JPS591222A - 情報記録担体の製造方法 - Google Patents
情報記録担体の製造方法Info
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- JPS591222A JPS591222A JP57110205A JP11020582A JPS591222A JP S591222 A JPS591222 A JP S591222A JP 57110205 A JP57110205 A JP 57110205A JP 11020582 A JP11020582 A JP 11020582A JP S591222 A JPS591222 A JP S591222A
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- B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
- B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/02—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles
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-
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- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
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- Thermal Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、表面に情報信号が凹凸の形状変化として設け
らｎた原盤から、その凹凸形状変化を高精度に転写した
情報記録担体を得る情報記録担体の製造法に関するもの
で、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂を使用
して、転写精度の良い情報記録担体の製造方法を提供せ
んとするものである。
らｎた原盤から、その凹凸形状変化を高精度に転写した
情報記録担体を得る情報記録担体の製造法に関するもの
で、紫外線の照射により硬化する紫外線硬化樹脂を使用
して、転写精度の良い情報記録担体の製造方法を提供せ
んとするものである。
不発明の情報記録担体の製造方法の基本構成は、第１図
に示すように、紫外線光源１の下方に透明な加圧板３を
位置せしめ、その下側に透明基板４を配し、この透明基
板４と凹凸形状変化を表面のＤの範囲に形成さ扛た原盤
６との間に、軟化さ牡た紫外線硬化樹脂５を充填せしめ
た状態より、加圧板３によって基板４が圧力を受け、ス
ペーサ７に規制さｎる位置まで下降し、その下の紫外線
硬化樹脂６が、原盤６の表面に泪って拡がり、この加圧
状態で、紫外線光源１から紫外線を露光すると、この紫
外線硬化樹脂５が硬化し、原盤６の表面の凹凸形状変化
ｆＪｈらなる情報信号が、この紫外線硬化樹脂１５の表
面に転写さｎ１透明基板４とともに、こｎらを原盤６か
ら剥離することにより、原盤６に対応した透明基板４と
紫外線硬化樹脂５からなる情報記録担体を得ることがで
きる。
に示すように、紫外線光源１の下方に透明な加圧板３を
位置せしめ、その下側に透明基板４を配し、この透明基
板４と凹凸形状変化を表面のＤの範囲に形成さ扛た原盤
６との間に、軟化さ牡た紫外線硬化樹脂５を充填せしめ
た状態より、加圧板３によって基板４が圧力を受け、ス
ペーサ７に規制さｎる位置まで下降し、その下の紫外線
硬化樹脂６が、原盤６の表面に泪って拡がり、この加圧
状態で、紫外線光源１から紫外線を露光すると、この紫
外線硬化樹脂５が硬化し、原盤６の表面の凹凸形状変化
ｆＪｈらなる情報信号が、この紫外線硬化樹脂１５の表
面に転写さｎ１透明基板４とともに、こｎらを原盤６か
ら剥離することにより、原盤６に対応した透明基板４と
紫外線硬化樹脂５からなる情報記録担体を得ることがで
きる。
この場合、原盤６０表面の凹凸形状変化を、高精度に転
写することが重要な要素になる。一般に、紫外線硬化樹
脂に、紫外線の照射および吸収により硬化する際に、そ
の体積が、硬化収縮する性質を有する。
写することが重要な要素になる。一般に、紫外線硬化樹
脂に、紫外線の照射および吸収により硬化する際に、そ
の体積が、硬化収縮する性質を有する。
このため、加圧がない状態で、紫外線を照射して硬化さ
せた場合、その硬化に伴って透明基板４および、紫外線
硬化樹脂５からなる情報記録担体に、変形をうける。そ
９％め、転写した原盤６の凹凸形状変化からなる情報信
号は変形して転写さｎ１忠実な転写がおこなわ扛にくい
。
せた場合、その硬化に伴って透明基板４および、紫外線
硬化樹脂５からなる情報記録担体に、変形をうける。そ
９％め、転写した原盤６の凹凸形状変化からなる情報信
号は変形して転写さｎ１忠実な転写がおこなわ扛にくい
。
このため本発明では、加圧板３を用いて、紫外線露光時
にこｎらを加圧し、収縮に伴う変形を除去する方法を提
供している。
にこｎらを加圧し、収縮に伴う変形を除去する方法を提
供している。
さらに、透明基板４および、紫外線硬化樹脂６の厚さに
ついては、その不均質状態があると、例えばこｎらの情
報記録担体の回転等じ対して、ダイナミックバランスが
、変化する要因となるとともに、光学的な情報記録再生
において、その担体の厚さ変動となって光の絞り精度全
低下させる要因になる。このためには、所定の厚さのス
ペーサ７を、加圧板３と原盤６０間に設けることによっ
て均一な厚みの情報記録担体を得ることができる。
ついては、その不均質状態があると、例えばこｎらの情
報記録担体の回転等じ対して、ダイナミックバランスが
、変化する要因となるとともに、光学的な情報記録再生
において、その担体の厚さ変動となって光の絞り精度全
低下させる要因になる。このためには、所定の厚さのス
ペーサ７を、加圧板３と原盤６０間に設けることによっ
て均一な厚みの情報記録担体を得ることができる。
つぎに、この加圧板３として、紫外線を少くとも１部透
過する材料として第２図ａに示す光拡散板を用いた例を
説明する。この加圧板３ａ［半透明であり、入射光に加
圧板３ａの内部で散乱を受け、そのため、透過光は、こ
の加圧板３１Ｌ’ｉ面光源とするように紫外線硬化樹脂
５を照射し、均一な光分布による照射を得ることができ
る。
過する材料として第２図ａに示す光拡散板を用いた例を
説明する。この加圧板３ａ［半透明であり、入射光に加
圧板３ａの内部で散乱を受け、そのため、透過光は、こ
の加圧板３１Ｌ’ｉ面光源とするように紫外線硬化樹脂
５を照射し、均一な光分布による照射を得ることができ
る。
つぎに、加圧板３として、第２図すで示すような、透明
基板４と接触する面が、微細な凹凸形状つまり面荒らし
を施こした加圧板３ｂを用いる場合を述べる。この場合
は、２つの機能が生ずる。
基板４と接触する面が、微細な凹凸形状つまり面荒らし
を施こした加圧板３ｂを用いる場合を述べる。この場合
は、２つの機能が生ずる。
第１に、前記と同様に、この表面凹凸により、入射光が
散乱を受けて、この加圧板３ｂが、面光源として、均一
な光分布を形成することである。さらに、第２は、加圧
板３ｂと透明基板４との剥離性が向上することである。
散乱を受けて、この加圧板３ｂが、面光源として、均一
な光分布を形成することである。さらに、第２は、加圧
板３ｂと透明基板４との剥離性が向上することである。
こｎに、透明基板４と、加圧板３ｂの間には、微少な空
気層が均一に生じていることにより、加圧時の吸着性が
低下するためである。
気層が均一に生じていることにより、加圧時の吸着性が
低下するためである。
この加圧板３ｂについて、特に重要な点に、光拡散機能
を持たせる点である。このはたらきを、第３図に基づい
て説明する。加圧板８として、光拡散機能を有さない例
えば透明ガラス板（屈折率ｎ）を使用する場合に、この
加圧板８と透明基板９ば、密着状態になる。しかしなが
らこの密着状態は、透明基板９の表面の数μｍ程度の凸
部あるいに、ゴミ１０の影響により、局所的に、非密着
部が生ずる。この非密着領域の、傾＠をαとして、その
領域の長さをβと丁ｎば、この中で、加圧板８の下面と
透明基板９の上面との間に空気層が生じ、この空気層の
厚さ’Ｉｈとすｎば、ｈ ＝ ｌ −ｓｉｎαとなって
ｌが太きく、シたがってｈが大きく４つて加圧板８の下
面の反射光と、透明基板９の上面の反射光との間に干渉
が生じ、一般にこの現象は、ニュートンリングと同様の
濃淡となってあられｎる。ｔなわち２ｈ ＝、・λで反
射が極太、２ｈ＝ｎλで反射が極小になる。このため、
透過光量に極太。
を持たせる点である。このはたらきを、第３図に基づい
て説明する。加圧板８として、光拡散機能を有さない例
えば透明ガラス板（屈折率ｎ）を使用する場合に、この
加圧板８と透明基板９ば、密着状態になる。しかしなが
らこの密着状態は、透明基板９の表面の数μｍ程度の凸
部あるいに、ゴミ１０の影響により、局所的に、非密着
部が生ずる。この非密着領域の、傾＠をαとして、その
領域の長さをβと丁ｎば、この中で、加圧板８の下面と
透明基板９の上面との間に空気層が生じ、この空気層の
厚さ’Ｉｈとすｎば、ｈ ＝ ｌ −ｓｉｎαとなって
ｌが太きく、シたがってｈが大きく４つて加圧板８の下
面の反射光と、透明基板９の上面の反射光との間に干渉
が生じ、一般にこの現象は、ニュートンリングと同様の
濃淡となってあられｎる。ｔなわち２ｈ ＝、・λで反
射が極太、２ｈ＝ｎλで反射が極小になる。このため、
透過光量に極太。
極小が生じ、紫外線硬化樹脂６への光照射に不均一性が
生ずる。
生ずる。
こ扛に対して光の散乱現象を利用した光拡散板を加圧板
として使用する均一照射の本発明の方法を、第４図を用
いて説明する。例えば、微少な凹凸面を形成した加圧板
８＆の場合、前記のαおよびｌｋ用いてこの形状をつぎ
のように規定できる。
として使用する均一照射の本発明の方法を、第４図を用
いて説明する。例えば、微少な凹凸面を形成した加圧板
８＆の場合、前記のαおよびｌｋ用いてこの形状をつぎ
のように規定できる。
照射光の波長λとすｎば、屈折率ｎの光拡散よりなる加
圧板８Ｎと透明基板表面９ａとの間における干渉に基づ
く反射光の極小値、つまり、紫外線硬化樹脂への照射の
極大値を与える条件に、次の式で示すことができる。
圧板８Ｎと透明基板表面９ａとの間における干渉に基づ
く反射光の極小値、つまり、紫外線硬化樹脂への照射の
極大値を与える条件に、次の式で示すことができる。
加圧板の下面と透明基板の上面の間隔ｙｈとおけば、干
渉に基づく反射光の極大および極小は、極太条件；２ｈ
十−λ＝ｍ−ｎ・λ（ｍは整数）２ ・・・・・・■ ３５ 極小条件逼２ｈ−１−λ−ｍ−ｎ・λ”＝２．２．２・
・・・・・）２ ・・・・・・■ ここで、ｈｍａｘ ＝ １２−Ｓ！ｎα
・・・・・・■したがって、加圧板の下面の微少な凹凸
面について、その１つの面内の中に、反射の極大が含ま
ｎない条件つまり紫外線硬化樹脂への照射光の極小が含
ｉｆ′Ｌ；ｚい条件として（ｈｍａｘが小さくなる条件
として）その凹凸形状を定めることができる。
渉に基づく反射光の極大および極小は、極太条件；２ｈ
十−λ＝ｍ−ｎ・λ（ｍは整数）２ ・・・・・・■ ３５ 極小条件逼２ｈ−１−λ−ｍ−ｎ・λ”＝２．２．２・
・・・・・）２ ・・・・・・■ ここで、ｈｍａｘ ＝ １２−Ｓ！ｎα
・・・・・・■したがって、加圧板の下面の微少な凹凸
面について、その１つの面内の中に、反射の極大が含ま
ｎない条件つまり紫外線硬化樹脂への照射光の極小が含
ｉｆ′Ｌ；ｚい条件として（ｈｍａｘが小さくなる条件
として）その凹凸形状を定めることができる。
０式よりｈｔｒｍｘ Ｄ、ｍ＝ｏ、ｈ＞ｏとおくコトニ
より、ｈｍａＸ ＝−・λ したがって、ｈｗａｘ −１Ｓｉｎαく−・λ ・
・・・・・■波長λ＝４０００人、屈折率ｎ＝１．５の
材質を用いる条件でに、ｌ ｓｉｎα（１５００八程度
の微少凹凸面を形成することが好ましい。
より、ｈｍａＸ ＝−・λ したがって、ｈｗａｘ −１Ｓｉｎαく−・λ ・
・・・・・■波長λ＝４０００人、屈折率ｎ＝１．５の
材質を用いる条件でに、ｌ ｓｉｎα（１５００八程度
の微少凹凸面を形成することが好ましい。
以上加圧板３による平面度精度の向上、スペーサ７によ
る厚さの高精度化、ならびに加圧板３に光拡散機能を付
加することによる照射光の干渉効果の除去、照射ムラ、
硬化ムラの除去により、こｎらの方法により、高精度な
情報記録担体を製造することが可能になる。
る厚さの高精度化、ならびに加圧板３に光拡散機能を付
加することによる照射光の干渉効果の除去、照射ムラ、
硬化ムラの除去により、こｎらの方法により、高精度な
情報記録担体を製造することが可能になる。
次に本発明の具体的な実施例について説明する。
原盤として、ビデオ、オーディオおよびデジタルデータ
さらに、無信号の溝トラツク、凹凸ピント形状を形成し
たものを使用する。
さらに、無信号の溝トラツク、凹凸ピント形状を形成し
たものを使用する。
溝トラツク、凹凸ピットの深さは、λ／４あるいはλ／
８の光路長とする。こｎらの溝巾は、記録あるいに再生
時のレーザー光のスポット光の径程度（ｚ１μｍ）とす
る。光源１ｄ２ＫＷの高圧水銀ランプを用いる。
８の光路長とする。こｎらの溝巾は、記録あるいに再生
時のレーザー光のスポット光の径程度（ｚ１μｍ）とす
る。光源１ｄ２ＫＷの高圧水銀ランプを用いる。
加圧板３として、シリコンゴムラバーシートラ使用する
。この場合、紫外線の透過率は、約１／１０に７る。シ
リコンゴムラバーシートハ、ｏ・１μｍ〜０．３μｍの
粒状の光散乱粒子を混合した白色の光散機能を有するも
のを使用する。この散乱粒子の径’ｃｌとおくとｈ＜’
＜１ｓｓｏｏ八になる。スペ− 一す７として５ＵＳ１．２ｏｍｍＴｈ使用し、透明基板
４としてアクリル板φ２００ＭＩＮ ＠用いる。こｎと
原盤６の間に紫外線硬化樹脂液５を入ｎて、加圧（２０
ｋｇ〜２ｏｏｋｇ）し、加圧状態で紫外線を照射する。
。この場合、紫外線の透過率は、約１／１０に７る。シ
リコンゴムラバーシートハ、ｏ・１μｍ〜０．３μｍの
粒状の光散乱粒子を混合した白色の光散機能を有するも
のを使用する。この散乱粒子の径’ｃｌとおくとｈ＜’
＜１ｓｓｏｏ八になる。スペ− 一す７として５ＵＳ１．２ｏｍｍＴｈ使用し、透明基板
４としてアクリル板φ２００ＭＩＮ ＠用いる。こｎと
原盤６の間に紫外線硬化樹脂液５を入ｎて、加圧（２０
ｋｇ〜２ｏｏｋｇ）し、加圧状態で紫外線を照射する。
照射後、原盤６から、この紫外線硬化樹脂面を剥離する
ことにより、透明基板４の上に硬化した紫外線硬化樹脂
５が接着さｎた状態で情報記録担体を得る。
ことにより、透明基板４の上に硬化した紫外線硬化樹脂
５が接着さｎた状態で情報記録担体を得る。
この場合の厚さムラば、約６０μｍＰＬＰになる。
こｎは、シリコンゴムラバーシートの弾性によって生ず
る厚さムラである。
る厚さムラである。
第２の実施例として加圧板として、石英ガラスの面に＋
１２００の面荒らしを施こしたすりガラスを使用する。
１２００の面荒らしを施こしたすりガラスを使用する。
この面ハ、０・１μｍ〜１０μｍの凹凸を有しており、
各凹凸面に０．１μｍ〜０．３μｍの微細な凹凸面にな
っている。以下前の第１の実施例と同様に硬化させるこ
とにより、基材厚ムラ２０μｍＰ−Ｐの情報記録担体を
得る。以上第１及び第２の実施例で用いた光拡散板を通
して照射して得た情報記録担体のトラックの真円度のす
′ｔ′Ｌニ、０・１μｍ８度になる。−万、光拡散機能
を有さない透明ガラス板を加圧板として使用した場合、
局所的に、転写信号トラックに変形が生じ、こｎ’ｉト
ラッキングサーボの信号から評価すると、ｏ・４μｍ程
度の大きい真円度のす扛となってあられｎる。
各凹凸面に０．１μｍ〜０．３μｍの微細な凹凸面にな
っている。以下前の第１の実施例と同様に硬化させるこ
とにより、基材厚ムラ２０μｍＰ−Ｐの情報記録担体を
得る。以上第１及び第２の実施例で用いた光拡散板を通
して照射して得た情報記録担体のトラックの真円度のす
′ｔ′Ｌニ、０・１μｍ８度になる。−万、光拡散機能
を有さない透明ガラス板を加圧板として使用した場合、
局所的に、転写信号トラックに変形が生じ、こｎ’ｉト
ラッキングサーボの信号から評価すると、ｏ・４μｍ程
度の大きい真円度のす扛となってあられｎる。
かかる方法で製造した透明な情報記録担体に光および、
熱によって相転移が生じ、情報記録がおこなえる。Ｇｄ
−ＧＯ系の光磁気記録膜あるいに、テルル 酸化物系の
薄膜を蒸着形成しても良い。
熱によって相転移が生じ、情報記録がおこなえる。Ｇｄ
−ＧＯ系の光磁気記録膜あるいに、テルル 酸化物系の
薄膜を蒸着形成しても良い。
その結果、溝として、深さλ／８の光路長を有する情報
記録担体が得らｎｌ このため、この硬化ムラのない溝
を、高精度にトラッキングできて、さらに追加情報をこ
扛らの膜に記録できる、書き込みあるいは消去可能な高
精度情報記録担体ディスクを得ることが可能になる。
記録担体が得らｎｌ このため、この硬化ムラのない溝
を、高精度にトラッキングできて、さらに追加情報をこ
扛らの膜に記録できる、書き込みあるいは消去可能な高
精度情報記録担体ディスクを得ることが可能になる。
以上のように紫外線硬化樹脂を使用し、光拡散機能を有
する加圧板を使用し、紫外線光照射時に加圧を施こして
おこなう本発明の情報記録担体の製造法は、面精度が高
く、担体の厚さむら２０μ７７２Ｐ−Ｐ以下と精度が高
いものが得らｎるとともに、凹凸ピットおよび溝トラツ
クの転写精度が高く、この変形を０．１μｍ以下にする
ことができる。
する加圧板を使用し、紫外線光照射時に加圧を施こして
おこなう本発明の情報記録担体の製造法は、面精度が高
く、担体の厚さむら２０μ７７２Ｐ−Ｐ以下と精度が高
いものが得らｎるとともに、凹凸ピットおよび溝トラツ
クの転写精度が高く、この変形を０．１μｍ以下にする
ことができる。
第１図に本発明の情報記録担体の製造方法による製造装
置の１実施例を示す側面図、第２図ａ。 ｂは本発明に使用さｎる加圧板の側面図、第３図に加圧
板と透明基板との間の異物による影響を説明するための
側面図、第４図は不発明の製造工程における加圧板と透
明基板との関係？示す側面図である。 １・・・・・・紫外線光源、３＋ ３ ’ ＋ ３
１） ＋ ８ ＋ ８２Ｌ・・・・・・加圧板、４
＋ ９ｒ ９ａ・・・・・・透明基板、５・・・・
・・紫外線硬化樹脂、６・・・・・・原盤、７・・・・
・・スペーサ、１ｏ・・・・・・異物。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 （ｂ）二二二二二二丁３ｂ
置の１実施例を示す側面図、第２図ａ。 ｂは本発明に使用さｎる加圧板の側面図、第３図に加圧
板と透明基板との間の異物による影響を説明するための
側面図、第４図は不発明の製造工程における加圧板と透
明基板との関係？示す側面図である。 １・・・・・・紫外線光源、３＋ ３ ’ ＋ ３
１） ＋ ８ ＋ ８２Ｌ・・・・・・加圧板、４
＋ ９ｒ ９ａ・・・・・・透明基板、５・・・・
・・紫外線硬化樹脂、６・・・・・・原盤、７・・・・
・・スペーサ、１ｏ・・・・・・異物。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 第２図 （ｂ）二二二二二二丁３ｂ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）表面に記録情報に応じた凹凸形状変化を有する原
盤の前記表面と透明基板との間に軟化した紫外線硬化樹
脂を介在せしめ、前記透明基板を５ 透明な加圧板によ
り抑圧加圧し、その加圧中に前記加圧板および透明板を
介して紫外線を前記紫外線硬化樹脂に照射して、その紫
外線硬化樹脂を硬化せしめ、紫外線硬化樹脂の表面に前
記凹凸形状を転写するとともに、前記紫外線硬化樹脂と
透明板とを一体化することを特徴とする情報記録担体の
製造方法。 （功 加圧板として、光拡散機能を有する半透明板を用
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の情報
記録担体の製造方法。 （３）加圧板として、表面に、微細な凹凸を設けた半透
明板を用い、この凹凸面を、透明基板と接触させること
を特徴とする特許請求の範囲第２項に記載の情報記録担
体の製造方法。 （４）加圧板として石英ガラス又は、パイレックスガラ
スを用いることを特徴とする特許請求の範囲第３項に記
載の情報記録担体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57110205A JPS591222A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | 情報記録担体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57110205A JPS591222A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | 情報記録担体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS591222A true JPS591222A (ja) | 1984-01-06 |
Family
ID=14529712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57110205A Pending JPS591222A (ja) | 1982-06-25 | 1982-06-25 | 情報記録担体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS591222A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61286239A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-16 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
| US7377765B2 (en) | 2006-02-14 | 2008-05-27 | Hitachi Global Storage Technologies | System, method, and apparatus for non-contact and diffuse curing exposure for making photopolymer nanoimprinting stamper |
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1982
- 1982-06-25 JP JP57110205A patent/JPS591222A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61286239A (ja) * | 1985-06-10 | 1986-12-16 | Tatsuta Electric Wire & Cable Co Ltd | 光フアイバ母材の製造方法 |
| US7377765B2 (en) | 2006-02-14 | 2008-05-27 | Hitachi Global Storage Technologies | System, method, and apparatus for non-contact and diffuse curing exposure for making photopolymer nanoimprinting stamper |
| US7731889B2 (en) | 2006-02-14 | 2010-06-08 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Method for non-contact and diffuse curing exposure for making photopolymer nanoimprinting stamper |
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