JPS5892594A - 乾式平版印刷用インキ反撥材料 - Google Patents
乾式平版印刷用インキ反撥材料Info
- Publication number
- JPS5892594A JPS5892594A JP19202581A JP19202581A JPS5892594A JP S5892594 A JPS5892594 A JP S5892594A JP 19202581 A JP19202581 A JP 19202581A JP 19202581 A JP19202581 A JP 19202581A JP S5892594 A JPS5892594 A JP S5892594A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink
- polysiloxane
- lithographic printing
- repellent material
- ink repellent
- Prior art date
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/003—Printing plates or foils; Materials therefor with ink abhesive means or abhesive forming means, such as abhesive siloxane or fluoro compounds, e.g. for dry lithographic printing
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は乾式平版印刷用刷版に用いるインキ反撥材料に
関する。
関する。
従来、乾式平版印刷用刷版において露光および現像によ
り非画線部を形成するインキ反撥層にポリジメチルシロ
キサン（以下ＰＤＭＳと略す）を主成分とする重合体を
用いるという提案が数多くなされてきた。例えばシアニ
ジ感光層と接着剤層とＰＤＭＳを主成分とする重合体層
を形成したアルミニウム基板にネガフィルムを密着露光
し現像することにより、非露光部分である非画線部がＰ
ＤＭＳ重合体を主成分とする被膜であり、画線部が基板
のアルミ板となる乾式平版印刷用刷版（特公昭４６−１
６０４４号）、光重合性シリコーン組成物をアルミニウ
ム板などの基板に塗布し、該組成物による被膜層の上に
ポジフィルムを密着露光し現像定着処理を行ない、露光
部分にあたる非画線部にＦＤＭＳを主成分とする重合体
被膜を形成した刷版（特開昭４８−８８９１０号）など
が公知である。しかしながらＰＤＭＳを主成分とする重
合体被膜は柔らかく且っ引張強度及び引裂強度が小さい
という欠点を有し、乾式平版印刷用刷版として該重合体
被膜を用いる場合には刷版にキズがつきやすく、また刷
版が部分的に欠落しゃすい等の不利が生じ、耐刷力も低
く実用上大きな問題となる。
り非画線部を形成するインキ反撥層にポリジメチルシロ
キサン（以下ＰＤＭＳと略す）を主成分とする重合体を
用いるという提案が数多くなされてきた。例えばシアニ
ジ感光層と接着剤層とＰＤＭＳを主成分とする重合体層
を形成したアルミニウム基板にネガフィルムを密着露光
し現像することにより、非露光部分である非画線部がＰ
ＤＭＳ重合体を主成分とする被膜であり、画線部が基板
のアルミ板となる乾式平版印刷用刷版（特公昭４６−１
６０４４号）、光重合性シリコーン組成物をアルミニウ
ム板などの基板に塗布し、該組成物による被膜層の上に
ポジフィルムを密着露光し現像定着処理を行ない、露光
部分にあたる非画線部にＦＤＭＳを主成分とする重合体
被膜を形成した刷版（特開昭４８−８８９１０号）など
が公知である。しかしながらＰＤＭＳを主成分とする重
合体被膜は柔らかく且っ引張強度及び引裂強度が小さい
という欠点を有し、乾式平版印刷用刷版として該重合体
被膜を用いる場合には刷版にキズがつきやすく、また刷
版が部分的に欠落しゃすい等の不利が生じ、耐刷力も低
く実用上大きな問題となる。
上記のような問題点を改良するものとしてＰＤＭＳ重合
体被膜の表面硬度を高くして刷版のキズや欠落を防止し
ようとする試みも提案されている。
体被膜の表面硬度を高くして刷版のキズや欠落を防止し
ようとする試みも提案されている。
例えば表面硬度を上げるためにメチルフェニルシロキサ
ンをジメチルシロキサンと共縮合した重合体被膜を用い
た刷版（特公昭５２−５−８８４号）などであるが、こ
のようなメチルフェニルシロキサンを共縮合したもので
は耐刷性は改良されるがインキ反撥性が低下する欠点が
ある。
ンをジメチルシロキサンと共縮合した重合体被膜を用い
た刷版（特公昭５２−５−８８４号）などであるが、こ
のようなメチルフェニルシロキサンを共縮合したもので
は耐刷性は改良されるがインキ反撥性が低下する欠点が
ある。
更にインキ反撥性は一般に使用温度に左右され、例えば
温度が高くなるほどインキ反撥性は劣る傾向にあるが、
上記のような従来のシリコン系インキ反撥材料は夏場に
おいて、インキの種類を変えるか、マスタードラム内を
水で冷却しなければならないという欠点を有していた。
温度が高くなるほどインキ反撥性は劣る傾向にあるが、
上記のような従来のシリコン系インキ反撥材料は夏場に
おいて、インキの種類を変えるか、マスタードラム内を
水で冷却しなければならないという欠点を有していた。
本発明の目的は撥インキ性及び耐刷性のいずれにも優れ
た乾式平版印刷用インキ反撥材料を提供することにある
。
た乾式平版印刷用インキ反撥材料を提供することにある
。
本発明の目的は更に広い作業温度範囲において常に優れ
たインキ反撥性を示し、従ってインキの交換や冷却等の
繁雑な操作を必要としない乾式平版印刷用インキ反撥材
料を提供することにある。
たインキ反撥性を示し、従ってインキの交換や冷却等の
繁雑な操作を必要としない乾式平版印刷用インキ反撥材
料を提供することにある。
本発明は一般式 （１）
（式中ｎは１〜ｌＯｄ整数、ｌは０又は１、ｍは０又は
１〜１４の整数である。ただし／＝１のときｍ＼０とす
る。）で表わされる繰り返し単位を有するポリシロキサ
ンを主成分とする重合体からなる乾式平版印刷用インキ
反撥材料に係る。
１〜１４の整数である。ただし／＝１のときｍ＼０とす
る。）で表わされる繰り返し単位を有するポリシロキサ
ンを主成分とする重合体からなる乾式平版印刷用インキ
反撥材料に係る。
本発明においてポリシロキサン縮合体は上記一般式（１
）で表わされるポリシロキサン単独縮合体、一般式（１
）で表わされるポリシロキサン相互の共縮合体、一般式
（１）で表わされるポリシロキサンを主成分とし、これ
に他のシロキサンを共縮合したものなどを包含する。上
記他のシロキサンとしては例えばジメチルジクロルシラ
ン、γ−メタアクリロキシＹ２ロピルメチルジクロルシ
ラン、メチルビニルジクロルシラン、γ−アクリロキシ
メチルトリメトキシシラン等が挙げられる。この場合一
般式（１）のポリシロキサンの割合は好ましくは７０モ
ル％以上、特に好ましくは９０モル％以上であり、この
範囲内ではインキ反撥性及び耐刷性が特に優れている。
）で表わされるポリシロキサン単独縮合体、一般式（１
）で表わされるポリシロキサン相互の共縮合体、一般式
（１）で表わされるポリシロキサンを主成分とし、これ
に他のシロキサンを共縮合したものなどを包含する。上
記他のシロキサンとしては例えばジメチルジクロルシラ
ン、γ−メタアクリロキシＹ２ロピルメチルジクロルシ
ラン、メチルビニルジクロルシラン、γ−アクリロキシ
メチルトリメトキシシラン等が挙げられる。この場合一
般式（１）のポリシロキサンの割合は好ましくは７０モ
ル％以上、特に好ましくは９０モル％以上であり、この
範囲内ではインキ反撥性及び耐刷性が特に優れている。
本発明のポリシロキサン縮合体の合成方法としては例え
ば一般式（２） で表わされるジクロルシランに、必要により他のジクロ
ルシランを加え共加水分解し水洗中和したのち脱水縮合
反応を行ない所望の重合度の縮合体もしくは共縮合体を
得る方法、或いは一般式（２）で表わされるジクロルシ
ランを加水分解し水洗中和したのち一部脱水結合反応を
行ない一般式（１）で表わされる繰り返し単位を有する
ポリシロキサンの低分子量体を合成し、次いで他のジク
ロルシランを加えて該ポリシロキサンのＯＨ末端基と反
応させＣＩ！末端のポリシロキサンを得、これを加水分
解し水洗中和したのち脱水縮合反応、を行ない所望の重
合度の共縮合体を得る方法等を挙げることができる。
ば一般式（２） で表わされるジクロルシランに、必要により他のジクロ
ルシランを加え共加水分解し水洗中和したのち脱水縮合
反応を行ない所望の重合度の縮合体もしくは共縮合体を
得る方法、或いは一般式（２）で表わされるジクロルシ
ランを加水分解し水洗中和したのち一部脱水結合反応を
行ない一般式（１）で表わされる繰り返し単位を有する
ポリシロキサンの低分子量体を合成し、次いで他のジク
ロルシランを加えて該ポリシロキサンのＯＨ末端基と反
応させＣＩ！末端のポリシロキサンを得、これを加水分
解し水洗中和したのち脱水縮合反応、を行ない所望の重
合度の共縮合体を得る方法等を挙げることができる。
一般式（２）で表わされるジクロルシランは公知化合物
であり、例えば次の方法により合成される。
であり、例えば次の方法により合成される。
上記加水分解反応は約０〜８０°Ｃの温度の水の中へ一
般式（２）のジクロルシランを直接あるいは溶媒に溶解
させたのち、撹拌上滴下することにより行なわれる。溶
媒としてはジエチルエーテル（ＥｔｚＯ）、メチルイソ
ブチルケトン（ＭＩＢＫ）、）ルｉン、キシレン、トリ
クロロトリフルオロエタン、メタキシレンへキサクロラ
イドなどが挙げられるが、特にＥｔｚＯが好ましい。ま
た加水分解の際に副生ずるＨＣ／を捕捉するためアルカ
リ性物質の存在下に加水分解するのが好ましい。アルカ
リ性物質としてはＮａＨＣＯＢ、Ｎａ２ＣＯａ、ＮａＯ
Ｈ，ピリジンなどを例示できるが特にＮａＨＣＯ３が好
ましい。
般式（２）のジクロルシランを直接あるいは溶媒に溶解
させたのち、撹拌上滴下することにより行なわれる。溶
媒としてはジエチルエーテル（ＥｔｚＯ）、メチルイソ
ブチルケトン（ＭＩＢＫ）、）ルｉン、キシレン、トリ
クロロトリフルオロエタン、メタキシレンへキサクロラ
イドなどが挙げられるが、特にＥｔｚＯが好ましい。ま
た加水分解の際に副生ずるＨＣ／を捕捉するためアルカ
リ性物質の存在下に加水分解するのが好ましい。アルカ
リ性物質としてはＮａＨＣＯＢ、Ｎａ２ＣＯａ、ＮａＯ
Ｈ，ピリジンなどを例示できるが特にＮａＨＣＯ３が好
ましい。
脱水縮合反応は無溶媒で減圧上加熱し生成するどの溶媒
を加え加熱還流させて生成する水を共沸脱水する方法等
により行なわれる。結合反応の触媒トしてはｐ−）ルエ
ンスルホン酸、トリフルオロ酢酸−テトラメチルグアニ
ジン塩、２−エチルヘキサン酸−テトラメチルグアニジ
ン塩などが用いられる。
を加え加熱還流させて生成する水を共沸脱水する方法等
により行なわれる。結合反応の触媒トしてはｐ−）ルエ
ンスルホン酸、トリフルオロ酢酸−テトラメチルグアニ
ジン塩、２−エチルヘキサン酸−テトラメチルグアニジ
ン塩などが用いられる。
本発明のインキ反撥材料４を用いて乾式平版印刷刷版を
製造する方法としては公知の各種の方法を採用すること
ができる。
製造する方法としては公知の各種の方法を採用すること
ができる。
例えば親油性基板上に全面塗布された本発明ポリシロキ
サン層を電子線やレーザービームアルいは放電破壊など
を利用して局部的に破壊して基板面を露出させ、その部
分にインキを付着させ画線部にする方法（特公昭４２−
２１８７９号）、ポリシロキサン層に親油性物質、例え
ばトナー粒子を転写接着させて画線部とする方法（特開
昭５０−９０４号）、基板上に感光層、接着剤層、ポリ
シロキサン層を形成してパターン露光をすることにより
露光部分の感光層を分解し、次いで現像で溶解除去し上
部の接着剤層及びポリシロキサン層の露光部分を物理的
に剥離して基板面を露出させ、この露出した基板面を画
線部とする方法（特公昭４６−１６０４４号）、あるい
はポリシロキサンにアクリル系不飽和基を有するオルガ
ノポリシロキサンを共重合させ光重合性シリコーンとな
し、これと増感剤を基板に塗布後、露光、現像を行なう
と、露光部分は不溶性の被膜となり非露光部分は基板が
露出するので、この部分を画線部とする方法（特開昭４
８−８８９１０号）等が挙げられる。
サン層を電子線やレーザービームアルいは放電破壊など
を利用して局部的に破壊して基板面を露出させ、その部
分にインキを付着させ画線部にする方法（特公昭４２−
２１８７９号）、ポリシロキサン層に親油性物質、例え
ばトナー粒子を転写接着させて画線部とする方法（特開
昭５０−９０４号）、基板上に感光層、接着剤層、ポリ
シロキサン層を形成してパターン露光をすることにより
露光部分の感光層を分解し、次いで現像で溶解除去し上
部の接着剤層及びポリシロキサン層の露光部分を物理的
に剥離して基板面を露出させ、この露出した基板面を画
線部とする方法（特公昭４６−１６０４４号）、あるい
はポリシロキサンにアクリル系不飽和基を有するオルガ
ノポリシロキサンを共重合させ光重合性シリコーンとな
し、これと増感剤を基板に塗布後、露光、現像を行なう
と、露光部分は不溶性の被膜となり非露光部分は基板が
露出するので、この部分を画線部とする方法（特開昭４
８−８８９１０号）等が挙げられる。
上記のような本発明のポリシロキサン重合体を用いた乾
式平版印刷用インキ反撥材料は次のような優れた利点が
ある。
式平版印刷用インキ反撥材料は次のような優れた利点が
ある。
１、 ポリシロキサン重合体の造膜性が良く、平滑
□な膜を作ることができる。
□な膜を作ることができる。
２、重合体被膜を強固な膜とすることができ、刷版にキ
ズがつきにくく且つ刷版の部分的欠落も生じにくいため
耐刷性が向上する。
ズがつきにくく且つ刷版の部分的欠落も生じにくいため
耐刷性が向上する。
８、冬夏など広い作業温度範囲に於て優れたインキ反撥
性を示し、従ってインキの交換やマスタードラム内を水
で冷却する等の繁雑な工程を必要としない。
性を示し、従ってインキの交換やマスタードラム内を水
で冷却する等の繁雑な工程を必要としない。
次に合成例、実施例に基づいて本発明の詳細な説明する
。なお部とあるは重量部を示すものとする。
。なお部とあるは重量部を示すものとする。
合成例１
撹拌機、滴下ロート、温度計を備えた４ツロの５００
ｍ／フラスコにＮａＨＣＯｓ （６０ｆ ）、水（２７
０ｍｌり、ＥｔｚＯ（８０９）を入れ、これにＣＩ！Ｓ
ｉ （ＣＨａ）２ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ ２） ６ＣＨ
２ＣＨ２Ｓ ｉ （ＣＨａ ） ｚｃｌ （０，０８モ
ル、４４２）をＥｔｚＯ（６０９）に溶解させた溶液を
室温（２０〜２５°Ｃ）で撹拌下、滴下ロートから滴下
する。滴下終了後さらに５時間撹拌を続け、有機層を分
液し水洗乾燥する。
ｍ／フラスコにＮａＨＣＯｓ （６０ｆ ）、水（２７
０ｍｌり、ＥｔｚＯ（８０９）を入れ、これにＣＩ！Ｓ
ｉ （ＣＨａ）２ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ ２） ６ＣＨ
２ＣＨ２Ｓ ｉ （ＣＨａ ） ｚｃｌ （０，０８モ
ル、４４２）をＥｔｚＯ（６０９）に溶解させた溶液を
室温（２０〜２５°Ｃ）で撹拌下、滴下ロートから滴下
する。滴下終了後さらに５時間撹拌を続け、有機層を分
液し水洗乾燥する。
次いでＣＨｚ＝Ｃ（ＣＨａ）ＣＯ２ＣＨｚＣＨｚＣＨｚ
Ｓｉ （Ｃｆ）ｚｃＨ３（ＩＦ）及びハイドロキノン（
０，０１９）を加え室温にて１時間撹拌を行ない、Ｅｔ
２０に溶解させた後ＮａＨＣＯ３（８０９）を水（２７
０ｍｅ ） ｉｃ溶解した水溶液を加えてＨＣＪを中和
し水洗乾燥する。
Ｓｉ （Ｃｆ）ｚｃＨ３（ＩＦ）及びハイドロキノン（
０，０１９）を加え室温にて１時間撹拌を行ない、Ｅｔ
２０に溶解させた後ＮａＨＣＯ３（８０９）を水（２７
０ｍｅ ） ｉｃ溶解した水溶液を加えてＨＣＪを中和
し水洗乾燥する。
次にトリフルオロ酢酸−テトラメチルグアニジン塩を１
滴、ハイドロキノン（０，０１１を再び加え１２０°Ｃ
で１部分間、約２０ ｍｍＨｇの減圧下で加熱し結合を
行なわせた後、再びＥｔｇＯに溶解させＮａＨＣＯａ
（８０９） ／水（２７０ｍｆ）で洗浄−し水洗乾燥す
る。得られたゴム状ポリマー３８２をＭＩＢＫに溶解し
て１０％液とした。
滴、ハイドロキノン（０，０１１を再び加え１２０°Ｃ
で１部分間、約２０ ｍｍＨｇの減圧下で加熱し結合を
行なわせた後、再びＥｔｇＯに溶解させＮａＨＣＯａ
（８０９） ／水（２７０ｍｆ）で洗浄−し水洗乾燥す
る。得られたゴム状ポリマー３８２をＭＩＢＫに溶解し
て１０％液とした。
合成例２〜８
合成例１と同様にして第１表に記載のポリシロキサンを
合成した。
合成した。
実施例１〜８
表面処理を施した厚み０．８ｍｍのアルミニウムービス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンをポリマー固形分１
００部に対し８部加えた液をバーコーターにて乾燥仕上
り厚みが１０〜２０μになるように均一に塗布し乾燥し
た。その後ポジ画像を密着し超高圧水銀灯（８６５ｎｍ
／ １０Ｗ／ｍ２） で２分間露光した後、これをＭ
ＩＢＫで現像したのち更に前記超高圧水銀灯で５分間全
面露光し平版印刷版を得た。
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンをポリマー固形分１
００部に対し８部加えた液をバーコーターにて乾燥仕上
り厚みが１０〜２０μになるように均一に塗布し乾燥し
た。その後ポジ画像を密着し超高圧水銀灯（８６５ｎｍ
／ １０Ｗ／ｍ２） で２分間露光した後、これをＭ
ＩＢＫで現像したのち更に前記超高圧水銀灯で５分間全
面露光し平版印刷版を得た。
上記印刷版をトーコーオフセット印刷機８１０型（東京
航空計器＠）製）のマスターシリンダーにセット後、水
供給を止め印刷機を回転させて印刷を行ない耐剛性を調
べた。また撥インキ性試験は所定の印刷枚数の印刷物の
画像のない空白の部分について反射率計ＲＭ−５０型（
村上色彩技術研究新製）で地汚れを反射率として測定し
た。結果を同様第１表に示す。画表において用いたイン
キは大阪インキ＠）製のＷＬＰ−黒Ｓである。
航空計器＠）製）のマスターシリンダーにセット後、水
供給を止め印刷機を回転させて印刷を行ない耐剛性を調
べた。また撥インキ性試験は所定の印刷枚数の印刷物の
画像のない空白の部分について反射率計ＲＭ−５０型（
村上色彩技術研究新製）で地汚れを反射率として測定し
た。結果を同様第１表に示す。画表において用いたイン
キは大阪インキ＠）製のＷＬＰ−黒Ｓである。
実施例９〜１２
合成例１において反応成分として更にＳ ｉ （ＣＨｓ
）ｓ＋ｃｆｚを加えて他は同様にして第２表記載のポリ
シロキサンを合成し、得られたポリシロキサンを用いて
実施例１と同様の撥インキ性及び耐刷性を求めた。
）ｓ＋ｃｆｚを加えて他は同様にして第２表記載のポリ
シロキサンを合成し、得られたポリシロキサンを用いて
実施例１と同様の撥インキ性及び耐刷性を求めた。
用いたインキは同じＷＬＰ−黒Ｓである。結束′を第２
表に示、す。尚比較例も併記した。比較品Ａはジメチル
シロキサン−ビニルメチルシロキサンのモル比（９７：
８）の共縮合ポリシロキサンを用いた平版を示す。
表に示、す。尚比較例も併記した。比較品Ａはジメチル
シロキサン−ビニルメチルシロキサンのモル比（９７：
８）の共縮合ポリシロキサンを用いた平版を示す。
実施例１８
ＭＩＢＫ溶液（濃度１０％）にペンゾイルノで−オキサ
イドを５％加え、０．８ｍｍ厚みの表面処理したアルミ
ニウム板に塗布し１８０℃で５時間加熱した。その後放
電破壊により表面を局部的に破壊し印刷版を作った。ど
のものを用いＷＬＰ−黒Ｓインキを使用して印刷を行な
ったところ、鮮明な印刷物が得られ１００００枚目でも
初期の印刷物と変りのないものが印刷できた。
イドを５％加え、０．８ｍｍ厚みの表面処理したアルミ
ニウム板に塗布し１８０℃で５時間加熱した。その後放
電破壊により表面を局部的に破壊し印刷版を作った。ど
のものを用いＷＬＰ−黒Ｓインキを使用して印刷を行な
ったところ、鮮明な印刷物が得られ１００００枚目でも
初期の印刷物と変りのないものが印刷できた。
（以 上）
Claims (1)
- （１）一般式 （式中ｎは１〜１０の整数、ｌは０又は１、ｍは０又は
１〜１４の整数である。ただしｌ＝１のときｍζ０とす
る。）で表わされる繰り返し単位を有するポリシロキサ
ンを主成分とする重合体からなる乾式平版印刷用インキ
反撥材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19202581A JPS5892594A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 乾式平版印刷用インキ反撥材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19202581A JPS5892594A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 乾式平版印刷用インキ反撥材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5892594A true JPS5892594A (ja) | 1983-06-01 |
| JPH0342198B2 JPH0342198B2 (ja) | 1991-06-26 |
Family
ID=16284339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19202581A Granted JPS5892594A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 乾式平版印刷用インキ反撥材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5892594A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0465429A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリシルエチレンシロキサン |
| JPH04338397A (ja) * | 1991-05-15 | 1992-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機けい素化合物 |
| JPH0649214A (ja) * | 1991-06-27 | 1994-02-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機けい素化合物 |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP19202581A patent/JPS5892594A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0465429A (ja) * | 1990-07-06 | 1992-03-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ポリシルエチレンシロキサン |
| JPH04338397A (ja) * | 1991-05-15 | 1992-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機けい素化合物 |
| JPH0649214A (ja) * | 1991-06-27 | 1994-02-22 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機けい素化合物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0342198B2 (ja) | 1991-06-26 |
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