JPS5891746U - 縮小投影露光装置 - Google Patents

縮小投影露光装置

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JPS5891746U
JPS5891746U JP18635081U JP18635081U JPS5891746U JP S5891746 U JPS5891746 U JP S5891746U JP 18635081 U JP18635081 U JP 18635081U JP 18635081 U JP18635081 U JP 18635081U JP S5891746 U JPS5891746 U JP S5891746U
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JP
Japan
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image
pattern
reticle
stage
reduction projection
Prior art date
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Pending
Application number
JP18635081U
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English (en)
Inventor
純男 保坂
高梨　明紘
伸治 国吉
利栄 黒崎
河村　喜雄
恒男 寺澤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を説明するための概略構成図
、第２図はテレビカメラ上に拡大結像される基準パター
ンと評価用パターンとの合成像を示す図、第３図は本考
案装置の動作を説明するた′めの図であり、同図ａは左
端の基準マークを測定する場合、ｂは右端の基準マーク
を測定する場合をそれぞれ示す。 １・・・レティクル、２・・・遮光板、３・・・縮小投
影レンズ、５・・・レンズ、６・・・テレビカメラ、１
２・・・基準マーク像、１３・・・評価用パターン像、
１４・・・評価用パターン。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 縮小投影露光装置において、精密に各基準マークの中心
    位置が測定され既知である拡大原画パターンを有するレ
    ティクルと、被露光物を保持する載物台上に遮光材によ
    るパターンを光透過可能なガラス等の基板上に形成した
    評価用試料と、該パターン上に形成される光学像を拡大
    するための光学系と、拡大光学像を得るための像検出器
    とを具備し、レティクルパターンを縮小投影するととも
    に、レティクル上の特定基準パターン位置を読み取るた
    め、載物台上の評価用パターンと投影されたレティクル
    上の特定基準パターン像とがほぼ重なるように載物台を
    移動し、上述の合成拡大光学像を像検出器にて検出し、
    該光学像よりレティクル上の特定基準マーク像位置と評
    価用パターン像との位置あるいは位置誤差を載物台の移
    動距離とにより、レティクル上のパターン位置を縮小投
    影面で計測し、順次、載物台上の評価用パターンを一投
    影されている別の基準マーク位置を測定できるように移
    動し、上述の検出方法で縮小投影レンズによって生じる
    像歪や調整不良によって生じる像歪等の像歪分布を測定
    可能にする手段を有することを特徴とした縮小投影露光
    装置。
JP18635081U 1981-12-16 1981-12-16 縮小投影露光装置 Pending JPS5891746U (ja)

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JP18635081U JPS5891746U (ja) 1981-12-16 1981-12-16 縮小投影露光装置

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