JPS5885932A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS5885932A JPS5885932A JP56182848A JP18284881A JPS5885932A JP S5885932 A JPS5885932 A JP S5885932A JP 56182848 A JP56182848 A JP 56182848A JP 18284881 A JP18284881 A JP 18284881A JP S5885932 A JPS5885932 A JP S5885932A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- cobalt
- recording medium
- magnetic recording
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/722—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing an anticorrosive material
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
未発＃４Ｆｉ、強磁性金属薄膜層の上６保護層が設けら
れた磁気記録媒体に関する。
れた磁気記録媒体に関する。
従来、磁気記録媒体としては、酸化鉄などの針状磁性粉
あるいは、強磁性合金の超微粉末を樹脂バインダー中に
分散し、これを非磁性基材上に塗布した磁気Ｅ録媒体が
、広く用いられてきた。
あるいは、強磁性合金の超微粉末を樹脂バインダー中に
分散し、これを非磁性基材上に塗布した磁気Ｅ録媒体が
、広く用いられてきた。
しかしながら、近年、情報ｏｔｂｖｎ度記録化の擬Ｍが
、該磁気記録媒体に対して強くなされ、植々の改良がな
シれてき九が、上記従来の塗布型磁気記録媒体では、記
録室Ｋがほぼその限界に刺違し、それ以上に記録密度を
高めることが原理的に不可能であるため、この為ＩＦ度
記録０養＠に答え難かった。
、該磁気記録媒体に対して強くなされ、植々の改良がな
シれてき九が、上記従来の塗布型磁気記録媒体では、記
録室Ｋがほぼその限界に刺違し、それ以上に記録密度を
高めることが原理的に不可能であるため、この為ＩＦ度
記録０養＠に答え難かった。
この丸め、最近、記録密度の飛躍的場大倉目的に、樹脂
バインダーを＆用せず強磁性金属薄膜層を磁気記録層と
する磁気ε録媒体が湿式メツ＋、 Ｊ［［ｌ、スーツ声
リング、イオンブレーティング等の薄Ｈ形！Ｅ＆により
精力的に研究側脅され一耶英用に供応れている。
バインダーを＆用せず強磁性金属薄膜層を磁気記録層と
する磁気ε録媒体が湿式メツ＋、 Ｊ［［ｌ、スーツ声
リング、イオンブレーティング等の薄Ｈ形！Ｅ＆により
精力的に研究側脅され一耶英用に供応れている。
しかしながら、該強磁性金属薄膜、ｌ１ｒｉ、瀘富の放
置状態にあっても、酸化され易く、嫌気性能が経時的に
劣化するという記録保存媒体とじては致命的な欠陥があ
る。又該表面を手指で触れただけでも該部分が急速に腐
蝕した夛する・更には、記録再生時に於いては、ヘッド
との接触走査によって鉄薄膜層か容Ｊ！ＩＩｃ飼離、摩
滅、損傷、脱落を起むしたり、若しくはヘッドククシュ
現象を生ずる。
置状態にあっても、酸化され易く、嫌気性能が経時的に
劣化するという記録保存媒体とじては致命的な欠陥があ
る。又該表面を手指で触れただけでも該部分が急速に腐
蝕した夛する・更には、記録再生時に於いては、ヘッド
との接触走査によって鉄薄膜層か容Ｊ！ＩＩｃ飼離、摩
滅、損傷、脱落を起むしたり、若しくはヘッドククシュ
現象を生ずる。
上記欠陥を改善するため、該強磁性金属薄膜の表凹上に
種々の保護ｍｔ＆けることが撮来されている。例えは、
溶液塗布法による高分子被膜を形成したや、クロ＾酸晃
、理によって反応被膜を形成したり、電解メッキ、無電
解メッキなどの湿式メッキ法により金属薄膜を形成した
り、或いはｉ化雰囲気中で記録媒体を高温加熱処理し１
１強磁性金属薄膜の表向上に酸化被膜を形成したりする
など多くの方法が艶来されているが、いまだ充分な保護
層を得るに至っておらず又その形成方法にも植々の解決
しなければならぬ間） 照点を多くかかえている。即ち、塗布によって一分子被
ｌａｋ杉成する方法では、塗布工程が必要でるり又溶剤
回収あるいは公害防止の丸めの大きな付帯獣儂ｔ−ＩＩ
シ、更に十分な耐腐蝕性を与えるＫは数ミクロン以上Ｏ
Ｉｍ厚を要しこれが記録密度の低下を招くという欠点を
何していた。
種々の保護ｍｔ＆けることが撮来されている。例えは、
溶液塗布法による高分子被膜を形成したや、クロ＾酸晃
、理によって反応被膜を形成したり、電解メッキ、無電
解メッキなどの湿式メッキ法により金属薄膜を形成した
り、或いはｉ化雰囲気中で記録媒体を高温加熱処理し１
１強磁性金属薄膜の表向上に酸化被膜を形成したりする
など多くの方法が艶来されているが、いまだ充分な保護
層を得るに至っておらず又その形成方法にも植々の解決
しなければならぬ間） 照点を多くかかえている。即ち、塗布によって一分子被
ｌａｋ杉成する方法では、塗布工程が必要でるり又溶剤
回収あるいは公害防止の丸めの大きな付帯獣儂ｔ−ＩＩ
シ、更に十分な耐腐蝕性を与えるＫは数ミクロン以上Ｏ
Ｉｍ厚を要しこれが記録密度の低下を招くという欠点を
何していた。
又クロム酸処ｍによって被膜を形成する方法では、６価
クロムの何番性から排水処Ｍ等に上記と同様の欠Ｊ：Ｌ
を有する。湿式メッキ法による耐蝕性金属被膜を形成す
る方法では、得られる被膜の耐摩耗性が小さく、容易に
損傷ｔ−受ける。
クロムの何番性から排水処Ｍ等に上記と同様の欠Ｊ：Ｌ
を有する。湿式メッキ法による耐蝕性金属被膜を形成す
る方法では、得られる被膜の耐摩耗性が小さく、容易に
損傷ｔ−受ける。
真′！！蒸着ｔｋによって上ε耐蝕性金ＪＩＩ＆被膜を
形成する方法も試みられているが、耐摩耗性が充分でな
いという欠点ｔ″有している。更に、酸化雰囲気中で記
録媒体を高温加熱処理し、酸化被膜を形成する方法では
、基材をポリエチレンテレフタレート等の高分子材料と
する記録媒体では熱変形を生じるという欠点を有し、又
強磁性金層薄膜自体も加熱処理によ）結晶構造等の変化
を受は磁気特性が良化を得けるなどの欠ａｔ有している
。
形成する方法も試みられているが、耐摩耗性が充分でな
いという欠点ｔ″有している。更に、酸化雰囲気中で記
録媒体を高温加熱処理し、酸化被膜を形成する方法では
、基材をポリエチレンテレフタレート等の高分子材料と
する記録媒体では熱変形を生じるという欠点を有し、又
強磁性金層薄膜自体も加熱処理によ）結晶構造等の変化
を受は磁気特性が良化を得けるなどの欠ａｔ有している
。
本発明の目的は、上記従来の欠点を解消し、耐摩耗性上
耐腐蝕性に優れた磁気記録媒体ｔ−艷供することを目的
としてなされ九−のでＴｏす、そ０！１旨は、非磁性材
料からなる基材上に形ｗ１．されたコパル）１主体とす
る□強磁性薄膜層の上にコバルトを主体とする非磁性合
金からなる保護層が設けられてな夛、上記コバルトを主
体とする合金の組成がコールド５０〜７０重量％、クロ
ム１７〜８５１１Ｉ１％、タングステン６重量％以ド、
鉄４重量％以下及び炭素１５重量％以下でめることｔ特
徴とする磁気記録媒体に存する。
耐腐蝕性に優れた磁気記録媒体ｔ−艷供することを目的
としてなされ九−のでＴｏす、そ０！１旨は、非磁性材
料からなる基材上に形ｗ１．されたコパル）１主体とす
る□強磁性薄膜層の上にコバルトを主体とする非磁性合
金からなる保護層が設けられてな夛、上記コバルトを主
体とする合金の組成がコールド５０〜７０重量％、クロ
ム１７〜８５１１Ｉ１％、タングステン６重量％以ド、
鉄４重量％以下及び炭素１５重量％以下でめることｔ特
徴とする磁気記録媒体に存する。
本発明に於いて＃！ｔ＠される基材は非磁性材料からな
るものであって、その形状は磁気記録媒体の使用形態に
応じて適宜定めればよく、たとえばテープ、７４ル＾、
ディスク、ドクム等の形状があげられる。
るものであって、その形状は磁気記録媒体の使用形態に
応じて適宜定めればよく、たとえばテープ、７４ル＾、
ディスク、ドクム等の形状があげられる。
上記非磁性材料としては、まとえは、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ボリグロビレン、ボ魯１塩化ビニ＝、ポリ７ツ化ビ
ニル、酢酸セＡ／′ａ−ス、鯵酸プチルセＩｙｕ−ス、
ポｔ３カーボネート、ポリアミド、ボダエーテ７４／デ
ル７オン、ポリパラバン酸等の高分子材料、ガラス、磁
器、Ｍｉｌ！！吟の七ツミツク材料の他、アルミニク＾
、銅、銅−亜鉛合金等の非磁性金属材料があげられる。
フタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ボリグロビレン、ボ魯１塩化ビニ＝、ポリ７ツ化ビ
ニル、酢酸セＡ／′ａ−ス、鯵酸プチルセＩｙｕ−ス、
ポｔ３カーボネート、ポリアミド、ボダエーテ７４／デ
ル７オン、ポリパラバン酸等の高分子材料、ガラス、磁
器、Ｍｉｌ！！吟の七ツミツク材料の他、アルミニク＾
、銅、銅−亜鉛合金等の非磁性金属材料があげられる。
未発ｔ１４に歎いては、初めに上記非磁性基材の責面上
に強磁性金層の薄膜磁性層が形成されるがｃ ０１１１
１１ｍ ｉｔコバルト又はコバルトを主体とする合金で
形成された、プ、４Ｊ＆／）を主体とじ強磁性を示す薄
ａｍであるＯ 上ε強磁性薄膜層は、物理蒸着＆によす杉ｖＬされるの
が好ましく、例えば、真空蒸着法、スーツタ呼ング泳、
イオンブレーティング法、ククスターイオンビー＾法等
Ｏ樵々の蒸着法が採用できるが、とくに高真空中に於て
なされる為真空イオンブレーティング法及びクラスター
イオンビーＡ法を採用するのが基材−へＯＳ看２強度、
磁気特性、製造効率等の１ｉｌｌからして好まし＆１゜
又、蒸着層の厚さは得ようとする記録媒体の用途に応じ
て適宜法ｉ！されてよく、電電は数百〜数千オングスト
ロームの５１１ｍである。
に強磁性金層の薄膜磁性層が形成されるがｃ ０１１１
１１ｍ ｉｔコバルト又はコバルトを主体とする合金で
形成された、プ、４Ｊ＆／）を主体とじ強磁性を示す薄
ａｍであるＯ 上ε強磁性薄膜層は、物理蒸着＆によす杉ｖＬされるの
が好ましく、例えば、真空蒸着法、スーツタ呼ング泳、
イオンブレーティング法、ククスターイオンビー＾法等
Ｏ樵々の蒸着法が採用できるが、とくに高真空中に於て
なされる為真空イオンブレーティング法及びクラスター
イオンビーＡ法を採用するのが基材−へＯＳ看２強度、
磁気特性、製造効率等の１ｉｌｌからして好まし＆１゜
又、蒸着層の厚さは得ようとする記録媒体の用途に応じ
て適宜法ｉ！されてよく、電電は数百〜数千オングスト
ロームの５１１ｍである。
又、本発明Ｏ磁気ε録媒体においては上ε強磁性薄ＩＩ
ＩｙＩＡ上にコバルトを主体とする非磁性合金からなる
保護ｍが設けられているのである。そして該保護ｌｌｌ
ｌｆｔ形武するコパルト合金の組成はコパル）６０〜７
０重３１％、り０Ａ１７〜３ｓ璽蓋％、タングステン６
重ｔ＊以下、鉄４重量％以下及び炭素ＬＳ重量％以丁と
されるのであり、Ｃの様に組成が特定されることにより
、耐摩れ性及び耐食性にすぐれ、かつ磁性層の磁気特性
に悪影響を与えることのない非磁性の保護層が得られる
のである。
ＩｙＩＡ上にコバルトを主体とする非磁性合金からなる
保護ｍが設けられているのである。そして該保護ｌｌｌ
ｌｆｔ形武するコパルト合金の組成はコパル）６０〜７
０重３１％、り０Ａ１７〜３ｓ璽蓋％、タングステン６
重ｔ＊以下、鉄４重量％以下及び炭素ＬＳ重量％以丁と
されるのであり、Ｃの様に組成が特定されることにより
、耐摩れ性及び耐食性にすぐれ、かつ磁性層の磁気特性
に悪影響を与えることのない非磁性の保護層が得られる
のである。
なお上記合金ｍ成において、タングステンは６重置％以
下、鉄は４重量％、炭素はＬｉ重量％以下の量でそれぞ
れ存在することが必要とされるのてあり、その下限にい
ずれも限定されるＣとはないが、タングステン、鉄及び
炭素の各々がいずれもＱＳ重量％以上含まれることが好
ましい。
下、鉄は４重量％、炭素はＬｉ重量％以下の量でそれぞ
れ存在することが必要とされるのてあり、その下限にい
ずれも限定されるＣとはないが、タングステン、鉄及び
炭素の各々がいずれもＱＳ重量％以上含まれることが好
ましい。
父、上記保護層’ｔＷｅｖ１．させるには、前記強磁性
薄膜層の形成と同様、槙々の物理蒸着法が用いられ得る
がとくに、高真空イオンブレーティング法が採用される
のが好ましい。しかして、１ｉｌＩ真空イオンブレーテ
イング法とは、加熱蒸発粒子の平均自由行程が少なくと
−５００−以上であるような、例えば略１０−４ ）−
に以下の、高真空中ｖｃ渋て、該蒸発粒子の一部を加速
電子の衝撃によ）イオン化して正の原子状イオンを生成
させ、該イオンを電界効果により加速するこ七で１０
＠Ｖ以上の運動エネルギーを付与せしめて、α１〜ａ５
ｅＶの範囲内の運動エネルギーを有する中性蒸発粒子と
ともに基材麦自上に入射せしめて薄ａｔ形成する方法で
ある。
薄膜層の形成と同様、槙々の物理蒸着法が用いられ得る
がとくに、高真空イオンブレーティング法が採用される
のが好ましい。しかして、１ｉｌＩ真空イオンブレーテ
イング法とは、加熱蒸発粒子の平均自由行程が少なくと
−５００−以上であるような、例えば略１０−４ ）−
に以下の、高真空中ｖｃ渋て、該蒸発粒子の一部を加速
電子の衝撃によ）イオン化して正の原子状イオンを生成
させ、該イオンを電界効果により加速するこ七で１０
＠Ｖ以上の運動エネルギーを付与せしめて、α１〜ａ５
ｅＶの範囲内の運動エネルギーを有する中性蒸発粒子と
ともに基材麦自上に入射せしめて薄ａｔ形成する方法で
ある。
該高真空イオンブレーティング法により前記磁性層表山
上にコバルトを主体とする非磁性合金からなる保護！ｊ
Ａ１に形成すると高エネルギーイオンＯ１！着表面への
入射過程における該表向でのマイグレーション効果、ス
パッタ作用、イオン注入効果、自己加熱効果等により、
形成される薄膜は磁性層との密着強度が高く、膜自体の
ノ鬼ツキングデンシティの大きな貴重平滑な良質の膜と
なるのである。
上にコバルトを主体とする非磁性合金からなる保護！ｊ
Ａ１に形成すると高エネルギーイオンＯ１！着表面への
入射過程における該表向でのマイグレーション効果、ス
パッタ作用、イオン注入効果、自己加熱効果等により、
形成される薄膜は磁性層との密着強度が高く、膜自体の
ノ鬼ツキングデンシティの大きな貴重平滑な良質の膜と
なるのである。
以下図面１！照し１に−Ｓら、更に詳細に本発明を説明
する。
する。
第１図は、本発明磁気記録媒体ｔ−１Ｉ１１３Ｉ！する
ための装置の一例を示す概略図である。
ための装置の一例を示す概略図である。
そして図中１．ｓｒｓ互いに連結された真空容器であり
、これらの真空容ｌ１ｔｉ、排気口３．４にそれぞれ連
結される排気系装置（油回転ポンプ油拡散ポンプ等で構
ａｇれているが図示されていない）によってｌＸｌ０−
’）−ル以下の高真空に排気されるようになされており
、真空容４１内には強磁性金属からなる磁性層ｔＮｔ形
成するまめの萄電蒸発粒子及び中性ＩＩｋ尭粒子粒子生
源５が、又真空餐ｓ２円には保護層を蒸着パルするため
の同様の発生源６．６′がそれぞれ配置されている◎ 烏分子フィルムからなる基材７は、供給ロール易、巻取
りローｊ＆／９、ガイドローＡ’１０，１１゜１２．１
！、１４．Ｘｉ及びイオン加速用電極兼水冷用ドラム１
６から横１されるフイにム基材７の送り４１Ｉ１４１１
Ｋより走行される。（但しモーター、ギア等からなるロ
ール駆動装置ｌは図示されていない） 更に真空１１１内には荷電粒子を電界加速するための水
冷機構を有する加速電、極１７、及び１８が配置され、
ξれらに電源１９により負の直流高電圧が印加されるよ
うになされている。父、前記水冷用ドラム１６にも電源
１９１により負の直流高電圧が印加されるようになされ
て−する。
、これらの真空容ｌ１ｔｉ、排気口３．４にそれぞれ連
結される排気系装置（油回転ポンプ油拡散ポンプ等で構
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’）−ル以下の高真空に排気されるようになされており
、真空容４１内には強磁性金属からなる磁性層ｔＮｔ形
成するまめの萄電蒸発粒子及び中性ＩＩｋ尭粒子粒子生
源５が、又真空餐ｓ２円には保護層を蒸着パルするため
の同様の発生源６．６′がそれぞれ配置されている◎ 烏分子フィルムからなる基材７は、供給ロール易、巻取
りローｊ＆／９、ガイドローＡ’１０，１１゜１２．１
！、１４．Ｘｉ及びイオン加速用電極兼水冷用ドラム１
６から横１されるフイにム基材７の送り４１Ｉ１４１１
Ｋより走行される。（但しモーター、ギア等からなるロ
ール駆動装置ｌは図示されていない） 更に真空１１１内には荷電粒子を電界加速するための水
冷機構を有する加速電、極１７、及び１８が配置され、
ξれらに電源１９により負の直流高電圧が印加されるよ
うになされている。父、前記水冷用ドラム１６にも電源
１９１により負の直流高電圧が印加されるようになされ
て−する。
又、真空’Ｊｉ！ａｌｌ及び２内には、蒸発粒子適数の
九めの遮蔽板４０，４１，４２．４４かそれぞれ配ｌさ
れている。
九めの遮蔽板４０，４１，４２．４４かそれぞれ配ｌさ
れている。
第２図は、第１図にて示した蒸発粒子発生鹸５弧６又は
６１０Ｗ造を示した概略断−図である。
６１０Ｗ造を示した概略断−図である。
同区に於て、２０は電子ビーム蒸発源であり、１８００
偏向Ｅガン２２、水冷銅！・−ス２３及びｆｉｋ源材料
ルツボ２４からなっている。（但し電源等は図示されて
いない） ２ｓは蒸気遮蔽用の邪魔板であり、図示されているよう
に進んだ蒸気粒子は電離部２６にてその一部がイオン化
される。電離部２６ｒｉ、熱電子放出用フイッメント２
７、電子を電界加速するためのメツシュ状の電極２８及
び電界制御のためのガード２９により構成されている。
偏向Ｅガン２２、水冷銅！・−ス２３及びｆｉｋ源材料
ルツボ２４からなっている。（但し電源等は図示されて
いない） ２ｓは蒸気遮蔽用の邪魔板であり、図示されているよう
に進んだ蒸気粒子は電離部２６にてその一部がイオン化
される。電離部２６ｒｉ、熱電子放出用フイッメント２
７、電子を電界加速するためのメツシュ状の電極２８及
び電界制御のためのガード２９により構成されている。
フィラメント２７及びガード２９．には電源３：により
負の直流高電圧が印加され、又、フイッメン）２７１’
Ｃは、電源３３により通電加熱のための交流電流が印加
されるようになされている。
負の直流高電圧が印加され、又、フイッメン）２７１’
Ｃは、電源３３により通電加熱のための交流電流が印加
されるようになされている。
ＲＩＣ未発明嫌気ε録媒体を製造する方法について感１
図及び第２図を参照しながら説明すると、先づ、第１図
に示したようにポリエチレンテレフタレートの如き高分
子フィルムからなる基材７の巻かれた供給ロール８を設
置し、ガイドロール１０，１１．１！、１３，１４．１
５及び水冷ドクム１６を経て巻き取りローＡ／９に巻色
取られるように配置する。
図及び第２図を参照しながら説明すると、先づ、第１図
に示したようにポリエチレンテレフタレートの如き高分
子フィルムからなる基材７の巻かれた供給ロール８を設
置し、ガイドロール１０，１１．１！、１３，１４．１
５及び水冷ドクム１６を経て巻き取りローＡ／９に巻色
取られるように配置する。
次いで排気口３．４から排気系装置によって、真空Ｗ器
１ 、２ Ｖａｔ １ ｘ １ Ｇ−’）−ル以下、好
ｔしくはｉ ｘ ｉ Ｏ−１）−ル〜ＩＸＩＱ−・トー
９の範囲の高真空に排気する。
１ 、２ Ｖａｔ １ ｘ １ Ｇ−’）−ル以下、好
ｔしくはｉ ｘ ｉ Ｏ−１）−ル〜ＩＸＩＱ−・トー
９の範囲の高真空に排気する。
真空容器１．２内の真空度が一定になったところで発生
源Ｓを動作させ、原子状の荷電粒子を電源１９により加
速電極１フ、１１１に負の高電圧を印加すゐことで電界
加速し％フイ＃轟基材γ上に中性蒸発粒子とともに、入
射せしめる。
源Ｓを動作させ、原子状の荷電粒子を電源１９により加
速電極１フ、１１１に負の高電圧を印加すゐことで電界
加速し％フイ＃轟基材γ上に中性蒸発粒子とともに、入
射せしめる。
発生源器の作動は、第２図の端子ビー＾墓発源２０に於
る蒸発源材料ルツボ２４を加熱して、コバルトを主体と
する強磁性材料１−１＆気化せしめ、これに電離部２６
においてフィラメント２７を通電加熱して放出させかつ
該フィラメント２７及びガード２９に負の直流電圧を印
加することによや電界加速させた熱電子を衝撃させるこ
とにより行われ、かくして蒸発粒子の一部がイオン化さ
れ、荷電粒子となるのである。そして基材１へ入射する
時の加速荷電蒸発粒子の舅する運動エネルギーが１０ａ
Ｖ−１５ＫｅＶの範＃！Ａ［なるよう加速電極１７．１
８に印加する電圧を電源１９により制御するのが好まし
く、又フィルム基材７に入射する加速荷電蒸発粒子の入
射角（基材裏山の伝線となす角）が５０”以上となるよ
うあらかじめガイドロール１０，１．２及び１１の相対
位置ｔ１１節しておくのがよい。
る蒸発源材料ルツボ２４を加熱して、コバルトを主体と
する強磁性材料１−１＆気化せしめ、これに電離部２６
においてフィラメント２７を通電加熱して放出させかつ
該フィラメント２７及びガード２９に負の直流電圧を印
加することによや電界加速させた熱電子を衝撃させるこ
とにより行われ、かくして蒸発粒子の一部がイオン化さ
れ、荷電粒子となるのである。そして基材１へ入射する
時の加速荷電蒸発粒子の舅する運動エネルギーが１０ａ
Ｖ−１５ＫｅＶの範＃！Ａ［なるよう加速電極１７．１
８に印加する電圧を電源１９により制御するのが好まし
く、又フィルム基材７に入射する加速荷電蒸発粒子の入
射角（基材裏山の伝線となす角）が５０”以上となるよ
うあらかじめガイドロール１０，１．２及び１１の相対
位置ｔ１１節しておくのがよい。
上記の如く基材７に対し荷電高エネルギー粒子を斜めに
入射せしめて磁性層を形成するのが好ましい理由は、エ
ネルギー及び入射角度を変化させる事で形成される磁性
層の内部微細構造の制御をすることができ、特に、磁気
基本特性のうち抗磁力、角形比の極めて優れた磁気記録
媒体を得ることができるためである。
入射せしめて磁性層を形成するのが好ましい理由は、エ
ネルギー及び入射角度を変化させる事で形成される磁性
層の内部微細構造の制御をすることができ、特に、磁気
基本特性のうち抗磁力、角形比の極めて優れた磁気記録
媒体を得ることができるためである。
次に、上記の如（して基材７上に形成したコバルトを主
体とする強磁性薄膜層の上にプールドを主体とする非磁
性合金からなる保護層ｔ−設けるのに、第１図の真空容
！！２内において、前εの強磁性薄膜層の形成と同様に
、発生源６．６１を動作して売先させた原子状の荷電粒
子を１電＄１９’によりイオン加速用電極兼水冷用ドラ
ム１６に負の高電圧を印加することで電界加速し、基材
７上に中性蒸発粒子と共に入射させるこ之により行い得
るのであるが、蒸発源材料であるコバルト、クロム、タ
ングステン、鉄及び炭素４１１は温度や電子ビーム人力
−ツーに応じた蒸発量がそれぞれ異なるため、通常＃！
Ｉ１図に示される様ＶＣＸ個か又はそれ以上の発生源を
用重し、加熱湿度における蒸気圧が近い金属ｔ−同じ発
生源のルツボに仕込むのが好ましい。そして、各金属の
仕込量中蒸発速度等の条件ｋｍ節することにより、形成
される保護層の組成を本発明ＯＩＭ！囲のものとするこ
とが出来る。
体とする強磁性薄膜層の上にプールドを主体とする非磁
性合金からなる保護層ｔ−設けるのに、第１図の真空容
！！２内において、前εの強磁性薄膜層の形成と同様に
、発生源６．６１を動作して売先させた原子状の荷電粒
子を１電＄１９’によりイオン加速用電極兼水冷用ドラ
ム１６に負の高電圧を印加することで電界加速し、基材
７上に中性蒸発粒子と共に入射させるこ之により行い得
るのであるが、蒸発源材料であるコバルト、クロム、タ
ングステン、鉄及び炭素４１１は温度や電子ビーム人力
−ツーに応じた蒸発量がそれぞれ異なるため、通常＃！
Ｉ１図に示される様ＶＣＸ個か又はそれ以上の発生源を
用重し、加熱湿度における蒸気圧が近い金属ｔ−同じ発
生源のルツボに仕込むのが好ましい。そして、各金属の
仕込量中蒸発速度等の条件ｋｍ節することにより、形成
される保護層の組成を本発明ＯＩＭ！囲のものとするこ
とが出来る。
本発明の磁気記録媒体は上述の通りのＩＩＦｉｉ、のも
のであり、とくに、コバルトを主体とする強磁性薄膜層
の上にコバルトを特徴とする特定組成の非磁性合金から
なる保護層が設けられてなる−のであるので、耐摩耗性
と耐腐食性に非常にすぐれており、同時にコバル）を主
体とする強磁性層のすぐれた磁気特性が保護層の形成に
よってなんら損われることのないものである。
のであり、とくに、コバルトを主体とする強磁性薄膜層
の上にコバルトを特徴とする特定組成の非磁性合金から
なる保護層が設けられてなる−のであるので、耐摩耗性
と耐腐食性に非常にすぐれており、同時にコバル）を主
体とする強磁性層のすぐれた磁気特性が保護層の形成に
よってなんら損われることのないものである。
さらに、上記保護層が高真空イオングレーティング法に
より形成されたものに、該保護層の磁性層との密着強度
が高くて表向平滑性に丁ぐれたものとなり、とくにすぐ
れた耐摩耗性ｔ−何するものと々るのである。
より形成されたものに、該保護層の磁性層との密着強度
が高くて表向平滑性に丁ぐれたものとなり、とくにすぐ
れた耐摩耗性ｔ−何するものと々るのである。
以下、本発明を実施例にもとすいて説明する。
実施例１
％１図及び第２図に示した磁気記録媒体の製造装置を用
いて下ｉＥ［示した条件にて磁気記録媒体を得た。
いて下ｉＥ［示した条件にて磁気記録媒体を得た。
（１１便用基材： ポリエチレンテレ７クレートフイル
ム（厚み９μ） （ｚ）フィルム走行走度二へ５ｍ／− （３） 動作中における真空容器１．２内真空度：Ｉ
ＸＩＧ−農トー〃 （４）蒸発粒子発生源動作条件： 下記第１表の通り 以下余白 第 １ 表 かくして得られた磁気記録媒体に＆ける保護層はｓ／＠
、＋）６Ｇ４ｅクロム３２９６．タングステン４９６．
鉄３９６及び炭素１％の重量組成の非磁性合金からなる
ものであり、そして該記録媒体の磁気基本特性は！！２
麦に示す如く優れたものであった。
ム（厚み９μ） （ｚ）フィルム走行走度二へ５ｍ／− （３） 動作中における真空容器１．２内真空度：Ｉ
ＸＩＧ−農トー〃 （４）蒸発粒子発生源動作条件： 下記第１表の通り 以下余白 第 １ 表 かくして得られた磁気記録媒体に＆ける保護層はｓ／＠
、＋）６Ｇ４ｅクロム３２９６．タングステン４９６．
鉄３９６及び炭素１％の重量組成の非磁性合金からなる
ものであり、そして該記録媒体の磁気基本特性は！！２
麦に示す如く優れたものであった。
以下余白
第 ２ 麦
該磁気記録媒体の耐摩耗性につき市販のビデオデツキ（
松下電ｌｉｆＬｍａｎ ＮＶ−３０００） Ｋ Ｘるス
チール寿命評価を行なったところ１時間３０分以上の寿
命を有していた。
松下電ｌｉｆＬｍａｎ ＮＶ−３０００） Ｋ Ｘるス
チール寿命評価を行なったところ１時間３０分以上の寿
命を有していた。
史ＫＮ磁気記録媒体の耐腐食性につき、温度６０℃相対
湿度９５％の条件下で１７０８ｉ問放置しても肉眼で明
瞭な腐食跡は認められず抗磁力、残留磁束密度ともなん
ら変化を生じなかつた。
湿度９５％の条件下で１７０８ｉ問放置しても肉眼で明
瞭な腐食跡は認められず抗磁力、残留磁束密度ともなん
ら変化を生じなかつた。
比較例１及び２
比較例１二第１図及び！１８２図に示した磁気記録媒体
の装置を用いて下記に示す条件で磁気記録媒体を得九〇 （１） 使用基材：ポリエチレンテレフタレー）（ｌ
Ｉ１４９ａ）（２） フィルム走行速度：αｊｉ＠／
ｅ１ｍ（３） 動作中における真空容＠１．Ｚ内真空
度＝ＩＸＩＯ−郡トール （４） 蒸発粒子発生源動作条件： 下記第３麦０ｊｌｌｖ、ただし 発生源６′は作動させず 比較例２：ｌＩｉ発粒子発生源動作兼丼を下記第４麦に
示す通りとする以外は比較例１と同じ条件で磁気記録媒
体を得た。ただし、発生源６゜６１Ｆｉ作動させなかつ
九。
の装置を用いて下記に示す条件で磁気記録媒体を得九〇 （１） 使用基材：ポリエチレンテレフタレー）（ｌ
Ｉ１４９ａ）（２） フィルム走行速度：αｊｉ＠／
ｅ１ｍ（３） 動作中における真空容＠１．Ｚ内真空
度＝ＩＸＩＯ−郡トール （４） 蒸発粒子発生源動作条件： 下記第３麦０ｊｌｌｖ、ただし 発生源６′は作動させず 比較例２：ｌＩｉ発粒子発生源動作兼丼を下記第４麦に
示す通りとする以外は比較例１と同じ条件で磁気記録媒
体を得た。ただし、発生源６゜６１Ｆｉ作動させなかつ
九。
第 ４ 麦 。
上記比較例Ｘ、２で得られた磁気ε録媒体にりＩ；−１
て、実施例１と同１１ｉｃして耐摩耗性テスト（スチー
ル寿命評価）及び耐腐食性テスト（ＳＯ℃、相対温度９
ｓ％の条件下で２００時−放置後ＴＩｃ＄Ｐける残留磁
束密度及び抗磁力の変化の測定）を行った結果は次表の
通りであった。
て、実施例１と同１１ｉｃして耐摩耗性テスト（スチー
ル寿命評価）及び耐腐食性テスト（ＳＯ℃、相対温度９
ｓ％の条件下で２００時−放置後ＴＩｃ＄Ｐける残留磁
束密度及び抗磁力の変化の測定）を行った結果は次表の
通りであった。
第 ５ 表
の装置の一例を示す概略図、第２図は第１図の蒸発粒子
発生源５．６又ｒｓ ａｌの構造を示す概略断面図であ
る。
発生源５．６又ｒｓ ａｌの構造を示す概略断面図であ
る。
１．２−真空容器、３．４−排気口、５．６゜６′−蒸
発粒子の発生源、７−基材、８・−供給ロール、９−・
巻取シロール、１０．）１．１２゜１！、１４．１５−
ガイドロール、１６−・イオン加速用電極兼水冷用ドラ
ム、１７．１８−＠遮電ｒｉ、１９ 、１９’−ｍｌ電
源、２ｏ・−電子ビーム！Ｉ発源、２ ！ −１８０’
偏向Ｅ ｉｆ ン、２３−＊冷鋼ハース、冨４・・・蒸
発源材料ルツボ、２５・・・邪魔板、 ２６ ・・・電
離部、２７−熱電子放出用フイクメント、２ ｇ−・・
メッシェ状１１ｔ極、２９−・ガード、３２ 、３３
・・・電源 特許出願人 槓水化学工業株式会社 代表者藤沼暴利
発粒子の発生源、７−基材、８・−供給ロール、９−・
巻取シロール、１０．）１．１２゜１！、１４．１５−
ガイドロール、１６−・イオン加速用電極兼水冷用ドラ
ム、１７．１８−＠遮電ｒｉ、１９ 、１９’−ｍｌ電
源、２ｏ・−電子ビーム！Ｉ発源、２ ！ −１８０’
偏向Ｅ ｉｆ ン、２３−＊冷鋼ハース、冨４・・・蒸
発源材料ルツボ、２５・・・邪魔板、 ２６ ・・・電
離部、２７−熱電子放出用フイクメント、２ ｇ−・・
メッシェ状１１ｔ極、２９−・ガード、３２ 、３３
・・・電源 特許出願人 槓水化学工業株式会社 代表者藤沼暴利
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｌ 非磁性材料からなる基材上に形成されたプバルト倉
主体とする強磁性薄膜層Ｏ上にプ／４．＋４／トを主体
とする非磁性会食からなる保護層が獣けられてな）、上
記コバルトを主体とする合金の組成が コバルトｓＯ〜ｗｏｎｔ％、クロム１７〜３ｓ重墓％、
タングステン６重量％似下、鉄４重量％以下及び炭素Ｌ
ｓ重量％以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 ２ 保護層が高真空イオンブレーティング沫により形成
されたものである１８１項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56182848A JPS5885932A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56182848A JPS5885932A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5885932A true JPS5885932A (ja) | 1983-05-23 |
| JPS6326460B2 JPS6326460B2 (ja) | 1988-05-30 |
Family
ID=16125512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56182848A Granted JPS5885932A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5885932A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6350473A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-03 | Toobi:Kk | 連続多段イオンプレ−テイング装置 |
| US4814239A (en) * | 1987-03-24 | 1989-03-21 | Ube Industries, Ltd. | Vertical magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5160503A (ja) * | 1974-11-25 | 1976-05-26 | Suwa Seikosha Kk | Jikikirokutai |
| JPS54141107A (en) * | 1978-04-25 | 1979-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
-
1981
- 1981-11-13 JP JP56182848A patent/JPS5885932A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5160503A (ja) * | 1974-11-25 | 1976-05-26 | Suwa Seikosha Kk | Jikikirokutai |
| JPS54141107A (en) * | 1978-04-25 | 1979-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6350473A (ja) * | 1986-08-19 | 1988-03-03 | Toobi:Kk | 連続多段イオンプレ−テイング装置 |
| US4814239A (en) * | 1987-03-24 | 1989-03-21 | Ube Industries, Ltd. | Vertical magnetic recording medium and method of manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6326460B2 (ja) | 1988-05-30 |
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