき液を用い、下記条件でめ
5きt行なったー 組成 硫酸ニッケル    2801/1塩化ニツケル
     45  を 硼酸    40# 溶性サッカリン      2 # フレ(ン1力/ヌ、AJトンイ汁          
  IIポリビニルメチルエiチル        0
.05 #−4,2 条件 カソード       鏡面研摩真鍮板アノード
       電気ニッケル板液温    55℃ 陰極電流密&    4ム/ dm” めっき時間      5分間 がお、ポリビニルメチルエーテルとしては有機過酸化物
を触媒として合成し九比較的低分子量(平均分子量約1
000)を有するものを用込九。
得られ九二yケル電着物は、平均孔径10μmで、平均
深さ0.2βmの凹部を有する乳白色のつや消しの梨地
状電着物であった。
〔実施例7〕 実施例4の電気ニッケルめっき液の一部を取り出し、こ
れを10℃に冷却し、再び55℃に加温して元のめつき
液に戻すとbうヒートサイクルを行ない、連続的にlケ
ガ間ニッケルめっきを行なったー なお、ヒートサイクルにおけるめりき液の循環速度は1
時間当シ原めっき液量の1/4とした。を九、ポリビニ
ルメチルエーテルの3優水溶液’i 1 KAH尚p約
300d補給した。
上記実験の結果、1ケ月間に亘って一定なつや消しの梨
地状二、ケル電着物が得られ友。
〔実施例8〕 下記組成の電気ニッケルめり無液を用い、下記条件でめ
5mを行なりた。
組成 硫酸ニッケル    28011/1塩化ニツケ
ル     45 I 硼酸    40I 溶性サッカリン      21 1.3.6−ナフタレントリスルホン酸ナトリウム 1
11/11リピニルピロリドン      0.51p
l(4,2 条件 カソード      鉄 板 アノード        電気ニッケル板液  温  
         55℃陰極電流密度    4ム/
 dm雪 攪 拌          カソードロッカーめりき時
間     10分間 表お、Iリピニルビロリドンとしては、RASF’社製
Kolj1don 17を使用した。
得られたニッケル電着物は、平均孔径10βmで、平均
深さ0.2μmの凹部を有する完全なつや消しの梨地状
電着物であり九。
出願人 上村工業株式金社 代理人 弁理士 小島隆司 l   弁理士 高畑端世

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 下記式(1) (但し、R及びWはそれぞれ有機残基を示し、m及びn
    はそれぞれ1〜3000の整数を表わす。)で示される
    主鎖を有し、1%水溶液の曇点が20〜80℃の水溶性
    有機化合物を主成分としてなることを特徴とする梨地状
    めっき用添加剤。 2、水溶性有機化合物が、式(1)においてR及びWが
    それぞれ−OH基、−0CH,基、−QC2H5基。 る特許請求の範囲第1項記載の添加剤。 3、水溶性有機化合物が4り酢酸ビニルの部分けん化物
    、lリピニルメチルエーテル、?リピニルピロリドン又
    はこれらの共重合体である特許請求の範囲第2項記載の
    添加剤。 4、酸性の電気ニッケルめっき又は電気ニッケル合金め
    つき用に用いられるものである特許請求の範囲第1項乃
    至第3項いずれか記載の添加剤。
JP17812581A 1981-11-06 1981-11-06 梨地状めつき用添加剤 Granted JPS5881988A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17812581A JPS5881988A (ja) 1981-11-06 1981-11-06 梨地状めつき用添加剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17812581A JPS5881988A (ja) 1981-11-06 1981-11-06 梨地状めつき用添加剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5881988A true JPS5881988A (ja) 1983-05-17
JPS648716B2 JPS648716B2 (ja) 1989-02-15

Family

ID=16043083

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17812581A Granted JPS5881988A (ja) 1981-11-06 1981-11-06 梨地状めつき用添加剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5881988A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7105082B2 (en) * 2003-02-27 2006-09-12 Novellus Systems, Inc. Composition and method for electrodeposition of metal on a work piece
US8262894B2 (en) 2009-04-30 2012-09-11 Moses Lake Industries, Inc. High speed copper plating bath
JP2020524746A (ja) * 2017-06-23 2020-08-20 アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー 基材上に装飾ニッケルコーティングを堆積させるためのニッケル電気メッキ浴

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5211133A (en) * 1975-07-17 1977-01-27 Sony Corp Electroplating bath

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5211133A (en) * 1975-07-17 1977-01-27 Sony Corp Electroplating bath

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7105082B2 (en) * 2003-02-27 2006-09-12 Novellus Systems, Inc. Composition and method for electrodeposition of metal on a work piece
US8262894B2 (en) 2009-04-30 2012-09-11 Moses Lake Industries, Inc. High speed copper plating bath
JP2020524746A (ja) * 2017-06-23 2020-08-20 アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー 基材上に装飾ニッケルコーティングを堆積させるためのニッケル電気メッキ浴
JP2023090747A (ja) * 2017-06-23 2023-06-29 アトテック ドイチェランド ゲーエムベーハー ウント コ カーゲー 基材上に装飾ニッケルコーティングを堆積させるためのニッケル電気メッキ浴

Also Published As

Publication number Publication date
JPS648716B2 (ja) 1989-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3428345C2 (ja)
US3268423A (en) Process of electrodepositing a corrosion resistant nickel-chromium coating
US2927066A (en) Chromium alloy plating
JPH086195B2 (ja) 金および金合金めっき組成物および方法
JPS6056085A (ja) 亜鉛/鉄合金めつき浴及び方法
US3920468A (en) Electrodeposition of films of particles on cathodes
US2654703A (en) Electrodeposition of bright nickel, cobalt, and alloys thereof
NL8104859A (nl) Werkwijze om een laag goud aan te brengen.
JPH0288789A (ja) ビスマス―錫合金電気めっき浴
US4435254A (en) Bright nickel electroplating
JPH02232390A (ja) 難鍍金性金属のための銅鍍金方法
JPH0112840B2 (ja)
JP2003526734A (ja) ニッケル及び塩化物亜鉛電気めっき浴のマクロな均一電着性の改良方法
JP2009149978A (ja) 銅−亜鉛合金電気めっき浴およびこれを用いためっき方法
JPS648716B2 (ja)
CN101874128B (zh) 铜-锌合金电镀浴及使用其的镀敷方法
JPH0319307B2 (ja)
US3202589A (en) Electroplating
JPS59200786A (ja) 硫酸銅メツキ浴及びこれを使用するメツキ方法
JPH0472089A (ja) アルミニウムめっき浴
JPH02301588A (ja) 錫,鉛,錫―鉛合金電気めっき浴及び電気めっき方法
JPS63114997A (ja) 電気めつき方法
JPS61223194A (ja) 金/スズ合金被膜の電着浴
CA1045577A (en) Electrodeposition of bright tin-nickel alloy
US2744063A (en) Electrodeposition of tin-antimonycopper alloys