JPS5899132A - 光フアイバ用母材の製造法 - Google Patents
光フアイバ用母材の製造法Info
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- JPS5899132A JPS5899132A JP19523081A JP19523081A JPS5899132A JP S5899132 A JPS5899132 A JP S5899132A JP 19523081 A JP19523081 A JP 19523081A JP 19523081 A JP19523081 A JP 19523081A JP S5899132 A JPS5899132 A JP S5899132A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/016—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by a liquid phase reaction process, e.g. through a gel phase
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光ファイバ用゛母材の製造法に係り、特に、湿
式法による母材の製造法に関するものである。
式法による母材の製造法に関するものである。
光フアイバ用母材は原料の精製により高純度のシリカを
用いて作られるが、その製造法としては種々の方法が知
られている。しか−シ、製造するのに時間を要し量産に
適しないという問題点をもっており、母材の長さを均一
にすることが困難である等の欠点をもっていた。
用いて作られるが、その製造法としては種々の方法が知
られている。しか−シ、製造するのに時間を要し量産に
適しないという問題点をもっており、母材の長さを均一
にすることが困難である等の欠点をもっていた。
本発明は上記従来技術の欠点を解消し、均質で寸法精度
が良好であり、かつ、屈折率分布の再現性を向上させる
ことができる光フアイバ用母材の製造法を提供すること
を目的とし、その特徴とするところは、コロイダルシリ
カを容器内でゲル化する工程と、容器内のゲル状シリカ
の液相含有率を５％以下に減少させて多孔質母材を得る
工程と多孔質母材を屈折率制御用の金属イオンを含む液
相に浸漬する工程と、金属イオンを付加した多孔質母材
を乾燥させた後焼結する工程を用いることにある。
が良好であり、かつ、屈折率分布の再現性を向上させる
ことができる光フアイバ用母材の製造法を提供すること
を目的とし、その特徴とするところは、コロイダルシリ
カを容器内でゲル化する工程と、容器内のゲル状シリカ
の液相含有率を５％以下に減少させて多孔質母材を得る
工程と多孔質母材を屈折率制御用の金属イオンを含む液
相に浸漬する工程と、金属イオンを付加した多孔質母材
を乾燥させた後焼結する工程を用いることにある。
第１図〜第４図は本発明の一実施例である光フアイバ母
材の製造法の工程を示す図で、以下図番の順に説明する
。
材の製造法の工程を示す図で、以下図番の順に説明する
。
第１図は角柱形のガラス容器２の中でコロイダルシリカ
をゲル化させるもので、シリカ含有量４０重量％のコロ
イダルシリカ（粒子径３００ Ａ’以下）をゲル化速度
を制御するためにＰＨ値を４〜６に調整し、ガラス容器
２に注入する。
をゲル化させるもので、シリカ含有量４０重量％のコロ
イダルシリカ（粒子径３００ Ａ’以下）をゲル化速度
を制御するためにＰＨ値を４〜６に調整し、ガラス容器
２に注入する。
このガラス容器２にはアルミ薄板製の蓋３で封印して塵
埃やガスの侵入を防止し、５０℃で１目線保温してゲル
化させる。その後蓋乙に１ｍ＋９の細孔を数個設け、６
０℃でガラス容器を保温して脱水させるが、重量を測定
して約５重量％程度脱水した時にガラス容器２から取り
出す。
埃やガスの侵入を防止し、５０℃で１目線保温してゲル
化させる。その後蓋乙に１ｍ＋９の細孔を数個設け、６
０℃でガラス容器を保温して脱水させるが、重量を測定
して約５重量％程度脱水した時にガラス容器２から取り
出す。
なお、脱水量を５重量％にとどめたのはドーパント溶液
に浸漬した時に急激に滲透してクラックが発生すること
を防止するためである。
に浸漬した時に急激に滲透してクラックが発生すること
を防止するためである。
第２図はガラス容器２内で形成した多孔質母材を取り出
したもので、これを第６図に示す拡散槽５中のドーパン
ト溶液６中に浸漬する。このドーパント液６は５０チリ
ン酸水溶液で２５°Ｃに加熱してあり、多孔質母材４を
数時間浸漬する。ドーパント溶液６としては、リン酸、
ホウ酸、ＮａＯＨ。
したもので、これを第６図に示す拡散槽５中のドーパン
ト溶液６中に浸漬する。このドーパント液６は５０チリ
ン酸水溶液で２５°Ｃに加熱してあり、多孔質母材４を
数時間浸漬する。ドーパント溶液６としては、リン酸、
ホウ酸、ＮａＯＨ。
Ｋ ＯＨ、Ｌ ｉ ＯＨ、Ｂ ａ （ＯＨ） ２等の各
水溶液が用いられるが、Ｐｂ、 Ｃ１％Ｂａ１Ａｔ；等
の硝酸塩、Ｂａ、 Ｃａ、Ｋ、Ｎａ等の塩化物、ｃａ
、、（ｓｏ ４） Ｂ等の水溶液、或いは極性溶媒の溶
液を用いることができる。更に、これらの混合物、例え
ばＮａＯＨ−１−ＫＯＨの水溶液を用いてもよい。これ
までの工程は室温に近い温度で実施されるが、多孔質母
材４が太い場合は拡散速度を増すために徐々に昇温する
。
水溶液が用いられるが、Ｐｂ、 Ｃ１％Ｂａ１Ａｔ；等
の硝酸塩、Ｂａ、 Ｃａ、Ｋ、Ｎａ等の塩化物、ｃａ
、、（ｓｏ ４） Ｂ等の水溶液、或いは極性溶媒の溶
液を用いることができる。更に、これらの混合物、例え
ばＮａＯＨ−１−ＫＯＨの水溶液を用いてもよい。これ
までの工程は室温に近い温度で実施されるが、多孔質母
材４が太い場合は拡散速度を増すために徐々に昇温する
。
第４図は多孔質母材４の乾燥、焼結工程の説明図で、金
属イオンをドーパントした多孔質母材４は石英ボート７
に載せられて石英管８内に収容される。この石英管８は
電熱炉で包囲され、左端の入口からガスを導入して流通
させることができるようになっている。多孔質母材４を
乾燥させるときは急激な脱水を避けるため８０°Ｃ以下
で酸素を流し乍ら徐々に加熱する。その昇温速度は０．
５’Ｃ／順で１００℃まで昇温、する。
属イオンをドーパントした多孔質母材４は石英ボート７
に載せられて石英管８内に収容される。この石英管８は
電熱炉で包囲され、左端の入口からガスを導入して流通
させることができるようになっている。多孔質母材４を
乾燥させるときは急激な脱水を避けるため８０°Ｃ以下
で酸素を流し乍ら徐々に加熱する。その昇温速度は０．
５’Ｃ／順で１００℃まで昇温、する。
次に石英管８のガス導入口よりは８００°ｄまでは塩素
ガスＯｔ２を２００ｃａ／＝の割合で流して脱ＯＨ反応
を行わせ、更に、ヘリウムガスに切換えて５０ＣＣ／／
＃ＩＩＩ＋で送り乍ら１２００℃で２時間保温し透明な
ガラス体を得た。なお、上記酸素ガスの代９にＡ ｒ
ｐ Ｎ ２等がガスを用いることもできるが、ドーパン
ト溶液としてメタノール等の極性溶媒を用いた時は、メ
チル基を酸化して焼結前に除去するだめに酸素ガスを流
すことが必要である。
ガスＯｔ２を２００ｃａ／＝の割合で流して脱ＯＨ反応
を行わせ、更に、ヘリウムガスに切換えて５０ＣＣ／／
＃ＩＩＩ＋で送り乍ら１２００℃で２時間保温し透明な
ガラス体を得た。なお、上記酸素ガスの代９にＡ ｒ
ｐ Ｎ ２等がガスを用いることもできるが、ドーパン
ト溶液としてメタノール等の極性溶媒を用いた時は、メ
チル基を酸化して焼結前に除去するだめに酸素ガスを流
すことが必要である。
本実施例の光フアイバ母材の製造法は次のような効果が
得られる。
得られる。
（１） コロイダルシリカ１を収容するガラス容器２
の寸法とコロイダルシリカ１の量によって、光フアイバ
母材の寸法を任意に定めることができる。また、その屈
折率はドーパント溶液６の濃度等によって任意に調節で
きる。
の寸法とコロイダルシリカ１の量によって、光フアイバ
母材の寸法を任意に定めることができる。また、その屈
折率はドーパント溶液６の濃度等によって任意に調節で
きる。
（２）含水した多孔質母材４をドーパント溶液６に浸漬
し、かつ、温度を上昇させるので拡散が速く、大径の母
材が得られる。
し、かつ、温度を上昇させるので拡散が速く、大径の母
材が得られる。
（６）原料の損失が殆んどなく、多数本の光フアイバ母
材を製造することができるので、量産化に適している。
材を製造することができるので、量産化に適している。
上記実施例の応用例として次のようなことも可能である
。第３図において、ドーパント溶液６に多孔質母材４を
長時間浸漬して中心まで均一にドーパント金属を含浸さ
せた後で、純水中に浸漬し、純水中にドーパント金属と
拡散させる。これによって多孔質母材４にドーパント金
属の濃度分布を得ることができる。この多孔質母材４を
上記実施例の場合と同様に乾燥し焼結することによって
、グレーディッド形光ファイバ母材を得ることができる
。
。第３図において、ドーパント溶液６に多孔質母材４を
長時間浸漬して中心まで均一にドーパント金属を含浸さ
せた後で、純水中に浸漬し、純水中にドーパント金属と
拡散させる。これによって多孔質母材４にドーパント金
属の濃度分布を得ることができる。この多孔質母材４を
上記実施例の場合と同様に乾燥し焼結することによって
、グレーディッド形光ファイバ母材を得ることができる
。
本発明の光フアイバ母材の製造法は、ゾルゲル法によっ
て均一な屈折率分布又はグラジェントな屈折率分布を示
す光フアイバ母材を寸法精度と屈折率分布の再現性良く
製作することができるので、量産化に好適であるという
効果が得られる。
て均一な屈折率分布又はグラジェントな屈折率分布を示
す光フアイバ母材を寸法精度と屈折率分布の再現性良く
製作することができるので、量産化に好適であるという
効果が得られる。
第１図はコロイダルシリカをゲル化させるガラス容器の
断面図、第２図は第１図゛のガラス容器から取り出した
多孔質母材の正面図、第３図は多孔質母材４に金属をド
ープする拡散槽の断面図、第４図は多孔質母材を乾燥、
焼結する石英管を用いた電気炉の断面図である。 １：コロイダルシリカ、２ニガラス容器、６：蓋、４：
多孔質母材、５二拡散槽、６：ドーパント溶液、７二石
英ボート、８：石英管、９：電気炉。
断面図、第２図は第１図゛のガラス容器から取り出した
多孔質母材の正面図、第３図は多孔質母材４に金属をド
ープする拡散槽の断面図、第４図は多孔質母材を乾燥、
焼結する石英管を用いた電気炉の断面図である。 １：コロイダルシリカ、２ニガラス容器、６：蓋、４：
多孔質母材、５二拡散槽、６：ドーパント溶液、７二石
英ボート、８：石英管、９：電気炉。
Claims (1)
- １、 コロイダルシリカを容器内でゲル化する工程と、
上記容器内のゲル状シリカの液相含有率を５重量％以下
に減少させて多孔質母材を得る工程と、上記多孔質母材
を屈折率制御用の金属イオンを含む液相に浸漬する工程
と、上記金属イオンを付加した上記多孔質母材を乾燥さ
せた後焼結する工程とを用いることを特徴とする光フア
イバ母材の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19523081A JPS5899132A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 光フアイバ用母材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19523081A JPS5899132A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 光フアイバ用母材の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5899132A true JPS5899132A (ja) | 1983-06-13 |
Family
ID=16337634
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19523081A Pending JPS5899132A (ja) | 1981-12-04 | 1981-12-04 | 光フアイバ用母材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5899132A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5153031A (en) * | 1989-06-12 | 1992-10-06 | Cornell Research Foundation, Inc. | Use of hydrogen peroxide in preparing magnesium containing silicate sols for coating and fiber formation |
-
1981
- 1981-12-04 JP JP19523081A patent/JPS5899132A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5153031A (en) * | 1989-06-12 | 1992-10-06 | Cornell Research Foundation, Inc. | Use of hydrogen peroxide in preparing magnesium containing silicate sols for coating and fiber formation |
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