JPS5885857A - メルカプトシクロペンテノン類の製造方法 - Google Patents
メルカプトシクロペンテノン類の製造方法Info
- Publication number
- JPS5885857A JPS5885857A JP18590881A JP18590881A JPS5885857A JP S5885857 A JPS5885857 A JP S5885857A JP 18590881 A JP18590881 A JP 18590881A JP 18590881 A JP18590881 A JP 18590881A JP S5885857 A JPS5885857 A JP S5885857A
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- JP
- Japan
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- cyclobentenone
- acetylthio
- lower alkyl
- methyl
- compound
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、一般式(I)
(式中、 R1は水素原子または低級アルキル基を、
Rzは水漏原子、低級アルキル基、低級アルケニル基ま
たは低級アルキニル基をそれぞれ示す。) で示されるメルカプトシクロベンテノン類の製造方法に
関する。
Rzは水漏原子、低級アルキル基、低級アルケニル基ま
たは低級アルキニル基をそれぞれ示す。) で示されるメルカプトシクロベンテノン類の製造方法に
関する。
上記一般式(1)で示されるメルカプトシクロベンテノ
ン類は農薬およびその中間体として極めて1要なもので
あり、たとえば薄酸と反応させて−tiestts導体
とすることにより新しい農薬として使用されるものであ
り1価値ある化合物である。
ン類は農薬およびその中間体として極めて1要なもので
あり、たとえば薄酸と反応させて−tiestts導体
とすることにより新しい農薬として使用されるものであ
り1価値ある化合物である。
かかるメルカプトシクロベンテノン類は本発明イらによ
って籾めて見出された化合物であり。
って籾めて見出された化合物であり。
その製造法についても8−ヒドロキシ−4−シクロベン
テノン類と硫化水素を反応させる方法?1 をすlに提案しているが、この方法は硫化水素を用いる
ためにその取扱い、廃ガス処理等に間−題があり1本発
明イらは硫化水素を使用しない新しい製造方法について
更に検討の結果、アセチルチオシクロベンテノン類を加
水分解することによって好収率で目的物が得られる工業
的にも有利な方法を見出し1本発明を完成するに至った
。
テノン類と硫化水素を反応させる方法?1 をすlに提案しているが、この方法は硫化水素を用いる
ためにその取扱い、廃ガス処理等に間−題があり1本発
明イらは硫化水素を使用しない新しい製造方法について
更に検討の結果、アセチルチオシクロベンテノン類を加
水分解することによって好収率で目的物が得られる工業
的にも有利な方法を見出し1本発明を完成するに至った
。
すなれ、ち本発明は、一般式(I[)
(式中、Rは低級アルキル基を示し、&1およびR意は
前記と同じ意味を有する。) で示されるシクロベンテノン類を酸磯たはアルカリの存
在下に加水分解することを特徴、とする@1記一般式(
I)Q示されるメルカプトシクロベンテノン類の製造方
法である。
前記と同じ意味を有する。) で示されるシクロベンテノン類を酸磯たはアルカリの存
在下に加水分解することを特徴、とする@1記一般式(
I)Q示されるメルカプトシクロベンテノン類の製造方
法である。
本発明において、原料として用いられる一般式(I[)
で示されるシクロベンテノン類は、たとえば次式に示さ
れるように8−ヒドロキシシクロベンテノン類とチオ有
機酸とから容易に合成することができる。
で示されるシクロベンテノン類は、たとえば次式に示さ
れるように8−ヒドロキシシクロベンテノン類とチオ有
機酸とから容易に合成することができる。
(式中、R,R1およびR1は前記と同じ4味を仔する
。) かかる一般式(1)で示されるシクロベンテノン類とし
ては、tととえば2−メチル−4−アセチルチオ−2−
ジクロベンテノン、2−エチル−4−アセチルチオ−2
−シクロベンテノン、2−n−プロピル−4−アセチル
チオ−2−シクロベンテノン、2−n−ペンチル−4−
アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−n−ヘキシ
ル−4−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−ア
リル−4−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−
(2−シス−ブテニル)−4−アセチルチオ−2−シク
ロベンテノン、2−(2−シス−ペンテニル)−4−ア
セチル1チオ−2−シクロベンテノン、2−(2−トラ
ンス−ペンテニル)−4−アセチルチオー2−シクロベ
ンテノン%2−(8−シス−ヘキセニル)−4−アセチ
ルチオ−2−シクロベンテノン、2−プロパルギル−4
−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−(2−ペ
ンチニル)−4−アセチルチオ−2−シクロベンテノン
、2−メチル−8−メチル−4−アセチルチオ−2−シ
クロベンテノン、2−エチル−8−メチル−4−アセチ
ルチオ−2−シクロベンテノン。
。) かかる一般式(1)で示されるシクロベンテノン類とし
ては、tととえば2−メチル−4−アセチルチオ−2−
ジクロベンテノン、2−エチル−4−アセチルチオ−2
−シクロベンテノン、2−n−プロピル−4−アセチル
チオ−2−シクロベンテノン、2−n−ペンチル−4−
アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−n−ヘキシ
ル−4−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−ア
リル−4−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−
(2−シス−ブテニル)−4−アセチルチオ−2−シク
ロベンテノン、2−(2−シス−ペンテニル)−4−ア
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ルチオ−2−シクロベンテノン、2−プロパルギル−4
−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−(2−ペ
ンチニル)−4−アセチルチオ−2−シクロベンテノン
、2−メチル−8−メチル−4−アセチルチオ−2−シ
クロベンテノン、2−エチル−8−メチル−4−アセチ
ルチオ−2−シクロベンテノン。
2−n−プロピル−8−メチル−4−アセチルチオ−2
−シクロベンテノン、2−n−ブチル−8−メチル−4
−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−n−ペン
チル−8−メチル−4二′アセチルチオ−2−シクロベ
ンテノン、2−n−へキシル−8−メチル−4−アセチ
ルチオ−2−シクロベンテノン、2−アリル−8−メチ
ル−4−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−(
2−シス−ブテニル)−8−メチル−4−アセチルチオ
−2−シクロベンテノン。
−シクロベンテノン、2−n−ブチル−8−メチル−4
−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−n−ペン
チル−8−メチル−4二′アセチルチオ−2−シクロベ
ンテノン、2−n−へキシル−8−メチル−4−アセチ
ルチオ−2−シクロベンテノン、2−アリル−8−メチ
ル−4−アセチルチオ−2−シクロベンテノン、2−(
2−シス−ブテニル)−8−メチル−4−アセチルチオ
−2−シクロベンテノン。
2−(2−シス−ペンテニル)−8−メチル−4−アセ
チルチオ−2−シクロペンテン%2−(2−トランス−
ペンテニル)−8−メチ゛ル−4−7セチルチオー2−
シクロベンテノン、2−(8−シス−ヘキセニル)−8
−メチル−4−アセチルチオ−2−シクロペンテノン。
チルチオ−2−シクロペンテン%2−(2−トランス−
ペンテニル)−8−メチ゛ル−4−7セチルチオー2−
シクロベンテノン、2−(8−シス−ヘキセニル)−8
−メチル−4−アセチルチオ−2−シクロペンテノン。
2−プロパルギル−8−メチル−4−アセチルチオ−2
−シクロベンテノン、2−(2−ペンチニル)−4−ア
セチルチオ−2−シクロベンテノンなどが例示され、さ
らに上記化合物において4−アセチルチオにかわって4
−プロピオニルチオ体があげられる。
−シクロベンテノン、2−(2−ペンチニル)−4−ア
セチルチオ−2−シクロベンテノンなどが例示され、さ
らに上記化合物において4−アセチルチオにかわって4
−プロピオニルチオ体があげられる。
一般式(I[)化合物の加水分解は、アルカリまたは酸
の仔在下に溶媒を用いて実施される。
の仔在下に溶媒を用いて実施される。
この反応で用いられる溶媒としては、たとえば、水、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエ
ン、クロロホルム。
オキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、ベンゼン、トルエ
ン、クロロホルム。
ジクロルメタン、ジエチルエーテル、メタノール、エタ
ノール、フロパノールttトcvBHm1M&しくは芳
香族炭化水素、エーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコ
ーノ1等の反応に不活性な浴謀の単独または混合物があ
げられる。
ノール、フロパノールttトcvBHm1M&しくは芳
香族炭化水素、エーテル、ハロゲン化炭化水素、アルコ
ーノ1等の反応に不活性な浴謀の単独または混合物があ
げられる。
この反応において、加水分解用の水は必須であり、少く
とも原料に対して当モル以上を必要\ とするが、通常は大過剰を浴媒とともに用いる。
とも原料に対して当モル以上を必要\ とするが、通常は大過剰を浴媒とともに用いる。
この反応において用いるアルカリまたは酸は。
たとえばアルカリとしては苛性ソーダ、苛性カリ、炭酸
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム。
水素ナトリウム、炭酸水素カリウム。
水酸化バリウム、トリエチルアミン、ピリジン等の通常
の塩基が挙げられ、また酸としては塩4m、 硫酸、リ
ン酸、硝酸、トルエンスルホン酸。
の塩基が挙げられ、また酸としては塩4m、 硫酸、リ
ン酸、硝酸、トルエンスルホン酸。
ベンゼンスルホン酸、メタンスルホシ酸、酢酸等の通常
の酸が挙げられる。
の酸が挙げられる。
これらアルカリまたは酸の使用量は特に限定されないが
1通量一般式(1)のシクロベンテノン類に対してアル
カリが0.2〜10モル倍、酸が0.05〜6モル倍で
ある。
1通量一般式(1)のシクロベンテノン類に対してアル
カリが0.2〜10モル倍、酸が0.05〜6モル倍で
ある。
この反応において、触媒の添加は反応速度の向上1反応
率の増加等の点で有効である。
率の増加等の点で有効である。
触媒を用い1合、その触媒としては有機第4級アンモニ
ウム塩、界面活性剤、高級アルコール等が使用され、具
体的にはテトラブチルアンモニウムプロミド、ベンジル
トリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチル
ア〉モニウムクロリド、トリカプリルメチルアンモニウ
ムクロリド、カブリルベンジルジメチルアンモニワムク
ロリド、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテ
ル、高級脂肪酸塩などが挙げられる。
ウム塩、界面活性剤、高級アルコール等が使用され、具
体的にはテトラブチルアンモニウムプロミド、ベンジル
トリメチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチル
ア〉モニウムクロリド、トリカプリルメチルアンモニウ
ムクロリド、カブリルベンジルジメチルアンモニワムク
ロリド、ポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテ
ル、高級脂肪酸塩などが挙げられる。
触媒を便用する場合、その使用量−は任意であるが、一
般的にはシクロベンテノン類に対して11500〜1モ
ル倍である。
般的にはシクロベンテノン類に対して11500〜1モ
ル倍である。
反応温匣は通N−20〜120℃であり、好ましくは−
io〜90℃である。
io〜90℃である。
かくして、一般式(I)で示されるメルカプトシクロベ
ンテノン類が容易にカヤつ好収率で得られ、これらは通
常の分離生膜、たとえば抽出、分液、濃縮、蒸留等によ
り反応混合物から容易に分離することができる。
ンテノン類が容易にカヤつ好収率で得られ、これらは通
常の分離生膜、たとえば抽出、分液、濃縮、蒸留等によ
り反応混合物から容易に分離することができる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
攪拌装置、温度計を装着した四ツ目フラスコに2−アリ
ル−8−メチル−4−アセチルチオ−2−シクロベンテ
ノン10.6fおよびメタノール50Fを仕込む。反応
液中にN重ガスをバブリングしながら6X苛性ソーダ水
溶液48fを内温を10〜15℃に保ちながら80分に
て加える。後、26〜60℃にて8時間保温する。
ル−8−メチル−4−アセチルチオ−2−シクロベンテ
ノン10.6fおよびメタノール50Fを仕込む。反応
液中にN重ガスをバブリングしながら6X苛性ソーダ水
溶液48fを内温を10〜15℃に保ちながら80分に
て加える。後、26〜60℃にて8時間保温する。
反応終了後10%塩酸にて反応混合物を中和シ、さらに
エーテル60−にて8回抽出をおこなう。エーテル層を
まとめて濃縮すると。
エーテル60−にて8回抽出をおこなう。エーテル層を
まとめて濃縮すると。
2−アリル−8−メチル−4−メルカプト−2−シクロ
ベンテノンを得る。
ベンテノンを得る。
4量7・sy(収率94%う
精製すればnDl、5488を示す。
実施例2
実施例1と同様のフラスコに2−n−ペンチル−8−メ
チル−4−ア老チルチオー2−シクロベンテノン12f
およびテトラヒドロフラン60fを仕込む。N重ガスを
液中にバブリングしながら6%苛性ソーダ水溶液48f
を10〜20℃にて加える。以下実施例1に準じて反応
を行い、後処理して2−n−ペンチル−8−メチル4−
メルカプト−2−シクロベンテノンを得る。
チル−4−ア老チルチオー2−シクロベンテノン12f
およびテトラヒドロフラン60fを仕込む。N重ガスを
液中にバブリングしながら6%苛性ソーダ水溶液48f
を10〜20℃にて加える。以下実施例1に準じて反応
を行い、後処理して2−n−ペンチル−8−メチル4−
メルカプト−2−シクロベンテノンを得る。
得意 8.9 f (収率90%)
n o” 1−5216
実施例8
実施例1と同様のフラスコに2−n−ペンチル−4−ア
セチルチオ−2−シクロベンテノン11.8fおよびエ
タノール50gを仕込む。N2ガスを液中にバブリング
しながら6%竹性ソーダ水溶液40fを内温を16〜2
0℃に保ちながら、1時間かかって加える。以下実施例
1に準じて後処理を行い、2−n −ペンチル−4−メ
ルカプト−2−シクロベンテノンを8.8f得る。
セチルチオ−2−シクロベンテノン11.8fおよびエ
タノール50gを仕込む。N2ガスを液中にバブリング
しながら6%竹性ソーダ水溶液40fを内温を16〜2
0℃に保ちながら、1時間かかって加える。以下実施例
1に準じて後処理を行い、2−n −ペンチル−4−メ
ルカプト−2−シクロベンテノンを8.8f得る。
収率 91%
実施例4
実施例1と同様のフラスコに2−(2−シス−ペンテニ
ル)−8−メチル−4−アセチルチオー2−シクロベン
テノン11.9g%テトラブチルアンモニウムプロミド
0.051およびエタノール5Ofを仕込む。Ntガス
を液中にバブリングしながら、5%苛性ソーダ水溶液4
41を内温lO〜20℃にて加える。
ル)−8−メチル−4−アセチルチオー2−シクロベン
テノン11.9g%テトラブチルアンモニウムプロミド
0.051およびエタノール5Ofを仕込む。Ntガス
を液中にバブリングしながら、5%苛性ソーダ水溶液4
41を内温lO〜20℃にて加える。
さらに60℃にて8時間攪拌を続ける。以下実施例1に
準じて後処理を行い、2−(2−シスーペンテニ)b)
−6−メチ°゛ルー4−メルカプト−2−シクロベンテ
ノンをs、8jLMる。
準じて後処理を行い、2−(2−シスーペンテニ)b)
−6−メチ°゛ルー4−メルカプト−2−シクロベンテ
ノンをs、8jLMる。
収率 90%
実施例6
実施例1と同様のフラスコに2−メチル−8−アセチル
チオ−8−メチル−2−シクロベンテノン9.2gおよ
びエタノール401を仕込む。N!ガスを液中にバブリ
ングしながら、1規定塩酸水Logを内温20〜80℃
にて加える。後−50〜70℃にて4時間加熱を続ける
。
チオ−8−メチル−2−シクロベンテノン9.2gおよ
びエタノール401を仕込む。N!ガスを液中にバブリ
ングしながら、1規定塩酸水Logを内温20〜80℃
にて加える。後−50〜70℃にて4時間加熱を続ける
。
以下実施例1に準じて後処理を行い、2.8−ジメチル
−4−メルカプト−2−シクロベンテノンを6.2f得
る。
−4−メルカプト−2−シクロベンテノンを6.2f得
る。
収率 87%
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 (式中、Rは低級アルキル基を、 Rtは水素原子また
は低級アルキル基を、勤は水素原子。 低級アルキル基、低級アルケニル基または低級アルキニ
ル基をそれぞれ示す、) で示されるシクロベンテノン類を加水分解することを特
徴とする一般式 (式中、 R1および勧は前記と同じ意味を有する) で示されるメルカプトシクロベンテノン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18590881A JPS5885857A (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | メルカプトシクロペンテノン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18590881A JPS5885857A (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | メルカプトシクロペンテノン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5885857A true JPS5885857A (ja) | 1983-05-23 |
| JPS632428B2 JPS632428B2 (ja) | 1988-01-19 |
Family
ID=16178981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18590881A Granted JPS5885857A (ja) | 1981-11-18 | 1981-11-18 | メルカプトシクロペンテノン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5885857A (ja) |
-
1981
- 1981-11-18 JP JP18590881A patent/JPS5885857A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS632428B2 (ja) | 1988-01-19 |
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