JPS59135191A - ゴム中間層を持つ平版 - Google Patents
ゴム中間層を持つ平版Info
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- JPS59135191A JPS59135191A JP17516783A JP17516783A JPS59135191A JP S59135191 A JPS59135191 A JP S59135191A JP 17516783 A JP17516783 A JP 17516783A JP 17516783 A JP17516783 A JP 17516783A JP S59135191 A JPS59135191 A JP S59135191A
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Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
一般に、感光性の印刷版は平版、凹版および凸版に分類
されるd感光性の平版(photoseneitive
planographic printingplat
e )は、支持体(サポート)の表面を化学的もしくは
物理的に処理してその表面に親水性を与えるか、あるい
はその表面に親水性ポリマーを被覆し、次いでそのよう
に調製された親水性表面に感光材料を適用することによ
つ1作られる。
されるd感光性の平版(photoseneitive
planographic printingplat
e )は、支持体(サポート)の表面を化学的もしくは
物理的に処理してその表面に親水性を与えるか、あるい
はその表面に親水性ポリマーを被覆し、次いでそのよう
に調製された親水性表面に感光材料を適用することによ
つ1作られる。
通常の表面処理としては、ブラッシング砂目立てのよう
な機械的表面処理があシ、また電解砂目立ておよび/ま
だはエツチング処理のような化学的表面処理および/ま
たは陽極酸化作用を用いるかあるいは用いずにアルカリ
金属塩もしくはホスホン酸、珪酸塩、弗化ジルコニウム
酸カリウムのような層を更に適用する化学的着面処理が
ある。
な機械的表面処理があシ、また電解砂目立ておよび/ま
だはエツチング処理のような化学的表面処理および/ま
たは陽極酸化作用を用いるかあるいは用いずにアルカリ
金属塩もしくはホスホン酸、珪酸塩、弗化ジルコニウム
酸カリウムのような層を更に適用する化学的着面処理が
ある。
成る期間、はとんどの平版は砂目処理され/こ亜鉛板か
ら作られ、この場合並鉛版は適当な感光性組成物で被覆
され、乾燥され、所望の画像を得るべく急速に露出され
、次いで該亜鉛板の全表面に現像インキを適用し、その
亜鉛板は次いで水洗されて、水溶性材料および現像イン
キがすつかシ落される。その後、その該版の印刷面には
アラビアコム浴液が適用されて、使用に供されるまで保
護される。アラビアゴムは像に対して化学的保護を与え
、しかもその版を使用したいときその水によって容易に
洗い落されるものであった。
ら作られ、この場合並鉛版は適当な感光性組成物で被覆
され、乾燥され、所望の画像を得るべく急速に露出され
、次いで該亜鉛板の全表面に現像インキを適用し、その
亜鉛板は次いで水洗されて、水溶性材料および現像イン
キがすつかシ落される。その後、その該版の印刷面には
アラビアコム浴液が適用されて、使用に供されるまで保
護される。アラビアゴムは像に対して化学的保護を与え
、しかもその版を使用したいときその水によって容易に
洗い落されるものであった。
米国特許第2.714,066号には、薄い金属シート
から作られた平版が開示されておシ、この場合、該シー
トの少なくとも一方の表面は、緊密に結合した薄い好ま
しくは無機質の、アルカリ金属珪酸塩、サリチル酸もし
くは他の処理剤の溶液から形成される。親水性表面処理
を与えるように処理されておシ、それによ如、該版の表
面にはしつかりした結合接触状態で覆われた恒久的な親
水性の汚染阻止−色調低下フィルムが形成され、それは
そのL出抜の親水性処理表面すなわち汚染阻止−色調低
下フィルムの露出表面上に亘って感光性有機材料の被覆
層を持つことになる。好ましい基体は、例えばリン敢ミ
ナトリウム溶液に浸漬することによってきれいにされた
アルミニウム箔材料もしくはそのシート材料である。
から作られた平版が開示されておシ、この場合、該シー
トの少なくとも一方の表面は、緊密に結合した薄い好ま
しくは無機質の、アルカリ金属珪酸塩、サリチル酸もし
くは他の処理剤の溶液から形成される。親水性表面処理
を与えるように処理されておシ、それによ如、該版の表
面にはしつかりした結合接触状態で覆われた恒久的な親
水性の汚染阻止−色調低下フィルムが形成され、それは
そのL出抜の親水性処理表面すなわち汚染阻止−色調低
下フィルムの露出表面上に亘って感光性有機材料の被覆
層を持つことになる。好ましい基体は、例えばリン敢ミ
ナトリウム溶液に浸漬することによってきれいにされた
アルミニウム箔材料もしくはそのシート材料である。
ラウナー氏(Rauner )の米国特許第5.511
,661号にまたクニングハム氏(Cunningll
am))等の同じく、米国特許第3,860,426号
及び米国特許第3.92’0.457号子は、陽極酸化
処理されたアルミニウムをカルボキシメチルセルロース
でもってジアゾ感光層とは関連させずに被覆することが
開示されておシ、まだそこでは本発明には必要とされな
い処理法および添加剤が利用されている。
,661号にまたクニングハム氏(Cunningll
am))等の同じく、米国特許第3,860,426号
及び米国特許第3.92’0.457号子は、陽極酸化
処理されたアルミニウムをカルボキシメチルセルロース
でもってジアゾ感光層とは関連させずに被覆することが
開示されておシ、まだそこでは本発明には必要とされな
い処理法および添加剤が利用されている。
本発明は、特に、金属基体が感光性材料の適用のために
陽極酸化法によって調製されるPS版システムに関する
。従来、陽極酸化処理されたps版システムで苦しめら
れていた問題点は、樹脂、染料、感光性材料、添加剤な
どによるバッククラランド汚染であった。陽極重化処理
直後の層の必然的な多孔性のために、該酸化処理層に感
光性材料層の吸収が起シ、もしその層が製造工程中に適
当な薬剤例えば珪酸ナトリウムでシールされるが、もし
くはそれで中間層形成が行なわれない場合には、その領
域が親油性となって、インキがその吸収材料などに付着
することになる。しかしながら、かかる無機の中間層が
用いられた場合には、増感剤、樹脂、添加剤および染料
の有機性によシ印刷寿命が一層短くなり得るということ
が良く知られている。
陽極酸化法によって調製されるPS版システムに関する
。従来、陽極酸化処理されたps版システムで苦しめら
れていた問題点は、樹脂、染料、感光性材料、添加剤な
どによるバッククラランド汚染であった。陽極重化処理
直後の層の必然的な多孔性のために、該酸化処理層に感
光性材料層の吸収が起シ、もしその層が製造工程中に適
当な薬剤例えば珪酸ナトリウムでシールされるが、もし
くはそれで中間層形成が行なわれない場合には、その領
域が親油性となって、インキがその吸収材料などに付着
することになる。しかしながら、かかる無機の中間層が
用いられた場合には、増感剤、樹脂、添加剤および染料
の有機性によシ印刷寿命が一層短くなり得るということ
が良く知られている。
印刷寿命に悪影響を与えることなくバックグラウンド汚
染間迂をできるだけ回避するだめに、陽極酸化処理ps
版の製造会社によって種々の解決手段が取られた。その
ような解決手段には、肉眼で観察しだ際に汚れが目で見
えないような染料を選ぶことや、陽極酸化処理時の細孔
に浸透することなくしかも現像および処理などの際に浮
き出るような樹脂を選ぶことがある。しかしながら、こ
のような解決手段にあっては、染料、樹脂、感光材料お
よび添加剤の選択範囲が挾められ、また場合によっては
印刷作業中にインキ/水のバランスに相違が生じること
もある。また、比較的低濃度の染料を用いることも試み
られたが、この場合には画像領域と非画像領域との間の
プリントアウトおよび画像領域とバックグラウンド領域
との間のコントラストが全体的に制限を受ける。さらに
別の解決手段として、多孔性JNの形成を回避するため
に陽極酸化処理条件を最適にするとともある。
染間迂をできるだけ回避するだめに、陽極酸化処理ps
版の製造会社によって種々の解決手段が取られた。その
ような解決手段には、肉眼で観察しだ際に汚れが目で見
えないような染料を選ぶことや、陽極酸化処理時の細孔
に浸透することなくしかも現像および処理などの際に浮
き出るような樹脂を選ぶことがある。しかしながら、こ
のような解決手段にあっては、染料、樹脂、感光材料お
よび添加剤の選択範囲が挾められ、また場合によっては
印刷作業中にインキ/水のバランスに相違が生じること
もある。また、比較的低濃度の染料を用いることも試み
られたが、この場合には画像領域と非画像領域との間の
プリントアウトおよび画像領域とバックグラウンド領域
との間のコントラストが全体的に制限を受ける。さらに
別の解決手段として、多孔性JNの形成を回避するため
に陽極酸化処理条件を最適にするとともある。
これらの折衷案のうちで全体として滴足し得るものけな
い。
い。
上述した種々の折衷的解決手段を回避する1つの試みは
、陽極酸化後のPS版ケポリビニルホスホン酸の水溶液
でもって処理することである。このようなシステムにお
いては、版の高いプリントアウト特性ならひに高いコン
トラスト特性が保持さ、れ、また汚染が全体的に排除さ
れ、しかも画像削除、水/インキのバランス(印刷汚れ
)露出および保管寿命が全体的に改良される。しかしな
がら、印刷寿命は約25係短くなる。その主な理由は、
iil′Il像領域における陽極酸化物と被覆層との間
に弱い接着性を力えるシール薬品もしくは中間層薬品の
だめである〇 したがって、本発明の目的は、印刷寿命およびその他の
望ましい印刷版特性に実質的に悪影響を及はすことなく
バックグラウンド汚染問題を大巾に克服する新規な平版
を提供することである。
、陽極酸化後のPS版ケポリビニルホスホン酸の水溶液
でもって処理することである。このようなシステムにお
いては、版の高いプリントアウト特性ならひに高いコン
トラスト特性が保持さ、れ、また汚染が全体的に排除さ
れ、しかも画像削除、水/インキのバランス(印刷汚れ
)露出および保管寿命が全体的に改良される。しかしな
がら、印刷寿命は約25係短くなる。その主な理由は、
iil′Il像領域における陽極酸化物と被覆層との間
に弱い接着性を力えるシール薬品もしくは中間層薬品の
だめである〇 したがって、本発明の目的は、印刷寿命およびその他の
望ましい印刷版特性に実質的に悪影響を及はすことなく
バックグラウンド汚染問題を大巾に克服する新規な平版
を提供することである。
本発明のかかる目的およびその他の目的については、以
下の記載によって当業者には明らかとなろう。
下の記載によって当業者には明らかとなろう。
本発明は、平版(planographic prin
ting plate)に関し、特に糖類ゴムの中間層
とその中間層に設け−た感光層とを持つ陽極酸化処理金
属基体からなる平版に関する。
ting plate)に関し、特に糖類ゴムの中間層
とその中間層に設け−た感光層とを持つ陽極酸化処理金
属基体からなる平版に関する。
陽極酸化物が新らたに形成されたとき、その表面は大変
活性状態にあシ、特にその酸化物の細孔に染料および気
体が吸収される傾向がある。このような吸収特性は時間
がたつにつれて自然に低下し、それは陽極アルミニウム
酸化物と空気中の水蒸気との反応によるものとされてい
る。工業上の目的のために、特に構造上の目的のために
、陽極酸化物のほとんどは、熱湯、蒸気、重クロム酸塩
、珪酸ナトリウム、ニッケルアセテート、コバルトアセ
テートなどを用いてその酸化物細孔においてシールされ
、これにより腐食抵抗が高められる。
活性状態にあシ、特にその酸化物の細孔に染料および気
体が吸収される傾向がある。このような吸収特性は時間
がたつにつれて自然に低下し、それは陽極アルミニウム
酸化物と空気中の水蒸気との反応によるものとされてい
る。工業上の目的のために、特に構造上の目的のために
、陽極酸化物のほとんどは、熱湯、蒸気、重クロム酸塩
、珪酸ナトリウム、ニッケルアセテート、コバルトアセ
テートなどを用いてその酸化物細孔においてシールされ
、これにより腐食抵抗が高められる。
したがって、シールされた陽極酸化物のほとんどは優れ
た耐アルカリ性を持ち、腐食抵抗の目安となる。本発明
にあっては、中間層は感光被覆層ならびに現像液中の有
機染料と陽極酸化物との間の反応をシールする効果を有
するが、必ずしも陽極酸化工業における通常のシール作
業のような耐腐食被覆とはならない。
た耐アルカリ性を持ち、腐食抵抗の目安となる。本発明
にあっては、中間層は感光被覆層ならびに現像液中の有
機染料と陽極酸化物との間の反応をシールする効果を有
するが、必ずしも陽極酸化工業における通常のシール作
業のような耐腐食被覆とはならない。
本発明のボジチブあるいはネガチプ処理平版の製造に使
用される基体は、そのような目的で今まで用いられてき
たどのような金属基体であってもよい。利用可能な種々
の支持体拐料の中には、亜鉛、鉄もしくは鋼、銅、鉛、
錫、クロム、マンガン、タンタル、チタンおよび好まし
くはアルミニウムがあり、またアルミニウム合金、例え
は優勢なアルミニウムとシリコン、鉄、亜鉛、銅、マン
ガン、マグネシウム、クロム、ジルコニウムなどとの合
金も含まれる。そのような基体については、必要に応じ
て、従来の方法、例えば化学的エツチング、電解エツチ
ングもしくは機械的な砂目立て処理を行なうことができ
、次いで従来の方法で陽極酸化処理を行なうとともでき
る。例えば、アルミニウム板は陽極酸化を受けることに
よってそれを陽極処理することができ、この場合、アル
ミニラ・ム板は水性の酸もしくは溶媒をベースとした酸
、例えは濃度1ないし80重量%の硫酸、シュウ酸、ホ
ウ酸、燐酸、スルファミノ酸、クロム酸などの中で陽極
として用いられ、また5ないし70℃の電解液温度、0
.5ないし6 Q A / dm2の電流密度、1ない
し100ボルトの電圧、および30秒ないし50分の時
間が用いられる。
用される基体は、そのような目的で今まで用いられてき
たどのような金属基体であってもよい。利用可能な種々
の支持体拐料の中には、亜鉛、鉄もしくは鋼、銅、鉛、
錫、クロム、マンガン、タンタル、チタンおよび好まし
くはアルミニウムがあり、またアルミニウム合金、例え
は優勢なアルミニウムとシリコン、鉄、亜鉛、銅、マン
ガン、マグネシウム、クロム、ジルコニウムなどとの合
金も含まれる。そのような基体については、必要に応じ
て、従来の方法、例えば化学的エツチング、電解エツチ
ングもしくは機械的な砂目立て処理を行なうことができ
、次いで従来の方法で陽極酸化処理を行なうとともでき
る。例えば、アルミニウム板は陽極酸化を受けることに
よってそれを陽極処理することができ、この場合、アル
ミニラ・ム板は水性の酸もしくは溶媒をベースとした酸
、例えは濃度1ないし80重量%の硫酸、シュウ酸、ホ
ウ酸、燐酸、スルファミノ酸、クロム酸などの中で陽極
として用いられ、また5ないし70℃の電解液温度、0
.5ないし6 Q A / dm2の電流密度、1ない
し100ボルトの電圧、および30秒ないし50分の時
間が用いられる。
陽極処理された基体についての必然的な多孔性問題を克
服するだめに、その基体は水溶性糖類ゴム(5acch
aride gum )の溶液と接触させられる。
服するだめに、その基体は水溶性糖類ゴム(5acch
aride gum )の溶液と接触させられる。
代表的な例を挙ければ、ヘルクレス(Hercu、10
e)から売られているナトリウムカルボキシメチルセル
ロース塩7Lおよび7Mのようなカルボキシメチルセル
ロースゴム、ヒドロキシプロピルセルロースゴム、ガッ
チゴム、ジャガーゴム(jaBurgum)、ロカスト
ビーンゴム(10Cuθt bean gum )、ア
ラビアゴム、グアーゴム(guar gum ) 、プ
ロティン−タイプのゴムなどがある。必要に応じて、中
間層薬剤の混合物を用いることができる。一般に、概し
て溶液中のゴムの量は約0.1ないし!IO10重量%
ましくは約0.5ないし10重量%である。溶媒が実質
的に不活性である限シ、溶媒の性質については制限され
ることはなく、それは水であってもよく、まだ、例えば
、メタノールのような有機溶媒であってもよい。水性の
溶媒は好ましい。好ましい糖類ゴムは、アンモニウム塩
もしくはアルカリ金属塩型、特にナトリウム塩もしくは
カリウム塩型のナトリウムカルボキシメチルセルロース
である。
e)から売られているナトリウムカルボキシメチルセル
ロース塩7Lおよび7Mのようなカルボキシメチルセル
ロースゴム、ヒドロキシプロピルセルロースゴム、ガッ
チゴム、ジャガーゴム(jaBurgum)、ロカスト
ビーンゴム(10Cuθt bean gum )、ア
ラビアゴム、グアーゴム(guar gum ) 、プ
ロティン−タイプのゴムなどがある。必要に応じて、中
間層薬剤の混合物を用いることができる。一般に、概し
て溶液中のゴムの量は約0.1ないし!IO10重量%
ましくは約0.5ないし10重量%である。溶媒が実質
的に不活性である限シ、溶媒の性質については制限され
ることはなく、それは水であってもよく、まだ、例えば
、メタノールのような有機溶媒であってもよい。水性の
溶媒は好ましい。好ましい糖類ゴムは、アンモニウム塩
もしくはアルカリ金属塩型、特にナトリウム塩もしくは
カリウム塩型のナトリウムカルボキシメチルセルロース
である。
成る場合には、糖類ゴムの水1.溶液に酸化剤もしくは
錯生成剤の少量を含まぜることが有利である。
錯生成剤の少量を含まぜることが有利である。
ナトリウムカルボキシメチルセルロースゴムヲ使用した
場合、裸の非酸化アルミニウムとの接触時にカルボキシ
メチルセルロースの水不溶性アルミニウム塩の結晶が形
成される。このような結晶は、クエン酸、燐酸、硫餞゛
、スルホン酸、硝酸ナトリウム、硝酸カリウムおよび好
ましくは硝酸を加えることによシ排除される。一般に、
添加剤の]は、約0,01ないし1,0重量%、好まし
くは約0.1ないし0.4重量%にすることができ、す
なわち、3ないし8のpHが祷られる。また同様な結果
は、フルオロジルコニウム師カリウム、弗化カリウム、
弗化水素酸、トリフルオロ亜鉛酸カリウム、およびその
他の水溶性無機弗化物を用いることによっても得られる
。
場合、裸の非酸化アルミニウムとの接触時にカルボキシ
メチルセルロースの水不溶性アルミニウム塩の結晶が形
成される。このような結晶は、クエン酸、燐酸、硫餞゛
、スルホン酸、硝酸ナトリウム、硝酸カリウムおよび好
ましくは硝酸を加えることによシ排除される。一般に、
添加剤の]は、約0,01ないし1,0重量%、好まし
くは約0.1ないし0.4重量%にすることができ、す
なわち、3ないし8のpHが祷られる。また同様な結果
は、フルオロジルコニウム師カリウム、弗化カリウム、
弗化水素酸、トリフルオロ亜鉛酸カリウム、およびその
他の水溶性無機弗化物を用いることによっても得られる
。
陽極処理された金属基体は、その上に中間層を形成する
のに十分な時間糖類ゴムと接触され、その中間層はおそ
らく単分子層程度である。一般に、約5ないし120秒
の時間が使用され、必要に応じて時間をさらに長くして
もよい。特定の接触長さは、使用する特定の糖類ゴム、
溶媒でのその濃度、該溶媒の性質、温度、およびその他
システムへの添加剤に応じて変わる。所定のシステムに
対して適尚な時間長さを容易に最適なものとすることが
できる。接触を行なう方法については特に制限されるこ
とはなく、糖類ゴムを陽極処理された金属基体に噴霧し
てもよいし、基体を糖類ゴム溶液に浸漬してもよいし、
また必要に応じて溶液を基体にローラ塗付することもで
きる。このような接触に続いて、基体表面は周囲温度条
件下で水洗されるか、もしくは水または他の溶媒ですす
がれて、乾燥させられる。
のに十分な時間糖類ゴムと接触され、その中間層はおそ
らく単分子層程度である。一般に、約5ないし120秒
の時間が使用され、必要に応じて時間をさらに長くして
もよい。特定の接触長さは、使用する特定の糖類ゴム、
溶媒でのその濃度、該溶媒の性質、温度、およびその他
システムへの添加剤に応じて変わる。所定のシステムに
対して適尚な時間長さを容易に最適なものとすることが
できる。接触を行なう方法については特に制限されるこ
とはなく、糖類ゴムを陽極処理された金属基体に噴霧し
てもよいし、基体を糖類ゴム溶液に浸漬してもよいし、
また必要に応じて溶液を基体にローラ塗付することもで
きる。このような接触に続いて、基体表面は周囲温度条
件下で水洗されるか、もしくは水または他の溶媒ですす
がれて、乾燥させられる。
適邑な感光層が中間層の形成された陽極処理された基体
上に沈積させられて、従来の方法で処理される。成る目
的に対しては、ポジチプ型の感光組成物はしばしば0−
キノンジアジド型の感光性材料だけか、あるいは適当な
添加剤を加えたものである。画像支持平版フラットを述
して感光層を化学線放射に露出させると、露出領域のO
−キノンジアジド型の感光性材料はアルカリ可溶性の化
合物に変化し、このだめそれは水性アルカリ溶液によっ
て容易に除去されて、ポジテプ画像が得られる。アルカ
リ可溶性の感光性材料が水性アルカリ溶液によって除去
された領域では、親水性表面が露出され、そこは水を受
は入れて、インキをはねつける。画像として残された領
域は親油性であり、インキを受は入れる。多くのポジチ
プ型の感光性材料が知られておシ、これらは制限無しに
本発明に使うことができる。また、ネガチア゛型の感光
性ジアゾ材料も用いることができ、この場合化学線放射
に露出されない領域がアルカリもしくはその他のもので
除去されて、親水性表面が残されこのように処理された
版は、さらに処理されることなく平版印刷機に用いられ
るべく準備されているものであり、所望の文書もしくは
画像を印刷あるいは複製に利用される。しかしながら、
版を平版印刷機に設置する前に、“′画像現像剤“とじ
て当分野で知られているものでもって版の印刷面を処理
することは従来どおシである。画像現像液としては種々
の形式のものを用いることができ、−例を挙げれば、イ
ンキ受入れ領域には付着するが、該版の親水性領域には
付着しないような樹脂乳濁液、例えば添加側版システム
(add、itiveplatesystems )用
のラッカーである。また、印刷機の現像インクを画像現
像剤として用いることもできる。本発明の中間形成処理
の結果として、ヘキスト社(Hoechets ) R
C43のようなインキを用いた際に典型的に歩、われる
バックグラウンド汚染は犬11]に回避される。従来用
いられている他の後処理としては、版全体にゴムを適用
することがちシ、これによシ版は保管時空気中の湿気に
よる陽極酸化物の空気酸化および水和から保蒔される。
上に沈積させられて、従来の方法で処理される。成る目
的に対しては、ポジチプ型の感光組成物はしばしば0−
キノンジアジド型の感光性材料だけか、あるいは適当な
添加剤を加えたものである。画像支持平版フラットを述
して感光層を化学線放射に露出させると、露出領域のO
−キノンジアジド型の感光性材料はアルカリ可溶性の化
合物に変化し、このだめそれは水性アルカリ溶液によっ
て容易に除去されて、ポジテプ画像が得られる。アルカ
リ可溶性の感光性材料が水性アルカリ溶液によって除去
された領域では、親水性表面が露出され、そこは水を受
は入れて、インキをはねつける。画像として残された領
域は親油性であり、インキを受は入れる。多くのポジチ
プ型の感光性材料が知られておシ、これらは制限無しに
本発明に使うことができる。また、ネガチア゛型の感光
性ジアゾ材料も用いることができ、この場合化学線放射
に露出されない領域がアルカリもしくはその他のもので
除去されて、親水性表面が残されこのように処理された
版は、さらに処理されることなく平版印刷機に用いられ
るべく準備されているものであり、所望の文書もしくは
画像を印刷あるいは複製に利用される。しかしながら、
版を平版印刷機に設置する前に、“′画像現像剤“とじ
て当分野で知られているものでもって版の印刷面を処理
することは従来どおシである。画像現像液としては種々
の形式のものを用いることができ、−例を挙げれば、イ
ンキ受入れ領域には付着するが、該版の親水性領域には
付着しないような樹脂乳濁液、例えば添加側版システム
(add、itiveplatesystems )用
のラッカーである。また、印刷機の現像インクを画像現
像剤として用いることもできる。本発明の中間形成処理
の結果として、ヘキスト社(Hoechets ) R
C43のようなインキを用いた際に典型的に歩、われる
バックグラウンド汚染は犬11]に回避される。従来用
いられている他の後処理としては、版全体にゴムを適用
することがちシ、これによシ版は保管時空気中の湿気に
よる陽極酸化物の空気酸化および水和から保蒔される。
本発明をさらに説明するために、次に種々の例を示す。
これらの例において、また本明細書の全体を通して、特
に断わらない限シ、ずべての量および百分率は型開によ
るものであシ、丑だすべての温度は摂氏によるものであ
る。
に断わらない限シ、ずべての量および百分率は型開によ
るものであシ、丑だすべての温度は摂氏によるものであ
る。
例 ■
(A)@石で砂目立て処理されかつエツチング処理され
た陽極処理直後のアルミニウム板について良くすすぎ洗
いを行なって、スクイージ処理で水気を取υ去り、次い
で97°Cの空気で15秒間乾燥を行なった。その後、
ポジチブ型の感光性組成物、すなわち、アルカリaJ溶
性フェノール樹脂(AJnova3−PN −43Q
)を634重1部、2−シアシー1.2−ナフトキノン
−5−スルホニルクロライドとフェノール樹脂(同じA
lnoval PN −433)との反応生成物を56
重量部、ポリウレタン樹脂を2重量部、メチルイソブチ
ルケトンの601量部に溶解させた酸感応有機染料を1
6重量部、プライマリ−アミルアセテートを30重量部
、メチルエチルケトンを20重量部、およびエチレング
リコールモノエチルを20重量部含む組成物が版に適用
されて、従来の方法で処理された。従来の画像リムーバ
ーで処理して水洗した後、版を現像インキでこする。画
像リムーバーの領域と非処理領域との間のバックグラウ
ンドの相違については、マツクベス(MacBθth)
反射密度計を用いて、また100℃で促進老化された版
上のブラックフィルターを用いて測定することができる
。かかる両領域間の光学密度差は汚れの程度を示す。光
学密度差が低ければ低い程、汚れの程度は小さい。光学
密度差(ΔO,D、 )は0.06であった。
た陽極処理直後のアルミニウム板について良くすすぎ洗
いを行なって、スクイージ処理で水気を取υ去り、次い
で97°Cの空気で15秒間乾燥を行なった。その後、
ポジチブ型の感光性組成物、すなわち、アルカリaJ溶
性フェノール樹脂(AJnova3−PN −43Q
)を634重1部、2−シアシー1.2−ナフトキノン
−5−スルホニルクロライドとフェノール樹脂(同じA
lnoval PN −433)との反応生成物を56
重量部、ポリウレタン樹脂を2重量部、メチルイソブチ
ルケトンの601量部に溶解させた酸感応有機染料を1
6重量部、プライマリ−アミルアセテートを30重量部
、メチルエチルケトンを20重量部、およびエチレング
リコールモノエチルを20重量部含む組成物が版に適用
されて、従来の方法で処理された。従来の画像リムーバ
ーで処理して水洗した後、版を現像インキでこする。画
像リムーバーの領域と非処理領域との間のバックグラウ
ンドの相違については、マツクベス(MacBθth)
反射密度計を用いて、また100℃で促進老化された版
上のブラックフィルターを用いて測定することができる
。かかる両領域間の光学密度差は汚れの程度を示す。光
学密度差が低ければ低い程、汚れの程度は小さい。光学
密度差(ΔO,D、 )は0.06であった。
(B) 処理(A)が繰り返された。たたし、アルミ
ニウム板を熱空気中で乾燥させた後、それはpH4,7
2で20℃のアラビアゴム5チ水溶液中に60秒間浸漬
され、次いで冷水ですすぎ洗いされて乾燥させられた。
ニウム板を熱空気中で乾燥させた後、それはpH4,7
2で20℃のアラビアゴム5チ水溶液中に60秒間浸漬
され、次いで冷水ですすぎ洗いされて乾燥させられた。
その後、感光層が適用された。
この場合の光学密度差は002であった。
(C) 処理(B)が繰シ返された。ただし、冷水に
よるすすぎ洗いは省かれた。仁の場合中間、鳴の形成さ
れた基体への感光性組成物の付着性は弱かった。
よるすすぎ洗いは省かれた。仁の場合中間、鳴の形成さ
れた基体への感光性組成物の付着性は弱かった。
例 ■
例Iの処理(A)および(B)が繰υ返された。ただし
、感光性組成物はネガテプ型のものであって、4−フェ
ニールアミノベンゼンジアゾニウム塩ト、2−ハイドロ
オキシ4−メンオキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
の塩としてのホルムアルデヒドとの縮合重合体であるジ
アゾポリマーを1重量部、および150重量部のメチル
セロンルプに溶解されたエポキシ樹脂エポン 1031
(Epon1031)[ニジニル社(5hell )
) を10 Ni 部含むものである。得られた光
学密度は例■の処理(A)および(B)の場合と同様で
あった。
、感光性組成物はネガテプ型のものであって、4−フェ
ニールアミノベンゼンジアゾニウム塩ト、2−ハイドロ
オキシ4−メンオキシベンゾフェノン−5−スルホン酸
の塩としてのホルムアルデヒドとの縮合重合体であるジ
アゾポリマーを1重量部、および150重量部のメチル
セロンルプに溶解されたエポキシ樹脂エポン 1031
(Epon1031)[ニジニル社(5hell )
) を10 Ni 部含むものである。得られた光
学密度は例■の処理(A)および(B)の場合と同様で
あった。
例■の処理(B)が繰シ返された。ただし、冷水による
すすぎ洗いは省かれた。
すすぎ洗いは省かれた。
例■の6つの処理のうちの第1の処理にあっては、基体
への感光層の付着性は弱く、第2の処理にあっては、良
好な付着性が得られ、第6の処理にあっては、付着性は
まったく得られなかった。
への感光層の付着性は弱く、第2の処理にあっては、良
好な付着性が得られ、第6の処理にあっては、付着性は
まったく得られなかった。
例■を
例■の処理(B)と例■の処理(A)とが5回線シ返さ
れ、中間層形成工程が以下の表に示すように変えられた
。pl(を調製するために硝酸が使用された。
れ、中間層形成工程が以下の表に示すように変えられた
。pl(を調製するために硝酸が使用された。
処 理 パラメータ変更
(A) 6L℃
(B) 750℃、pH1,55(C) 1
%溶液、60℃、p)(i、55(D) 1チ溶
液、60℃、pH5,45(B) 2%溶液、p
H5,0,3,6o0C5日間までの保管寿命のテスト
でd:版はきれいであった。
%溶液、60℃、p)(i、55(D) 1チ溶
液、60℃、pH5,45(B) 2%溶液、p
H5,0,3,6o0C5日間までの保管寿命のテスト
でd:版はきれいであった。
例tV
例■の処理(B)と例■の処理(A)とが再度縁υ返さ
れた。ただし、アラビアゴム水溶液の代シに以下の表に
示すような糖類ゴムが使用され、また中間層形成処理パ
ラメータ変化についても以下の表に示すように行なわれ
た。汚i1は少なくなシ、また、保管寿命が改良された
。
れた。ただし、アラビアゴム水溶液の代シに以下の表に
示すような糖類ゴムが使用され、また中間層形成処理パ
ラメータ変化についても以下の表に示すように行なわれ
た。汚i1は少なくなシ、また、保管寿命が改良された
。
処 理 パラメータ変更
(A) 0.5% イナコマメコム(ロヵスト
ビーン ゴム;Locust Bean Gum )、
pH6,78 (B) 2% −)−ト)ウムヵルボキシメチ
ルセルロース(7L)、1(7,14 (C) 1s ナトリウムカルボキシメチルセ
ルロース(7L)、1)H7,60 (D) 1% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7L)、H4 (E) 1% ナトリウムカルボキシメチルセルロ
ース(7L)、pH4,浸漬10秒 (F) o、3s% グアーゴム、pH6,9M (G) D、33係 り゛アーゴム、浸漬5秒 (H) 0.15% グアーゴム、(1) 0
.15% グアーゴム、浸漬5秒 (J) 1% ナトリウムカルボキシメチルセルロ
ース(7L)、0.15% グアーゴム添加、 60℃で、pH7,6 (K) 2% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7L)、60℃で、pH9,14 (L) 1% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7M)、1)H7,15、浸漬10秒 (M) 1% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7M)、60℃で、pI(7,15 (N) プロティンゴム、1)H74(0) フ
ロティンゴム、pH7,4、浸漬10秒(P)
2% ヒドロキシプロピルセルロース、1)I(7,ろ
(Q) 2% ナトリウムカルボキシメチルセ
ル【I−ス(7L)、0.5%ヘキサフルオロジルニウ
ム酸カリウム、0.10多硝酸カリウノ・、 60℃、pH5,7で、浸漬時間15秒(R)’
2% ナトリウムカルボキシメチルセルロース(7L
)、0.5% トリフルオロ亜鉛酸カリウム、0.10
チ硝酸カリウム、 浸漬15秒、pH6 (s) 2% すトリウムカルボキシメチルセ
ルロース(7L)、0026%弗化水素酸、 pH4、浸漬15秒 (T) 2% ナトリウムカルボキシメチルセ
ルロース(7L)、010チ 硝酸カリウム、 2チ 弗化カリウム、 浸fff15秒、pHB 本発明の技術思想および範囲から逸脱することなく、本
発明の方法および製品に種々の変更および変形をなし得
る。以上に述べた本発明の種々の実施例は、本発明の説
明のだめのものであって、本発明を限定しようとするも
のではない。
ビーン ゴム;Locust Bean Gum )、
pH6,78 (B) 2% −)−ト)ウムヵルボキシメチ
ルセルロース(7L)、1(7,14 (C) 1s ナトリウムカルボキシメチルセ
ルロース(7L)、1)H7,60 (D) 1% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7L)、H4 (E) 1% ナトリウムカルボキシメチルセルロ
ース(7L)、pH4,浸漬10秒 (F) o、3s% グアーゴム、pH6,9M (G) D、33係 り゛アーゴム、浸漬5秒 (H) 0.15% グアーゴム、(1) 0
.15% グアーゴム、浸漬5秒 (J) 1% ナトリウムカルボキシメチルセルロ
ース(7L)、0.15% グアーゴム添加、 60℃で、pH7,6 (K) 2% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7L)、60℃で、pH9,14 (L) 1% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7M)、1)H7,15、浸漬10秒 (M) 1% ナトリウムカルボキシメチルセル
ロース(7M)、60℃で、pI(7,15 (N) プロティンゴム、1)H74(0) フ
ロティンゴム、pH7,4、浸漬10秒(P)
2% ヒドロキシプロピルセルロース、1)I(7,ろ
(Q) 2% ナトリウムカルボキシメチルセ
ル【I−ス(7L)、0.5%ヘキサフルオロジルニウ
ム酸カリウム、0.10多硝酸カリウノ・、 60℃、pH5,7で、浸漬時間15秒(R)’
2% ナトリウムカルボキシメチルセルロース(7L
)、0.5% トリフルオロ亜鉛酸カリウム、0.10
チ硝酸カリウム、 浸漬15秒、pH6 (s) 2% すトリウムカルボキシメチルセ
ルロース(7L)、0026%弗化水素酸、 pH4、浸漬15秒 (T) 2% ナトリウムカルボキシメチルセ
ルロース(7L)、010チ 硝酸カリウム、 2チ 弗化カリウム、 浸fff15秒、pHB 本発明の技術思想および範囲から逸脱することなく、本
発明の方法および製品に種々の変更および変形をなし得
る。以上に述べた本発明の種々の実施例は、本発明の説
明のだめのものであって、本発明を限定しようとするも
のではない。
手続補正書(方式)
1、事件の表示
昭和58年特許願第175167号
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住 所 アメリカ合衆国 ニューヨーク州 ニューヨー
ク6、補正の対象 願書の特許出願人の欄、委任状の訳文及び明細書7、補
正の内容
ク6、補正の対象 願書の特許出願人の欄、委任状の訳文及び明細書7、補
正の内容
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)陽極酸化処理された金属基体と、その基体上に設
けた中間層であって、その後洗浄されたものと、洗浄後
の中間層上に設けられたジアゾ感光層とを包含し、該中
間層が糖類ゴムを包含するものであることを特徴とする
P8平版。 (2)金属基体がアルミニウム基体であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項に記載のps平版。 (3)陽極酸化処理されたアルミニウム基体が砂目処理
および/まだはエツチング処理されることを特徴とする
特許請求の範囲第2項に記載のPS平版。 (4) 糖類ゴムがセルロースゴム、アラビアゴム、
イナゴマメゴム、グアーゴム、ガツチゴムおよびジャカ
ーゴムからなる群のうちから選ばれることを特徴とする
特許請求の範囲第2項もしくは第3項に記載のps平版
。 (5) 糖aゴムがセルロースゴムであることを特徴
とする特許請求の範囲第2項もしくは第6項に記載のp
s平版。 (S)saゴムがカルボキシメチルセルロースのアンモ
ニウム塩もしくはアルカリ金属塩であることを特徴とす
る特許請求の範囲第5項に記載のps平版。 (7)陽極酸化処理された金属基体と、その基体上に設
けられた中間層であって、その後洗浄されたものと、洗
浄後の中間層に設けられたジアゾ感光層とを包含し、該
中間層が糖類ゴムを包含するものであることを特徴とす
る画像付は平版。 (8)金属基体がアルミニウム基体であることを特徴と
する特許請求の範囲第7項に記載の画像付は平版。 (9)陽極酸化処理されたアルミニウム基体が砂目処理
および/またはエツチング処理されることを特徴とする
特許請求の範囲第8項に記載の画像付は平版。 (1o) lfFMMゴムがセルロースゴム、アラビア
ゴム、イナゴマメゴム(1ocu8t bean gu
m ) 、グアーゴム、ガツテゴムおよびジャガーゴム
からなる群のうちから選はれることを特徴とする特許請
求の範囲第8項もしくは第9項に記載の画像付は平版。 (11) jl?tBfiニア”ムがセルロースゴムで
あることを特徴とする特許請求の範囲第8項もしく、は
第9項に記載の画像付は平版。 (12) 413iゴムがカルボキシメチルセルロース
のアンモニウム塩もしくはアルカリ金属塩であることを
特徴とする特許請求の範囲第8項もしくは第9項に記載
の画像付は平版。 (13)陽極酸化処理された金属基体を糖類ゴム溶液で
接触させ、その後読金属基体の処理面に感光層を適用す
る特許請求の範囲第1項に記載のps平版の製造方法。 (14)陽極酸化された金属基体が陽極酸化処理の前に
砂目処理および/またはエツチング処理さi、糖類ゴム
が水溶液としてのセルロースゴム、アラビアゴム、イナ
ゴマメゴム、グアーゴム、ガツチゴムおよびジャガーゴ
ムからなる群のうちから選ばれることを特徴とする特許
請求の範囲第13項に記載の製造方法。 (15) afaコノ・がセルロースゴムであることを
特徴とする特許請求の範囲第14項に記載の製造方法。 (16)該セルロースがカルボキシメチルセルロースの
アンモニウム塩もしくはアルカリ金属塩であるととを特
徴とする特許請求−の範囲第15項に記載の與造方法。 (17) 水溶液が硝酸、燐酸、硫酸、スルボン酸、
アルカリ金属硝酸塩、もしくは水溶性弗化物を含むこと
を特徴とする特許請求の範囲第16項に記載の製造方法
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US42076782A | 1982-09-21 | 1982-09-21 | |
| US420767 | 1982-09-21 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59135191A true JPS59135191A (ja) | 1984-08-03 |
Family
ID=23667761
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17516783A Pending JPS59135191A (ja) | 1982-09-21 | 1983-09-21 | ゴム中間層を持つ平版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59135191A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0239154A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| US6093509A (en) * | 1995-02-14 | 2000-07-25 | Toray Industries, Inc. | Lithographic printing plate |
-
1983
- 1983-09-21 JP JP17516783A patent/JPS59135191A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0239154A (ja) * | 1988-07-29 | 1990-02-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| US6093509A (en) * | 1995-02-14 | 2000-07-25 | Toray Industries, Inc. | Lithographic printing plate |
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