JPS589116B2 - ヒドロキシコレスタ−５，７↓−ジエン類の単離方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明ハヒドロキシコレスター５・７−ジエン類の単離
方法に関する。

更に詳しくは、ヒドロキシコレスター５・７−ジエン類
とヒドロキシコレスタ−４・６−ジエン類とを含む混合
物から、ヒドロキシビタミンＤ３に導き得る有用な中間
体であるヒドロキシコレスター５・７−ジエン類ヲ単離
する方法に関する。

従来、ヒドロキシコレスター５・７−ジエン類とヒドロ
キシコレスタ−４・６−ジエン類とを含む混合物より、
ヒドロキシコレスタ−５・７−ジエン類を分離する方法
としては、例えば、特開昭５１−６８５５９号に記載さ
れた方法が知られている。

この方法は、ヒドロキシコレスター５・７−ジエン類と
ヒドロキシコレスター４・６−ジエン類とを含む混合物
を、硝酸銀を含有したシリカゲルを吸着剤としたクロマ
トグラフイーに付すことにより、ヒドロキノコレスター
５・７−ジエン類を分離取得する方法である。

この方法は、他の公知方法例えば、ヒドロキシコレスタ
ー５・７−ジエン類とヒドロキシコレスター４・６−ジ
エン類との化学的性質の違いを利用して、先ず両者の混
合物を誘電率６以上の有機媒体と接触せしめて、該ヒド
ロキシコレスター４・６−ジエン類のみを相当するコレ
スター２・４・６−トリエンに変換し、次いで、ヒドロ
キシコレスター５・７−ジエン類とかくして生成した２
・４・６−トリエンとの溶解性または極性の相違を利用
して再結晶またはクロマトグラフイーにより、ヒドロキ
シコレスター５・７−ジエン類を分離する方法（特開昭
５２−７１４５７号公報等参照）と比較して、５・７−
ジエン類と４・６−ジエン類とを含む混合物を、そのま
ま分離操作に付す方法である点ですぐれていると云える
。

しかしながら、前記特開昭５１−６８５５９号に記載さ
れた方法は、硝酸銀を含有したシリカゲルという特殊な
吸着剤を用いる方法であり、また、よく知られたヒドロ
キシコレスト−５−エン類よりヒドロキシコレスター５
・７−ジエン類ヲ製造する方法において、わざわざ付け
られた１α−位および３β−位の水酸基の保護基を再度
除去して１α−位および３β−位が共に遊離水酸基とな
ったヒドロキノコレスター５・７−ジエンおよびヒドロ
キシコレスター４・６−ジエンに変換してクロマトグラ
フイーにかける必要があるなど、特に工業的に大量に製
造する場合の方法としては改良されるべき点もあり、未
だ十分満足のいく方法とは云い難い。

一方、１α・３β−ジアセトキシコレスト−５−エンを
、ブロム化剤としてジグロモジメチルヒダントインを用
いてブロム化し、１α・３β−ジアセトキン−７−ブロ
モコレステロールを得、次いで、その２０ｍｇをトリメ
チルホスファイトを用いる脱臭化水素反応に付し、得ら
れた反応混合物を、スケリソルブ−ジエチルエーテルに
よる中性アルミナを担体とするカラムクロマトグラフイ
ーに付すことにより、１α・３β−ジアセトキシコレス
タ−５・７−ジエンを６００μｇ得る方法も知られてい
る。

（特開昭４８−６２７５０号公報参照）しかしながら、
この方法では収率が極端に低く、工業的製造法としては
改良さるべき点がある。

本発明者らは、かかる観点から、ヒドロキシコレスト−
５−エン類よりヒドロキシコレスター５・７−ジエン類
を製造する方法において、生成するコトカ避けられない
ヒドロキシコレスタ−４・６−ジエン類を分離除去して
、ヒドロキシコレスター５・７−ジエン類を単離する工
業的に有利な方法を見い出すべく鋭意研究した結果、ヒ
ドロキシ基の保護基としてビバロイル基またはエトキシ
カルボニル基を用い、且つ、溶媒として低級脂肪族アル
コールと低級脂肪族エーテルとの混合溶媒を用いる場合
には、簡単な再結晶操作によりヒドロキシコレスタ−５
・７−ジエン類とヒドロキシコレスタ−４・６−ジエン
類とを含む混合物より、ヒドロキシコレスター５・７−
ジエン類を高収率で単離しうろことを究明し、本発明に
到達したものである。

すなわち、本発明は １．下記式〔Ｉ〕 〔式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立にピバロイル基また
はエトキシカルボニル基でアリ、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ
独立に水素原子、水酸基、ピバロイルオキシ基またはエ
トキシカルボニルオキシ基である。

〕で表わされるヒドロキシコレスター５・７−ジエン類
と、 下記式〔■〕、 〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の定義は前記に同
じ〕 で表わされるヒドロキシコレスター４・６−ジエン類と
を含む混合物を、低級脂肪族アルコールと低級エーテル
との混合溶媒から再結晶することにより、上記式〔■〕
で表わされるヒドロキシコレスター５・７−ジエン類を
単離せしめることを特徴とする前記混合物からのヒドロ
キシコレスター５・７−ジエン類の単離方法である。

本発明において用いられる分離の対象物は、上記式〔Ｉ
〕で表わされるヒドロキシコレスター５・７−ジエン類
と上記式〔■〕で表わされるヒドロキシコレスタ−４・
６−ジエン類とを含む混合物である。

上記式〔■〕中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立にビバロイ
ル基、またはエトキンカルボニル基であり、Ｒ３、Ｒ４
はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、ビバロイルオキシ
基またはエトキシカルボニルオキシ基である。

すななち、上記式〔■〕で表わされるヒドロキンコレス
ター５・７−ジエン類の具体例としては、以下の如きも
のをあげることができる。

（１００）１α・３β−ジピバロイルオキシコレスター
５・７−ジエン、 （１０２）１α・３β・２４−トリピバロイルオキシコ
レスタ−５・７−ジエン、 （１０４）１α・３β・２５−トリピバロイルオキシコ
レスタ−５・７−ジエン、 （１０６）１α・３β・２４・２５−テトラビバロイル
オキシコレスター５・７−ジエン、 （１０８）１α・３β−ジエトキシカルボニルオキシコ
レスタ−５・７−ジエン、 （１１０）１α・３β・２４−トリエトキシカルボニル
オキシコレスター５・７−ジエン、 （１１２）１α・３β・２５−トリエトキシカルボニル
オキシコレスタ−５・７−ジエン、 （１１４）１α・３β・２４・２５−テトラエトキシカ
ルボニルオキシコレスタ−５・７−ジエン、（１１６）
３β−エトキシカルボニルオキシ−１α−ピバロイルオ
キシコレスタ−５・７−ジエン、（１１８）１α−エト
キシカルボニルオキシ−３β−ピバロイルオキシコレス
タ−５・７−ジエン、（１２０）３β−エトキンカルボ
ニルオキシ−１α・２４−ジピバロイルオキシコレスタ
−５・７ジエン、 （１２２）２４−ヒドロキシ−１α・３β−ジピバロイ
ルオキシコレスタ−５・７−ジエン、（１２４）２４−
ヒドロキシ−１α・３β−ジエトキシカルボニルオキシ
コレスタ−５・７−ジエン、 （１２６）２４−ヒドロキン−１α・３β・２５−トリ
ピバロイルオキシコレスタ−５・７−ジエン、 （１２８）２４−ヒドロキン−１α・３β・２５−トリ
エトキシカルボニルオキシコレスタ−５・７−ジエン、 また、上記式〔■〕で表わされるヒドロキシコレスター
４・６−ジエン類の具体例としては、上記式〔■〕で表
わされる５・７−ジエン類に対応するそれぞれの化合物
があげられる。

本発明で用いられる上記ヒドロキシコレスター５・７−
ジエン類とヒドロキシコレスタ−４・６−ジエン類との
混合物とは、その化学構造において唯一二重結合の位置
のみが異なる５・７−ジエン類と４・６−ジエン類との
混合物を意味している。

しかして、かように本発明において用いられるヒドロキ
ンコレスター５・７−ジエン類とヒドロキシコレスター
４・６−ジエン類とを含む混合物は、ヒドロキシコレス
ト−５−エン類よりヒドロキシコレカルシフエロール類
を製造する一連の工程の中間反応生成物として生成する
ものである。

この一連の反応を反応式で示せば次の通りである。

上記反応式中Ｒ３１およびＲ４１はそれぞれ独立に水素
原子または水酸基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４
の定義は上記に同じである。

遊離の水酸基を有するヒドロキシコレスト−５−エン類
を保護基導入して水酸基が保護されたヒドロキシコレス
ト−５−エン類を製造する反応は、例えば、遊離の水酸
基を有するヒドロキシコレスト−５−エン類をピバロイ
ルクロライドピバリン酸無水物もしくはエチルクロロホ
ルメートとピリジンの如き第３級アミン触媒の存在下に
反応せしめることにより容易に製造することができる。

反応は室温〜８０℃で進行するが、ピバロイル化反応が
５〜６時間程度で終了するのに対し、エトキシカルボニ
ル化反応は、エチルクロロホルメートが低沸点であるこ
とに起因して注意して反応操作を行う必要があり、通常
２０〜３０時間かげて行うのが望ましい。

この保護基導入反応は比較的定量的に進行せしめること
が可能であるが、それでも若干量の触媒に用いたアミン
類あるいはハルツ等の不純物を含むことが普通であり、
そのまま次の反応の原料として用いる場合には、その後
の反応において収率低下の原因になる。

本発明者の研究によれば、特に保護基としてピバロイル
基を導入した場合には、得られたピバロイル保護ヒドロ
キシコレスト−５−エン類は、例えばメタノール、エタ
ノール等を再結晶溶媒として容易に結晶として再結精製
が可能であり、公知のアセチル保護ヒドロキシコレスト
−５−エン類が結晶として精製し難いのに比し、極めて
すぐれていることがわかった。

それ故、本発明は、かかる意味においても、ヒドロキシ
コレスト−５−エン類よりヒドロキシコレカルシフエロ
ール類を製造する工業的に有利な一連の反応を提供する
ものである。

もちろん、保護基導入試薬としてピバロイルクロライド
またはエチルクロロホルメートのいずれか一方のみを用
いた場合には、保護基としてピバロイル基またはエトキ
ンカルボニル基のいずれか一方の基のみが導入された保
護された水酸基を有するヒドロキシコレスト−５−エン
類が得られるが、ヒドロキノコレスト−５−エンの各水
酸基のわずかの反応性の差を利用して、両保護基導入試
薬を用い保護基としてピバロイル基とエチルオキンカル
ボニル基とを共に含む保護された水酸基を有するヒドロ
キシコレスト−５−エン類を製造することもできる。

例えば、１α・３β−ジヒドロキシコレスト−５−エン
を、先ず、エチルクロロホルメートで保護基導入して、
３β−エトキシカルボニルオキン−１α−ヒドロキシコ
レスト−５−エンとし、次いで、ピバロイルクロライド
でアシル化することにより、２つの水酸基が異なる保護
基により保護された３β−エトキシカルボニルオキシ−
１α−ピバロイルオキシコレスト−５−エンを製造する
ことができる。

かくして得られた、保護された水酸基を有するヒドロキ
シコレスト−５−エン類は次いで、ブロム化（Ｂｒ化）
され、更に、脱臭化水素（脱ＨＢｒ）されることにより
本発明の分離対象物を形成する。

ブロム化剤としては、アリル位ブロム化剤としてよく知
られている例えば、Ｎ−プロモサクシニイミド、１・３
−ジプロモ−５・５−ジメチルヒダントイン、Ｎ−プロ
モカプロラクタム等が好ましく用いられ、脱臭化水素剤
としては、例えば、トリメチルホスファイト、ｓ−コリ
ジン、ジエチルアニリン等が好ましく用いられる。

反応溶媒としては、いずれの反応に対しても例えば、ヘ
キサン、ヘプタン、シクロヘキサン、リグロイン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素、１・２−ジク
ロロエタン、１・２−ジブロモエタンの如き炭化水素又
はハロゲン化炭化水素等が好ましく用いられる。

ブロム化反応は、室温〜１４０℃で進行し、脱臭化水素
反応は６０°〜２５０℃、好ましくは１２０〜１８０℃
で進行する。

これらの詳細な反応条件は、米国特許第４０２２８９１
号明細書に記載されている。

これらのブロム化反応および引き続いて行なわれる脱臭
化水素反応により得られた反応混合物は、上記式〔■〕
で表わされるヒドロキシコレスター５・７−ジエンおよ
び上記式〔■〕で表わされるヒドロキンコレスタ−４・
６−ジエンを含み上記式〔■〕で表わされるヒドロキシ
コレスタ−４・６−ジエンを含まない反応混合物を製造
することは、本発明者の研究によれば殆んど不可能に近
いと考えられる。

また、本発明者らの実験によれば、ブロム化反応を徹底
的に行おうとする場合には、７位のモノＢｒ化成績体だ
けでなくジブロム化体などの副生成物が生成するため、
ブロム化反応を行う場合には、この反応の原科である保
護された水酸基を有するヒドロキシコレスト−５−エン
類が若干量残存する程度で反応を終了するのがよいこと
も確かめられた。

それ故、望ましい反応条件下においてブロム化をなされ
、脱臭化水素化反応をなされ得られた本発明の分離対象
物は、上記式〔■〕および〔■〕で表わされる５・７−
ジエン類および４・６−ジエン類の他に、保護された水
酸基を有するヒドロキシコレスト−５−エン類を含んで
いる。

もちろん、本発明はこのようなヒドロキシコレスト−５
−エン類を含んでいる分離対象物をも包含する。

さて、本発明は、上記式〔■〕で表わされるヒドロキシ
コレスター５・７−ジエン類と上記式〔■〕で表わされ
るヒドロキシコレスター４・６一ジエン類とを含む混合
物を、低級脂肪族アルコールおよび低級脂肪族エーテル
の混合溶媒中で再結せしめることにより行なわれる。

低級脂肪族アルコールとしては、例えば、メタノール、
エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール
、ｎ−ブタノール、メトキシエタノール、ｎ−ヘキサノ
ール等を好ましいものとしてあげることができ、低級脂
肪族エーテルとしては、例えば、ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、ジイソプロビルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、１・２−ジメトキシエタン等を
好ましいものとしてあげることができる。

本発明者の研究によれば、これらの混合溶媒のうち、低
級脂肪族アルコールとしては炭素数１〜４の脂肪族鎖状
アルコールが好ましく、また、低級脂肪族エーテルとし
ては炭素数２〜６の脂肪族鎖状エーテルまたは５〜６員
脂肪族環状エーテルが好ましいことがわかった。

これらの混合溶媒を用いる場合には、特に、分離し、単
離して得られる上記式〔■〕で表わされるヒドロキシコ
レスター５・７−ジエンの単離収率および純度がすぐれ
ている。

特に、メタノールとエチルエーテルの混合溶媒を用いた
場合には最良の結果が得られた。

本発明において、上記低級脂肪族アルコールと上記低級
脂肪族エーテルとの量割合は、分離対象物の骨格構造あ
るいは保護基の有無、種類等により若干好適な範囲に差
が見られるが、通常低級脂肪族エーテルよりも低級脂肪
族アルコールを多量に用いた混合溶媒が好ましく用いら
れ、特に低級脂肪族アルコール１重量部に対し低級脂肪
族エーテル約０．２〜０．０５重量部の混合溶媒が好ま
しく用いられる。

用いる低級脂肪族アルコールと低級脂肪族エーテルとの
種類によっても、好適な量的範囲は異なるが、低級脂肪
族エーテルの併用は、分離対象物の溶解度を向上せしめ
、冷却にあたっては結晶の析出を緩慢にし不純物として
含まれるハルツ成分および４・６−ジエン体との分離を
良好にしていると考えられる点において共通しており、
実際の操作においてその量的割合を決めることはさして
困難なことではない。

本発明の分離操作は所定量の低級脂肪族エーテルに分離
対象物を加えて溶解し、次いで、所定量の低級脂肪族ア
ルコールを加えて若干の濁りを生じせしめ、その后、温
度を上げて再び全体が透明になるまで加熱し、次いで、
冷却する方法により行なうのがよい。

もちろん、予め所定量の低級脂肪族アルコールと所定量
の低級脂肪族エーテルとの混合溶媒を調製したのち、こ
れに分離対象物を加えて再結晶を行う通常の方法によっ
てもよい。

本発明における分離対象物は、前記の通り上記式〔■〕
で表わされるヒドロキシコレスター５・７−ジエン類と
上記式〔■〕で表わされるヒドロキシコレスタ−４・６
−ジエン類とを含む混合物であるが、これらはいずれも
１α−位および３β−位に保護された水酸基を有する点
において共通しており、側鎖に水酸基または保護された
水酸基を有するものと有さないものとを含んでいる点に
おいて異っている。

分離の対象物として見るならば、これらの共通した構造
の内で、側鎖に水酸基または保護された水酸基を有する
ものと有されないものとは、なお共通しており、本発明
の方法により分離することができる。

そして、本発明の最も好ましい態様は、前記した反応に
より、相当するヒドロキシコレスト−５−エン類より最
も好ましい条件下において製造された本発明の分離対象
物に対して適用されるものである。

かかる意味から、本発明の最も好ましい態様は、上記式
〔Ｉ〕で表わされるヒドロキシコレスター５・７−ジエ
ン類１重量部に対し上記式〔■〕で表わされるヒドロキ
シコレスタ−４・６−ジエン類約０．０３〜４重量部、
特に好ましくは０．１〜１重量部を含む混合物をメタノ
ールまたはエタノールとジエチルエーテルとの混合溶媒
から１回もしくは必要により複数回数の再結晶をせしめ
ることにより、上記式〔■〕で表わされるヒドロキシコ
レスター５・７−ジエン類を単離せしめる方法である。

かくして単離精製して得られた上記式〔■〕で表わされ
る１α位および３β位の水酸基がピバロイル基またはエ
トキシカルボニル基により保護さレタヒドロキシコレス
タ−５・７−ジエン類はいずれも新規化合物であり、前
記した反応式に従って、有用ナヒドロキシコレカルシフ
エロール類に導くことができる。

１α−ヒドロキシコレカルシフエロール、１α２４−ジ
ヒドロキシコレカルシフエロール、１α２５−ジヒドロ
キシコレカルシフエロール、更には１α・２４・２５−
トリヒドロキシコレカルシフエロールは、いずれも活性
型ビタミンＤ３として知られている化合物であり、例え
ばくる病、骨軟化症のような疾病の治療ないしは予防に
有用であることが知られている。

本発明は、既に前記したＡり、ヒドロキシコレスト−５
−エン類よりかかる有用な活性型ビタミンＤ３を製造す
る一連の工程において、一連の工程の中途で生成し、そ
の後の反応に極めて不利な影響を及ぼすヒドロキシコレ
スター４・６−ジエン類を分離除去し、活性型ビタミン
Ｄ３を製造する工業的に有利な一連の工程の１つを構成
するものであり、その工業的意味は大きい。

以下、実施例をあげ本発明を詳述する。

実施例１ （１）１α・３β−ジピバロイルオキシコレスト−５−
エンの合成； １α・３β−ジヒドロキシコレスト−５−エン２．０１
ｇ（５ｍｍｏｌ）をピリジン（ＮａＯＨで乾燥）１０ｍ
ｌ加え、窒素雰囲気下に攪拌して溶解し、次いで、氷冷
下にピバロイルクロライド３．０２ｇを加え１時間攪拌
した。

更にピバロイルクロライド３．０１ｇを加え、添加後８
０℃に加熱し５時間攪拌した。

得られた反応混合物を氷水３０ｍｌ中に注ぎ、酢酸によ
りｐＨを５に調節し、次いで酢酸エチル５０ｍｌで抽出
を行なった。

酢酸エチル層を分離したのち、水相を再度新たな酢酸エ
チル３０ｍｌで抽出し、２つの酢酸エチル層を一諸にし
た。

飽和炭酸水素ナトリウム水溶液次いで水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、減圧濃縮を行い、３．
９ｇの残渣（湿潤）を得た。

この残渣をシリカゲル５４ｇを充填剤（充填溶剤、ベン
ゼン）とするカラムクロマトグラフイーにかげ（展開溶
剤、ベンゼン−酢酸エチル）、更に酢酸エチル１重量部
とメタノール３０重量部との混合溶媒中で再結晶を行い
下記性状を示す１α・３β−ジピバロイルオキシコレス
ト−５−エン２．４１ｇ（収率８５％）を得た。

融点：１３２．５〜１３３℃、 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：２９６０、２８７０、１７
３０、１４８０、１２８３、１１６０、ＮＭＲ（ＣＤＣ
ｌ３、δ（ｐｐｍ）： ０．６６（３Ｈ，ｓ，Ｃ１８ＣＨ３）、 ０．８６（６Ｈ，ｄ、Ｃ−２６・２７−ＣＨ３）、１．
１６（９Ｈ，ｓ、Ｃ−３ピバロイル基ＣＨ３Ｘ３）、 １．２１（９Ｈ，ｓ、Ｃ−１ピバロイル基ＣＨ３×３）
、 ４．８８、５．００（２Ｈ，ｂ，Ｃ−１・３−Ｈ）、５
．５２（１Ｈ，ｂ，Ｃ−６−Ｈ）、 （２）１α・３β−ジピバロイルオキシコレスター５・
７−ジエンの合成； １α・３β−ジピバロイルオキシコレスト−５−エン５
７０ｍｌ（１ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサン（Ｎａ乾燥）７
．５ｍｌに加え、９５℃の水溶中で加熱し、攪拌下に１
・３−ジブロモ−５・５−ジメチルヒダントイン１７１
．６ｍｇ（０．６ｍｍｏｌ）を加え赤外線照射下に１５
分間攪拌した。

室温に放冷した後、析出物を濾過し、ｎ−ヘキサンで洗
浄した。

濾液および洗液を４０℃で減圧濃縮し、濃縮残渣を得た
。

キシレン（Ｎａ乾燥）３ｍｌに溶解したＳ−コリジン２
． ５ｍｌを１７０℃の溶で加熱し、攪拌下に上記濃縮
残渣（粗ブロム体）を３ｍｌのキシレンに溶解した溶液
を滴下し、（滴下に用いた滴下ロートを更にキシレン１
．５ｍｌで洗浄した）２０分間加熱還流を行った。

室温に放冷後、析出物を濾別し、キシレンで洗浄した。

濾液および洗液を４０℃で減圧下に濃縮し、濃縮残渣（
主成分、ジエン体）を得た。

このものを、酢酸エチル３０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸
１０ｍｌで２回洗浄した。

酢酸エチル層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、
減圧濃縮し、粗濃縮残渣５８２ｍｇを得た。

（３）１α・３β−ジピバロイルオキシコレスター５・
７−ジエンの単離； 上記（２）で得られた粗濃縮残渣（ｕｖスペクトルによ
れば、５・７−ジエン体：４・６−ジエン体≒２：１で
あり、その他、僅かの５−エン体を含むことが別に確か
められた）の全量を、４ｍｌのエーテルに溶解し、メタ
ノール２０ｍｌを添加後、８０℃で３０分間加熱還流し
た。

室温に放冷３０分後、冷暗所（５℃）に１時間半放置し
た。

析出した針状晶を濾取し、−２０℃の冷メタノールで洗
浄し、暗所で減圧乾燥し、無色針状晶の下記性状を示す
１α・３β−ジピバロイルオキシコレスター５・７−ジ
エン１７６ｍｇを得た。

融点：１６１．５〜１６２℃（エーテル／メタノール再
結） ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）： ２９６０、２８７０、１７３０、１４８０、２１２８５
、１１６５ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ（ｐｐｍ））： ０．６１（３Ｈ，ｓ，Ｃ−１８−ＣＨ３）、０．８６（
６Ｈ，ｄ，Ｃ−２６・２７−ＣＨ３）、１．１６（９Ｈ
，ｓ，Ｃ−３ピバロイル基ＣＨ３×３）、 １．２２（９Ｈ，ｓ，Ｃ−１ピバロイル基ＣＨ３×３）
、 ４．９２（２Ｈ，ｂ， Ｃ−１・３−Ｈ）、５．３６お
よび５．６４（２Ｈ，ｂ，Ｃ−６−ＨおよびＣ−７−Ｈ
）、 ＵＶ（エーテル）、λｍａｘ：２６３（７３００）、２
７２（１０５００）、２８２（１１３００）、２９４（
６７００）ｎｍ、 （４）１α−ヒドロキシコレカルシフエロールの合成； １α・３β−ジピパロイルオキシコレスター５・７−ジ
エン１４２ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）を、ベンゼン（Ｎ
ａ乾燥）６００ｍｌに溶解し、アルゴンガスで３０分間
脱気した。

氷水で冷却しつつ、アルゴンガスをバプリングさせ、２
００Ｗ水銀ランプで５分間光照射せしめた（この間、内
温は５℃から１５℃に上昇した）。

得られた光照射液を４０℃で減圧濃縮し、約１００ｍｌ
まで濃縮した。

アルゴンガスで再び３０分間脱気後、引き続きアルゴン
ガスで脱気しつつ攪拌下に８０℃（バス温）に２時間半
加熱した。

得られた熱異性化混合物を、４０℃で濃縮し、得られた
残渣をメタノール５ｍｌに溶解せしめ、２５％水酸化カ
リウムのメタノール溶液を１ｍｌ加えて、遮光下に６０
℃（バス温）で３時間加熱攪拌を行い、ピバロイル基の
除去を行った。

得られた脱ピバロイル反応液な、冷水３０ｍｌに注加し
、エーテル３０ｍｌで３回抽出後、エーテル層を合せ飽
和食塩水１０ｍｌで２回洗浄後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥、濾過、濃縮を行い、濃縮残渣を得た。

得られた濃縮残渣を酢酸エチルに溶解し、２％硝酸銀−
アセトニトリル溶液で処理したシリカゲル薄層プレート
（２０ｃｍ×２０ｃｍ×０．５ｍｍ）２板にアプライし
、ベンゼン−アセトン（２：１）で展開分離し、酢酸エ
チル５０ｍｌで５回抽出し、粗１α−ヒドロキシコレカ
ルシフエロール１８．５ｍｇを得た。

この粗製品をシリカゲル薄層プレート（２０ｃｍ×２０
ｃｍ×０．５ｍｍ）１板で分離抽出後、ｎ−ヘプタン０
．３ｍｌで再結することにより、１α−ヒドロキシコレ
カルシフエロールの結晶を得た。

このものの性状は文献値とよい一致を見た。

実施例２ （１）１α・３β−ジエトキシカルボニルオキシコレス
タ−５・７−ジエンの合成； １α・３β−ジエトキシカルボニルオキシコレスト−５
−エン１６３．８ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキサ
ン（Ｎａ乾燥）３ｍｌに加え、９５℃に加熱し、攪拌下
に１・３−ジプロモ−５・５−ジメチルヒダントイン５
１．５ｍｇ（０．１８ｍｍｏｌ）を加え、赤外線照射下
に１５分間攪拌した。

室温に放冷後、析出物を濾別し、ｎ−ヘキサンで洗浄し
た。

濾液および洗浄液を一諸にし、４０℃で減圧濃縮し、濃
縮残渣（粗ブロム体）を得た。

キシレン１ｍｌにＳ−コリジン０．７５ｍｌを溶解した
溶液を、１７０℃（バス温）に加熱し、攪拌下に上記粗
プロム体を１ｍｌのキシレンに溶解した溶液を滴下し（
滴下ロートを更に０．２５ｍｌのキシレンで洗浄した）
、２０分間加熱還流した。

室温に放冷後、析出物を濾別し、キシレンで洗浄し、濾
液および洗浄液を一諸にし４０℃で減圧濃縮し、１α・
３β−ジエトキシカルボニルオキシコレスタ−５・７−
ジエンを含む残渣を得た。

この残渣を酢酸エチル１０ｍｌに溶解り１Ｎ−塩酸１０
ｍｌで２回抽出した。

分離した酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
および水で順次洗浄した。

無水硫酸ナトリウムで乾燥、減圧濃縮し、粗１α・３β
−ジエトキシカルボニルオキシコレスタ−５・７−ジエ
ンを含む残渣１８０ｍｇを得た。

（２）１α・３β−ジエトキシカルボニルオキシコレス
タ−５・７−ジエンの単離： 上記残渣（ｕＶにより、１α・３β−ジエトキシカルボ
ニルオキシコレスタ−５・７−ジエン：１α・３β−ジ
エトキシカルボニルオキシコレスタ−４・６−ジエンキ
３：１であることがわかり、更に、１α・３β−ジエト
キシカルボニルオキシコレスト−５−エンを僅かに含ん
でいることが別に確かめられた）１８０ｍｇを、１ｍｌ
のエーテルに溶解し、次いで、メタノール１０ｍｌ加え
、８０℃（バス温）で３０分間加熱還流した。

室温に放冷３０分後、冷暗所（５℃）に４時間放置した
。

析出した針状晶を濾取し、−２０℃の冷メタノールで洗
浄し、暗所にて減圧乾燥し、下記性状を示す無色の針状
晶として１α・３β−ジエトキシカルボニルオキシコレ
スタ−５・７−ジエン６６ｍｇを得た。

融点（℃）：１４１〜１４２．５（エーテル／メタノー
ル再結）、 ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：２９５０、２８６０、１７
４０、１４６５、１３７０ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３、δ（ｐｐｍ））：０．６２（３Ｈ
、ｓ，Ｃ−１８−ＣＨ３）、 ０．８６（６Ｈ，ｄ，Ｃ−２６・２７−ＣＨ３）、１．
３１（６Ｈ，ｔ，Ｃ−１・３−エトキシカルボニル基Ｃ
Ｈ３×２）、 ４．２０（４Ｈ，ｑ，Ｃ−１・３−エトキシカルボニル
基ＣＨ２×２）、 ４．８６（２Ｈ，ｂ，Ｃ−１・３−Ｈ）、５．３７およ
び５．６７（２Ｈ，ｂ，Ｃ−６−ＨおよびＣ−７−Ｈ）
、 ＵＶ（エタノール、λｍａｘ）：２６３（６５００）、
２７２（９３００）、２８２（１００００）、２９４（
６０００）ｎｍ、 比較例１ （１）１α・３β−ジアセトキシコレスタ−５・７ージ
エンの合成： １α・３β−ジアセトキシコレスト−５−エン９７２ｍ
ｇ（２ｍｍｏｌ）を、１５ｍｌのｎ−ヘキサン（Ｎａ乾
燥）に溶解し、９５℃（バス温）で攪拌下に１・３−ジ
ブロモ−５・５−ジメチルヒダントイン３４３ｍｇ（１
．２ｍｍｏｌ）を加え、赤外線照射下に１５分間攪拌し
た。

得られた反応混合物を室温に放冷後、析出物を濾別し、
ｎ−ヘキサンで洗浄した。

濾液および洗浄液を一緒にし、４０℃で減圧濃縮して残
渣（粗ブロム体）を得た。

キシレン６ｍｌにＳ−コリジン５ｍｌを溶解した溶液を
１７０℃（バス温）に加熱し、これに、攪拌下に上記粗
ブロム体をキシレン６ｍｌに溶解した溶液を滴下し（滴
下ロートを更にキシレン３ｍｌで洗浄した）、２０分間
加熱還流した。

室温に放冷後、析出物戸別し、キシレンで洗浄し、濾液
および洗浄液を一緒にして４０℃で減圧濃縮し、残直を
得た。

この残渣を酢酸エチル３０ｍｌに溶解し、１Ｎ−塩酸１
０ｍｌで２回洗浄した。

分離した酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
および水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム乾燥、濾過
、減圧濃縮し、濃縮残渣９０８ｍｇを得た。

（２）１α・３β−ジアセトキシコレスタ−５・７−ジ
エンの単離； 上記濃縮残渣（１α・３β−ジアセトキシコレスタ−５
・７−ジエン：１α・３β−ジアセトキシコレスタ−４
・６−ジエンキ２：１）９０８ｍｇを、エーテルーメタ
ノール（１：１０）に加熱溶解し、室温に３０分間放冷
後、冷暗所（５℃）に１４時間放置した。

析出したアメ状物質（非晶物質）をデカントし、冷メタ
ノールで洗浄した。

結晶として得ることはできなかった。

また，このアメ状物質の内の５・７−ジエン対４・６−
ジエンの組成比はほぼ２：１であり、再結晶の組成とほ
とんど変わらなかった。

参考例１ （１）１α・３β−ジアセトキシコレスタ−５・７ージ
エンの合成； １α・３β−ジアセトキノコレスト−５−エン２２．１
ｇ（４５．５ｍｍｏｌ）を、５５０ｍｌのｎ一ヘキサン
に溶解し、９５℃（バス温）で攪拌下に１・３−ジブロ
モ−５・５−ジメチルヒダントイン７．１ｇ（２４．８
ｍｍｏｌ）を加え、赤外線照射下に２０分間攪拌した。

得られた反応混合物を室温に放冷後、析出物を濾別にｎ
−ヘキサンで洗浄した。

濾液および洗液を一緒にし、４０℃で減圧濃縮して残渣
（粗ブロム体）を得た。

キシレン３００ｍｌにｓ−コリジン（１１４．４ｍｌ）
を溶解した溶液を１７０℃（バス温）に加熱し、これに
攪拌下に上記粗ブロム体をキシレン２００ｍｌに溶解し
た溶液を滴下し（滴下ロートを更にキシレン５０ｍｌで
洗浄した）２５分間加熱還流した。

室温に放冷後、析出物を濾別することなしに６０℃で減
圧濃縮した。

この残渣に１５０ｍｌのジメチルホルムアミドを加えて
１８０℃（バス温）に加熱し、１５分間攪拌した。

室温に放冷後、６０℃で減圧濃縮した。

残渣にベンゼン５００ｍｌを加え析出物（主成分、Ｓ−
コリジン・ＨＢｒ塩）を濾別し、濾液を減圧濃縮して、
１α・３β−ジアセトキシコレスタ−５・７−ジエン、
１α・３β−ジアセトキシコレスタ−５・７−ジェン、
１α・３β−ジアセトキシコレスタ−４・６−ジエン１
α・３β−ジアセトキシコレスト−５−エンおよび１α
−アセトキシコレスタ−２・４・６−トリエンを含む残
渣（５・７−ジエン体：４・６−ジエン体≒２０：１）
を得た。

（２）１α・３β−ジアセトキシコレスタ−５・７，−
ジエンの単離； ２００ｇのシリカゲルを充填剤としたカラムを調製し（
充填溶媒、ベンゼン）、展開溶媒としてベンゼンー酢酸
エチルを用い上記残渣をクロマトグラフイーにかげた。

主成分として、１α・３β−ジアセトキシコレスタ−５
・７−ジエン、１α・３β−ジアセトキシコレスタ−４
・６−ジエンおよび１α・３β−ジアセトキシコレスト
−５−エンを含む１５．５ｇの取得物を得た。

このものを、更に、エタノール１００ｍｌに５０℃（バ
ス温）で加熱溶解し、冷暗所に２４時間放置した。

析出物を濾別後、冷エタノールで洗浄した。

融点１１３〜１１５℃（エタノール）を示す１α・３β
−ジアセトキシコレスタ−５・７ージエン７．６ｇが得
られた。

参考例２ １α・３β−ジピバロイルオキシコレスト−５−エン７
０ｍｇ（１ｍｍｏｌ）、１・３−ジプロモ−５・５−ジ
メチルヒダントイン１５７ｍｇ（０．５５ｍｍｏｌ）、
ｎ−ヘキサン１２．１ｍｌ，ｓ−コリジン２．５２ｍｌ
およびキシレン１３．９ｍｌを用い、実施例１の方法と
同様にして、ブロム化、脱臭化水素反応までを行った。

得られた脱臭化水素反応混合物を室温に放冷後、６０℃
で減圧濃縮した。

得られた残渣にジメチルホルムアミド４．８６ｍｌを加
えて溶解し、その後１８０℃（バス温）で１５分間攪拌
した。

反応液を６０℃で減圧濃縮後、ベンゼンに溶解し不溶物
を濾別後、１０ｇのシリカゲルにてカラムクロマト精製
を行った。

得られた粗生成物４６５ｍｇは、１α・３β−ジピバロ
イルオキシコレスタ−５・７−ジエン：１α・３β−ジ
ピバロイルオキシコレスタ−４・６−ジェンキ４：１の
ものであり、ジメチルホルムアミド処理前の上記残渣の
同比率が約２：１であったことから保護基がピバロイル
基の場合には、保護基がアセチル基の場合（参考例１参
照）に比較してジメチルホルムアミドによる４・６−ジ
エン体の２・４・６一トリエン体への変換効率が低いこ
とがわかった。

実施例３ （１）１α・３β．２４（Ｒ）−トリエトキシカルボニ
ルオキシコレスト−５−エンの合成； １α・３β・２４（Ｒ）−トリヒドロキシコレスト−５
−エン３．６３ｇｒと４−ジメチルアミノピリジン６．
２５ｇｒを塩化メチレン４０ｍｌに加え、窒素雰囲気下
に攪拌して溶解し、次いで、氷冷下にクロル炭酸エチル
２４．７５ｍｌに滴下した。

滴下後、バス温６０℃で加熱し２７時間攪拌した。

得られた反応混合物を氷水中に注ぎ塩化メチレンで抽出
を行った。

塩化メチレン抽出液を２Ｎ−塩酸、次いで飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナト
リウムで乾燥後、濾過、減圧濃縮を行い、４．９８ｇｒ
の残渣を得た。

この残渣をメタノール１０ｍｌ中で再結晶を行い、１α
・３β・２４（Ｒ）−トリエトキシカルボニルオキシコ
レスト−５−エンの結晶３．６４ｇｒを得た。

（２）１α・３β・２４（Ｒ）−トリエトキシカルボニ
ルオキシコレスタ−５・７−ジエンの合成；１α・３β
・２４（Ｒ）−トリエトキシカルボニルオキシコレスト
−５−エン３．４９ｇｒ（５．５ｍｍｏｌ）をｎ−ヘキ
サン（Ｎａ乾燥）５８ｍｌに加え、９５℃の油浴中で加
熱し、攪拌下に１・３−ジブロモ−５・５−ジメチルヒ
ダントイン９９８ｍｇ（３．３ｍｍｏｌ）を加え赤外線
照射下に１５分間攪拌した。

室温に改冷した後、析出物を濾過し、ｎ−ヘキサンで洗
浄した。

濾液および洗液を４０℃で減圧濃縮し、濃縮残渣を得た
。

キシレン（Ｎａ乾燥）１９ｍｌに溶解したＳ−コリジン
１４．５ｍｌを１７０℃の油浴中で加熱し、攪拌下に上
記濃縮残渣（粗ブロム体）をキシレンに溶解した溶液を
滴下し（滴下に用いた滴下ロートを更にキシレンで洗浄
した）２０分間加熱還流を行った。

室温に放冷後、析出物を濾別し、キシレンで洗浄した。

濾液および洗液を４０℃で減圧下に濃縮し、濃縮残渣（
主成分、ジエン体）を得た。

このものを、酢酸エチル２００ｍｌに溶解し１Ｎ−塩酸
１００ｍｌで３回洗浄した。

酢酸エチル層を、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および
水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過、
減圧濃縮し、粗濃縮残渣３．６８ｇｒを得た。

（３）１α・３β・２４（Ｒ）−トリエトキシカルボニ
ルオキシコレスタ−５・７−ジエンの単離；上記（２）
で得られた粗濃縮残渣の全量をメタノール７ｍｌと、エ
ーテル１ｍｌの混合溶液中に溶解させ冷暗所（５℃）に
放置した。

析出した結晶（１．９５ｇｒ）を濾取し、更にメタノー
ル１３ｍｌ中、７０℃で３０分間加熱還流し、溶解した
。

室温に放冷３０分後、冷暗所（５℃）に１時間半放置し
た。

析出した針状晶を濾取し、−２０℃の冷メタノールで洗
浄し、暗所で減圧乾燥し、無色針状晶の下記性状を示す
、１α・３β・２４（Ｒ）−トリエトキシカルボニルオ
キシコレスタ−５・７−ジエン１．６９ｇｒを得た。

融点；１１６〜７℃（メタノール） Ｕ．Ｖ．（エタノール、λｍａＸ）； ２６２（８１１０）、２７１（１１４１０）、２８１（
１２１３０）、２９３（７２００）Ｎ．Ｍ．Ｒ（ＣＤＣ
ｌ３、δ（ｐｐｍ））：０．６２（３Ｈ，Ｓ．Ｃ−１８
−ＣＨ３）１．３１（９Ｈ，ｔ，Ｃ−１・３・２４−エ
トキシカルボニル基ＣＨ３×３） ４．１８（６Ｈ、ｑ，Ｃ−１・３・２４−エトキシカル
ボニル基ＣＨ３×３） ４．５０（１Ｈ，ｂｍ，Ｃ−２４−Ｈ） ４．８０（２Ｈ，ｂｍ，Ｃ−１・３−Ｈ×２）５．３５
および５．６５（２Ｈ，ｂｍ，Ｃ−６−ＨおよびＣ−７
−Ｈ） 参考例３ （１）１α・３β・２４（Ｒ）−ト！Ｊアセトキシコレ
スタ−５・７−ジエンの合成 １α・３β・２４（Ｒ）−トリアセトキシコレスト−５
−エン４．７ｇｒ（８．６３ｍｍｏｌ）を６９ｍｌのｎ
−ヘキサンに溶解し、９５℃（バス温）で攪拌下に１・
３−ジプロモ−５・５−ジメチルヒダントイン１．３６
ｇｒ（４．７４ｍｍｏｌ）を加え、赤外線照射下に１５
分間攪拌した。

得られた反応混合物を室温に放冷後、析出物を濾別後ｎ
−へキサンで洗浄した。

濾液および溶液を一緒にし、４０℃で減圧濃縮して残渣
（粗ブロム体）を得た。

キシレン４３ｍｌにＳ−コリジン１３ｍｌを溶解した溶
液を１７０℃（バス温）に加熱し、これに攪拌下に上記
粗ブロム体をキシレン４４ｍｌに溶解した溶液を滴下し
（滴下ロートを更にキシレン５ｍｌで洗浄した）２５分
間加熱還流した。

室温に放冷後、析出物を濾別することなしに６０℃で減
圧濃縮した。

この残渣にジメチルホルムアミドを加えて１７５℃（バ
ス温）に加熱し、２５分間攪拌した。

室温に放冷後、６０℃で減圧濃縮し、１α・３β・２４
（Ｒ）−トリアセトキシコレスタ−５・７−ジエンを含
む混合物を得た。

（２）１α・３β・２４（Ｒ）−トリヒドロキシコレス
ター５・７−ジエンの合成 上記（１）で得られた混合物をメタノール４３ｍｌとベ
ンゼン４３ｍｌの混合溶液に溶解した。

得られた混合溶液に２Ｎ−水酸化カリウム−メタノール
溶液１２９．５ｍｌ加えて６０℃（バス温）に加熱し、
１時間半攪拌した。

反応終了後、反応液に適量の水を加え酢酸エチル抽出し
た。

酢酸エチル抽出液を１Ｎ−塩酸、次いで水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、濃縮することによ
り、１α・３β・２４（Ｒ）−トリヒドロキシコレスタ
ー５・７−ジエンおよび１α・３β・２４（Ｒ）−トリ
ヒドロキンコレスター４・６−ジエンを含む（５・７−
ジエン体：４・６一ジエン体≒３．３＝１）混合物Ｏｇ
ｒを得た。

（３）１α・３β・２４（Ｒ）一トリヒドロキシコレス
ター５・７−ジエンの単離 シリカゲル薄層板（２０ｃｍ×２０ｃｍ×２ｍｍ）２０
枚に、展開溶媒としてベンゼン−アセトンを用い、上記
（２）で得られた混合物をクロマトグラフイーにかげた
。

主成分として、１α・３β・２４（Ｒ）−トリヒドロキ
シコレスター５・７−ジエン、１α・３β・２４（Ｒ）
一トリヒドロキシコレスター４・６−ジエンおよび１α
・３β・２４（Ｒ）−トリヒドロキシコレスト−５−エ
ンを含む１．８３ｇｒの取得物を得た。

このものを更に、２％硝酸銀−アセトニトリル溶液で処
理したシリカゲル薄層板（２０ｃｍ×２０ｃｍ×０．５
ｍｍ）７６板に、展開溶媒としてクロロホルム−メタノ
ールを用いクロマトグラフイーで精製することにより、
１α・３β・２４（Ｒ）−トリヒドロキシコレスター５
・７−ジエン１．１ｇｒ（３０．６％）を得た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 下記式〔■〕 〔式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立にピバロイル基また
   はエトキシカルボニル基であり、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ
   独立に水素原子、水酸基、ピバロイルオ、キン基または
   エトキシカルボニルオキシ基である。 〕で表わされるヒドロキシコレスタ−５・７−ジエン類
   と、 下記式〔■〕 〔式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の定義は前記に同じ
   〕で表わされるヒドロキシコレスター４・６−ジエン類
   とな含む混合物を、低級脂肪族アルコールと低級脂肪族
   エーテルとの混合溶媒から再結晶することにより、上記
   式〔■〕で表わされるヒドロキシコレスター５・７−ジ
   エン類ヲ単離せしめることを特徴とする前記混合物から
   のヒドロキシコレスター５・７−ジエン類の単離方法。 ２ 上記式〔Ｉ〕においてＲ３とＲ４のいずれかが水素
   原子であるヒドロキンコレスター５・７−ジエン類と上
   記式〔■〕においてＲ３とＲ４のいずれかが水素原子で
   あるヒドロキンコレスター４・６−ジエン類とを含む混
   合物を再結晶せしめることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項の記載によるヒドロキシコレスタ−５・７−ジエ
   ン類の単離方法。 ３ 上記式〔Ｉ〕において、Ｒ３およびＲ４が共に水素
   原子であるヒドロキシコレスター５・７−ジエン類と上
   記式〔■〕においてＲ３およびＲ４が共に水素原子であ
   るヒドロキシコレスタ−４・６−ジエン類とを含む混合
   物を再結晶せしめることを特徴とする特許請求の範囲第
   １項の記載によるヒドロキシコレスタ−５・７−ジエン
   類の単離方法。 ４ 低級脂肪族アルコールが炭素数１〜４の脂肪族鎖状
   アルコールであり、低級脂肪族エーテルが炭素数２〜６
   の脂肪族鎖状エーテルもしくは５〜６員脂肪族環状エー
   テルである特許請求の範囲第１項〜第３項のいずれかの
   記載によるヒドロキシコレスター５・７−ジエン類の単
   離方法。 ５ 低級脂肪族アルコールがメタノールであり、低級脂
   肪族エーテルがジエチルエーテルである特許請求の範囲
   第１項〜第４項のいずれかの記載によるヒドロキシコレ
   スタ−５・７−ジエン類の単離方法。 ６ 低級脂肪族アルコールが１重量部に対し、低級脂肪
   族環状エーテルが約０．２〜０．０５重量部である混合
   溶媒を用いる特許請求の範囲第１項〜第５項のいずれか
   の記載によるヒドロキンコレスター５・７−ジエン類の
   単離方法。 ７ 上記式〔■〕で表わされるヒドロキシコレスター５
   ・７−ジエン類１重量部に対し上記式〔■〕で表わされ
   るヒドロキシコレスター４・６−ジエン類約０．０３〜
   ４重量部を含む混合物を、メタノールまたはエタノール
   とジエチルエーテルとの混合溶媒から必要により複数回
   数の再結晶をせしめることにより、上記式〔■〕で表わ
   されるヒドロキシコレスター５・７−ジエン類を単離せ
   しめることを特徴とする特許請求の範囲第１項〜第６項
   のいずれかの記載によるヒドロキシコレスター５・７−
   ジエン類の単離方法。 ８ 下記式〔■〕、 〔式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立にピバロイル基また
   はエトキシカルボニル基であり、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ
   独立に水素原子、水酸基、ピバロイルオキシ基またはエ
   トキシカルボニルオキシ基である。 〕で表わされるヒドロキシコレスタ−５・７−ジエン類
   。