JPS6032053A - 導電性シ−トおよびそれを用いた静電記録体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、導電性シートおよびそれを用ハた静電記録体
に関するものである。

〔従来技術〕

従来の導電性シールは、′有機重合体中にカーボン粉、
金属粉などの導電粉を混入したものや、有機重合体表面
に、アルミニクム、銀、金、酸化錫−酸化インジウズな
どの無機導電層を真空蒸着やスパッタリングによ多形成
したものが知られている。ｔたこれらの導電性シートの
上に誘電層を設けた静電記録体も知られている。

一般に静電記録体の導電層として要求される表９ 面電気抵抗はほぼ１０〜１０オ一ム／口の範囲にある。

静電記録の方式にもよるが、安定した画像時゛性を得る
には、その中セも、導電層の表面電気抵抗の均一性、す
なわち、中央値に対するバラツキがおよそ±２０俤以内
であること、および経時変化、すなわち、初期値−に対
する経時後の変化率が６〜５倍以内であることが好まし
いといわれている。　、。

しかし、このような従来の導電性シートは、電気抵抗値
が導電粉の混入量や、無機導電層の付着量に大きく依存
し、特に導電性シートの表面電気抵抗値が１０〜１０オ
一ム／口の半導体領域では。

混入量や付着量の微少変化によっても抵抗値の変動が太
きく、広い面積にわたって均一な抵抗値を得られにくい
という問題があった。

また１表面に無機導電層を設けた導電性シートは、長時
間空気や水蒸気にさらされたり、高温雰囲気に置かれる
と電気抵抗が大きく増大するという問題があった。

このため、１０〜１０オ一ム／口の半導電性領域で均一
かつ安定な導電性を必要とする分野には。

従来の導電性シー！・は使用できなかった。このため従
来の導電性シートを用いた静電記録体は、導電層の抵抗
値の変動が大きいため広い面積にわたって均一な画像が
得られないという問題や長時間空気や水蒸気にさらされ
たシ、高温高湿に置かれるとその導電層の抵抗値が増大
するために、安定した画像特性が得られないという問題
があり、実用化の大きな障害となっていた。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、上記欠点のないもの、すなわ面積にわ
たって均一な表面電気抵抗を有し、かつ空気、水蒸気、
熱などの環境下での経時変化が少なく、安定な導電性シ
ー！・を提供せんとするものである。

また、他の目的は、広い面積にわたって、安定した画像
特性を有し、空気、水蒸気、熱などの環境下での経時変
化が少なく、安定した画像物゛性を有する静電記録体を
提供せんとするものである。

〔発明の構成〕

本発明は、上記目的を達成するために次の構成すなわち
、（１）有機重合体シート伝）、厚さが５〜１゜１（ｃ
）カ、　少−ｉｘ　くともＡ／Ｂ／Ｃ，または、Ａ／Ｃ
／Ｂの配列で積層された導電性シートであって。

かつ該導電性シートのＣまたはＢ側６表面電気抵ならび
に、（２）有機重合体シー）　（Ａ）　、厚さが５〜１
゜０００Ａの金属酸化物薄層（Ｂ）、および、　Ｐｔ、
　Ｐｄ。

Ｒｈｒ　Ｒｕ、工ｒ　の少なくとも１種から主としてな
る導電層（Ｃ）が、少なくともＡ　／　Ｂ　／　Ｃ、ま
たは、Ａ／　Ｃ／　１３の配列で積層された導電性シー
！・であって、かつ該導電性シートのＣまたはＢ側の表
面電気抵抗が、１０〜１０オ一ム／口である導電性シー
トと、該導電性シートのｃ−またけＢ側に設けた誘電層
（１））とからなる静電記録体を特徴とするものである
。

本発明における有機重合体シート（Ａ）とは、ポリエチ
レン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン。

ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン２−６ナン
タレートなどのポリエステル、ポリカーボネート、ポリ
アミド、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルンイド、
ホリンエニレンオキサイト。

テトラフルオロエチレン、ポリメチルメタアクリレート
、ポリ塩化ビニル、ポリ弗化ビニリデン。

芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなど
および、これらの混合物、共重合物やさらに架橋したも
のから成るシート秋物である。中でも二軸延伸されたシ
ートは、平面性１寸法安定性に優れ最も適している。

有機重合体シートの厚みとしては、特に限定するもので
はないが、可撓性を有し加工しやすい点で２μ〜５００
μ、好ましくは１０μ〜２００μ。

最も好ましくは２０μ〜１５０μが望ましい。

有機重合体シートは１表面電気抵抗が１０　オーム／口
以上、好ましくは１０　オーム７口以上であることが、
金属酸化物薄層および導電層形成時の電気抵抗の均一性
を得る点で望ましい。また、有機重合体シートは、あら
かじめ、易接着化、耐摩耗性付与、平面性改良等の目的
で、ＥＣ処理、グロー放電処理、アンカーコート、粗面
化加工などの前処理が施されていても良い。

金属酸化物薄層（Ｂ）とは、酸化チタン、酸化硅素、酸
化インジウム、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、
酸化タンタル、酸化ジルコニウム。

酸化タングステンなどおよびこれらの混合物から成る薄
層である。金属酸化物薄層の厚さは、５〜１、ｏｏｏ、
Ｘ、好ましくは１０〜５００久、最も好ましくは１０〜
１００Ａである。厚みが５Ｘ未満と薄い場合には、導電
層の抵抗値の均一化と安定化に対する効果が少なく、ま
た厚みが１．００　Ｄ　Ａ以上では。可撓性が小さくク
ラック等が発生しやすいためか、抵抗値の安定性がかえ
って悪くなシ好ましくない。

金属酸化物薄層の形成は、真空蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング、化学蒸着などによって行なうこ
とができる。中でも金属材料をターゲットとして用い、
１０　から１０１・−ルの範囲の酸素分圧下で行なう１
反応性スパッタリングが金属酸化物薄層の均一化の点で
最も適している。

反応性スパッタリング法としては、直流スパッタリング
、高周波スパッタリングのいずれもが使用でき、また、
三極スパッタ、四極スパッタ、マグネトロンスパッタ、
イオンビームスパッタなどの方法も全て使用す冬ことが
できる。

真空蒸着やイオンブレーティングによる場合は。

加熱方法として、抵抗加熱、誘導加熱、電子ビーム加熱
、レーザービーム加熱などが使用でき、中でも電子ビー
ム加熱が付着速度を大きくできるため好ましい。

これらの方法で金、属酸化物薄層を付着させる際有機重
合体シートを３０から１５０℃の範囲で加熱することが
望ましい。

さらに、金属酸化物薄層の形成は塗工によって　。

行なうこともできる。たとえば、有機溶剤可溶性金属化
合物や水可溶性金属化合物を薄膜塗工して加熱すること
により、金属酸化物薄層を得ることができる。かかる有
機溶剤可溶性金属化合物としては該金属のアルコキシド
、アシレート、キレートなどの単独または混合物の中か
ら適宜選択して使用される。水可溶性金属化合物として
は該金属のハロゲン化物、硝酸塩、炭酸塩などの単独ま
たは混合物の中から適宜選択して使用される。

本発明の導電層（Ｃ）とは、　Ｐｔ、　Ｐｄ＋　Ｒｈ、
　Ｒｕ。

工ｒ　の少なくとも１種から主としてなる（好ましくは
９５重量％以上）導電層である。

Ｐｔ、　Ｐｄ、、　Ｒｈ、　Ｒｕ、工ｒ　の中で１表面
電気抵抗の均一性、安定性で特にＰｔ、　Ｐｄ、　Ｒｈ
　が望ましｂｏかかる導電層の中に、他の金属材料１例
えば、銅。

銀、金、鉄、タンタル、タングステン、モリブデンなど
が５重量％以下混入していても良い。

かかる導電層は、　ｐｔ；　Ｐ（１１Ｒｈ、　Ｒｕｔ工
ｒ　あるいはこれらの合金や混合物を原料として、真空
蒸着。

スパッタリング、イオンブレーティングなどによ多形成
することができる。

導電層の表面電気抵抗は１０〜１０オ一ム／口の範囲で
あることが望ましい。表面電気抵抗が１０オーム未満で
は、抵抗値の均一性を向上するための本発明の効果が少
なく、１０　オームを超えると抵抗値の安定性向上に対
する効果が少ない。

導電層の付着形態は、均一膜であるよシ島状微粒子構造
となっている方が、金属酸化物薄層との接触面積が広く
なるためか、均一性、安定性の点で望捷しい。島状微粒
子の場合の平均粒子サイズとしては、　、１０−５から
１０　平方ミクロンの範囲にあることが特に好ましい。

島状微粒子の面積分率はｌθ〜　グ１！１％であること
が好ましい。導電層を付着させる際、有機重合体シー）
ｆ：３［１から１５０℃の範囲で加熱することが望まし
い。

誘電層（Ｄ）とは、絶縁性樹脂単独または絶縁性樹脂に
フィラーを分散させたもので１通常知られた樹脂、フィ
ラーであれば特に限定されるものではない。絶縁性樹脂
としては、熱可塑性樹脂。

たとえば、ポリエステル、ポリエステルアミド。

ポリビニルアセタール、ポリ塩化ビニル、ポリ（メタ）
アクリル酸エステル、ナイロン、ポリウレタン、ポリカ
ーボネート、ポリスチレンやこれらの共重合体やブレン
ド物などや熱硬化性樹脂、たトエハ、フェノール樹脂、
メラミン樹脂、有機ケイ素化合物、エポキシ樹脂などが
あげられるが。

これらに限定されない。フィラーとしては、ｆｃとえば
５ｉｎ２．　Ｔｉｅ、、　ＭｇＯ，Ｂｅｏ、　Ａｌ、Ｏ
，、ＣａＣＱ、＋ＴｉＢａＯ４，ＺｒＯ，などの無機フ
ィラー、メラミン樹脂、スチレンージビニルベンゼス系
共重合体、フエノール樹脂、ポリイミドなどの有機フィ
ラーなどがあげられるが、これらに限定されない。

これらの有機重合性シー）（Ａ）、金属酸化物薄層ＣＢ
）、導電層（Ｃ）、および誘電層ＣＤ）は少なくともＡ
　／　Ｂ　／　Ｃ、またはＡ／Ｃ／Ｂの配列で積層され
て導電性シートと、１７．また、該導電性シートのＣ１
またはＢ側にＤを積層されて静電・記録体となる。ただ
し、Ｄが積層される面、すム／口でなければならない。

なおここで、Ａ’／Ｂ／Ｃとは、Ａ層とＢ層、およびＢ
層と０層がそれぞれ密着していることを意味する。

本発明の導電性シートの層構成としてはｍＡ／Ｂ　／　
ＣよシもＡ　／　Ｃ／　Ｂであることが好ましく。

さらに好ましくはＡ　／　Ｃ／　Ｂ　／　Ｃであること
が望ましい。また１本発明の静電記録体の層構成とし−
ｃｌｒｉ、　Ａ’／Ｂ／Ｃ／Ｄ　Ｊ：　Ｄ　モＡ／、Ｃ
／Ｂ／Ｄテあることが好ましく、さらに好ましくはＡ　
／　Ｃ／　３３／Ｃ／Ｄであることが望ましい。

さらに必要に応じて導電性フィルムと誘電層の接着性を
向上させるために接着層を設けることができる。

本発明において誘電層は、単層の他に複数層に積層され
たものでもよい。

本発明において、接着層および誘電層の付加方式は通常
知られた方法が有効に使用される。たとえば、刷毛塗シ
、浸漬塗シ、ナイフ塗シ、ロール塗９．スプレー塗装、
流し塗シ９回転塗シ（スピンナー、ホエラーなど）、あ
るいはフィルムの付着などの中から適宜選択される。

〔発明の作用〕

本発明は、　Ｐｔ、　’Ｐａ、　Ｒｈ、　Ｒｕ、工ｒ　
の少なくとも１種から成る導電層の少なくとも一方の面
に、金属酸化物薄層を設けることによシ、導電層の電気
抵抗値の均一性と安定性を向上させたものである。

導電層の少なくとも一方の面に金属酸化物層が形成され
ることによシ、金属層、特に、島状微粒子から成る金属
の付着形態が、熱や腐蝕性雰囲気によって変わることが
防止でき、また、金属層表面が金属酸化物層によってお
おわれるため、空気や酸素ガスとの接触によっておこる
酸化が防止されるものと推測される。これは、金属層が
ｐｔ、　ｐａ。

Ｒｈ、　Ｒｕ＋工ｒ　から成る導電層の場今に特に顕著
にあられれる効果である。

〔発明の効果〕

本発明は、特定の有機重合体シー）（Ａ）、金属酸化物
薄層（Ｂ）、導電層（Ｃ）°を、Ａ／Ｂ／ｃｔたはＡ　
／　Ｃ／　Ｂの配列で積層したことによシ。

次のごとき優れた効果を得ることができたものである。

１０〜１０オ一ム／口の半導電性領域の抵抗値の均一性
が著しく改善でき、大面積の導電性シートが容易に得ら
れるようになった。

酸素、水蒸気、高温雰囲気における抵抗値の変化が著し
く減少し、耐熱性、安定性のすぐれた導電性シートが得
られるようになった。

１０〜１０オ一ム／口の半導電性領域の抵抗値の均一性
が著しく改善でき、大面積で安定した画像を与える静電
゛記録体が得られるようになった。

酸素、水蒸気、高温雰囲気におけるへ抗値の変化が著し
く減少し、耐熱性、安定性、耐湿性のすぐれた。かつ長
寿命の静電記録体が得られるようになった。

本発明で得られる導電性シートを、それ単独または静電
気防止材料、抵抗体、タッチスイッチなどに使用できる
他、導電性シートの一方の面に。

接着剤、誘電体、光導電体、磁性体などを塗布して、Ｉ
Ｃ包装材料、静電記録シート、電子写真感光材料、磁気
記録媒体などに利用することができる。

本発明で得られる静電記録体は、（ｌ〕静電記録体にト
ナー像を形成し、その像を普通紙に転写したのち、クリ
ーニングし反復使用する記録方式、たとえばハードコピ
ー用原紙として普通紙を用いる複写機、ファクシミリ受
信機、プリンターなどの転写マスターとして、（２）静
電記録体にトナー像を形成し、定着する記録方式１例え
ば対話型設計（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ　Ａｉｄｅｄ　Ｄｅｓ
ｉｇｎ；ＣＡＤ　）　＃対話型製造（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ
　Ａｉｄｅｄ　Ｂ４ａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ；　ＣＡ
Ｍ　）用靜電記録フィルムとして、【３）静電像転写方
式の電子写真プロセス（ＴＩＳｌ法）で転写静電像を保
持する記録体として利用することができる。

１、　表面電気抵抗 導電性シートを幅３０ｍｍに切取シ、その切断線に直交
し、かつ間隔が３０−の２本の平行線を想定し、その２
本の線ではさまれる区間を除く右と左にそれぞれ導電性
ペーストを塗布し、それを電極とする。この電極間の電
気抵抗をケースレー製工、レクトロメータ（タイプ６１
ＤＣ）を用いて測定する。単位は、オーム／口で示す。

なお、静電記録体の表面電気抵抗も上記に準じて測定す
る。

２、金属酸化物層の膜厚 導電性シートを王水で溶解したのち、稀塩酸溶液とする
。この溶液ｉ’ＩｃＰ発光分析装置（第２精工舎製、タ
イプ５ｐＳ−１１００）を用いて測定し、金属酸化物の
付着重量゛をめる。付着重量とバルクの比重から９重量
換算した膜厚を算出し膜厚とする。

６　画像特性 導電層を対向電極として、誘電体表面に＋４５０ｖの電
圧印加を行ない静電記録し９次いで、−４５０Ｖの電圧
印加によシ記録像を消去するという多数回の繰シ返し記
録−消去テストを行ない。

最後に＋４５０ｖの電圧印加後、トナーによる現像処理
を行なって、光学濃度計（富士写真フイ、ルム■製、デ
ンシトメーター、タイプＰ−２）を用いて画像濃度Ｃ０
Ｄ）を測定した。

実施例１〜３ 二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルム（厚
み１００μ、幅５　［１０ｍｒｎ　）上に、厚さ２０′
Ａの酸化チタン層を反応性スパッタリング法によシ形成
した。　、１　、。

反応性スパッタリングは、金属チタン（純度９９、９　
％　、幅７（］［］ｍｍ、厚さ、１０ｍｌ１）をターゲ
ットとし、直流マグネトロンスパッタ装置を用いてアル
ゴンと酸素の混合ガス（酸素１２体積チ）を導入しなか
ら６ｘｌＯ）−ルの圧力で行なった。

次いで、白金（純度９９９％１幅７００ｍｍ、厚さ２　
ｍｍ　）をターゲットとしてこの酸化チタン層上に、ス
パッタリン、グ法によシ表面電気抵抗がほぼ１０．１０
．１０　オーム／口の白金層を形成したΩ白金層は、′
直流マグネトロンスパッタ装置を用いてアルゴンガスを
導入しなから８ｘ１０　トールの圧力で行なった。

表面電気抵抗がｉｏ、　１ｏ、、　ｉｏ　オーム／口の
ものをそれぞれ実施例１，２．５とする。

以上述べたように、Ａとしてポリエチレンテレフタレー
トフィルム、Ｂとして酸化チタン、Ｃとして白金を用い
、Ａ／Ｃ／Ｂの配列で形成された導電性シー１を得た。

得られた導電性シートの表面電気抵抗を縦、横とも５ａ
１１間隔で１００点測定し、その標準偏差Ｏ）をめた。

ここでσは表面電気抵抗の均一性を示すものである。

次いでこれらの導電性シートを５０°０，９ｏｐ１’（
Ｈ中に５０日間保管し、初期表面電気抵抗（Ｒｏ）と、
経時後表面電気抵抗（Ｒ５ｏ）を測定し、変化率（Ｒ５
゜／　Ｒ，）を算出した。結果をそれぞれ第１表に示す
。

実施例４〜６ 実施例１〜３で得られた導電性シートを用いて白金層の
上に、厚さ２０Ａの酸化チタン層を反応性スパッタリン
グにより形成した。反応性スパッタリングは、実施例１
〜６と同様にして行った。

表面電気抵抗がほぼｉｏ、　ｉｏ、　ｉｏ　オーム／口
のものを、それぞれ実施例４，５．６とする。

以上述べたようにＡとしてポリエチレンテレフタレート
フィルム、Ｂとして酸化チタン、Ｃとして白金を用いて
＃　Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｂの配列で形成された導電性シートを
得た。

これらの導電性シートの表面電気抵抗−（Ｒ（１）＋ａ
！準偏差（σ）、５０℃、９０％ＲＨ中５０日後の表面
電気抵抗（Ｒ，。）を測定した。結果を第１表に示す。

比較例１〜３ 実施例１〜３で用いたと同じ、二軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルム上に、スパッタリング法により表
面電気抵抗が１ｏ、　ｉｏ、　ｉｏ　オーム／口の白金
層を形成した。スパッタリングは実流側１〜６と同様に
して行なった。

５　６　７ 表面電気抵抗かはぼ１０．１０．１０　オーム／口のも
のを、それぞれ比較例１，２．’３とする。

本比較例は、Ａ／Ｃの配列で形成された導電性シートで
ある。

これらの導電性シートの表面電気抵抗（Ｒｏ）　、標準
偏差（σ）、５０’０．９０係ＲＨ中、５０日後の表面
電気抵抗（Ｒ５ｏ）を測定した。結果を第１表に示す。

比較例４〜６ 比較例１〜３で得られた表面電気抵抗かにぼ１０、　１
０．１０オ一ム／口の導電性シートを用いて白金層の上
に、厚さ２０００Ａの酸化チタン層を反応性スパッタリ
ングによシ形成した。反応性スパッタリングは、実施例
１〜６と同様にし、スパッタ時間を長くすることによっ
て行なった。

本比較例は、Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｂの配列で形成された導電性
シートで、最外層のＢ層が厚さ２００ＯＡの酸化チタン
からなる。

得られた導電性シートの表面電気抵抗（Ｒｏ）、標準偏
差（σ）、５０℃、９０％ＲＨ中５０日後の表面電気抵
抗（Ｒ５ｏ）　の１０定結果を第１表に示す。

表面電気抵抗ＣＲｏ）　は白金層のみの表面電気抵抗よ
シ、１桁以上大きく１面内の電気抵抗の変動と経時変化
も大きかった。得られた導電性シート表面を、Ｘ線マイ
汐ロアナライザー（Ｓ１１！Ｍ−ＸＭＡ１倍率１万倍）
で観察した結果、酸化チタン層に０．１〜１μの間隔で
微細なりラックが無数発生しているのが観察された。

実施例７〜９ 二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルム（厚
み７５μ０幅３５０　ｍｍ　）上に、パラジウム（純ｉ
”９９．９％）をターゲットとし、スパッタリング法に
よシ表面電気抵抗がほぼ１０．１０．１０オ一ム／口の
パラジウム層を形成した。スパッタリングは８ｘ１０）
−ルのアルゴンガス中で行なった。仄いてこのパラジウ
ム層上に厚さ５０Ａの酸化インジウム−酸化錫層を反応
性スパッタリング法によシ形成した。反応性スパッタは
、インジウム−錫合金（錫；１０重量％）をターゲット
として、マグネトロンスパッタ装置を用いて、アルゴン
と酸素の混合ガス（酸素６０体積％）を導入しながら、
１ｘｌＯ）−ルの圧力で行なった。表のをそれぞれ実施
例７．ｓ、９を得た。

以上述べたようにＡとしてポリエチレンテレフタレ−！
・フィルム、Ｂとして酸化インジウム−酸化錫、Ｃとし
てパラジウムを用い、Ａ／Ｃ／Ｂの配列で形成された導
電性シートを得た。それぞれのＲ、σ、Ｒ５ｏ　を第１
表に示す。

比較例７ 二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルム（厚
み１２５μ）上に、酸化インジウム−酸化錫層を反応性
スパッタリング法によシ形成した。

反応性スパッタは、インジウム−錫合金（錫；１０重量
％）をターゲットとして、マグネトロンスパッツ装置を
用いて、アルコゞンと酸素の混合ガス（酸素６０体積％
）を導入しながら、’１ｘｌＤ　トールの圧力で行ない
１表面電気抵抗がほぼ１ｏ６オームのものを比較例７と
し、そのＲ８，σ”　ｓｏ　を第１表に示す。

本比較例はＡ　／　Ｃの配列で形成された導電性シート
である。

第１表から１本発明の導電性シート（実施例１〜９）は
比較例１〜７に比べて１表面電気抵抗の標準偏差（σ）
が小さく、均一性にすぐれ、かつ表面電気抵抗の変化率
が小さく９表面電気抵抗が安定なすぐれた導電性シート
であることは明らかである。

第１表 実施例１０〜１２ 実施例２，５．８で得た導電性フィルムの上に下記の混
合組成物からなる均一分散液をドクターナイフ塗布装置
を用いて、乾燥固型分が７　ｇ／　ｍ’となるように塗
布し、加熱乾燥架橋して、静電記録体（それぞれ実施例
１０〜１２）を得た（塗工部の幅は３００匝）。

架橋型メタクリル酸エステルアクリル酸エステル系コポ
リマ　ｉｏｏ重量部 架橋剤（ポリイソシアナー））　１０重量部酸化アルミ
ニウム（数平均粒径が７μ）３０重量部 トルエン　３００重量部 酢酸ブチ＃　３００重量部 以上述べたように、実施例１０では、Ａ／Ｂ／Ｃ／　Ｄ
　Ｉ実施例１１ではｊ　Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｂ／Ｄ。

実施例１２ではＡ、、　／　Ｃ／　Ｂ　／　Ｄの配列で
形成された静電記録体を得た。

これらの静電記録体の表面電気抵抗（５００ｍｍ長に切
断し、！＋００ｍｍ間隔の電極間抵抗を測定しＲｏ　オ
ーム／口をめた）９画像濃度（’　ＯＤｏ）を測定した
。次いで５０℃、９０％ＲＨ中に１５０日間保管し１表
面電気抵抗（Ｒ１５，）および画像濃度（ＯＤ１５ｏを
測定し、それぞれの変化率（Ｒ１５０／ＲＯ・０Ｄ１５
０１０Ｄ。）を算出した。結果をそれぞれ第２表に示す
。画像はそれぞれ塗工後のものも５０℃、９０４ＲＨ中
１５０日保管したあとのものも、いずれも良好であった
。

さらにこれらの静電記録体を転写型静電記録マスターフ
ィルムとして、２万枚くシ返し作像使用後の画像は、い
ずれも初期のものと変シなく良好な画像であった。

実施例１６ 実施例６で得た導電性フィルムの上に下記の混合組成物
からなる均一分散液を、ドクターナイフ塗布装置を用い
て、乾燥固型分が６　ｇ　／　ｍ’になるように塗布、
加熱乾燥して、静電記録体（実施例１３）を得た（塗工
部の幅は１５０ｍｍ）。

線形飽和ポリエステル樹脂　１００重量部酸化チタン　
２０重量部 メチルエチルケトン　３００重量部 トルエン　６００重量部 本実施例１３は、Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄの配列で形成された静
電記録体である。

これらの静電記録体の表面電気抵抗（１５０ｍｍ長に切
断し、オーム／　１５０ｍｍｘ　１５０−を測定゛した
・・・・・・Ｒｏ）、画像濃度（ＯＤｏ）を測定した。

次いで５０°０，９０チＲＨ中に１５０日間保管し１表
面電気抵抗’　Ｒ１５Ｑ　）および画像濃度（ＯＤ、５
ｏ）を測定し、それぞれの変化率（Ｒ１５０’／Ｒ０１
ｏＤ１６０１０Ｄ、）を算出した。結果を第２表に示す
。画像は塗工後のものも５０’０．９０％ＲＨ中１５０
日保管したあとのものも、いずれも良好であった。

比較例８〜９ 実施例１１〜１２において、導電性フィルムとしてそれ
ぞれ比較例２〜３を用いる他は同様にして静電記録体（
比較例８〜９）を得た。

本比較例８〜９は、Ａ／Ｃ／Ｄの配列で形成された静電
記録体である。

これらの静電記録体の表面電気抵抗（Ｒｏ）　＃画像濃
度Ｃ０Ｄｏ）を測定し９次いで５０℃、９０ＳＲＨ中１
５０日後の表面電気抵抗（Ｒ，５ｏ）＃画像濃度ＣＯＤ
、５ｏ）を測定し、それぞれの変化率（Ｒ１５゜／　Ｒ
ｏ＊　０Ｄ１５０　／　ＯＤＯ）　を算出した。

結果を第２表にまとめた。画像は、それぞれ塗工後のも
のに比べて５０℃、９０％ＲＨ中１５０日保管したもの
は６画像濃度が低く、一部に不鮮明な部分カニあシ、不
良であった。第２表から１本発明の静電記録体（実施例
１０〜１６）は比較例８〜９に比べて１表面電気抵抗が
安定で、かつ画像濃度の変化が小さく（実質的に変化な
し）画像も良好で優れた静電記録体であることは明らか
である。

第　２　表 丁　候；　補　正　書 ５８．９．７ ｗ１和　汀　月　日 ’ｌ！ｉ泊１’＋Ｔ４ｆ３’　７＋　Ｈｆｎ夫失敗１．
事（’Ｉの表示 昭和５８年持物［願第１４１２３９号 夛 自発 ５、補ｉＥにＪ、り増加ジ”る発明の数なし ７、補正の内容 （１）　明細書　第１５頁３行目 ［Ｔｉ３ａ０４ＪをｒＢａ　Ｔｉ　０３　Ｊと補正づる
。

（２）　同　第１１頁１４行〜２０行目ｒ本発明の導電
性・・・・・・・・・ことが望ましい。Ｊを「本発明の
導電性シートの層構成としては、Ａ／Ｃ／ＢよりもＡ　
／、Ｂ　／　Ｃであることが好１しく。

さらに好ましくはΔ／Ｂ／Ｃ／Ｂであることが望ましい
。また９本発明の静電記録体の層構成としては、Ａ／Ｃ
／Ｂ／ｒ）よりもΔ／　１３　／　Ｃ／　Ｄ　Ｃあるこ
とが好ましく、さらに好ましくは　Ａ　、／　ｐｉ　、
、／Ｃ／Ｂ／Ｄであることが望ましい。」ど補正づろっ
（３）　同　第１４頁５１ｊへ・６　ｔｉｔｌ［単独ま
たは］を［単独でｊとＭｉｆ′する。

（４）　同　第１５頁３行と４行の間に次の文を挿入す
る。

「〔特性の測定方法〕」 （５）　同　第１５頁３行目 ｒＡ／Ｃ／ＢＪをｒＡ／Ｂ／（’；Ｊと補正する。

（６）　同　第１９頁１１行目 ｒ　ノ［（抗かにぼｊを「抵抗がほぼ−１と？ｉｌｉ止
する。

（７）　同　第１９頁１７行［１ ［△／Ｂ、／、Ｃ／ＢＪをＦ　Ａ　／　Ｃ、／　１３　
Ｊと補正づる。

（８）　同　第２６頁３行目 ｒ　Ａ　／　Ｂ　、′Ｃ／　Ｄ　ＪをｒＡ、／ｒ３／Ｃ
／Ｂ／ＤＪど補正する。

手　続　補　正　書 特許庁長官　若　杉　和　夫　殿 １、事件の表示 昭和５８年持物願第１４１２３９号 ２、発明の名称 導電性シートおよびそれを用いた静電記録体３、補正を
する者 事件との関係　特許出願人 住所　東京都中央区日本橋室町２丁目２番地４、補正命
令の日付 自発 ７、補正の内容 （１）　明細書　第１０頁２０行目 「ベンビス」を「ベンゼン」ど補正する。

（２）　同　第１１頁３行目 「有機重合性」を［有ｍ重合体］と補正する。

（３）　同　第２２頁２行目 ＦＡ／ＣｌをＦＡ／ＢＪと補正する。

（４）　昭和５８年９月７日イ１の手続補正書、第２頁
６行〜１２行目 ［層構成としては、・・・・・・・・・ことが望ましい
。」を「層構成としては、Ａ／Ｂ／ＣよりもＡ／Ｃ／Ｂ
であることが好ましく、さらに好ましくはＡ／Ｂ／Ｃ／
Ｂであることが望ましい。また９本発明の静電記録体の
層構成としては、Ａ／Ｂ／Ｃ／ＤよりもＡ　／　Ｃ／　
Ｂ　／　Ｄ、であることが好ましく、さらに好ましくは
、Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｂ／Ｄであることが望ましい。」と補正
する。

手　続　補　正　書 、６９．９．７ 昭和　年　月　日 特許庁長官　志　賀　学殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第１４１２！１９号 ２、発明の名称 導電性シートおよびそれを用いた 静電記録体 ３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 住　所　東京都中央区日本橋室町２丁目２番地名称　（
５１５）東し株式会社 ４、補正命令の日付 自発 ５、補正により増加する発明の数　なし６、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の掴 Ｚ補正の内容 明　細　書　中 （１）第７頁６行 「成る薄層」を「成るそれ自体が実質的に絶縁性の薄層
」と補正する。

（２）第７頁８行 「以上では、」を「を超えると」と補正する。

（３）第８頁７行〜９行 「これらの方法で・・・・・・・・・・・・が望ましい
。」を削除する。

（４）第９頁１６行 「ことが望ましい。」を「ことが好ましく、さらに好ま
しくは１０５〜１０８オーム／口であることが望ましい
。」と補正する。

（５）第９頁１４行、１５行 １オーム」を「オーム／口」と補正する。

（６）第１０頁３行〜５行 「導電層を・・・・・・・・・・・・が望ましい。」を
削除する。

（７）第１１頁１０行 「ならない。」を［ならない。さらに好ましくは、１０
５〜１０８オーム／口であることが望ましく。

この範囲では酸素、水蒸気、高温雰囲気における抵抗値
の変化に対する安定性向上の効果が特に著しい。」と補
正する。

（８）第１２頁１行 「導電性フィルム」を１導電性シート」と補正する。

（９）第１３頁５行と６行の間に次の文章を挿入する。

［すなわち、有機重合体シート（Ａ）ｌ　厚さが５〜１
０００スの金属酸化物薄層（Ｂ）およびＰｔ、　Ｐａ　
。

Ｒｈ、　Ｒｕ、　Ｉｒの少なくとも１種から主としてな
る導電層（Ｃ）が少なくともＡ　／　Ｂ　／　Ｃ、ｉた
は、Ａ／Ｃ／Ｂの配列で積層された本発明の導電性シー
トにおいて、導電性に直接寄与するのは導電層（Ｃ）で
あシ、金属酸化物薄層（Ｂ）は、それ自体、実質的に絶
縁性の薄層である。」 Ｕω　第２１頁２行 「３０体積チ」を１６５体積チ」と補正する。

（１１）　第２１頁３行 「１　ｘ　１０−’　）−ル」を「３×１０−５トール
」と補正する。

（１２１第２１頁１０行〜１１行の間に次の文章を挿入
する。

［なお２本実施例と同様にして、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に直接５ＤＡの酸化インジウム・酸化
錫層を反応性スパッタリング法により形成し　Ａ　／　
Ｂの配列で形成された積層シートを得た。該積層シート
のＢ面の表面電気抵抗は。

１０１０オーム／口以上であった。すなわち９本実施例
の金属酸化物層（Ｂ）はそれ自体では実質的に絶縁性で
ある。」 １３１　第２８頁第２表中 「５０日保管」を「１５０保管」と補正する。

（１４１第２８頁第２表中 「比較例７」を１比較例８」と補正する。

＋１５１　第２８頁第２表中 「比較例８」を「比較例９」と補正する。

（１６）第２８頁第２表の後に次の文章を挿入する。

［実施例１４〜１６ 二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルム（厚
み１００μ１幅５００匝）上に、厚さ２０スの酸化チタ
ン層を実施例１と同様にして反応性スパッタリング法に
よシ形成した。

次いで、パラジウム（純度９９９％２幅７００ｏｍ＋。

厚さ２圓）をターゲットとしてこの酸化チタン層上にス
パッタリング法により表面電気抵抗が、はぼ１０５、　
１０’、１０’オ一ム／口のパラジウム層を形成した。

パラジウム層は、直流マグネトロンスパッタ装置を用い
てアルゴンガスを導入しながら８Ｘ１０　）−ルの圧力
で行なった。

表面電気抵抗が１０５．　１０’、　１　Ｄ’オーム／
口のものをそれぞれ実施例１４，１５．１６とする。

以上述べたようにして、Ａとしてポリエチレンテレフタ
レートフィルム、Ｂとして酸化チタン。

Ｃとしてパラジウムを用い、Ａ／Ｂ／Ｃの配列で形成さ
れた導電性シートを得た。

得られた導電性シートの表面電気抵抗（ＲＯ）。

標準偏度（σ）、５０℃、９０％ＲＨ中に５０日後の表
面電気抵抗（Ｒｓｏ）を、実施例１〜３と同様に測定し
た。結果をそれぞれ第５表に示す。

実施例１７〜１９ 実施例１４〜１６で得られた導電性シートを用いてパラ
ジウム層の上に、厚さ２０Ａの酸化チタン層を実施例１
と同様にして反応性スパッタリングによ多形成した。

表面電気抵抗がほぼ１０’、　１０’、　１０’オ一ム
／口のものを、それぞれ実施例１７〜１９とする。

以上述べたようにＡとしてポリエチレンテレフタレート
フィルム、Ｂとして酸化チタン、Ｃとしてパラジウムを
用いて、Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｂの配列で形成された導電性シー
トを得た。

これらの導電性シートの表面電気抵抗（ＲＯ）１標準偏
差（σ）、５０°Ｃ２９０チＲＨ中５０日後の表面電気
抵抗（ＲＩＯ）を測定した。結果を第６表に示す。

第３表から９本発明の導電性シート（実施例１４〜１９
）は２表面電気抵抗の標準偏差（σ）が小さく、均一性
にすぐれ、かつ表面電気抵抗の変化率が小さく２表面電
気抵抗が安定なすぐれた導電性シートであることは明ら
かである。

実施例２０，２１．２２ 実施例１０において、導電性シートとして実施例１５．
１８を用いる他は同様にして静電記録体（実施例２０．
２１）を得た。

実施例１２において、酸化インジウム・酸化錫層の代シ
に酸化チタン層（厚さ３ＯＡ）を反応性スパッタリング
によ多形成した他は同様にして静電記録体（実施例２２
）を得た。

これらの静電記録体のＲＯＴ　Ｒ１５０／　Ｒｏ＋　Ｏ
Ｄｏ　。

ＯＤ＋ｓｏ　／　ＯＤｏを同様にして測定した。結果を
第４表に示す。画像は塗工後のものも５０°Ｑ、９０Ｓ
ＲＨ中１５０日保管したあとのものも、いずれも良好で
あった。また、１万回繰り返し後の画像も良好であった
。

実施例２５．２４ 実施例２１において、導電性シートと誘電層の間に乾燥
後の厚さが０５μの自己架橋型アクリル系エマルジョン
からなる層を設けた他は同様にして誘電層が２層からな
る静電記録体（実施例２５）を得た。

実施例２２において、導電性フィルムと誘電層の間に乾
燥後の厚さが０．５μの自己架橋型アクリル系エマルジ
ョンからなる層を設けた他は同様にして誘電層が２層か
らなる静電記録体（実施例２４）を得た。

これらの静電記録体のＲ８＋　Ｒ＋ｓｏ／　Ｆｔ。１　
ｏＤｏ。

ＯＤ、５ｏ１０Ｄｏを同様にして測定した。結果を第４
表に示した。画像は塗工後のものも、５０℃、９０ＳＲ
Ｈ中１５０日保管したあとのものも、いずれも良好であ
った。また２万回繰り返し後の画像も良好であった。

第４表から２本発明の静電記録体（実施例２０〜２４）
は表面電気抵抗値が安定で、かつ画像濃度の変化が小さ
く（実質的に変化なし）画像も良好で優れた静電記録体
であることは明らかである。

第６表 第４表 実施例２５．２６ 二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルム（厚
み７５ス１幅５００　ｒａｎ　）上に、ロジウム（純度
９９．９％、　幅７００ｍｍ、厚さ２ｍｍ）をターゲッ
トとして直流マグネトロンスパッタ装置を用いてアルコ
ンガスを導入しながら、８ｘ１０−’　）−ｋ。

圧力でスパッタリング法にょシ表面電気抵抗がほぼ１０
′オ一ム／口のロジウム層を形成した。次いでロジウム
層の上に、厚さ２０スの酸化チタン層を実施例１と同様
にして反応性スパッタリングによ多形成し、Ａとしてポ
リエチレンテレフタレートフィルム、Ｂとして酸化チタ
ンＩ　Ｃとしてロジウムを用いて＋　Ａ　／　Ｃ／　Ｈ
の配列で形成された導電性シート（実施例２５）を得た
。

二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルム（厚
み１００μ９幅５００ｍｍ）上に、厚さ４゜スの酸化チ
タン層を実施例１と同様にして反応性スパッタリング法
５にょ多形成したのち、ロジウム層２次いで酸化チタン
層（厚さ２０ス）をこの順−に形成して、Ａ／Ｂ／Ｃ／
Ｂの配列で形成された導電性シート（実施例２６）を得
た。

これらの導電性シートの表面電気抵抗（ＲＯ）１標準偏
差（σ）、５０℃、９０％ＲＨ中５０日後の表面電気抵
抗（Ｒｓｏ　）を測定した。結果を第５表に示す。第５
表から１本発明の導電性シート（実施例２５．２６）は
表面電気抵抗の標準偏差（σ）が小さく、均一性にすぐ
れ、かつ表面電気抵抗の変化率が小さく２表面電気抵抗
が安定なすぐれた導電性シートであることは明らかであ
る。

第５表 実施例２７．２８ 実施例２６において、導電性シートとして実施例２５．
２６を用いる他は同様にして訪電層が２層からなる静電
記録体（それぞれ実施例２７．２８）を得た。

これらの静電記録体のＲ６，Ｒ１工／　ＲＯｌ　ＯＤＯ
ＩＯＤ１５０　／　ＯＤｏを同様にして測定した。結果
を第６表に示しだ。画像は塗工後のものも、５０℃、　
９０ＳＲＨ中に１５０日保管したあとのものも、いずれ
も良好であった。また２万回繰シ返し後の画像も良好で
あった。第６表から本発明の静電記録体（実施例２７．
２８）は表面電気抵抗が安定で、かつ画像濃度の変化が
小さく（実質的に変化がなし）画像も良好で優れた静電
記録体であることは明らかである。

実施例２９ 二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルム（厚
み１００μ９幅５００ｎ＋＋ｎ）上に、厚さ２０Ａの酸
化タンタル層を反応性スパッタリング法により形成した
。

反応性スパッタリングは、金属タンタル（純度９９、９
　％　、幅７００ｍｍ、厚み３ＬＩＩｍ）をターゲット
とし、直流マグネトロンスパッタ装置を用いて、アルゴ
ンと酸素の混合ガス（酸素３０体積チ）を導“入１−ｅ
布ら２ｘ１０　トールの午力〒行外っ奔次いで、実施例
１と同様にして表面電気抵抗がほぼ１０６オーム／口の
白金層を形成した。次に該白金層の上に上記と同様にし
て酸化メンタル層を形成して本発明の導電性シートを得
た。こうして得た導電性フィルムの上に下記の混合組成
物からなる均一分散液をドクターナイフ塗布装置を用い
て、乾燥固型分が７　ｇ１０２となるように塗布し、加
熱乾燥架橋して、静電記録体（実施例２９）を得た（塗
工部の幅は６００圓）。

架橋型メタクリル酸エステルアクリル酸エステル系コポ
リマ　１００重量部 架橋綽ｊ（ポリイソシアナート）　１０重量部酸化アル
ミニウム（数平均粒径が７μ）３０重量部 トルエン　３００重量部 酢酸ブチル　３００重量部 以上述べたように、Ａ　／Ｂ　／Ｃ／Ｂ／Ａの配列で形
成された静電記録体を得だ。

この静電記録体のＲＯ’＋　Ｒ１５０／　’＋１　＋　
ＯＤＯｒ　０ＤＩＳＱ／”ＤＯを同様にして測定した。

結果は第６表に示した。

画像は塗工後のものも、５０℃＋　９０　ｓ　ＲＨ中に
１５０日保管したあとのものも、いずれも良好であった
。また２万回繰シ返し後の画像も良好であった。第６表
から本発明の静電記録体（実施例２９）は表面電気抵抗
が安定で、かつ画像濃度の変化が小さく（実質的に変化
がない）画像も良好で優れた静電記録体であることは明
らかである。

第６表

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）　有機重合体シー）　（Ａ　）、厚さが５〜１０
   ００Ａの金属酸化物薄層ＣＢ）、およびｐｔ、ｐ叔、Ｒ
   ｈ。 Ｒｕ、工ｒの少なくとも１種から主としてなる導電層（
   Ｃ）が少なくともＡ／　Ｂ　／　Ｃ、または、Ａ／／Ｃ
   ／Ｂの配列で積層された導電性シートであって、かつ該
   導電性シートのＣまたはＢ側の表面電気抵抗が、１０〜
   １０オ一ム／口であることを特徴とする導電性シート。
2. （２）有機重合体シート（Ａ）、厚さが５〜１０００Ａ
   の金属酸化物薄層（Ｂ）、および＊　Ｐｔ＋　Ｐｄ＊Ｒ
   ｈ。 Ｒｕ、工ｒの少なくとも１種から主としてなる導電層（
   Ｃ）が、少なくともＡ　／　Ｂ　／　Ｃｅまたは、Ａ／
   Ｃ／Ｂの配列で積層された導電性シートであって−１か
   つ該導電性シートのＣまたはＢ側の表面電気抵抗が、１
   ０〜１０オ一ム／口である導電性シートと、該導電性シ
   ートのＣまたはＢ側に設けた誘−ＣＤ）とからなること
   を特徴とする静電記録規