JPS59135191A - Lithography with rubber intermediate layer - Google Patents

Lithography with rubber intermediate layer

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Publication number
JPS59135191A
JPS59135191A JP17516783A JP17516783A JPS59135191A JP S59135191 A JPS59135191 A JP S59135191A JP 17516783 A JP17516783 A JP 17516783A JP 17516783 A JP17516783 A JP 17516783A JP S59135191 A JPS59135191 A JP S59135191A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rubber
gum
lithographic plate
intermediate layer
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17516783A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
ジエン・チ・ハワング
バ−ラト・パテイル
ニルス・エイクランド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Polychrome Corp
Original Assignee
Polychrome Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Polychrome Corp filed Critical Polychrome Corp
Publication of JPS59135191A publication Critical patent/JPS59135191A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 一般に、感光性の印刷版は平版、凹版および凸版に分類
されるd感光性の平版(photoseneitive
planographic printingplat
e )は、支持体(サポート)の表面を化学的もしくは
物理的に処理してその表面に親水性を与えるか、あるい
はその表面に親水性ポリマーを被覆し、次いでそのよう
に調製された親水性表面に感光材料を適用することによ
つ1作られる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In general, photosensitive printing plates are classified into lithography, intaglio and letterpress.
planographic printing plat
e) The surface of the support is chemically or physically treated to render it hydrophilic, or the surface is coated with a hydrophilic polymer, and then the hydrophilic polymer thus prepared is 1 by applying a photosensitive material to the surface.

通常の表面処理としては、ブラッシング砂目立てのよう
な機械的表面処理があシ、また電解砂目立ておよび/ま
だはエツチング処理のような化学的表面処理および/ま
たは陽極酸化作用を用いるかあるいは用いずにアルカリ
金属塩もしくはホスホン酸、珪酸塩、弗化ジルコニウム
酸カリウムのような層を更に適用する化学的着面処理が
ある。
Typical surface treatments include mechanical surface treatments such as brushing and graining, with or without chemical surface treatments such as electrolytic graining and/or etching, and/or anodizing. There are chemical surface treatments in which additional layers such as alkali metal salts or phosphonic acids, silicates, potassium fluorozirconates are applied.

成る期間、はとんどの平版は砂目処理され/こ亜鉛板か
ら作られ、この場合並鉛版は適当な感光性組成物で被覆
され、乾燥され、所望の画像を得るべく急速に露出され
、次いで該亜鉛板の全表面に現像インキを適用し、その
亜鉛板は次いで水洗されて、水溶性材料および現像イン
キがすつかシ落される。その後、その該版の印刷面には
アラビアコム浴液が適用されて、使用に供されるまで保
護される。アラビアゴムは像に対して化学的保護を与え
、しかもその版を使用したいときその水によって容易に
洗い落されるものであった。
During this period, most lithographic plates were made from grained/zinc sheets, in which case the lead-lined plates were coated with a suitable photosensitive composition, dried, and rapidly exposed to obtain the desired image. Developing ink is then applied to the entire surface of the zinc plate, and the zinc plate is then rinsed to remove the water-soluble material and developing ink. The printing surface of the plate is then applied with an arabicum bath to protect it until it is ready for use. The gum arabic provided chemical protection to the image, yet was easily washed off by the water when the plate was desired to be used.

米国特許第2.714,066号には、薄い金属シート
から作られた平版が開示されておシ、この場合、該シー
トの少なくとも一方の表面は、緊密に結合した薄い好ま
しくは無機質の、アルカリ金属珪酸塩、サリチル酸もし
くは他の処理剤の溶液から形成される。親水性表面処理
を与えるように処理されておシ、それによ如、該版の表
面にはしつかりした結合接触状態で覆われた恒久的な親
水性の汚染阻止−色調低下フィルムが形成され、それは
そのL出抜の親水性処理表面すなわち汚染阻止−色調低
下フィルムの露出表面上に亘って感光性有機材料の被覆
層を持つことになる。好ましい基体は、例えばリン敢ミ
ナトリウム溶液に浸漬することによってきれいにされた
アルミニウム箔材料もしくはそのシート材料である。
U.S. Pat. No. 2,714,066 discloses a lithographic plate made from a thin sheet of metal, in which at least one surface of the sheet has a thin, preferably inorganic, alkali bond bonded to it. Formed from solutions of metal silicates, salicylic acid or other treatment agents. treated to provide a hydrophilic surface treatment, thereby forming a permanent hydrophilic stain-reducing-tone-reducing film coated with a firm bonding contact on the surface of the plate; It will have a coating layer of photosensitive organic material over the hydrophilic treated surface of its L embossment, ie the exposed surface of the stain prevention-tone reduction film. A preferred substrate is an aluminum foil material or sheet material thereof that has been cleaned, for example by immersion in a sodium phosphate solution.

ラウナー氏(Rauner )の米国特許第5.511
,661号にまたクニングハム氏(Cunningll
am))等の同じく、米国特許第3,860,426号
及び米国特許第3.92’0.457号子は、陽極酸化
処理されたアルミニウムをカルボキシメチルセルロース
でもってジアゾ感光層とは関連させずに被覆することが
開示されておシ、まだそこでは本発明には必要とされな
い処理法および添加剤が利用されている。
Rauner U.S. Patent No. 5.511
, No. 661, Mr. Cunningll
am)), as well as U.S. Pat. No. 3,860,426 and U.S. Pat. Although coatings have been disclosed, they still utilize processing methods and additives that are not required for the present invention.

本発明は、特に、金属基体が感光性材料の適用のために
陽極酸化法によって調製されるPS版システムに関する
。従来、陽極酸化処理されたps版システムで苦しめら
れていた問題点は、樹脂、染料、感光性材料、添加剤な
どによるバッククラランド汚染であった。陽極重化処理
直後の層の必然的な多孔性のために、該酸化処理層に感
光性材料層の吸収が起シ、もしその層が製造工程中に適
当な薬剤例えば珪酸ナトリウムでシールされるが、もし
くはそれで中間層形成が行なわれない場合には、その領
域が親油性となって、インキがその吸収材料などに付着
することになる。しかしながら、かかる無機の中間層が
用いられた場合には、増感剤、樹脂、添加剤および染料
の有機性によシ印刷寿命が一層短くなり得るということ
が良く知られている。
The present invention relates in particular to PS plate systems in which metal substrates are prepared by an anodizing method for the application of photosensitive materials. A problem that has traditionally plagued anodized PS plate systems has been backclarand contamination from resins, dyes, photosensitive materials, additives, and the like. Due to the necessary porosity of the layer immediately after the anodization treatment, absorption of the photosensitive material layer occurs in the oxidized layer, and if the layer is sealed with a suitable agent such as sodium silicate during the manufacturing process. However, if no intermediate layer is formed, the area becomes oleophilic and the ink will adhere to the absorbent material or the like. However, it is well known that when such inorganic interlayers are used, the organic nature of the sensitizers, resins, additives and dyes can result in shorter print life.

印刷寿命に悪影響を与えることなくバックグラウンド汚
染間迂をできるだけ回避するだめに、陽極酸化処理ps
版の製造会社によって種々の解決手段が取られた。その
ような解決手段には、肉眼で観察しだ際に汚れが目で見
えないような染料を選ぶことや、陽極酸化処理時の細孔
に浸透することなくしかも現像および処理などの際に浮
き出るような樹脂を選ぶことがある。しかしながら、こ
のような解決手段にあっては、染料、樹脂、感光材料お
よび添加剤の選択範囲が挾められ、また場合によっては
印刷作業中にインキ/水のバランスに相違が生じること
もある。また、比較的低濃度の染料を用いることも試み
られたが、この場合には画像領域と非画像領域との間の
プリントアウトおよび画像領域とバックグラウンド領域
との間のコントラストが全体的に制限を受ける。さらに
別の解決手段として、多孔性JNの形成を回避するため
に陽極酸化処理条件を最適にするとともある。
In order to avoid background contamination as much as possible without adversely affecting print life, anodizing ps
Various solutions have been taken by plate manufacturers. Such solutions include choosing a dye that does not cause visible stains when observed with the naked eye, and choosing a dye that does not penetrate the pores during anodizing and that stands out during development and processing. You may choose a resin like this. However, such solutions limit the selection of dyes, resins, photosensitive materials, and additives, and can sometimes lead to differences in the ink/water balance during the printing operation. Also, attempts have been made to use relatively low concentrations of dye, but this generally limits the printout between image and non-image areas and the contrast between image and background areas. receive. Yet another solution is to optimize the anodizing conditions to avoid the formation of porous JN.

これらの折衷案のうちで全体として滴足し得るものけな
い。
None of these compromises can be added to as a whole.

上述した種々の折衷的解決手段を回避する1つの試みは
、陽極酸化後のPS版ケポリビニルホスホン酸の水溶液
でもって処理することである。このようなシステムにお
いては、版の高いプリントアウト特性ならひに高いコン
トラスト特性が保持さ、れ、また汚染が全体的に排除さ
れ、しかも画像削除、水/インキのバランス(印刷汚れ
)露出および保管寿命が全体的に改良される。しかしな
がら、印刷寿命は約25係短くなる。その主な理由は、
iil′Il像領域における陽極酸化物と被覆層との間
に弱い接着性を力えるシール薬品もしくは中間層薬品の
だめである〇 したがって、本発明の目的は、印刷寿命およびその他の
望ましい印刷版特性に実質的に悪影響を及はすことなく
バックグラウンド汚染問題を大巾に克服する新規な平版
を提供することである。
One attempt to circumvent the various compromise solutions mentioned above is to treat the PS version with an aqueous solution of kepolyvinylphosphonic acid after anodization. In such a system, the high printout properties of the plate preserve the high contrast properties, and contamination is totally eliminated, as well as image deletion, water/ink balance (print smear), exposure and storage. Overall lifespan is improved. However, the print life is about 25 times shorter. The main reason is
It is therefore an object of the present invention to improve print life and other desirable printing plate properties by preventing sealing or interlayer chemicals from forming weak adhesion between the anodic oxide and the covering layer in the image area. It is an object of the present invention to provide a new lithographic plate that largely overcomes the background contamination problem without any substantial adverse effects.

本発明のかかる目的およびその他の目的については、以
下の記載によって当業者には明らかとなろう。
These and other objects of the invention will become apparent to those skilled in the art from the following description.

本発明は、平版(planographic prin
ting plate)に関し、特に糖類ゴムの中間層
とその中間層に設け−た感光層とを持つ陽極酸化処理金
属基体からなる平版に関する。
The present invention is a planographic printing plate.
In particular, the present invention relates to a lithographic plate comprising an anodized metal substrate having an intermediate layer of sugar rubber and a photosensitive layer provided on the intermediate layer.

陽極酸化物が新らたに形成されたとき、その表面は大変
活性状態にあシ、特にその酸化物の細孔に染料および気
体が吸収される傾向がある。このような吸収特性は時間
がたつにつれて自然に低下し、それは陽極アルミニウム
酸化物と空気中の水蒸気との反応によるものとされてい
る。工業上の目的のために、特に構造上の目的のために
、陽極酸化物のほとんどは、熱湯、蒸気、重クロム酸塩
、珪酸ナトリウム、ニッケルアセテート、コバルトアセ
テートなどを用いてその酸化物細孔においてシールされ
、これにより腐食抵抗が高められる。
When the anodic oxide is newly formed, its surface is highly active and dyes and gases are particularly prone to absorption into the pores of the oxide. These absorption properties naturally deteriorate over time, which is attributed to the reaction of the anodic aluminum oxide with water vapor in the air. For industrial purposes, especially for structural purposes, most of the anodic oxides are prepared using hot water, steam, dichromate, sodium silicate, nickel acetate, cobalt acetate, etc. This increases corrosion resistance.

したがって、シールされた陽極酸化物のほとんどは優れ
た耐アルカリ性を持ち、腐食抵抗の目安となる。本発明
にあっては、中間層は感光被覆層ならびに現像液中の有
機染料と陽極酸化物との間の反応をシールする効果を有
するが、必ずしも陽極酸化工業における通常のシール作
業のような耐腐食被覆とはならない。
Therefore, most sealed anodic oxides have excellent alkali resistance, which is a measure of corrosion resistance. In the present invention, the intermediate layer has the effect of sealing the photosensitive coating layer and the reaction between the organic dye in the developer and the anodic oxide; It does not become a corrosion coating.

本発明のボジチブあるいはネガチプ処理平版の製造に使
用される基体は、そのような目的で今まで用いられてき
たどのような金属基体であってもよい。利用可能な種々
の支持体拐料の中には、亜鉛、鉄もしくは鋼、銅、鉛、
錫、クロム、マンガン、タンタル、チタンおよび好まし
くはアルミニウムがあり、またアルミニウム合金、例え
は優勢なアルミニウムとシリコン、鉄、亜鉛、銅、マン
ガン、マグネシウム、クロム、ジルコニウムなどとの合
金も含まれる。そのような基体については、必要に応じ
て、従来の方法、例えば化学的エツチング、電解エツチ
ングもしくは機械的な砂目立て処理を行なうことができ
、次いで従来の方法で陽極酸化処理を行なうとともでき
る。例えば、アルミニウム板は陽極酸化を受けることに
よってそれを陽極処理することができ、この場合、アル
ミニラ・ム板は水性の酸もしくは溶媒をベースとした酸
、例えは濃度1ないし80重量%の硫酸、シュウ酸、ホ
ウ酸、燐酸、スルファミノ酸、クロム酸などの中で陽極
として用いられ、また5ないし70℃の電解液温度、0
.5ないし6 Q A / dm2の電流密度、1ない
し100ボルトの電圧、および30秒ないし50分の時
間が用いられる。
The substrate used in the production of the positive or negative treated lithographic plates of the present invention may be any metal substrate hitherto used for such purposes. Among the various support materials available are zinc, iron or steel, copper, lead,
These include tin, chromium, manganese, tantalum, titanium and preferably aluminum, and also aluminum alloys, such as alloys of predominant aluminum with silicon, iron, zinc, copper, manganese, magnesium, chromium, zirconium, etc. Such substrates may be subjected to conventional methods, such as chemical etching, electrolytic etching or mechanical graining, if desired, and then anodized using conventional methods. For example, an aluminum plate can be anodized by undergoing anodization, in which case the aluminum plate is treated with an aqueous or solvent-based acid, such as sulfuric acid at a concentration of 1 to 80% by weight. It is used as an anode in oxalic acid, boric acid, phosphoric acid, sulfamino acid, chromic acid, etc., and the electrolyte temperature is 5 to 70℃, 0
.. Current densities of 5 to 6 QA/dm2, voltages of 1 to 100 volts, and times of 30 seconds to 50 minutes are used.

陽極処理された基体についての必然的な多孔性問題を克
服するだめに、その基体は水溶性糖類ゴム(5acch
aride gum )の溶液と接触させられる。
To overcome the inherent porosity problems with anodized substrates, the substrates are made of water-soluble saccharide rubber (5acch).
aride gum) solution.

代表的な例を挙ければ、ヘルクレス(Hercu、10
e)から売られているナトリウムカルボキシメチルセル
ロース塩7Lおよび7Mのようなカルボキシメチルセル
ロースゴム、ヒドロキシプロピルセルロースゴム、ガッ
チゴム、ジャガーゴム(jaBurgum)、ロカスト
ビーンゴム(10Cuθt bean gum )、ア
ラビアゴム、グアーゴム(guar gum ) 、プ
ロティン−タイプのゴムなどがある。必要に応じて、中
間層薬剤の混合物を用いることができる。一般に、概し
て溶液中のゴムの量は約0.1ないし!IO10重量%
ましくは約0.5ないし10重量%である。溶媒が実質
的に不活性である限シ、溶媒の性質については制限され
ることはなく、それは水であってもよく、まだ、例えば
、メタノールのような有機溶媒であってもよい。水性の
溶媒は好ましい。好ましい糖類ゴムは、アンモニウム塩
もしくはアルカリ金属塩型、特にナトリウム塩もしくは
カリウム塩型のナトリウムカルボキシメチルセルロース
である。
A typical example is Hercules (10
Carboxymethyl cellulose gum, hydroxypropyl cellulose gum, gatch gum, ja Burgum, locust bean gum (10Cuθt bean gum), gum arabic, guar gum (guar), such as sodium carboxymethyl cellulose salt 7L and 7M sold by gum), protein-type rubber, etc. Mixtures of interlayer agents can be used if desired. Generally, the amount of rubber in the solution is approximately 0.1 to ! IO10% by weight
Preferably, it is about 0.5 to 10% by weight. There is no restriction as to the nature of the solvent, as long as it is substantially inert, and it may be water or even an organic solvent such as, for example, methanol. Aqueous solvents are preferred. A preferred sugar gum is sodium carboxymethylcellulose in the ammonium or alkali metal salt form, especially in the sodium or potassium salt form.

成る場合には、糖類ゴムの水1.溶液に酸化剤もしくは
錯生成剤の少量を含まぜることが有利である。
If the water consists of sugar gum, 1. It is advantageous to include small amounts of oxidizing or complexing agents in the solution.

ナトリウムカルボキシメチルセルロースゴムヲ使用した
場合、裸の非酸化アルミニウムとの接触時にカルボキシ
メチルセルロースの水不溶性アルミニウム塩の結晶が形
成される。このような結晶は、クエン酸、燐酸、硫餞゛
、スルホン酸、硝酸ナトリウム、硝酸カリウムおよび好
ましくは硝酸を加えることによシ排除される。一般に、
添加剤の]は、約0,01ないし1,0重量%、好まし
くは約0.1ないし0.4重量%にすることができ、す
なわち、3ないし8のpHが祷られる。また同様な結果
は、フルオロジルコニウム師カリウム、弗化カリウム、
弗化水素酸、トリフルオロ亜鉛酸カリウム、およびその
他の水溶性無機弗化物を用いることによっても得られる
When sodium carboxymethylcellulose rubber is used, crystals of the water-insoluble aluminum salt of carboxymethylcellulose form upon contact with bare, non-oxidized aluminum. Such crystals are eliminated by adding citric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, sulfonic acid, sodium nitrate, potassium nitrate and preferably nitric acid. in general,
] of the additive may be about 0.01 to 1.0% by weight, preferably about 0.1 to 0.4% by weight, ie a pH of 3 to 8 is desired. Similar results were also obtained for potassium fluorozirconium, potassium fluoride,
It can also be obtained using hydrofluoric acid, potassium trifluorozincate, and other water-soluble inorganic fluorides.

陽極処理された金属基体は、その上に中間層を形成する
のに十分な時間糖類ゴムと接触され、その中間層はおそ
らく単分子層程度である。一般に、約5ないし120秒
の時間が使用され、必要に応じて時間をさらに長くして
もよい。特定の接触長さは、使用する特定の糖類ゴム、
溶媒でのその濃度、該溶媒の性質、温度、およびその他
システムへの添加剤に応じて変わる。所定のシステムに
対して適尚な時間長さを容易に最適なものとすることが
できる。接触を行なう方法については特に制限されるこ
とはなく、糖類ゴムを陽極処理された金属基体に噴霧し
てもよいし、基体を糖類ゴム溶液に浸漬してもよいし、
また必要に応じて溶液を基体にローラ塗付することもで
きる。このような接触に続いて、基体表面は周囲温度条
件下で水洗されるか、もしくは水または他の溶媒ですす
がれて、乾燥させられる。
The anodized metal substrate is contacted with the sugar rubber for a sufficient period of time to form an intermediate layer thereon, which intermediate layer is likely to be on the order of a monolayer. Generally, times of about 5 to 120 seconds are used, and longer times may be used if desired. The specific contact length depends on the specific sugar rubber used,
It will vary depending on its concentration in the solvent, the nature of the solvent, temperature, and other additives to the system. The appropriate length of time can be easily optimized for a given system. The method of contacting is not particularly limited, and the saccharide rubber may be sprayed onto an anodized metal substrate, the substrate may be immersed in a saccharide rubber solution,
The solution can also be applied to the substrate with a roller if necessary. Following such contact, the substrate surface is washed with water or rinsed with water or other solvent and dried under ambient temperature conditions.

適邑な感光層が中間層の形成された陽極処理された基体
上に沈積させられて、従来の方法で処理される。成る目
的に対しては、ポジチプ型の感光組成物はしばしば0−
キノンジアジド型の感光性材料だけか、あるいは適当な
添加剤を加えたものである。画像支持平版フラットを述
して感光層を化学線放射に露出させると、露出領域のO
−キノンジアジド型の感光性材料はアルカリ可溶性の化
合物に変化し、このだめそれは水性アルカリ溶液によっ
て容易に除去されて、ポジテプ画像が得られる。アルカ
リ可溶性の感光性材料が水性アルカリ溶液によって除去
された領域では、親水性表面が露出され、そこは水を受
は入れて、インキをはねつける。画像として残された領
域は親油性であり、インキを受は入れる。多くのポジチ
プ型の感光性材料が知られておシ、これらは制限無しに
本発明に使うことができる。また、ネガチア゛型の感光
性ジアゾ材料も用いることができ、この場合化学線放射
に露出されない領域がアルカリもしくはその他のもので
除去されて、親水性表面が残されこのように処理された
版は、さらに処理されることなく平版印刷機に用いられ
るべく準備されているものであり、所望の文書もしくは
画像を印刷あるいは複製に利用される。しかしながら、
版を平版印刷機に設置する前に、“′画像現像剤“とじ
て当分野で知られているものでもって版の印刷面を処理
することは従来どおシである。画像現像液としては種々
の形式のものを用いることができ、−例を挙げれば、イ
ンキ受入れ領域には付着するが、該版の親水性領域には
付着しないような樹脂乳濁液、例えば添加側版システム
(add、itiveplatesystems )用
のラッカーである。また、印刷機の現像インクを画像現
像剤として用いることもできる。本発明の中間形成処理
の結果として、ヘキスト社(Hoechets ) R
C43のようなインキを用いた際に典型的に歩、われる
バックグラウンド汚染は犬11]に回避される。従来用
いられている他の後処理としては、版全体にゴムを適用
することがちシ、これによシ版は保管時空気中の湿気に
よる陽極酸化物の空気酸化および水和から保蒔される。
A suitable photosensitive layer is deposited onto the anodized substrate having an interlayer formed thereon and processed in a conventional manner. Positive-type photosensitive compositions often have a 0-
The quinonediazide type photosensitive material alone or the addition of appropriate additives. When exposing the photosensitive layer to actinic radiation with an image-supported lithographic flat, the O in the exposed areas
- Photosensitive materials of the quinonediazide type convert into alkali-soluble compounds, which are then easily removed by aqueous alkaline solutions to obtain positive images. In areas where the alkali-soluble photosensitive material has been removed by the aqueous alkaline solution, a hydrophilic surface is exposed that receives water and repels ink. The areas left as an image are oleophilic and will accept ink. Many positive type photosensitive materials are known and can be used in the present invention without limitation. It is also possible to use photosensitive diazo materials of the negative type, in which the areas not exposed to actinic radiation are removed with an alkali or otherwise, leaving a hydrophilic surface and the plate thus treated. , which is prepared for use in a lithographic printing press without further processing to print or reproduce the desired document or image. however,
It is conventional to treat the printed side of the plate with what is known in the art as an "image developer" before the plate is installed in a lithographic printing press. Various types of image developers can be used - for example, resin emulsions which adhere to the ink-receiving areas but not to the hydrophilic areas of the plate, e.g. Lacquer for side plate systems (add, ative plate systems). Further, developing ink from a printing press can also be used as an image developer. As a result of the intermediate forming process of the present invention, Hoechets R
The background contamination typically encountered when using inks such as C43 is avoided. Other conventional post-treatments include applying rubber to the entire plate, which protects the plate from air oxidation and hydration of the anodic oxide due to moisture in the air during storage. .

本発明をさらに説明するために、次に種々の例を示す。To further illustrate the invention, various examples are presented below.

これらの例において、また本明細書の全体を通して、特
に断わらない限シ、ずべての量および百分率は型開によ
るものであシ、丑だすべての温度は摂氏によるものであ
る。
In these examples, and throughout this specification, all amounts and percentages are in degrees Celsius, unless otherwise noted.

例  ■ (A)@石で砂目立て処理されかつエツチング処理され
た陽極処理直後のアルミニウム板について良くすすぎ洗
いを行なって、スクイージ処理で水気を取υ去り、次い
で97°Cの空気で15秒間乾燥を行なった。その後、
ポジチブ型の感光性組成物、すなわち、アルカリaJ溶
性フェノール樹脂(AJnova3−PN −43Q 
)を634重1部、2−シアシー1.2−ナフトキノン
−5−スルホニルクロライドとフェノール樹脂(同じA
lnoval PN −433)との反応生成物を56
重量部、ポリウレタン樹脂を2重量部、メチルイソブチ
ルケトンの601量部に溶解させた酸感応有機染料を1
6重量部、プライマリ−アミルアセテートを30重量部
、メチルエチルケトンを20重量部、およびエチレング
リコールモノエチルを20重量部含む組成物が版に適用
されて、従来の方法で処理された。従来の画像リムーバ
ーで処理して水洗した後、版を現像インキでこする。画
像リムーバーの領域と非処理領域との間のバックグラウ
ンドの相違については、マツクベス(MacBθth)
反射密度計を用いて、また100℃で促進老化された版
上のブラックフィルターを用いて測定することができる
。かかる両領域間の光学密度差は汚れの程度を示す。光
学密度差が低ければ低い程、汚れの程度は小さい。光学
密度差(ΔO,D、 )は0.06であった。
Example ■ (A) An aluminum plate that has been grained with stone and etched immediately after anodization is thoroughly rinsed, water is removed using a squeegee, and then dried in air at 97°C for 15 seconds. I did it. after that,
A positive type photosensitive composition, that is, an alkali aJ-soluble phenolic resin (AJnova3-PN-43Q)
), 1 part of 634 weight, 2-siacy 1,2-naphthoquinone-5-sulfonyl chloride and phenol resin (same A
lnoval PN-433)
1 part by weight, 2 parts by weight of polyurethane resin, and 1 part of acid-sensitive organic dye dissolved in 601 parts by weight of methyl isobutyl ketone.
A composition containing 6 parts by weight of primary amyl acetate, 30 parts by weight of primary amyl acetate, 20 parts by weight of methyl ethyl ketone, and 20 parts by weight of ethylene glycol monoethyl was applied to the plate and processed in a conventional manner. After processing with a conventional image remover and washing with water, the plate is rubbed with developer ink. For the background difference between the image remover area and the unprocessed area, MacBθth
It can be measured using a reflection densitometer and using a black filter on a plate acceleratedly aged at 100°C. The difference in optical density between the two regions indicates the degree of contamination. The lower the optical density difference, the smaller the degree of contamination. The optical density difference (ΔO, D, ) was 0.06.

(B)  処理(A)が繰り返された。たたし、アルミ
ニウム板を熱空気中で乾燥させた後、それはpH4,7
2で20℃のアラビアゴム5チ水溶液中に60秒間浸漬
され、次いで冷水ですすぎ洗いされて乾燥させられた。
(B) Treatment (A) was repeated. After drying the aluminum plate in hot air, it has a pH of 4.7.
The specimens were immersed in an aqueous gum arabic solution at 20° C. for 60 seconds, then rinsed with cold water and dried.

その後、感光層が適用された。A photosensitive layer was then applied.

この場合の光学密度差は002であった。The optical density difference in this case was 002.

(C)  処理(B)が繰シ返された。ただし、冷水に
よるすすぎ洗いは省かれた。仁の場合中間、鳴の形成さ
れた基体への感光性組成物の付着性は弱かった。
(C) Process (B) was repeated. However, rinsing with cold water was omitted. In the case of nickel, the adhesion of the photosensitive composition to the substrate on which nickel was formed was weak.

例  ■ 例Iの処理(A)および(B)が繰υ返された。ただし
、感光性組成物はネガテプ型のものであって、4−フェ
ニールアミノベンゼンジアゾニウム塩ト、2−ハイドロ
オキシ4−メンオキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
の塩としてのホルムアルデヒドとの縮合重合体であるジ
アゾポリマーを1重量部、および150重量部のメチル
セロンルプに溶解されたエポキシ樹脂エポン 1031
 (Epon1031)[ニジニル社(5hell )
 )  を10 Ni 部含むものである。得られた光
学密度は例■の処理(A)および(B)の場合と同様で
あった。
Example ■ Processes (A) and (B) of Example I were repeated. However, the photosensitive composition is of the negative type, and is a condensation polymer of 4-phenylaminobenzenediazonium salt and formaldehyde as a salt of 2-hydroxy-4-menoxybenzophenone-5-sulfonic acid. Epoxy resin Epon 1031 dissolved in 1 part by weight of diazo polymer and 150 parts by weight of methyl selon
(Epon1031) [Nijinirsha (5hell)
) containing 10 Ni parts. The optical densities obtained were similar to those for treatments (A) and (B) of Example (2).

例■の処理(B)が繰シ返された。ただし、冷水による
すすぎ洗いは省かれた。
Processing (B) in Example 3 was repeated. However, rinsing with cold water was omitted.

例■の6つの処理のうちの第1の処理にあっては、基体
への感光層の付着性は弱く、第2の処理にあっては、良
好な付着性が得られ、第6の処理にあっては、付着性は
まったく得られなかった。
In the first treatment of the six treatments in Example (2), the adhesion of the photosensitive layer to the substrate was weak, in the second treatment good adhesion was obtained, and in the sixth treatment No adhesion was obtained at all.

例■を 例■の処理(B)と例■の処理(A)とが5回線シ返さ
れ、中間層形成工程が以下の表に示すように変えられた
。pl(を調製するために硝酸が使用された。
The process (B) of Example (2) and the process (A) of Example (2) were repeated five times for Example (2), and the intermediate layer forming process was changed as shown in the table below. Nitric acid was used to prepare pl.

処  理   パラメータ変更 (A)   6L℃ (B)    750℃、pH1,55(C)   1
%溶液、60℃、p)(i、55(D)    1チ溶
液、60℃、pH5,45(B)    2%溶液、p
H5,0,3,6o0C5日間までの保管寿命のテスト
でd:版はきれいであった。
Processing Parameter change (A) 6L℃ (B) 750℃, pH 1,55 (C) 1
% solution, 60°C, p) (i, 55 (D) 1% solution, 60°C, pH 5,45 (B) 2% solution, p
H5, 0, 3, 6 o 0 C In a storage life test of up to 5 days, d: The plate was clean.

例tV 例■の処理(B)と例■の処理(A)とが再度縁υ返さ
れた。ただし、アラビアゴム水溶液の代シに以下の表に
示すような糖類ゴムが使用され、また中間層形成処理パ
ラメータ変化についても以下の表に示すように行なわれ
た。汚i1は少なくなシ、また、保管寿命が改良された
Example tV The process (B) of Example ■ and the process (A) of Example ■ were reversed again. However, instead of the gum arabic aqueous solution, saccharide gums as shown in the table below were used, and the intermediate layer forming process parameters were changed as shown in the table below. Contamination i1 is reduced and shelf life is improved.

処  理    パラメータ変更 (A)    0.5% イナコマメコム(ロヵスト 
ビーン ゴム;Locust Bean Gum )、
pH6,78 (B)    2%  −)−ト)ウムヵルボキシメチ
ルセルロース(7L)、1(7,14 (C)    1s  ナトリウムカルボキシメチルセ
ルロース(7L)、1)H7,60 (D)    1% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7L)、H4 (E)   1% ナトリウムカルボキシメチルセルロ
ース(7L)、pH4,浸漬10秒 (F)   o、3s% グアーゴム、pH6,9M (G)    D、33係 り゛アーゴム、浸漬5秒 (H)   0.15% グアーゴム、(1)   0
.15% グアーゴム、浸漬5秒 (J)   1% ナトリウムカルボキシメチルセルロ
ース(7L)、0.15% グアーゴム添加、 60℃で、pH7,6 (K)    2% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7L)、60℃で、pH9,14 (L)    1% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7M)、1)H7,15、浸漬10秒 (M)    1% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7M)、60℃で、pI(7,15 (N)   プロティンゴム、1)H74(0)  フ
ロティンゴム、pH7,4、浸漬10秒(P)    
2% ヒドロキシプロピルセルロース、1)I(7,ろ
(Q)    2%  ナトリウムカルボキシメチルセ
ル【I−ス(7L)、0.5%ヘキサフルオロジルニウ
ム酸カリウム、0.10多硝酸カリウノ・、 60℃、pH5,7で、浸漬時間15秒(R)’   
 2% ナトリウムカルボキシメチルセルロース(7L
)、0.5% トリフルオロ亜鉛酸カリウム、0.10
チ硝酸カリウム、 浸漬15秒、pH6 (s)    2%  すトリウムカルボキシメチルセ
ルロース(7L)、0026%弗化水素酸、 pH4、浸漬15秒 (T)    2%  ナトリウムカルボキシメチルセ
ルロース(7L)、010チ 硝酸カリウム、 2チ 弗化カリウム、 浸fff15秒、pHB 本発明の技術思想および範囲から逸脱することなく、本
発明の方法および製品に種々の変更および変形をなし得
る。以上に述べた本発明の種々の実施例は、本発明の説
明のだめのものであって、本発明を限定しようとするも
のではない。
Processing Parameter change (A) 0.5% Inakomamecom (Locust
Bean Gum; Locust Bean Gum),
pH6,78 (B) 2% -)-t)umcarboxymethylcellulose (7L), 1(7,14 (C) 1s Sodium carboxymethylcellulose (7L), 1)H7,60 (D) 1% Sodium carboxy Methyl cellulose (7 L), H4 (E) 1% Sodium carboxymethyl cellulose (7 L), pH 4, immersed for 10 seconds (F) o, 3 s% Guar gum, pH 6,9M (G) D, 33 guar gum, immersed for 5 seconds ( H) 0.15% guar gum, (1) 0
.. 15% guar gum, soaked for 5 seconds (J) 1% sodium carboxymethylcellulose (7L), 0.15% guar gum added, at 60°C, pH 7.6 (K) 2% sodium carboxymethylcellulose (7L), at 60°C, pH 9 ,14 (L) 1% Sodium carboxymethylcellulose (7M), 1) H7.15, immersion 10 seconds (M) 1% Sodium carboxymethylcellulose (7M), at 60°C, pI (7,15 (N) Protein gum, 1) H74 (0) Floating rubber, pH 7.4, immersion for 10 seconds (P)
2% Hydroxypropyl cellulose, 1) I(7, filter (Q) 2% Sodium carboxymethylcellulose (7L), 0.5% Potassium hexafluorodyrnate, 0.10 Potassium polynitrate, 60 ℃, pH 5.7, immersion time 15 seconds (R)'
2% sodium carboxymethylcellulose (7L
), 0.5% Potassium trifluorozincate, 0.10
Sodium carboxymethylcellulose (7L), potassium nitrate, 2% Sodium carboxymethylcellulose (7L), immersion 15 seconds (T) 2% Sodium carboxymethyl cellulose (7L), 0026% hydrofluoric acid, pH 4, immersion 15 seconds (T) H Potassium fluoride, soaked fff15 seconds, pHB Various modifications and variations can be made to the methods and products of the invention without departing from the spirit and scope of the invention. The various embodiments of the invention described above are merely illustrative of the invention and are not intended to limit the invention.

手続補正書(方式) 1、事件の表示 昭和58年特許願第175167号 3、補正をする者 事件との関係   特許出願人 住 所 アメリカ合衆国 ニューヨーク州 ニューヨー
ク6、補正の対象 願書の特許出願人の欄、委任状の訳文及び明細書7、補
正の内容
Procedural amendment (method) 1. Indication of the case Patent Application No. 175167 filed in 1982 3. Relationship with the person making the amendment Patent applicant address New York, New York, United States of America 6. Patent applicant column in the application to be amended , Translation of power of attorney and specification 7, Contents of amendment

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)陽極酸化処理された金属基体と、その基体上に設
けた中間層であって、その後洗浄されたものと、洗浄後
の中間層上に設けられたジアゾ感光層とを包含し、該中
間層が糖類ゴムを包含するものであることを特徴とする
P8平版。 (2)金属基体がアルミニウム基体であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載のps平版。 (3)陽極酸化処理されたアルミニウム基体が砂目処理
および/まだはエツチング処理されることを特徴とする
特許請求の範囲第2項に記載のPS平版。 (4)  糖類ゴムがセルロースゴム、アラビアゴム、
イナゴマメゴム、グアーゴム、ガツチゴムおよびジャカ
ーゴムからなる群のうちから選ばれることを特徴とする
特許請求の範囲第2項もしくは第3項に記載のps平版
。 (5)  糖aゴムがセルロースゴムであることを特徴
とする特許請求の範囲第2項もしくは第6項に記載のp
s平版。 (S)saゴムがカルボキシメチルセルロースのアンモ
ニウム塩もしくはアルカリ金属塩であることを特徴とす
る特許請求の範囲第5項に記載のps平版。 (7)陽極酸化処理された金属基体と、その基体上に設
けられた中間層であって、その後洗浄されたものと、洗
浄後の中間層に設けられたジアゾ感光層とを包含し、該
中間層が糖類ゴムを包含するものであることを特徴とす
る画像付は平版。 (8)金属基体がアルミニウム基体であることを特徴と
する特許請求の範囲第7項に記載の画像付は平版。 (9)陽極酸化処理されたアルミニウム基体が砂目処理
および/またはエツチング処理されることを特徴とする
特許請求の範囲第8項に記載の画像付は平版。 (1o) lfFMMゴムがセルロースゴム、アラビア
ゴム、イナゴマメゴム(1ocu8t bean gu
m ) 、グアーゴム、ガツテゴムおよびジャガーゴム
からなる群のうちから選はれることを特徴とする特許請
求の範囲第8項もしくは第9項に記載の画像付は平版。 (11) jl?tBfiニア”ムがセルロースゴムで
あることを特徴とする特許請求の範囲第8項もしく、は
第9項に記載の画像付は平版。 (12) 413iゴムがカルボキシメチルセルロース
のアンモニウム塩もしくはアルカリ金属塩であることを
特徴とする特許請求の範囲第8項もしくは第9項に記載
の画像付は平版。 (13)陽極酸化処理された金属基体を糖類ゴム溶液で
接触させ、その後読金属基体の処理面に感光層を適用す
る特許請求の範囲第1項に記載のps平版の製造方法。 (14)陽極酸化された金属基体が陽極酸化処理の前に
砂目処理および/またはエツチング処理さi、糖類ゴム
が水溶液としてのセルロースゴム、アラビアゴム、イナ
ゴマメゴム、グアーゴム、ガツチゴムおよびジャガーゴ
ムからなる群のうちから選ばれることを特徴とする特許
請求の範囲第13項に記載の製造方法。 (15) afaコノ・がセルロースゴムであることを
特徴とする特許請求の範囲第14項に記載の製造方法。 (16)該セルロースがカルボキシメチルセルロースの
アンモニウム塩もしくはアルカリ金属塩であるととを特
徴とする特許請求−の範囲第15項に記載の與造方法。 (17)  水溶液が硝酸、燐酸、硫酸、スルボン酸、
アルカリ金属硝酸塩、もしくは水溶性弗化物を含むこと
を特徴とする特許請求の範囲第16項に記載の製造方法
[Scope of Claims] (1) An anodized metal substrate, an intermediate layer provided on the substrate, which is subsequently cleaned, and a diazo photosensitive layer provided on the intermediate layer after cleaning. A P8 lithographic plate comprising: and wherein the intermediate layer comprises a saccharide rubber. (2) The PS lithographic plate according to claim 1, wherein the metal substrate is an aluminum substrate. (3) The PS lithographic plate according to claim 2, wherein the anodized aluminum substrate is grained and/or etched. (4) Saccharide gums include cellulose gum, gum arabic,
The PS lithographic plate according to claim 2 or 3, wherein the PS lithographic plate is selected from the group consisting of locust bean gum, guar gum, gatsuchi rubber, and jacquard rubber. (5) P according to claim 2 or 6, characterized in that the sugar a rubber is cellulose rubber.
s flat plate. The PS lithographic plate according to claim 5, wherein the (S)sa rubber is an ammonium salt or an alkali metal salt of carboxymethylcellulose. (7) Includes a metal substrate subjected to anodizing treatment, an intermediate layer provided on the substrate, which is subsequently cleaned, and a diazo photosensitive layer provided on the intermediate layer after cleaning; The one with an image is a lithographic plate characterized in that the intermediate layer contains sugar rubber. (8) The image-attached lithographic plate according to claim 7, wherein the metal substrate is an aluminum substrate. (9) The image-attached lithographic plate according to claim 8, wherein the anodized aluminum substrate is subjected to a grain treatment and/or an etching treatment. (1o) lfFMM rubber is cellulose rubber, gum arabic, carob rubber (1ocu8t bean gum)
m) The image-attached lithographic plate according to claim 8 or 9, characterized in that it is selected from the group consisting of guar gum, guar gum, and jaguar gum. (11) jl? The image attachment according to claim 8 or 9, wherein the tBfinium is cellulose rubber, is a lithographic plate. (12) The 413i rubber is an ammonium salt of carboxymethylcellulose or an alkali metal. The image attached according to claim 8 or 9, which is a salt, is a lithographic plate. (13) The anodized metal substrate is brought into contact with a sugar rubber solution, and then the reading of the metal substrate is carried out. A method for producing a PS lithographic plate according to claim 1, comprising applying a photosensitive layer to the treated surface. (14) The anodized metal substrate is subjected to graining and/or etching treatment before the anodizing treatment. The manufacturing method according to claim 13, characterized in that the saccharide gum is selected from the group consisting of cellulose gum, acacia gum, locust bean gum, guar gum, gatsuchi gum and jaggery gum in an aqueous solution. ) The manufacturing method according to claim 14, wherein the afacono. The manufacturing method according to claim 15. (17) The aqueous solution contains nitric acid, phosphoric acid, sulfuric acid, sulfonic acid,
17. The manufacturing method according to claim 16, which comprises an alkali metal nitrate or a water-soluble fluoride.
JP17516783A 1982-09-21 1983-09-21 Lithography with rubber intermediate layer Pending JPS59135191A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0239154A (en) * 1988-07-29 1990-02-08 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive planographic printing plate
US6093509A (en) * 1995-02-14 2000-07-25 Toray Industries, Inc. Lithographic printing plate

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0239154A (en) * 1988-07-29 1990-02-08 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive planographic printing plate
US6093509A (en) * 1995-02-14 2000-07-25 Toray Industries, Inc. Lithographic printing plate

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